CN219873415U - 一种湿法制程装置及产线模拟系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型的实施例提供了一种湿法制程装置及产线模拟系统，涉及湿法制程领域。该湿法制程装置包括壳体、输送件、第一喷出件和第二喷出件；其中，输送件、第一喷出件以及第二喷出件设置于壳体，第一喷出件和第二喷出件分别设置于输送件的两侧，第一喷出件用于喷出湿电子化学品，第二喷出件用于喷出清洁介质。输送件用于输送供给产品，壳体则用于起到遮挡保护的作用，第一喷出件通过喷出湿电子化学品对各个工艺进行模拟，第二喷出件用于在工艺切换过程中喷出清洁介质，减少前工艺的湿电子化学品残留，避免不同的湿电子化学品相接触影响产品质量，进而确保整体产品的合格率。该产线模拟系统包括湿法制程装置，具备湿法制程装置的全部功能。

Description

一种湿法制程装置及产线模拟系统

技术领域

本实用新型涉及湿法制程领域，具体而言，涉及一种湿法制程装置及产线模拟系统。

背景技术

在泛半导体前期工艺研发阶段，通常要对实际生产制造过程进行模拟，包括湿刻、剥离、显影等工艺，各个工艺会集成在一个装置内进行作业，每个工艺需要朝产品喷洒对应的湿电子化学品，但是各工艺切换过程中难免存在残留的湿电子化学品，而不同的湿电子化学品接触时会对产品质量造成影响，导致整体产品合格率降低。

实用新型内容

本实用新型提供了一种湿法制程装置及产线模拟系统，其能够对产品在各个工艺切换过程中进行清洁作业，避免残留的湿电子化学品相互接触影响产品质量。

本实用新型的实施例可以这样实现：

本实用新型的实施例提供了一种湿法制程装置，其包括：

壳体、输送件、第一喷出件和第二喷出件；

其中，输送件、第一喷出件以及第二喷出件设置于壳体，第一喷出件和第二喷出件分别设置于输送件的两侧，第一喷出件用于喷出湿电子化学品，第二喷出件用于喷出清洁介质。

上述技术方案中，输送件用于输送供给产品，壳体则用于起到遮挡保护的作用，第一喷出件通过喷出湿电子化学品对各个工艺进行模拟，第二喷出件用于在工艺切换过程中喷出清洁介质，减少前工艺的湿电子化学品残留，避免不同的湿电子化学品相接触影响产品质量，进而确保整体产品的合格率。

可选地，第二喷出件包括底座、延伸杆、转盘以及第二喷嘴，底座、延伸杆以及转盘依次设置，转盘可转动地连接于延伸杆，第二喷嘴设置于转盘并连通有第二供应管。

上述技术方案中，底座用于起到定位的作用，延伸杆用于支撑转盘，转盘用于带动第二喷嘴转动，由第二供应管向第二喷嘴供应用于喷洒作业的液体或气体介质，最终通过第二喷嘴进行喷出，从而对产品进行清洁作业。

可选地，延伸杆包括伸缩臂和缓冲垫，转盘可转动地连接于伸缩臂远离所述缓冲垫的一端，缓冲垫设置于伸缩臂与底座之间。

上述技术方案中，通过设置伸缩臂用于带动转盘进行伸缩移动，使得第二喷嘴与产品的间距得到调整，缓冲垫则用于对伸缩臂的伸缩移动起到缓冲作用。

可选地，第二喷嘴的数量为至少两个，至少两个第二喷嘴分别设置于转盘远离延伸杆的一端的端面和侧壁。

上述技术方案中，通过在转盘的端面和侧壁设置第二喷嘴，在对产品进行喷洒作业的同时还可以对壳体以及输送件进行喷洒作业，避免物质残留，防止对产品造成污染。

可选地，第一喷出件包括聚集管和第一喷嘴，第一喷嘴连通于聚集管，聚集管连通有第一供应管。

上述技术方案中，由第一供应管向聚集管供应用于喷洒作业的湿电子化学品，并在聚集管中进行聚集，最终通过第一喷嘴进行喷出，从而实现工艺模拟。

可选地，第一喷嘴的数量为至少两个，至少两个第一喷嘴平行间隔设置。

上述技术方案中，通过将第一喷嘴平行间隔设置，可以对依次通过的产品进行重复喷洒，确保喷洒作业的彻底性。

可选地，湿法制程装置还包括活动隔板，活动隔板设置于壳体并用于将壳体的内腔分隔为上空腔和下空腔，输送件以及第一喷出件设置于上空腔内，第二喷出件设置于下空腔并用于伸入至上空腔进行喷洒作业。

上述技术方案中，通过设置活动隔板对壳体的内腔进行分隔，可以避免喷洒过程中第一喷出件喷出的喷洒介质残留在第二喷出件的表面。

可选地，湿法制程装置还包括喷洒液刀，喷洒液刀连通于第一喷出件并位于输送件的上侧。

上述技术方案中，通过设置喷洒液刀用于对流经的产品进行补充喷洒，从而进一步确保经过产品的喷洒效果。

可选地，输送件包括相连接的支撑框和多个滚轮，多个滚轮间隔设置。

上述技术方案中，支撑框用于连接固定滚轮，滚轮通过与产品的滚动配合进行输送产品，并使滚轮之间存在间隙，方便喷洒介质通过该间隙对产品进行喷洒作业。

本实用新型的实施例还提供了一种产线模拟系统，包括：液体循环系统、气体循环系统以及上述湿法制程装置，液体循环系统以及气体循环系统用于与第一喷出件或第二喷出件或壳体的内腔连通。

上述技术方案中，液体循环系统和气体循环系统分别用于提供用于喷洒作业的液体和气体，使得对产品进行清洗喷淋的同时还能够干燥吹干。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它相关的附图。

图1为本实用新型的实施例中提供的产线模拟系统的结构示意图；

图2为本实用新型的实施例中提供的湿法制程装置中活动隔板关闭时的结构示意图；

图3为本实用新型的实施例中提供的湿法制程装置中活动隔板打开时的结构示意图；

图4为本实用新型的实施例中提供的第二喷出件的结构示意图；

图5为本实用新型的实施例中提供的转盘与第二喷嘴的位置示意图；

图6为本实用新型的实施例中提供的第二喷嘴的俯视结构示意图；

图7为本实用新型的实施例中提供的第二喷嘴的侧视结构示意图。

图标：1000-产线模拟系统；100-湿法制程装置；110-壳体；111-上空腔；112-下空腔；120-输送件；121-支撑框；122-滚轮；130-第一喷出件；131-聚集管；132-第一喷嘴；140-第二喷出件；141-底座；142-延伸杆；1421-伸缩臂；1422-缓冲垫；143-转盘；144-第二喷嘴；1441-喷出孔；150-活动隔板；160-喷洒液刀；170-第一供应管；180-第二供应管；190-外排管；200-刻蚀液供应循环系统；300-纯水供应循环系统；400-光刻胶显影液供应循环系统；500-光刻胶剥离液供应循环系统；600-废液系统；700-压缩干燥空气供应系统；800-排气系统。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，若出现术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

除非另有明确的规定和限定，“设置”、“连接”等术语应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接连接，也可以通过中间媒介间接连接，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型的实施例中的特征可以相互结合。

经过工作人员研究发现，在目前的TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)及IC(integrated circuit，集成电路)制造工艺中，通常包含涂光刻胶，曝光，显影，湿刻，剥离，清洗。通常在前期工艺研发阶段，小试生产线为了模拟大规模生产制造工艺制程，需要使用到一种结构小巧，功能全面的湿法制程设备来完成研发阶段的显影，湿刻，剥离，清洗等工艺制程。

而常用的湿法制程设备，仅支持单一工艺制程，如湿刻设备，剥离设备，清洗设备，显影设备均为独立设备。对于研发阶段开发投入较大，如果功能混用，会有前道制程化学品残留，会对当前实验结果分析造成极大障碍，影响研发进度。即使使用纯水冲洗，仍会有设备边缘角落缝隙难以冲洗干净，仍旧有残留风险。而且纯水冲洗完仍有水珠残留，对部分对含水率有严格把控的湿法制程仍有工艺影响。并且，需要确保产品的不同位置都能够得到均匀喷洒，避免存在个别位置处理不当而造成整体产品报废。

请参考图1-图7，本实施例提供了一种湿法制程装置100及产线模拟系统1000，本实用新型的实施例中提供的湿法制程装置100及产线模拟系统1000可以解决上述问题，接下来将对其进行详细的描述。

该湿法制程装置100包括壳体110、输送件120、第一喷出件130和第二喷出件140；其中，输送件120、第一喷出件130以及第二喷出件140设置于壳体110，第一喷出件130和第二喷出件140分别设置于输送件120的两侧，第一喷出件130用于喷出湿电子化学品，第二喷出件140用于喷出清洁介质。

上述技术方案中，输送件120用于输送供给产品，壳体110则用于起到遮挡保护的作用，第一喷出件130通过喷出湿电子化学品对各个工艺进行模拟，第二喷出件140用于在工艺切换过程中喷出清洁介质，减少前工艺的湿电子化学品残留，避免不同的湿电子化学品相接触影响产品质量，进而确保整体产品的合格率。

值得注意的是，清洁介质具体可以是纯水、洗涤液、干燥气体或吸收颗粒等，能够对喷淋的湿电子化学品残留进行去除的同时不影响产品的本身品质。

参考图2和图3，本实施例中，第一喷出件130连接于壳体110的内侧顶壁，第二喷出件140连接于壳体110的内侧底壁，即第一喷出件130位于输送件120的上侧，第二喷出件140位于输送件120的下侧，湿电子化学品以及清洁介质均可以穿过输送件120，确保对产品的表面进行充分喷淋。

当然了，在本实用新型的其他实施例中，也可以将第一喷出件130和第二喷出件140设置于其他位置，当第一喷出件130和第二喷出件140分别位于输送件120的不同侧时，可以对产品上的不同位置进行喷洒作业。

参考图4，第二喷出件140包括底座141、延伸杆142、转盘143以及第二喷嘴144，底座141、延伸杆142以及转盘143依次设置，转盘143可转动地连接于延伸杆142，第二喷嘴144设置于转盘143并连通有第二供应管180。

上述技术方案中，底座141用于起到定位的作用，延伸杆142用于支撑转盘143，转盘143用于带动第二喷嘴144转动，由第二供应管180向第二喷嘴144供应用于喷洒作业的液体或气体介质，最终通过第二喷嘴144进行喷出，从而对产品进行清洁作业。

参考图6和图7，第二喷嘴144具备呈十字型的喷出孔1441，相对于传统的一字型具备更好的锥形出水效果，覆盖面更广，可以更好地覆盖到产品以及壳体110内腔的各个角落。并且，第二喷嘴144开设有喷出孔1441的一端呈锥型，另一端呈圆台状，方便与转盘143进行连接固定，有助于增加与转盘143连接位置的结构强度。

住的注意的是，在第二供应管180上设置有电磁阀，用于实现对第二供应管180内流动介质的智能控制。

当然了，在转盘143的内部设置有连通于第二喷嘴144的供应孔，该供应孔可直接与第二供应管180连通。此外，也可以使得第二供应管180与底座141或延伸杆142连通，但是需要在底座141或延伸杆142的内部设置对应的供应孔，用于将第二供应管180输送的液体或气体介质传输至第二喷嘴144。

参考图4，延伸杆142包括伸缩臂1421和缓冲垫1422，转盘143可转动地连接于伸缩臂1421远离缓冲垫1422的一端，缓冲垫1422设置于伸缩臂1421与底座141之间。

上述技术方案中，通过设置伸缩臂1421用于带动转盘143进行伸缩移动，使得第二喷嘴144与产品的间距得到调整，缓冲垫1422则用于对伸缩臂1421的伸缩移动起到缓冲作用。

值得注意的是，在伸缩臂1421以及转盘143的内部均设置有对应的驱动件，分别用于带动伸缩臂1421和转盘143进行伸缩移动以及旋转运动。该驱动件具体可以是电缸/电机、气缸或者液压缸，其具体动力形式不作限定。

参考图4和图5，第二喷嘴144的数量为至少两个，至少两个第二喷嘴144分别设置于转盘143远离延伸杆142的一端的端面和侧壁。

上述技术方案中，通过在转盘143的端面和侧壁设置第二喷嘴144，在对产品进行喷洒作业的同时还可以对壳体110以及输送件120进行喷洒作业，避免物质残留，防止对产品造成污染。

参考图5，本实施例中，转盘143呈圆盘状，转盘143靠近输送件120的端面设置有五个第二喷嘴144，其中四个第二喷嘴144之间的连线可形成矩形，第五个第二喷嘴144则用于设置在该矩形的对角线相交处。转盘143的侧壁设置有四个第二喷嘴144，这四个第二喷嘴144依次间隔90°。

参考图2和图3，第一喷出件130包括聚集管131和第一喷嘴132，第一喷嘴132连通于聚集管131，聚集管131连通有第一供应管170。

上述技术方案中，由第一供应管170向聚集管131供应用于喷洒作业的湿电子化学品，并在聚集管131中进行聚集，最终通过第一喷嘴132进行喷出，从而实现工艺模拟。

并且，第一喷嘴132与第二喷嘴144的结构一致，同样具备呈十字型的喷出孔1441，从而可以实现更好的锥形出水效果。在第一供应管170上也设置有电磁阀，用于实现对第一供应管170内流动介质的智能控制。

值得注意的是，聚集管131的管径大于第一供应管170的管径，确保用于喷洒的湿电子化学品能够在聚集管131中进行聚集。

参考图2和图3，第一喷嘴132的数量为至少两个，至少两个第一喷嘴132平行间隔设置。

上述技术方案中，通过将第一喷嘴132平行间隔设置，可以对依次通过的产品进行重复喷洒，确保喷洒作业的彻底性。

本实施例中，第一喷嘴132设置为六排，按输送件120对产品的输送方向依次设置，每排至少一个第一喷嘴132。

参考图2和图3，湿法制程装置100还包括喷洒液刀160，喷洒液刀160连通于第一喷出件130并位于输送件120的上侧。

上述技术方案中，通过设置喷洒液刀160用于对流经的产品进行补充喷洒，从而进一步确保经过产品的喷洒效果。

参考图2和图3，湿法制程装置100还包括活动隔板150，活动隔板150设置于壳体110并用于将壳体110的内腔分隔为上空腔111和下空腔112，输送件120以及第一喷出件130设置于上空腔111内，第二喷出件140设置于下空腔112并用于伸入至上空腔111进行喷洒作业。

上述技术方案中，通过设置活动隔板150对壳体110的内腔进行分隔，可以避免喷洒过程中第一喷出件130喷出的喷洒介质残留在第二喷出件140的表面。

参考图2和图3，本实施例中，在第一喷出件130进行喷洒作业时，活动隔板150关闭，第二喷出件140位于下空腔112内，防止第一喷出件130的喷洒介质与第二喷出件140发生接触；当第二喷出件140进行喷洒作业时，活动隔板150打开一个缝隙，伸缩臂1421进行伸缩，带动转盘143和第二喷嘴144从下空腔112内伸出，此时活动隔板150再减小缝隙并与伸缩臂1421密封配合，在不影响第二喷出件140进行喷洒作业的同时，可以防止喷洒介质回流至下空腔112内。因此，也可以将其余精密部件设置于下空腔112内。

值得注意的是，活动隔板150的敞开和封闭可以是自动进行，也可以是手动进行的，具体驱动方式可根据需要设定。

当然了，活动隔板150也可以仅对第二喷出件140的上侧进行遮挡，防止第一喷出件130喷洒的液体残留在第二喷出件140表面即可，无需对上空腔111和下空腔112进行完全分隔。此时下空腔112可以起到一定的承接液体的作用，所承接的液体可以与第二喷出件140喷出的清洁介质混合并及时排出。并且所承接液体的液面与产品能够保持安全间距，避免重新飞溅至产品表面。

还可以使壳体110连通有外排管190，可根据实际使用情况选择外排管190与上空腔111和/或下空腔112连通，用于将上空腔111以及下空腔112内残留的液体进行外排。

本实施例中，活动隔板150对上空腔111和下空腔112进行完全分隔，不存在湿电子化学品流入下空腔112内，此时外排管190与上空腔111连通。

参考图2和图3，输送件120包括相连接的支撑框121和多个滚轮122，多个滚轮122间隔设置。

上述技术方案中，支撑框121用于连接固定滚轮122，滚轮122通过与产品的滚动配合进行输送产品，并使滚轮122之间存在间隙，方便喷洒介质通过该间隙对产品进行喷洒作业。

并且，支撑框121上开设有多个通孔，方便喷洒的湿电子化学品以及清洁介质通过，进而对产品的四周分别进行喷洒及清洁作业。

参考图1，本实用新型的实施例还提供了一种产线模拟系统1000，包括：液体循环系统、气体循环系统以及上述湿法制程装置100，液体循环系统以及气体循环系统分别与第一喷出件130和/或第二喷出件140和/或壳体110的内腔连通。

其中，液体循环系统和气体循环系统分别用于提供用于喷洒作业的液体和气体，使得对产品进行清洗喷淋的同时还能够干燥吹干，从而提高作业效率。

具体的，液体循环系统包括刻蚀液供应循环系统200、纯水供应循环系统300、光刻胶显影液供应循环系统400、光刻胶剥离液供应循环系统500以及废液系统600，其中纯水供应循环系统300连通于第二供应管180，通过第二喷出件140进行喷淋喷洒作业，刻蚀液供应循环系统200、光刻胶显影液供应循环系统400以及光刻胶剥离液供应循环系统500连通于第一供应管170，通过第一喷出件130进行喷洒作业，废液系统600与壳体110的内腔通过外排管190连通，并且连通处位于活动隔板150的上方，用于对上空腔111内喷洒作业后的废液进行回收。

气体循环系统包括压缩干燥空气供应系统700以及排气系统800，压缩干燥空气供应系统700连通于第二供应管180，通过第二喷出件140上的第二喷嘴144吹出压缩干燥空气，进而实现对产品以及上空腔111的干燥清洁作业。排气系统800连通于上空腔111，用于对上空腔111内的清洁作业后的气体进行回收。

在产线模拟系统1000进行作业时，滚轮122双向往复转动，带动产品做往复运动。刻蚀液供应循环系统200或光刻胶显影液供应循环系统400或光刻胶剥离液供应循环系统500通过第一供应管170向第一喷嘴132和喷洒液刀160供应药液，喷洒至往复移动的产品上侧。喷洒过程中，活动隔板150对第二喷出件140进行遮挡保护，防止药液聚集在第二喷出件140的表面。当药液喷洒完毕后，第二喷出件140伸入至上空腔111内并使第二喷嘴144朝向产品。此时纯水供应循环系统300通过第二供应管180向第二喷嘴144供应纯水，由第二喷嘴144进行喷出，对产品进行水洗，水洗后的液体由废液系统600进行收集外排。当水洗完毕后，压缩干燥空气供应系统700通过第二供应管180向第二喷嘴144供应压缩干燥空气，由第二喷嘴144喷出以对产品进行吹干，吹干后的废气通过排气系统800外排。

该产线模拟系统1000和湿法制程装置100可以对产品的不同位置分别进行喷洒作业，确保产品的合格率；还可以使得湿刻、剥离、清洗等工艺集成化，确保工艺模拟效果的同时降低研发阶段的成本投入。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易向到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种湿法制程装置，其特征在于，包括：

壳体(110)、输送件(120)、第一喷出件(130)和第二喷出件(140)；

其中，所述输送件(120)、所述第一喷出件(130)以及所述第二喷出件(140)设置于所述壳体(110)，所述第一喷出件(130)和所述第二喷出件(140)分别设置于所述输送件(120)的两侧，所述第一喷出件(130)用于喷出湿电子化学品，所述第二喷出件(140)用于喷出清洁介质；

所述第二喷出件(140)包括底座(141)、延伸杆(142)、转盘(143)以及第二喷嘴(144)，所述底座(141)、所述延伸杆(142)以及所述转盘(143)依次设置，所述转盘(143)可转动地连接于所述延伸杆(142)，所述第二喷嘴(144)设置于所述转盘(143)并连通有第二供应管(180)；

所述第一喷出件(130)包括聚集管(131)和第一喷嘴(132)，所述第一喷嘴(132)连通于所述聚集管(131)，所述聚集管(131)连通有第一供应管(170)。

2.根据权利要求1所述的湿法制程装置，其特征在于，所述延伸杆(142)包括伸缩臂(1421)和缓冲垫(1422)，所述转盘(143)可转动地连接于所述伸缩臂(1421)远离所述缓冲垫(1422)的一端，所述缓冲垫(1422)设置于所述伸缩臂(1421)与所述底座(141)之间。

3.根据权利要求1所述的湿法制程装置，其特征在于，所述第二喷嘴(144)的数量为至少两个，所述至少两个第二喷嘴(144)分别设置于所述转盘(143)远离所述延伸杆(142)的一端的端面和侧壁。

4.根据权利要求1所述的湿法制程装置，其特征在于，所述第一喷嘴(132)的数量为至少两个，所述至少两个第一喷嘴(132)平行间隔设置。

5.根据权利要求1-4任一项所述的湿法制程装置，其特征在于，所述湿法制程装置还包括活动隔板(150)，所述活动隔板(150)设置于所述壳体(110)并用于将所述壳体(110)的内腔分隔为上空腔(111)和下空腔(112)，所述输送件(120)以及所述第一喷出件(130)设置于所述上空腔(111)内，所述第二喷出件(140)设置于所述下空腔(112)并用于伸入至所述上空腔(111)进行喷洒作业。

6.根据权利要求1-4任一项所述的湿法制程装置，其特征在于，所述湿法制程装置还包括喷洒液刀(160)，所述喷洒液刀(160)连通于所述第一喷出件(130)并位于所述输送件(120)的上侧。

7.根据权利要求1-4任一项所述的湿法制程装置，其特征在于，所述输送件(120)包括相连接的支撑框(121)和多个滚轮(122)，多个所述滚轮(122)间隔设置。

8.一种产线模拟系统，其特征在于，包括：液体循环系统、气体循环系统以及权利要求1-7任一项所述的湿法制程装置，所述液体循环系统以及气体循环系统用于与所述第一喷出件(130)或所述第二喷出件(140)或所述壳体(110)的内腔连通。