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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine integrierte Schaltung.
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Aus
der
WO/2007/101708 ist
eine Oszillatoranordnung bekannt, die einen Differenzverstärker sowie
einen ersten und einen zweiten Anschluss umfasst. Die Stromtreiberfähigkeit
der Transistoren ist im ersten Zweig gleich der Stromtreiberfähigkeit
der Transistoren im zweiten Zweig des Differenzverstärkers,
so dass der Differenzverstärker symmetrisch aufgebaut ist.
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Aus
der
EP 0 400 650 B1 ist
ein linearisierter Differenzverstärker bekannt. Mittels
Offsetspannungsquellen eines Differenzverstärkers wird
in der
DE 40 38 217
C2 ein Eingangsspannungsbereich vergrößert.
Aus der
DE 42 92 255
T1 ist ein Operationsverstärker mit einer Abtast-und-Halte-Einrichtung und
mit automatischem Nullabgleich bekannt.
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Der
Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde eine Schaltung mit einem Differenzverstärker
möglichst zu verbessern.
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Diese
Aufgabe wird durch eine Schaltung mit den Merkmalen des unabhängigen
Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind Gegenstand von
abhängigen Ansprüchen und in der Beschreibung
enthalten.
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Demzufolge
ist eine Schaltung vorgesehen, die vorzugsweise auf einem Halbleiterchip
monolithisch integriert ist. Die Schaltung weist einen Differenzverstärker
und eine Ansteuerschaltung auf. Der Differenzverstärker
weist einen ersten Zweig mit zumindest einem ersten Verstärkertransistor
und einen zweiten Zweig mit zumindest einem zweiten Verstärkertransistor
auf.
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Der
erste Verstärkertransistor im ersten Zweig und der zweite
Verstärkertransistor im zweiten Zweig sind zur Verstärkung
eines Eingangssignals an Eingängen des Differenzverstärkers
verbunden. Der Differenzverstärker weist einen invertierenden und
einen nicht-invertierenden Eingang auf. Vorzugsweise sind der erste
Verstärkertransistor und der zweite Verstärkertransistor
als Feldeffekttransistoren ausgebildet. Vorteilhafterweise ist ein
Steuereingang (Gate/Source) des ersten Verstärkertransistors
mit einem ersten Eingang des Differenzverstärkers direkt oder über
eine Impedanz indirekt verbunden. Vorteilhafterweise ist ein Steuereingang
(Gate/Source) des zweiten Verstärkertransistors mit einem
zweiten Eingang des Differenzverstärkers direkt oder indirekt über
eine Impedanz verbunden.
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Der
Differenzverstärker weist zumindest eine erste Reihenschaltung
mit einem ersten Transistor und einem ersten Halbleiterschalter
auf, die dem ersten Verstärkertransistor parallel geschaltet
ist. Der erste Transistor ist vorzugsweise ein Feldeffekttransistor,
der eine kleinere Gateweite als der erste Verstärkertransistor
aufweist. Mittels des ersten Halbleiterschalters ist eine Source-Drain-Strecke
des ersten Transistors einer Source-Drain-Strecke des ersten Verstärkertransistors
parallel schaltbar, um die Verstärkung in diesem Zweig
des Differenzverstärkers zu erhöhen.
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Der
Differenzverstärker weist zumindest eine zweite Reihenschaltung
mit einem zweiten Transistor und einem zweiten Halbleiterschalter
auf, die dem zweiten Verstärkertransistor parallel geschaltet
ist. Der zweite Transistor ist vorzugsweise ein Feldeffekttransistor,
der eine kleinere Gateweite als der zweite Verstärkertransistor
aufweist. Mittels des zweiten Halbleiterschalters ist eine Source-Drain-Strecke
des zweiten Transistors einer Source-Drain-Strecke des zweiten Verstärkertransistors
parallel schaltbar, um die Verstärkung in diesem zweiten
Zweig des Differenzverstärkers zu erhöhen.
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Die
Ansteuerschaltung ist mit Schalteingängen der Halbleiterschalter
zur Steuerung von Schaltzuständen der Halbleiterschalter
verbunden. Beispielsweise sind die Halbleiterschalter als Feldeffekttransistoren
oder Bipolartransistoren ausgebildet. Die Ansteuerschaltung ist
beispielsweise mit den Gateanschlüssen der Feldeffekttransistoren
verbunden. Die Ansteuerschaltung weist einen Speicher zur Speicherung
der Schaltzustände auf. Der Speicher ist beispielsweise
ein Register oder mehrere Flip-Flops. Auch ist es möglich
den Speicher als Schmelz-Sicherungen auszubilden, die zur Einstellung
der Schaltzustände durch Ströme aufgetrennt werden.
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Der
Erfindung liegt weiterhin die Aufgabe zu Grunde ein möglichst
verbessertes Verfahren anzugeben.
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Diese
Aufgabe wird durch das Verfahren mit den Merkmalen des unabhängigen
Anspruchs 10 gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind
Gegenstand von abhängigen Ansprüchen und in der
Beschreibung enthalten.
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Demzufolge
ist ein Verfahren zur Einstellung einer Offset-Ausgangsspannung
eines Differenzverstärkers vorgesehen. In dem Verfahren
wird eine Ausgangsspannung des Differenzverstärkers gemessen.
In Abhängigkeit von der gemessenen Ausgangsspannung wird
einem ersten Verstärkertransistor in einem ersten Zweig
des Differenzverstärkers zur Änderung der Verstärkung
ein erster Transistor mittels eines ersten Halbleiterschalters parallel
geschaltet. Alternativ oder in Kombination wird einem zweiten Verstärkertransistor
in einem zweiten Zweig des Differenzverstärkers zur Änderung
der Verstärkung ein zweiter Transistor mittels eines zweiten Halbleiterschalters
parallel geschaltet. Hierdurch kann eine Offset-Ausgangsspannung
erhöht oder erniedrigt werden.
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Die
im Folgenden beschriebenen Weiterbildungen beziehen sich sowohl
auf die Schaltung, als auch auf das Verfahren. Verfahrensmerkmale
ergeben sich dabei aus Funktionen der Schaltung. Funktionen der
Schaltung sind aus Verfahrensmerkmalen ableitbar.
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Gemäß einer
bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen, dass die Ansteuerschaltung
und die erste Reihenschaltung aus dem ersten Transistor und dem
ersten Halbleiterschalter und die zweite Reihenschaltung aus dem
zweiten Transistor und dem zweiten Halbleiterschalter zur Einstellung
eine Offset-Ausgangsspannung des Differenzverstärkers eingerichtet
sind. Vorzugsweise ist eine Reduktion des Betrags der Offset-Ausgangsspannung
einstellbar. Die Einstellung kann beispielsweise mittels einer Programmierung
des Speichers der Ansteuerschaltung erfolgen.
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Gemäß einer
vorteilhaften Weiterbildungsvariante ist ein Steueranschluss des
ersten Transistors der ersten Reihenschaltung mit dem Steueranschluss
des ersten Verstärkertransistors mittels eines Schaltmittels
verbindbar oder unmittelbar verbunden. Demzufolge liegt an dem ersten
Transistor vorzugsweise das gleiche Signal wie an dem ersten Verstärkertransistor
an. Gemäß einer vorteilhaften Weiterbildungsvariante
ist ein Steueranschluss des zweiten Transistors der zweiten Reihenschaltung
mit dem Steueranschluss des zweiten Verstärkertransistors mittels
eines Schaltmittels verbindbar oder unmittelbar verbunden. Demzufolge
liegt an dem zweiten Transistor vorzugsweise das gleiche Signal
wie an dem zweiten Verstärkertransistor an.
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In
einer ersten Ausgestaltungsvariante ist vorteilhafterweise vorgesehen,
dass der Differenzverstärker eine Mehrzahl von ersten Reihenschaltungen
aus jeweils einem Transistor und einem Halbleiterschalter aufweist.
Jede erste Reihenschaltung ist vorzugsweise dem ersten Verstärkungstransistor
parallel geschaltet.
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In
einer zweiten, auch kombinierbaren Ausgestaltungsvariante ist vorteilhafterweise
vorgesehen, dass der Differenzverstärker eine Mehrzahl
von zweiten Reihenschaltungen aus jeweils einem Transistor und einem
Halbleiterschalter aufweist. Jede zweite Reihenschaltung ist dem
zweiten Verstärkungstransistor parallel geschaltet.
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Gemäß einer
Weiterbildung ist vorgesehen, dass Gate-Weiten der Transistoren
der ersten Reihenschaltungen unterschiedlich ausgebildet sind. Gemäß einer
Weiterbildung ist vorgesehen, dass Gate-Weiten der Transistoren
der zweiten Reihenschaltungen unterschiedlich ausgebildet sind.
Ebenfalls ist es vorteilhaft die Gate-Weiten der Transistoren der
ersten und zweiten Reihenschaltung zueinander unterschiedlich auszubilden,
so dass durch gleichzeitiges Parallelschalten von Transistoren im ersten
und zweiten Zweig des Differenzverstärkers kleinere Abstufungen
einstellbar sind.
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Bevorzugt
ist der Unterschied der Gate-Weiten zumindest zweier Transistoren
der ersten Reihenschaltung kleiner als die kleinste Strukturbreite, insbesondere
kleiner als die kleinste in der verwendeten Technologie herstellbare
Gate-Weite. Durch Parallelschalten zweier Transistoren mit geringfügig verschiedener
Gate-Weite im ersten Zweig und im zweiten Zweig des Differenzverstärkers
ermöglicht dabei eine besonders fein aufgelöste
Einstellung der Offsetspannung. Die kleinste Strukturbreite ist
dabei durch den Herstellungsprozess, insbesondere durch die verwendete
Lithographie bedingt. Vorteilhafterweise ist der Unterschied der
Gate-Weiten zumindest zweier Transistoren der zweiten Reihenschaltung ebenfalls
kleiner als die kleinste Strukturbreite.
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Gemäß einer
bevorzugten Ausgestaltung ist ein erster Eingang des Differenzverstärkers
mit einer Bandgap-Referenzspannungsquelle verbunden. Bevorzugt ist
ein zweiter Eingang des Differenzverstärkers mit einem
Rückkopplungsnetzwerk zur Erzeugung einer Ausgangsspannung
des Differenzverstärkers zur Ausbildung eines Regelkreises
verbunden. Die Ansteuerschaltung ist vorzugsweise zur Veränderung
der Ausgangsspannung des Differenzverstärkers eingerichtet.
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In
einer anderen vorteilhaften Weiterbildung ist vorgesehen, dass ein
Drainanschluss des ersten Transistors der Reihenschaltung an einen
Drainanschluss des ersten Verstärkertransistors angeschlossen
ist. Alternativ kann vorteilhafterweise vorgesehen sein, dass ein
Sourceanschluss des ersten Transistors der Reihenschaltung an einen
Sourceanschluss des ersten Verstärkertransistors angeschlossen
ist.
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In
einer anderen vorteilhaften Weiterbildung ist ein Drainanschluss
des zweiten Transistors der Reihenschaltung an einen Drainanschluss
des zweiten Verstärkertransistors angeschlossen. Gemäß einer
vorteilhaften Alternative ist ein Sourceanschluss des zweiten Transistors
der Reihenschaltung an einen Sourceanschluss des zweiten Verstärkertransistors
angeschlossen.
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Gemäß einer
vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, dass jede erste Reihenschaltung
einen weiteren ersten Halbleiterschalter aufweist. Die Reihenschaltung
weist daher den ersten Halbleiterschalter, den ersten Transistor
und den weiteren ersten Halbleiterschalter in Reihe auf. Vorzugsweise
ist der erste Transistor zwischen dem ersten Halbleiterschalter
und dem weiteren ersten Halbleiterschalter angeschlossen. Vorzugsweise
ist sowohl der Drainanschluss als auch der Sourceanschluss des ersten Transistors
durch den ersten Halbleiterschalter beziehungsweise den weiteren
ersten Halbleiterschalter vom ersten Verstärkertransistor
trennbar.
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Gemäß einer
vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, dass jede erste Reihenschaltung
einen weiteren ersten Halbleiterschalter aufweist. Die erste Reihenschaltung
weist daher den ersten Halbleiterschalter, den ersten Transistor
und den weiteren ersten Halbleiterschalter in Reihe auf. Vorzugsweise
ist der erste Transistor zwischen dem ersten Halbleiterschalter
und dem weiteren ersten Halbleiterschalter angeschlossen. Vorzugsweise
ist sowohl der Drainanschluss als auch der Sourceanschluss des ersten Transistors
durch den ersten Halbleiterschalter beziehungsweise den weiteren
ersten Halbleiterschalter vom ersten Verstärkertransistor
trennbar.
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Gemäß einer
anderen vorteilhaften Ausgestaltung ist vorgesehen, dass jede zweite
Reihenschaltung einen weiteren zweiten Halbleiterschalter aufweist.
Die zweite Reihenschaltung weist daher den zweiten Halbleiterschalter,
den zweiten Transistor und den weiteren zweiten Halbleiterschalter
in Reihe auf. Vorzugsweise ist der zweite Transistor zwischen dem
zweiten Halbleiterschalter und dem weiteren zweiten Halbleiterschalter
angeschlossen. Vorzugsweise ist sowohl der Drainanschluss als auch
der Sourceanschluss des zweiten Transistors durch den zweiten Halbleiterschalter
beziehungsweise den weiteren zweiten Halbleiterschalter vom zweiten
Verstärkertransistor trennbar.
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Die
zuvor beschriebenen Weiterbildungsvarianten sind sowohl einzeln
als auch in Kombination besonders vorteilhaft. Dabei können
sämtliche Weiterbildungsvarianten untereinander kombiniert
werden. Einige mögliche Kombinationen sind in der Beschreibung
der Ausführungsbeispiele der Figuren erläutert.
Diese dort dargestellten Möglichkeiten von Kombinationen
der Weiterbildungsvarianten sind jedoch nicht abschließend.
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Im
Folgenden wird die Erfindung durch Ausführungsbeispiele
anhand zeichnerischer Darstellungen näher erläutert.
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Dabei
zeigen
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1 einen
schematischen Schaltplan eines ersten Ausführungsbeispiels,
und
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2 einen
schematischen Schaltplan eines zweiten Ausführungsbeispiels.
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In 1 ist
ein Schaltplan einer Schaltung mit einem an die Versorgungsspannungen
V+ und V– angeschlossenen Differenzverstärker 100 und
einer Ansteuerschaltung 200 schematisch dargestellt. Der Differenzverstärker
weist einen ersten Zweig mit einem ersten NMOS-Feldeffekttransistor
MN1 und einer ersten Last X1 auf. Der erste NMOS-Feldeffekttransistor
MN1 ist zur Verstärkung eines Eingangssignals an einem
ersten Eingang 101 mit dem ersten Eingang 101,
der ersten Last X1 und einer Stromsenke 130 verbunden.
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Der
Differenzverstärker weist einen zweiten Zweig mit einen
zweiten NMOS-Feldeffekttransistor MN2 und einer zweiten Last X2
auf. Der zweite NMOS-Feldeffekttransistor MN2 ist zur Verstärkung eines
Eingangssignals an einem zweiten Eingang 102 mit dem zweiten
Eingang 102, der zweiten Last X2 und der Stromsenke 130 verbunden.
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Die
erste Last X1 und die zweite Last X2 sind beispielsweise eine Impedanz,
wie ein ohmscher Widerstand oder eine Induktivität, oder
eine Aktive Last, wie beispielsweise eine Stromquelle. An der ersten Last
X1 und an der zweiten Last X2 sind im Ausführungsbeispiel
der 1 jeweils ein Ausgang 103, 104 des
Differenzverstärkers 100 angeschlossen. Die Stromsenke 130 definiert
die Summe der Ströme durch die beiden Zweige des Differenzverstärkers 100 bei
unbelastetem Ausgang.
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Im
Idealfall sind der erste NMOS-Feldeffekttransistor MN1 und der zweite
NMOS-Feldeffekttransistor MN2 exakt gleich, so dass sich der Strom
durch die Stromsenke zu gleichen Teilen auf die NMOS-Feldeffekttransistoren
MN1 und MN2 aufteilt. Bei in diesem Idealfall identischen Lasten
X1 und X2 sind auch die Ausgangsspannungen an den Ausgängen 103 und 104 identisch.
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Bedingt
durch Fertigungsstreuungen können die NMOS-Feldeffekttransistoren
MN1 und MN2 ungleich sein und beispielsweise eine ungleiche Geometrie
oder einen ungleichen Steilheitskoeffizienten aufweisen. Diese Ungleichheiten
bedingen einen Unterschied der Ausgangsspannungen an den Ausgängen 103 und 104,
wenn die Eingangsspannungen an den Eingängen 101 und 102 identisch
sind. Der Unterschied zwischen den Ausgangsspannungen wird auch
als Offsetspannung bezeichnet.
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Zur
Einstellung der Offsetspannung sind im Ausführungsbeispiel
der 1 im ersten Zweig des Differenzverstärkers 100 die
NMOS-Feldeffekttransistoren MN11 und MN12 vorgesehen, wobei die Steuereingänge
(Gates) der NMOS-Feldeffekttransistoren MN11 und MN12 mit dem Verstärkertransistor
MN1 verbunden sind. Zu jedem NMOS-Feldeffekttransistor MN11 und
MN12 ist ein Halbleiterschalter S11, S12 in Reihe geschaltet. Diese
Reihenschaltung aus NMOS-Feldeffekttransistor MN11 und Halbleiterschalter
S11 (respektive MN12 und S12) ist dem Verstärkertransistor
MN1 parallel geschaltet. Im Ausführungsbeispiel der 1 verbindet
der Halbleiterschalter S11, S12 den Sourceanschluss des jeweiligen
NMOS-Feldeffekttransistors MN11, MN12 mit dem Sourceanschluss des
Verstärkertransistors MN1. Im verbundenen Zustand ist daher
der jeweilige NMOS-Feldeffekttransistoren MN11, MN12 dem Verstärkertransistor
MN1 parallel geschaltet und verändert die Verstärkung
des ersten Zweiges des Differenzverstärkers 100.
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Vorteilhafterweise
weisen der Verstärkertransistor MN1 und die NMOS-Feldeffekttransistoren MN11
und MN12 dabei im Rahmen der Fertigungsstreuungen gleiche Gate-Längen
auf. Vorteilhafterweise ist die Gate-Weite des Verstärkertransistors MN1
um zumindest den Faktor zehn größer als die Gate-Weiten
der NMOS-Feldeffekttransistoren MN11 und MN12. Die Gate-Weiten der
NMOS-Feldeffekttransistoren MN11 und MN12 sind dabei gleich oder größer
als die im Herstellungsprozess erzielbare kleinste Strukturbreite.
Die kleinste Strukturbreite wird dabei insbesondere durch einen
Lithographieprozess bestimmt.
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Der
zweite Zweig des Differenzverstärkers 100 ist
im Ausführungsbeispiel der 1 symmetrisch
ausgebildet. Der Differenzverstärker 100, 100' weist
zwei zweite Reihenschaltungen aus jeweils einem zweiten NMOS-Feldeffekttransistoren
MN21 und MN22 und je einem zweiten Halbleiterschalter S21, respektive
S22 auf. Die zweiten Reihenschaltungen sind dem zweiten Verstärkertransistor
MN2 parallel geschaltet.
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Die
Offsetspannung kann mit der im Ausführungsbeispiel der 1 dargestellten
Schaltung verändert werden. Wenn beispielsweise der Verstärkertransistor
MN1 eine zu geringe Leitfähigkeit im Vergleich zu dem Verstärkertransistor
MN2 besitzt, werden ein oder mehrere Transistoren MN11, MN12 parallel
zum Verstärkertransistor MN1 geschalten. Dadurch verhalten
sich die parallel geschalteten Transistoren MN1, MN11, MN12 wie
ein Transistor mit vergrößerter Gate-Weite, bzw.
mit vergrößerter Leitfähigkeit. Dasselbe
kann im zweiten Zweig des Differenzverstärkers 100 durch
Parallelschaltung der Transistoren MN21 und MN22 zum Verstärkertransistor
MN2 erreicht werden.
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Um
die Schaltung programmierbar zu gestalten sind die Transistoren
MN11, MN12, MN21, MN22 durch in Reihe geschaltete Halbleiterschalter
S11, S12, S21 respektive S22 zu- bzw. abschaltbar. Die Ansteuerschaltung 200 ist
mit Schalteingängen der Halbleiterschalter S11, S12, S21,
S22 zur Steuerung von Schaltzuständen der Halbleiterschalter
S11, S12, S21, S22 verbunden. Der Differenzverstärker weist hierzu
Steuereingänge 111, 112, 121, 122 auf,
die an Steuerausgänge 211, 212, 221, 222 der
Ansteuerschaltung 200 angeschlossen sind. Die Ansteuerschaltung 200 weist
einen Speicher 250 zur Speicherung der Schaltzustände
der Halbleiterschalter S11, S12, S21, S22 auf. Die Ansteuerschaltung 200 weist einen
analogen oder digitalen Eingang 201 auf. Dieser Eingang 201 kann
als analoger Eingang beispielsweise mit zumindest einem Ausgang 103 und/oder 104 zur
Messung der Ausgangsspannung oder Offsetspannung des Differenzverstärkers 100 verbunden
sein (in 1 nicht dargestellt). Alternativ ist
der Eingang 201 eine digitale Schnittstelle zur Programmierung
des Speichers mittels einer weiteren Schaltung (in 1 nicht
dargestellt).
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Mittels
des Ausführungsbeispiels der 1 wird der
Vorteil erzielt, dass Fertigungsstreuungen bei der Herstellung von
CMOS-Schaltungen im Betrieb oder in der Applikation durch eine programmierbare
Schaltung an Chip korrigiert werden können.
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In 2 ist
ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Schaltung mit einem
Differenzverstärker 100' und einer Ansteuerschaltung 200' als
schematischer Schaltplan dargestellt. Im Ausführungsbeispiel
der 2 sind die Verstärkertransistoren MP1,
MP2 in jedem Zweig des Differenzverstärkers 100' als PMOS-Feldeffekttransistoren
MP1, MP2 ausgebildet. Als Halbleiterschalter sind die PMOS-Feldeffekttransistoren
MS11, MS12, MS21, MS22 vorgesehen, deren Gates mit der Ansteuerschaltung 200' verbunden
sind. Die Ansteuerschaltung 200' weist Register 250' zur
Speicherung der Schaltzustände der Halbleiterschalter MS11,
MS12, MS21, MS22 auf. Die Halbleiterschalter MS11, MS12, MS21, MS22
sind mit den PMOS-Feldeffekttransistoren MP11, MP12, MP21 respektive
MP22 in Reihe geschaltet und zur Veränderung der Offsetspannung
mit dem jeweiligen Verstärkertransistor MP1, MP2 verbunden.
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Als
erste Last MX1 ist ein als Stromsenke mittels einer Biasspannung
VBS verschalteter NMOS-Transistor MX1 mit dem ersten Verstärkertransistor
MP1 verbunden. Als zweite Last MX2 ist ein als Stromsenke mittels
der Biasspannung VBS verschalteter NMOS-Transistor MX2 mit denn
zweiten Verstärkertransistor MP2 verbunden. Die Sourceanschlüsse
beider Verstärkertransistoren MP1 und MP2 sind mit der
Stromquelle 130 verbunden.
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Zusätzlich
zum Differenzverstärker 100' und der Ansteuerschaltung 200' sind
in dem Halbleiterchip 10 noch eine Bandgap-Referenzspannungsquelle 300 und
ein Spannungsteiler aus den Widerständen R1 und R2 integriert.
Die Bandgap-Referenzspannungsquelle 300 erzeugt dabei die
Spannung VBG und ist mit einem nicht-invertierenden Eingang des
Differenzverstärkers 100' verbunden. Der andere
invertierende Eingang des Differenzverstärkers 100' ist
mit dem Mittelabgriff des Spannungsteiler R1, R2 verbunden. Der
Differenzverstärker 100' bildet zusammen mit den
Widerständen R1 und R2 daher einen Regelkreis zur Regelung
der Ausgangsspannung in Abhängigkeit von der Referenzspannung
der Bandgap-Referenzspannungsquelle 300. Mittels der Bandgap-Referenzspannungsquelle 300, dem
Differenzverstärker 100' und dem Spannungsteiler
R1, R2 in einem Rückkopplungspfad wird eine Ausgangsspannung
bereit gestellt, die von der Referenzspannung VBG der Bandgap-Referenzspannungsquelle 300 abweicht.
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Die
Ausgangsspannung des Differenzverstärkers 100' ist
am Anschluss 11 – beispielsweise einem Pad – des
Halbleiterchips 10 messbar. In 2 ist dargestellt,
dass eine Messvorrichtung 20 mit einem analogen Eingang 21 an
dem Anschluss 11 zur Messung der Ausgangsspannung angeschlossen
ist. Die Ausgangsspannung wird mittels eines Analog-Digital-Umsetzers 24 der
Messvorrichtung 20 in ein digitales Signal umgesetzt und
der Recheneinheit 23, beispielsweise einem Mikrocontroller
zugeführt. Die Recheneinheit 24 ist über
einen digitalen Ausgang 22 mit dem Anschluss 12 des
Halbleiterchips 10 und über diesen mit dem digitalen
Eingang 201' der Ansteuerschaltung 200' zur Einstellung
der Schaltzustände der Halbleiterschalter MS11, MS12, MS21, MS22
verbunden. Die Ansteuerschaltung 250' behält dabei
die Ansteuersignale für die Halbleiterschalter MS11, MS12,
MS21, MS22 im Register 250' gespeichert, wenn die Messvorrichtung 20 von
den Anschlüssen 11, 12 des Halbleiterchips 10 getrennt wird.
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Mittels
der Veränderung der Offsetspannung des Differenzverstärkers 100' lässt
sich die Ausgangsspannung in kleinen Schritten durch Zu- bzw. Wegschalten
der PMOS-Feldeffekttransistoren MP11, MP12, MP21, MP22 einstellen,
so dass Fertigungsstreuungen sowohl der Bandgap-Referenzspannungsquelle 300 als
auch des Differenzverstärkers 100' vorteilhafterweise
berücksichtigt werden können.
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Die
Erfindung ist nicht auf die dargestellten Ausgestaltungsvarianten
der 1 und 2 beschränkt. Beispielsweise
ist es möglich zweistufige oder mehrstufige Differenzverstärker
vorzusehen. Die Verstärkung zumindest eines Transistors
einer der Stufen kann dabei entsprechend dem Ausführungsbeispiel
der 1 oder 2 durch Parallelschalten von
Transistoren zur Einstellung der Offsetspannung verändert
werden. Ebenfalls ist es möglich sowohl die Drainanschlüsse
als auch die Sourceanschlüsse durch separate Halbleiterschalter
zur trennen, um wirkende parasitäre Kapazitäten
getrennter Transistoren zu verringern. Auch ist es möglich
andere Transistortypen, wie beispielsweise Sperrschichtfeldeffekttransistoren
zu verwenden. Die Auflösung der Einstellung der Offsetspannung
kann vorteilhafterweise durch eine größere Anzahl
von parallel schaltbaren Transistoren erzielt werden.
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- 10
- Halbleiterchip
- 11,
12
- Anschluss
- 20
- Messvorrichtung
- 21
- Eingang
- 22
- Schnittstelle
- 23
- Recheneinheit
- 24
- Analog-Digital-Umsetzer
- 100,
100'
- Differenzverstärker
- 101,
102
- Analogeingang
- 103,
104
- Analogausgang
- 111,
112, 121, 122
- Steuereingang
- 130
- Stromquelle/Stromsenke
- 200,
200'
- Ansteuerschaltung
- 201
- Eingang
- 211,
212, 221, 222
- Steuerausgang
- 250,
250'
- Speicher,
Register
- 300
- Bandgap-Referenzspannungsquelle
- MN1,
MN2, MN11, MN12, MN21, MN22, MX1, MX2
- NMOS-Feldeffekttransistor
- MP1,
MP2, MP11, MP12, MP21, MP22, MS11, MS12, MS21, MS22
- PMOS-Feldeffekttransistor
- R1,
R2
- Widerstand
- S11,
S12, S21, S22
- Halbleiterschalter
- V+,
V–
- Versorgungsspannung
- VBG
- Bandgap-Referenzspannung
- VBS
- Bias-Spannung
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
-
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Zitierte Patentliteratur
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- - WO 2007/101708 [0002]
- - EP 0400650 B1 [0003]
- - DE 4038217 C2 [0003]
- - DE 4292255 T1 [0003]