DE102008045581A1 - Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung - Google Patents

Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung Download PDF

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Abstract

Ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung weist die Schritte auf: Vorbereiten eines Substrats (172), eines plattenartigen Anschlussblocks angeordnet ist und bei dem ein Durchgangsloch ausgebildet ist, das ausgehend von der einen Seite die andere Seite erreicht, und eines Steueranschlusses (153), der in das Durchgangsloch eingepasst ist und von dem Anschlussblock (182) hervorragt, und Vorbereiten einer ersten Form und einer zweiten Form. Bei der ersten Form ist ein erster konkaver Abschnitt ausgebildet, der in der Lage ist, das ausgebildete Substrat (172) aufzunehmen. Bei der zweiten Form ist ein zweiter konkaver Abschnitt ausgebildet, der in der Lage ist, den Anschlussblock (182) aufzunehmen, und ein dritter konkaver Abschnitt, der in dem zweiten konkaven Abschnitt vorgesehen ist und in der Lage ist, den Steueranschluss (153), der von dem Anschlussblock (182) hervorragt, aufzunehmen. Das Herstellungsverfahren beinhaltet weiterhin die Schritte: Anordnen des Substrats (172) in dem ersten konkaven Abschnitt; Anordnen des Anschlussblocks (182) in dem zweiten konkaven Abschnitt und Anordnen des Steueranschlusses (153) in dem dritten konkaven Abschnitt zum Blockieren einer Öffnung des zweiten konkaven Abschnitts durch den Anschlussblock (182); und Einbringen eines Harzes zwischen das Substrat (172) und den Anschlussblock (182) in einem Zustand, in dem die erste Form und die zweite Form zwischen sich einen ...

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleitervorrichtung und ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung und insbesondere auf eine Halbleitervorrichtung und ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung, bei dem ein Element auf einem Substrat mit Harz bedeckt wird.
  • Es wurden unterschiedliche Halbleitervorrichtungen vorgeschlagen. Beispielsweise beinhaltet eine elektronische Schaltvorrichtung, die in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 07-022722 offenbart wird, ein Substrat mit einer elektronischen Schaltung, eine elektronische Komponente, die an dem Substrat mit der elektronischen Schaltung angebracht ist, und ein Schutzharz, welches das Substrat mit der elektronischen Schaltung und die elektronische Komponente bedeckt und gleichzeitig einen Verbinder und das Substrat mit der elektronischen Schaltung verbindet. Das Schutzharz ist aus einem wärmehärtenden Harzmaterial ausgebildet, bei dem eine Mischung aus Epoxidharz und anorganischem Pulver, d. h. ein Harzgrundstoff und ein Aushärtungsmittel, welches den Harzgrundstoff aushärtet, vermischt sind. Das Schutzharz verformt sich nicht leicht elastisch.
  • Ein in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 2400-111435 offenbartes elektrisches/elektronisches Modul beinhaltet ein Substrat mit einer elektronischen Schaltung, eine elektronische Komponente, die an dem Substrat mit der elektronischen Schaltung angebracht ist, einen Verbinder, der mit einer elektronischen Schaltung des Substrates mit der elektronischen Schaltung so verbunden ist, dass er lösbar mit einem externen elektronischen Schaltungssystem verbunden ist, und eine Schicht aus wärmehärtendem Harz, welche den Verbinder, die elektronische Komponente und das Substrat mit der elektronischen Schaltung bedeckt.
  • Bei einem Herstellungsverfahren eines harzversiegelten optischen Halbleiters, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 11-254478 offenbart ist, wird durch das Spritzgussverfahren unter Verwendung von thermoplastischem Harz zunächst ein primäres Formprodukt mit einem Aufbau, der in eine Mehrzahl von Bestandteilen unterteilt werden kann, hergestellt. In das primäre Formprodukt wird ein optischer Halbleiter eingeführt und so befestigt, dass eine einstückige Verbindung entsteht, wodurch eine Einführungskomponente erhalten wird. Als Nächstes wird die Einführungskomponente in einen Hohlraum einer Form zum Schichtformen eingeführt und dort befestigt. Ein geschmolzenes thermoplastisches Harz wird in den Hohlraum eingespritzt mit Ausnahme eines Fensters zum Durchtritt von Licht des optischen Halbleiters zum Ausbilden einer Überzugsschicht. Gleichzeitig wird die übrige äußere Gestalt der Hülle geformt. Dadurch wird ein mit Harz versiegeltes Formprodukt erhalten.
  • Eine in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 10-242344 offenbarte Leistungshalbleitervorrichtung beinhaltet ein Formharz, welches einen Leistungshalbleiterchip-Befestigungsabschnitt eines Substrates versiegelt, und einen ex ternen Verbindungsanschluss, der von einem ringförmig ausgebildeten Harzversiegelungsabschnitt hervorragt.
  • An dem Basisabschnitt auf der Substratseite in dem externen Verbindungsanschluss ist ein Block aus einem synthetischen Harz vorgesehen, durch welchen der externe Verbindungsanschluss hindurchgeht. An diesem Block ist eine Formhaltefläche ausgebildet, gegen die eine Form zum Formen des Harzversiegelungsabschnittes stößt.
  • Ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 10-116962 offenbart ist, beinhaltet die Schritte: Anordnen eines externen Verbindungsanschlusses, der an einer elektrischen Schaltung im Wesentlichen senkrecht angeschlossen ist, bezüglich eines Substrates, auf dem eine elektrische Schaltung ausgebildet ist, und Formen durch Laden eines Harzes in die Form nach dem Ausrichten des Substrates, so dass ein Teil des externen Verbindungsanschlusses in einen konkaven Abschnitt passt, der an einem vorbestimmten Abschnitt der oberen Form oder unteren Form einer Form mit einem dazwischengefügten Hilfsteil vorgesehen ist.
  • Die japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2001-237252 offenbart ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung, welche ein Halbleitersubstrat beinhaltet sowie ein Platzierungsteil, bei dem eine Zwischenverbindungsschicht auf einer Hauptoberfläche einer Metallplatte mit einer dazwischengefügten Isolationsschicht vorgesehen ist, oder ein Platzierungsteil aus einer Metallplatte. Eine zischen dem Platzierungsteil und dem Halbleitersubstrat angebrachte Zwischen-Metallplatte ist mittels eines Hartlötmaterials, welches zumindest eines der Elemente Sn, Sb, Ag, Cu, Ni, P, Bi, Zn, Au und In und Sn enthält, befestigt.
  • Auf dem Halbleitersubstrat ist eine Mehrzahl von Montageelementen angeordnet und ein Formharz zum Abdichten des Halbleitersubstrates und der Montageelemente ist ausgebildet. Als Formharz wird Epoxidharz oder dergleichen verwendet.
  • Die japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 05-326589 offenbart ein Formgebungsverfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtungsstruktur zur Oberflächenmontage, die eine Metallplatte und einen Plastikkörper beinhaltet.
  • Da jedoch gemäß der in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 07-022722 offenbarten Halbleitervorrichtung das Schutzharz durch ein Harzmaterial ausgebildet ist, das sich nicht einfach verformen lässt, kann das Schutzharz durch das Auftreten eines Risses oder dergleichen beschädigt werden, wenn es eine vorbestimmte externe Kraft entgegennimmt, beispielsweise wenn eine Zwischenverbindung an dem Anschluss angeschlossen wird.
  • Gemäß dem Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 07-022722 offenbart ist, ist weiterhin in einem Harzeinspritzraum, der durch eine obere Form und eine untere Form ausgebildet wird, ein Substrat mit einer elektronischen Schaltung mit einer daran angebrachten elektronischen Komponente angeordnet und ein Verbinder ist in einem Eingriffsabschnitt positioniert, der in dem Harzeinspritzraum vorgesehen ist. Das Harz wird dann in den Harzeinspritzraum geladen, wodurch das Schutzharz ausgebildet wird.
  • Hier kann bei dem Vorgang des Ladens des Harzes in den Harzeinspritzraum das Harz zwischen den Verbinder und den Eingriffsabschnitt gelangen und den an dem Verbinder vorgesehenen Anschluss erreichen.
  • In dem elektrischen/elektronischen Modul, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 2004-111435 offenbart ist, ist die Harzschicht, die die elektronische Komponente oder dergleichen schützt, durch wärmehärtendes Harz ausgebildet. Deshalb verformt sie sich nicht leicht und es tritt leicht ein Riss auf, wenn eine externe Kraft angewandt wird, die größer oder gleich einer vorbestimmten Größe ist.
  • Weiterhin wird bei dem Herstellungsverfahren eines elektrischen/elektronischen Moduls, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 2004-111435 offenbart ist, die Formgebung durchgeführt, während das Modul in einer Spritzpressmaschine angeordnet ist und das Harz auf das Substrat geladen wird. Wenn das Harz eingebracht wird, kann jedoch auch bei diesem Herstellungsverfahren des elektrischen/elektronischen Moduls das Harz über die Oberfläche des Verbinders laufen und eine Verbinderanschlussleitung erreichen, die an dem Verbinder vorgesehen ist.
  • Bei der optischen Halbleitervorrichtung, die in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 11-254478 offenbart ist, wird der Halbleiter in das kastenförmige primäre Formprodukt eingeführt und nichts wird zwischen den Halbleiter und das primäre Formprodukt eingefüllt. Folglich wird die Wärme von dem Halbleiter kaum zu der Außenseite abgeführt.
  • Bei der in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 10-242344 offenbarten Leistungshalbleitervorrichtung ist das Abdichtungsharz, welches durch das Spritzpressverfahren ausgebildet wird, auf dem Substrat angeordnet und der Isolationsblock ist an dem äußeren Umfangsabschnitt des Substrates angeordnet. Das Abdichtharz ist durch Epoxidharz ausgebildet und ein Riss kann leicht auftreten, wenn eine externe Kraft angewendet wird, die größer oder gleich einer vorbestimmten Größe ist.
  • Bei dem Herstellungsverfahren einer Leistungshalbleitervorrichtung, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 10-242344 offenbart ist, kann das Harz zwischen die obere Oberfläche des Harzblockes und die Form gelangen und einen hervorstehenden Endabschnitt erreichen, wenn ein Abdichtungsharz durch das Spritzpressverfahren zugeführt wird.
  • Bei dem Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung, das in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 10-116962 offenbart ist, kann das Harz zwischen die Form und den externen Verbindungsanschluss gelangen und an der Oberfläche des externen Verbindungsanschlusses haften, wenn die Formgebung durchgeführt wird durch Einfüllen des Harzes in die Form.
  • Auch bei der in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 2001-237252 offenbarten Halbleitervorrichtung wird auf dem Halbleitersubstrat und dem Montageelement lediglich das Formharz durch Epoxidharz oder dergleichen ausgebildet. Beim Anschließen des Anschlusses oder dergleichen kann leicht ein Riss auftreten, wenn eine externe Kraft zugeführt wird, die größer oder gleich einer vorbestimmten Größe ist.
  • Bei dem in der japanischen Patentoffenlegungsschrift Nr. 2001-237252 offenbarten Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung kann ebenfalls das Harz zwischen den Anschluss und die Form gelangen und an der Oberfläche des Anschlusses haften, wenn das Formharz auf das Halbleitersubstrat geladen wird.
  • Die vorliegende Erfindung wurde durchgeführt angesichts der vorstehenden Probleme und eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Herstellungsverfahrens einer Halbleitervorrichtung, welches verhindern kann, dass Harz an einem Abschnitt eines Anschlusses haftet, welcher freiliegt zum Anschließen einer externen Verbindungsleitung, wenn ein Formharz auf einem Substrat und auf einem Element auf dem Substrat ausgebildet wird. Weiterhin soll eine Halbleitervorrichtung vorgesehen werden, die in der Lage ist, Wärme von den Elementen zu der Außenseite abzuführen und bei der eine Beschädigung der Elemente, eines Substrates, eines Formharzes und dergleichen verhindert wird, sogar wenn von außen eine externe Kraft zugeführt wird.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 und einer Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6.
  • Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
  • Ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung beinhaltet die Schritte: Vorbereiten eines Substrates, eines plattenartigen Anschlussblocks, der mit einem Abstand zu dem Substrat angeordnet ist und ein Durchgangsloch aufweist, welches von einer ausgebildeten Seite die andere Seite erreicht, und eines Anschlusses, der in das Durchgangsloch eingepasst ist und von dem Anschlussblock hervorragt; und Vorbereiten einer ersten Form und einer zweiten Form. Die erste Form weist einen ersten konkaven Abschnitt auf, der in der Lage ist, das ausgebildete Substrat aufzunehmen. Die zweite Form weist einen zweiten konkaven Abschnitt auf, der in der Lage ist, den Anschlussblock aufzunehmen, und einen dritten konkaven Abschnitt, der in dem zweiten konkaven Abschnitt vorgesehen ist und in der Lage ist, den von dem ausgebildeten Anschlussblock hervorstehenden Anschluss entgegenzunehmen. Das Herstellungsverfahren beinhaltet weiter die Schritte: Anordnen des Substrates in dem ersten konkaven Abschnitt; Anordnen des Anschlussblockes in dem zweiten konkaven Abschnitt und Anordnen des Anschlusses in dem dritten konkaven Abschnitt zum Blockieren einer Öffnung des zweiten konkaven Ab schnitts durch den Anschlussblock; und Einbringen eines Harzes zwischen das Substrat und den Anschlussblock in einem Zustand, in dem ein Randabschnitt des Anschlussblockes zwischen der ersten Form und der zweiten Form gehalten wird zum Ausbilden eines Formharzes auf dem Substrat.
  • Eine Halbleitervorrichtung gemäß eines Aspektes der vorliegenden Erfindung beinhaltet: ein Substrat mit einer ersten Hauptoberfläche; ein auf der ersten Hauptoberfläche des Substrates vorgesehenes Element; ein auf der ersten Hauptoberfläche des Substrates und auf dem Element ausgebildetes Formharz; einen Anschlussblock mit einer zweiten Hauptoberfläche, die auf dem Formharz angeordnet ist, und einer dritten Hauptoberfläche, die gegenüberliegend der zweiten Hauptoberfläche angeordnet ist. Der Anschlussblock weist ein Durchgangsloch auf, welches die dritte Hauptoberfläche ausgehend von der ausgebildeten zweiten Hauptoberfläche erreicht. Der Anschlussblock bedeckt eine Deckfläche des Formharzes und ist in der Lage, sich elastisch zu verformen durch eine Last, die geringer ist als jene, die zur elastischen Verformung des Formharzes erforderlich ist. Die Halbleitervorrichtung beinhaltet weiterhin einen Anschluss, der mit dem Element verbunden ist, durch das Formharz hindurchgeht, in das Durchgangsloch des Anschlussblockes eingefügt ist und über die dritte Hauptoberfläche ragt.
  • Gemäß dem Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung der vorliegenden Erfindung kann bei dem Schritt des Ausbildens eines Formharzes auf dem Substrat und auf dem auf das Substrat montierten Element verhindert werden, dass das Harz an einem Abschnitt eines Anschlusses haftet, der zum Anschließen einer externen Verbindungsleitung oder dergleichen dient.
  • Gemäß der Halbleitervorrichtung der vorliegenden Erfindung kann Wärme von den Elementen zu der Außenseite gut abgeführt werden und eine Beschädigung des Formharzes, wenn von außen eine externe Kraft zugeführt wird, kann verhindert werden.
  • Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Figuren.
  • 1 ist eine Querschnittsansicht einer Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
  • 2 ist eine Draufsicht auf die Halbleitervorrichtung, die in 1 gezeigt ist.
  • 3 ist eine Draufsicht der Halbleitervorrichtung, bei der ein Anschlussblock und ein Formharz nicht gezeigt sind.
  • 4 ist eine perspektivische Ansicht eines Hauptanschlusses.
  • 5 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Steueranschluss und einen Steueranschluss-Unterstützungsblock zeigt.
  • 6 ist eine Querschnittsansicht, die einen ersten Schritt eines Herstellungsverfahrens einer Halbleitervorrichtung zeigt.
  • 7 ist eine Querschnittsansicht, die einen zweiten Schritt nach dem ersten Schritt des Herstellungsverfahrens der Halbleitervorrichtung, welche in 6 gezeigt ist, zeigt.
  • 8 ist eine Querschnittsansicht, die eine Form zeigt, welche verwendet wird, wenn das Formharz der Halbleitervorrichtung ausgebildet wird.
  • 9 ist eine Querschnittsansicht, die einen dritten Schritt nach dem zweiten Schritt des Herstellungsverfahrens der Halbleitervorrichtung, der in 7 gezeigt ist, zeigt.
  • Eine Halbleitervorrichtung und ein Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung werden unter Bezugnahme auf 1 bis 9 beschrieben.
  • 1 ist eine Querschnittsansicht einer Halbleitervorrichtung 100 gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 2 ist eine Draufsicht auf eine Halbleitervorrichtung 100, die in 1 gezeigt ist. 3 ist eine Draufsicht auf eine Halbleitervorrichtung 100, bei der ein Anschlussblock 182 und ein Formharz 174 nicht gezeigt sind.
  • In dem in 1, 2 und 3 gezeigten Beispiel beinhaltet die Halbleitervorrichtung 100 ein Substrat 172 mit einer Hauptoberfläche 173, eine Mehrzahl von Elementen 110, 120, 130, 140, die auf der Hauptoberfläche 173 des Substrates 172 vorgesehen sind, ein Formharz 174, das auf der Hauptoberfläche 173 des Substrates 172 und auf den Elementen 130, 140 ausgebildet ist, und einen Anschlussblock 182, der die Deckfläche des Formharzes 174 bedeckt.
  • Die Elemente 110, 120, 130, 140 sind beispielsweise IGBTs (Bipolartransistoren mit isoliertem Gate), FwDis (Freilaufdioden) oder dergleichen.
  • Das Substrat 172 beinhaltet Wärmeabführungsplatten 160, 161, die die Hauptoberfläche 173 definieren, eine Isolationsplatte 170, die bezüglich der Wärmeabführungsplatten 160, 161 der Hauptoberfläche 173 gegenüberliegend angeordnet ist, und eine Metallplatte 171, die bezüglich der Isolationsplatte 170 der Wärmeabführungsplatte 160 gegenüberliegend angeordnet ist.
  • Die Isolationsplatte 170 wird durch ein Isolationsharz ausgebildet und Epoxidharz oder dergleichen kann hierfür verwendet werden. Als Materialien zum Ausbilden der Metallplatte 171 oder der Wärmeabführungsplatte 160 können Kupfer, Aluminium oder dergleichen verwendet werden.
  • Die in dem Element 110 oder dergleichen durch Betrieb der Halbleitervorrichtung 100 erzeugte Wärme wird von der Wärmeabführungsplatte 161 über die Isolationsplatte 170 zu der Metallplatte 171 übertragen, von wo die Wärme zu der Außenseite abgegeben wird. Da die Elemente 110, 120, 130, 140 durch Formharz 174 bedeckt sind, wird die Wärme ebenfalls von den Oberflächen der Elemente 110, 120, 130, 140 gut abgegeben, wodurch die Elemente 110, 120, 130, 140 gut gekühlt werden. Da weiterhin die Metallplatte 171 vom Formharz 174 nicht bedeckt ist, kann die Wärme gut zu der Außenseite abgeführt werden.
  • Die Wärmeabführungsplatten 160, 161 sind mit einem Abstand zueinander auf der oberen Oberfläche der Isolationsplatte 170 angeordnet. Auf der Hauptoberfläche 173 der Wärmeabführungsplatte 161 sind das Element 130, das Element 140 und der Steueranschluss-Unterstützungsblock 150 mit einem Abstand voneinander angeordnet. Auf der Hauptoberfläche 175 der Wärmeabführungsplatte 160 sind das Element 120, das Element 110 und ein Steueranschluss-Unterstützungsblock 149 mit einem Abstand voneinander angeordnet.
  • Auf der oberen Oberfläche des Formharzes 174 ist ein Anschlussblock 182 angeordnet. Als ein Ergebnis können das Formharz 174, das Substrat 172, das Element 110 und dergleichen durch den Anschlussblock 182 geschützt werden, sogar wenn eine externe Kraft auf die Halbleitervorrichtung 100 wirkt.
  • Das Formharz 174 wird beispielsweise durch ein Spritzpressverfahren ausgebildet und wird aus wärmehärtendem Harz wie beispielsweise Polyphenylensulfid (PPS) ausgebildet.
  • Der Anschlussblock 182 ist in einer plattenartigen Gestalt ausgebildet und aus thermoplastischem Harz wie beispielsweise Polyphenylensulfid (PPS), Polybutylenterephthalat (PBT) oder dergleichen ausgebildet. Der Anschlussblock 182 verformt sich elastisch leichter als das Formharz 174 und der Anschlussblock 182 verformt sich elastisch bei einer geringeren Last, wie sie zur Verformung des Substrates 172 erforderlich wäre.
  • Als ein Ergebnis kann die externe Kraft durch den Anschlussblock 182, der sich elastisch verformen kann, verteilt werden, sogar wenn eine externe Kraft von außerhalb zugeführt wird, und das Formharz 174, das Substrat 172, das Element 110 und dergleichen können geschützt werden.
  • Wie in 2 gezeigt ist auf dem Element 110 und dem Element 120 ein Hauptanschluss 155 vorgesehen und auf dem Element 130 und dem Element 140 ein Hauptanschluss 154 vorgesehen. Ein Hauptanschluss 151, der über die Wärmeabführungsplatte 160 reicht, ist vorgesehen.
  • 4 ist eine perspektivische Ansicht des Hauptanschlusses 155. Wie in 4 und der oben beschriebenen 3 gezeigt, enthält der Hauptanschluss 155: einen Elementverbindungsabschnitt 201, der mit den Elementen 110, 120 verbunden ist; einen Verbindungsabschnitt 203, der sich von oberhalb der Wärmeabführungsplatte 160 bis oberhalb der Wärmeabführungsplatte 161 erstreckt; und einen Substratanschlussabschnitt 204, der über einen Stufenabschnitt 205 mit dem Verbindungsabschnitt 203 und mit der Wärmeabführungsplatte 161 verbunden ist. Der Hauptanschluss 155 beinhaltet weiterhin einen aufrechten bzw. vertikalen Abschnitt 202, der mit dem Verbindungsabschnitt 203 verbunden ist und sich nach oben erstreckt, sowie einen gekrümmten Abschnitt 206, der ausgehend von einem oberen Ende des aufrechten Abschnitts 202 umgebogen ist und mit einem Durchgangsloch 207 versehen ist.
  • In 1, 2 und 3 erstrecken sich die Hauptanschlüsse 151, 154 zu dem äußeren Umfangsabschnitt der Isolationsplatte 170, welcher dem äußeren Umfangsabschnitt, an dem der Hauptanschluss 155 angeordnet ist, gegenüberliegt.
  • Der Hauptanschluss 151 beinhaltet: einen Verbindungsabschnitt 221, der an die Wärmeabführungsplatte 160 gelötet ist; einen aufrechten bzw. vertikalen Abschnitt 222, der sich von einem Endabschnitt des Verbindungsabschnitts 222 nach oben erhebt; und einen gekrümmten Abschnitt 223, der von einem oberen Ende des vertikalen Abschnitts 222 umgebogen ist und mit einem Durchgangsloch 224 versehen ist.
  • Der Hauptanschluss 154 beinhaltet: einen Verbindungsabschnitt 225, auf den Elemente 130, 140 gelötet sind; einen aufrechten bzw. vertikalen Abschnitt 226, der sich von einem Ende des Verbindungsabschnitts 225 nach oben erhebt; und einen gekrümmten Abschnitt 127, der von einem oberen Ende des vertikalen Abschnitts 226 umgebogen ist und mit einem Durchgangsloch 228 versehen ist.
  • 5 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Steueranschluss 153 und einen Steueranschluss-Unterstützungsblock 150 zeigt. Wie in 5 gezeigt, ist auf der oberen Oberfläche des Steueranschluss-Unterstützungsblockes 150 ein Kerbabschnitt 156 ausgebildet, an dem der Steueranschluss 153 angebracht ist.
  • Der Steueranschluss 153 beinhaltet einen Verbindungsabschnitt 251, der mit dem Element 130 verbunden wird, einen Sitzabschnitt 252, welcher mit dem Verbindungsabschnitt 251 verbunden ist und innerhalb des Kerbabschnitts 156 angebracht ist, und einen aufrechten bzw. vertikalen Abschnitt 253, der sich von einer Endposition des Sitzabschnitts 252 nach oben erhebt.
  • Der Steueranschluss 152 ist ähnlich dem Steueranschluss 153 ausgebildet und weist einen Verbindungsabschnitt auf, der mit dem Element 110 verbunden ist, einen Sitzabschnitt, der an einem Kerbabschnitt angebracht ist, welcher an dem Steueranschluss-Unterstützungsblock 149 ausgehend von der Verbindungsposition ausgebildet ist, und einen aufrechten bzw. vertikalen Abschnitt, welcher sich von dem Sitzabschnitt nach oben erhebt.
  • Während die Hauptanschlüsse 155, 154 und die Steueranschlüsse 152, 153 entsprechend auf die Elemente gelötet sind, ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsweise beschränkt. Beispielsweise können die Anschlüsse mit dem Anschlussblock 182 so verbunden sein, dass sie an ihm hängen und ihre Enden können über einen Metalldraht jeweils über eine Bondverbindung mit einem Element verbunden sein.
  • Hier beinhaltet der Anschlussblock 182 in 1 und 2 eine Hauptoberfläche 187, welche auf der Deckfläche des Formharzes 174 angeordnet ist, und eine Hauptoberfläche 186, welche der Hauptoberfläche 187 gegenüberliegend angeordnet ist. Ein Durchgangsloch 188a, das ausgehend von der Hauptoberfläche 187 die Hauptoberfläche 186 erreicht, ist an dem Anschlussblock 182 ausgebildet.
  • In der Hauptoberfläche 187 des Anschlussblockes 182 ist ein dicker Abschnitt 176 an dem Abschnitt ausgebildet, der das Durchgangsloch 188a begrenzt. Der dicke Abschnitt 176 ist dicker ausgebildet als der Abschnitt, der in dem Anschlussblock 182 um den dicken Abschnitt 176 herum angeordnet ist.
  • Der aufrechte bzw. vertikale Abschnitt 253 des Steueranschlusses 153 ist in das Durchgangsloch 188a eingesetzt und ragt von der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblockes 182 hervor. Der aufrechte Abschnitt 253 ist fest in das Durchgangsloch 188a eingepasst. An dem Anschlussblock 182 ist ein Beinabschnitt 189 ausgebildet, welcher von der Hauptoberfläche 187 zu der Hauptoberfläche 173 des Substrates 172 ragt, durch das Formharz 174 hindurchgeht, und die Hauptoberfläche 173 erreicht.
  • An dem äußeren Umfangsabschnitt des Anschlussblockes 182 sind ein externer Anschlussunterstützungsblock 181, in den Muttern 191, 192 eingelassen sind, und ein externer Anschlussunterstützungsblock 183 vorgesehen, in den eine Mutter 193 eingelassen ist. Die externen Anschlussunterstützungsblöcke 181, 183 sind dicker ausgebildet als die übrigen Abschnitte des Anschlussblocks 182.
  • An dem externen Anschlussunterstützungsblock 181 sind Durchgangslöcher 188c, 188e ausgebildet, welche ausgehend von der Hauptoberfläche 187 die Hauptoberfläche 186 erreichen. Auch an dem externen Anschlussunterstützungsblock 183 ist ein Durchgangsloch 188b ausgebildet, welches ausgehend von der Hauptoberfläche 187 die Hauptoberfläche 186 erreicht.
  • In das Durchgangsloch 188c des externen Anschlussunterstützungsblockes 181 ist der aufrechte Abschnitt 226 des Hauptanschlusses 154 eingepasst und in das Durchgangsloch 188e ist der aufrechte Abschnitt 222 des Hauptanschlusses 151 eingepasst. Der gekrümmte Abschnitt 227 des Hauptanschlusses 154 ist auf der Deckfläche des externen Anschlussunterstützungsblockes 181 angeordnet. Das Durchgangsloch 228, welches an dem gekrümmten Abschnitt 227 ausgebildet ist, ist über einem Schraubloch der Mutter 192 angeordnet, welche in den externen Anschlussunterstützungsblock 181 eingelassen ist.
  • Der gekrümmte Abschnitt 223 des Hauptanschlusses 151 ist auf der Deckfläche des externen Anschlussunterstützungsblocks 181 angeordnet. Das Durchgangsloch 224 des gekrümmten Abschnitts 223 ist über einem Schraubloch der Mutter 191 angeordnet. In das Durchgangsloch 188b des externen Anschlussunterstützungsblockes 183 ist der aufrechte Abschnitt 202 des Hauptanschlusses 155 eingepasst. Der gekrümmte Abschnitt 206 ist auf dem externen Anschlussunterstützungsblock 183 angeordnet. Das Durchgangsloch 207, welches an dem gekrümmten Abschnitt 206 ausgebildet ist, ist über einem Schraubloch der Mutter 193 angeordnet.
  • In die Durchgangslöcher 207, 224, 228 der gekrümmten Abschnitte 206, 223, 227 bzw. die Schraublöcher der Muttern 191, 192, 193 sind nicht gezeigte Bolzen geschraubt und mit einer nicht gezeigten externen Anschlussleiste verbunden. Während bei der vorliegenden Ausführungsform die externe Anschlussleiste durch die in den Anschlussblock 182 eingelassenen Muttern und nicht gezeigten Bolzen und dergleichen befestigt ist, ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese Ausführungsweise beschränkt. Beispielsweise können Vorsprünge vorgesehen werden, die von den Deckflächen der externen Anschlussunterstützungsblöcke 181, 183 so hervorragen, dass sie in das Durchgangsloch 224 des Hauptanschlusses 151, das Durchgangsloch 228 des Hauptanschlusses 154 und das Durchgangsloch 207 des Hauptanschlusses 155 eingeführt werden. Anstelle des Umbiegens der Hauptanschlüsse 151, 154, 155 über der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblockes 182 können die Hauptanschlüsse in Stiftgestalt ausgebildet werden, so dass sie sich bezüglich des Anschlussblocks 182 erheben. Auf diese Weise können die externen Anschlussunterstützungsblöcke 181, 183 und die Muttern 191, 192, 193 weggelassen werden.
  • Da der Anschlussblock 182 durch Harz ausgebildet ist, das leichter elastisch verformt werden kann als das Formharz 174, wie oben beschrieben, kann eine Beschädigung des Anschlussblocks 182 verhindert werden, sogar wenn eine externe Kraft dem Formharz zugeführt wird, wenn die Bolzen in die Muttern 191, 192, 193 geschraubt werden.
  • An der Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 ist ein Flanschabschnitt 185 ausgebildet, der von der Umfangsoberfläche hervorragt. Der Flanschabschnitt 185 erstreckt sich ringförmig, d. h. rundherum.
  • Bezugnehmend auf 6 bis 8 wird ein Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung 100 beschrieben. 6 ist eine Querschnittsansicht, die einen ersten Schritt des Herstellungsverfahrens der Halbleitervorrichtung 100 zeigt. Wie in 6 gezeigt, werden auf die Hauptoberfläche der Wärmeabführungsplatte 160 die Elemente 130, 140, der Steueranschlussunterstützungsblock 150 und dergleichen gelötet. Weiterhin werden auf das angelötete Element 130 und die weiteren die Hauptanschlüsse 154, 155 und der Steueranschluss 153 gelötet.
  • 7 ist ein zweiter Schritt nach dem ersten Schritt des Herstellungsverfahrens der Halbleitervorrichtung 100, der in 6 gezeigt ist. Wie in 7 gezeigt, wird auf der Deckfläche der Wärmeabführungsplatte 160, wo das Element 110 und die anderen angelötet sind, der Anschlussblock 182 angebracht.
  • Hier wird der Steueranschluss 153 in das Durchgangsloch 188a eingepasst und die Hauptanschlüsse 154, 155 werden in die Durchgangslöcher 188c, 188b eingepasst. Danach werden bei den Hauptanschlüssen 154 und 155 Abschnitte, die von der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblocks 182 hervorragen, umgebogen und über den Deckflächen der externen Anschlussunterstützungsblöcke 181, 183 angeordnet. Weiterhin werden aufeinanderfolgend an der Bodenfläche der Wärmeabführungsplatte 160 die Isolierungsplatte 170 und die Metallplatte 171 angebracht.
  • Dadurch wird ein geformtes Produkt 300 hergestellt, welches beinhaltet: eine Isolationsplatte 170, Elemente 130, 140 und einen Steueranschluss-Unterstützungsblock 150, welche auf die Hauptoberfläche 173 der Isolationsplatte 170 montiert sind, einen Steueranschluss 153, einen Hauptanschluss 154, der mit jedem Element verbunden ist und über die Hauptoberfläche 186 des Anschlussblockes 182 ragt und weiteres.
  • 8 ist eine Querschnittsansicht einer Form 200, die beim Ausbilden des Formharzes der Halbleitervorrichtung 100 verwendet wird.
  • Wie in 8 gezeigt beinhaltet die Form 200 eine obere Form 210 und eine untere Form 230. Die Form 200 enthält weiterhin im Innern einen Hohlraum 250, eine Eingießmulde 285, die mit dem Hohlraum 250 verbunden ist, und einen Hafen 280, der mit der Eingießmulde 285 in Verbindung steht.
  • Der Hohlraum 250 wird begrenzt durch einen konkaven Abschnitt 231, der an der oberen Form 210 ausgebildet ist, und einen kon kaven Abschnitt 240, der an der unteren Form 230 ausgebildet ist.
  • Der konkave Abschnitt 240 kann das Substrat 172 entgegennehmen. Der konkave Abschnitt 231 enthält einen Steueranschlussaufnahmeabschnitt 212, der einen Abschnitt des Steueranschlusses 153 aufnehmen kann, welcher von der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblocks 182 emporragt, und Unterstützungsblockaufnahmeabschnitte 211, 213, welche externe Anschlussunterstützungsblöcke 181, 183 aufnehmen können. Weiterhin ist an der oberen Form 210 ein Flanschabschnitt-Aufnahmeabschnitt 214 ausgebildet, welcher den Flanschabschnitt 185 des Anschlussblocks 182 aufnehmen kann. Der Flanschabschnitt-Aufnahmeabschnitt 214 erstreckt sich entlang des Randes der Öffnung des konkaven Abschnitts 231.
  • Der Hafen 280 ist zylindrisch ausgebildet. Innerhalb des Hafens 280 ist gleitbar ein Stempel 290 dergestalt vorgesehen, dass er eine innerhalb des Hafens 280 angebrachte Versiegelungstablette drücken kann.
  • 9 ist eine Querschnittsansicht, die einen dritten Schritt nach dem zweiten Schritt des Herstellungsverfahrens der Halbleitervorrichtung 100, der in 7 gezeigt ist, zeigt. Wie in 9 gezeigt, ist ein geformtes Produkt 300 innerhalb des Hohlraums 250 angebracht. Das Substrat 172 ist in dem konkaven Abschnitt 240 der unteren Form 230 angeordnet. Der Anschlussblock 182 sowie der Steueranschluss 153 und die Hauptanschlüsse 151, 154, 155, welche auf der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblockes 182 angeordnet sind, sind in den konkaven Abschnitt 231 der oberen Form 210 eingepasst.
  • Wenn der Anschlussblock 182 in den konkaven Abschnitt 231 eingepasst ist, sind somit die Hauptoberfläche 187 des Anschlussblocks 182 und der Abschnitt der unteren Oberfläche der oberen Form 210, der der Öffnung des konkaven Abschnitts 231 benachbart ist, im Wesentlichen auf dem gleichen Niveau.
  • Der an der Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 ausgebildete Flanschabschnitt 185 passt in den Flanschabschnitt-Aufnahmeabschnitt 214 und wird zwischen der unteren Form 230 und der oberen Form 210 durch die untere Form 230 und die obere Form 210 gehalten. In dem in 9 gezeigten Beispiel halten die obere Form 210 und die untere Form 230 nicht nur den Flanschabschnitt 185 des Anschlussblocks 182 zwischen sich, sondern ebenfalls einen äußeren Umfangsabschnitt des Anschlussblocks 182.
  • Hier ist der Anschlussblock 182 über eine Mehrzahl von Beinabschnitten 189 bezüglich des Substrats 172 angeordnet. Zwischen der Hauptoberfläche 187 des Anschlussblocks 182 und dem Substrat 172 wird ein Raum R definiert. Die Öffnung der Eingussmulde 285 ist zwischen der Hauptoberfläche 187 des Anschlussblocks 182 und der Hauptoberfläche 173 des Substrats 172 angeordnet.
  • Die Versiegelungstablette 291 wird in den Hafen 280 eingeführt. Wenn ein Spritzpressverfahren durchgeführt wird, wenn der Stempel 290 die Versiegelungstablette 291 in den Hafen 280 drückt, wird hier die Form 200 so aufgeheizt, dass sie beispielsweise die Temperatur von ungefähr 180°C erreicht.
  • Wenn die Form 200 aufgeheizt wird, wird dadurch der in der oberen Form 210 angebrachte Anschlussblock 182 ebenfalls aufgeheizt und der Anschlussblock 182 dehnt sich thermisch in dem konkaven Abschnitt 231 aus. Als ein Ergebnis sind zumindest die Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 und die innere Umfangsoberfläche der oberen Form 210, welche den konkaven Abschnitt 231 begrenzt, in engem Kontakt zueinander und der Flächendruck zwischen der Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 und der inneren Umfangsoberfläche der oberen Form 210 wächst an. Das ther moplastische Harz, welches den Anschlussblock 182 ausbildet, hat einen Schmelzpunkt, der höher ist als jener des wärmehärtenden Harzes, das das Formharz 174 ausbildet. Sogar wenn die Temperatur der Form 200 180°C übersteigt, wird dadurch verhindert, dass der Anschlussblock 182 weich wird.
  • Als ein Ergebnis des Drückens des Stempels 290 und des Verformens der Versiegelungstablette 291 dringt das Harz durch die Eingussmulde 285 und gelangt in den Hohlraum 250.
  • Da die obere Form 210 und die untere Form 230 zwischen sich den Flanschabschnitt 185 und den äußeren Umfangsabschnitt des Anschlussblocks 182 halten, wird hier verhindert, dass das zugeführte Harz zwischen die innere Umfangsoberfläche der oberen Form 320 und die Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 gelangt.
  • Wenn das Harz von der Eingussmulde 285 zugeführt wird, wird das Harz in den Raum R geladen, während es den Anschlussblock 182 gegen die obere Form 210 drückt. Dies erhöht weiterhin den Flächendruck zwischen der oberen Form 210 und dem Anschlussblock 182, was das Eindringen des Harzes zwischen die Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 und die innere Umfangsoberfläche der oberen Form 210 verhindert.
  • Da es möglich ist, das Eindringen des Harzes zwischen die obere Form 210 und den Anschlussblock 182 zu verhindern, ist es somit möglich, zu verhindern, dass das Harz die Abschnitte der Hauptanschlüsse 151, 154, 155 erreicht, die auf der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblocks 182 angeordnet sind, oder den Abschnitt des Steueranschlusses 153, welcher auf der Hauptoberfläche 186 des Anschlussblocks 182 angeordnet ist. Weiterhin ist es ebenfalls möglich die Ausbildung eines Harzfilms an der Umfangsoberfläche des Anschlussblocks 182 oder dergleichen zu verhindern.
  • Als ein Ergebnis des Aushärtens des hineingeladenen Harzes wird das Formharz 174 ausgebildet, welches die Umfangsoberfläche der Isolationsplatte 170 und die Hauptoberfläche 173 bedeckt und ebenfalls die Hauptanschlüsse 151, 154, 155 und die Steueranschlüsse 152, 153, welche zwischen dem Anschlussblock 182 und dem Substrat 172 angeordnet sind, die Elemente 110, 120, 130, 140, die auf der Hauptoberfläche 173 des Substrats 172 montiert sind und die Steueranschluss-Unterstützungsblöcke 149, 150 bedeckt.
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Claims (10)

  1. Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung mit den Schritten: Vorbereiten eines Substrats (172), eines plattenartigen Anschlussblocks (182), der mit einem Abstand zu dem Substrat (172) angeordnet ist und bei dem ein Durchgangsloch (188a, 188b) ausgebildet ist, das ausgehend von der einen Seite die andere Seite erreicht, und eines Anschlusses (153, 155), der in das Durchgangsloch (188a) eingepasst ist und von dem Anschlussblock (182) emporragt, und Vorbereiten einer ersten Form (230) und einer zweiten Form (231), wobei bei der ersten Form (230) ein erster konkaver Abschnitt (240) ausgebildet ist, der das Substrat (172) aufnehmen kann, und bei der zweiten Form (231) ein zweiter konkaver Abschnitt (231) ausgebildet ist, der den Anschlussblock (182) aufnehmen kann, und ein dritter konkaver Abschnitt (212), der in dem zweiten konkaven Abschnitt (231) vorgesehen ist und den Anschluss (153, 155) aufnehmen kann, der von dem Anschlussblock (182) emporragt, wobei das Herstellungsverfahren weiterhin die Schritte aufweist: Anordnen des Substrates (172) in dem ersten konkaven Abschnitt (240), Anordnen des Anschlussblocks (182) in dem zweiten konkaven Abschnitt (231) und Anordnen des Anschlusses (153, 155) in dem dritten konkaven Abschnitt (212) zum Blockieren einer Öffnung des zweiten konkaven Abschnitts (231) durch den Anschlussblock (182) und Einbringen eines Harzes zwischen das Substrat (172) und den Anschlussblock (182) in einem Zustand, in dem die erste Form (230) und die zweite Form (210) einen Umfangsabschnitt des An schlussblockes (182) zwischen sich halten zum Ausbilden eines Formharzes (174) auf dem Substrat.
  2. Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, bei dem der Anschlussblock (182) einen ringförmigen Flanschabschnitt (185) aufweist, der von einer Umfangsoberfläche des Anschlussblocks (182) hervorsteht, und bei dem Schritt des Ausbildens des Formharzes das Harz zwischen das Substrat und den Anschlussblock (182) in einem Zustand eingebracht wird, in dem die erste Form (230) und die zweite Form (231) den Flanschabschnitt (185) des Anschlussblocks (182) zwischen sich halten.
  3. Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dass weiterhin einen Schritt des Aufheizens des Anschlussblocks (182) nach dem Anordnen des Anschlussblocks (182) in dem zweiten konkaven Abschnitt (231) und dem Einführen des Anschlusses (153), der von dem Anschlussblock (182) hervorragt, in den dritten konkaven Abschnitt (212) aufweist, wodurch eine Ausdehnung des Anschlussblocks (182) bewirkt wird, so dass ein enger Kontakt zwischen einer Umfangsoberfläche des Anschlussblocks (182) und einer inneren Umfangsoberfläche der zweiten Form (210), die den zweiten konkaven Abschnitt (231) begrenzt, bewirkt wird.
  4. Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der Anschlussblock (182) einen hervorstehenden Abschnitt (189) aufweist, der zu dem Substrat (172) hervorsteht, und bei dem Schritt des Einbringens des Harzes zwischen den Anschlussblock (182) und das Substrat (160) das Harz in einem Zustand eingebracht wird, in dem der hervorstehende Abschnitt (189) gegen eine Hauptoberfläche des Substrats (160) stößt und der Anschlussblock (182) bezüglich des Substrates (160) angeordnet ist.
  5. Herstellungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem der Anschlussblock (182) aus einem thermoplastischen Harz ausgebildet ist und das Formharz (174) durch ein wärmehärtendes Harz ausgebildet wird.
  6. Halbleitervorrichtung mit: einem Substrat (160) mit einer ersten Hauptoberfläche (173), einem Element (130), das auf der ersten Hauptoberfläche (173) des Substrats (160) vorgesehen ist, einem Formharz (174), das auf der ersten Hauptoberfläche (173) des Substrats (160) und auf dem Element (130) ausgebildet ist, einem Anschlussblock (182) mit einer zweiten Hauptoberfläche (187), die auf dem Formharz (174) angeordnet ist, und einer dritten Hauptoberfläche (186), die gegenüberliegend der zweiten Hauptoberfläche (187) angeordnet ist, wobei bei dem Anschlussblock ein Durchgangsloch (188a, 188b) ausgebildet ist, das ausgehend von der zweiten Hauptoberfläche (187) die dritte Hauptoberfläche (186) erreicht, und der Anschlussblock eine Deckfläche des Formharzes (174) bedeckt und in der Lage ist, sich bei einer Last, die geringer ist als eine Last, die erforderlich ist zum elastischen Verformen des Formharzes (174), elastisch zu verformen, wobei die Halbleitervorrichtung weiterhin aufweist: einen Anschluss (153), der mit dem Element (130) verbunden ist, durch das Formharz (174) hindurchgeht, in das Durchgangsloch (188a) des Anschlussblocks (182) eingepasst ist und über die dritte Hauptoberfläche (186) ragt.
  7. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6, bei der das Formharz (174) durch ein wärmehärtendes Harz ausgebildet ist und der Anschlussblock (182) durch ein thermoplastisches Harz ausgebildet ist.
  8. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, bei der an der dritten Hauptoberfläche (186) des Anschlussblocks (182) ein Loch oder ein konvexer Abschnitt ausgebildet ist und der Anschluss (155) sich entlang der dritten Hauptoberfläche (186) über die dritte Hauptoberfläche (186) krümmt und das Loch oder den konvexen Abschnitt erreicht und ein Einführungsteil aufweist, welches in das Loch oder einen Aufnahmeabschnitt, der den konvexen Abschnitt aufnimmt, eingeführt ist.
  9. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, bei der das Substrat (172) eine erste Metallplatte (161) mit der ersten Hauptoberfläche (173) aufweist, eine Isolationsplatte (170), die gegenüberliegend der ersten Hauptoberfläche bezogen auf die erste Metallplatte (161) angeordnet ist, und eine zweite Metallplatte (171), die bezogen auf die Isolationsplatte (170) gegenüberliegend der ersten Metallplatte (160) angeordnet ist.
  10. Halbleitervorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei der der Anschlussblock (182) einen Beinabschnitt (189) aufweist, der sich von der zweiten Hauptoberfläche zu dem Substrat hin erstreckt und in das Formharz eingeführt ist.
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