CN216224191U - 胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，包括底架及固定连接在底架上侧的搅拌筒，所述搅拌筒下壁且居中位置固定连接有出料口以及用于控制出料口通断的出料阀；上盖，所述上盖固定连接在搅拌筒上端。本实用新型，通过驱动电机带动四组逐渐增大的搅拌叶对原料液进行搅拌并向下推动，旋转中的原料液外层通过内胆层内侧壁的螺旋槽形成向上螺旋升起的逆流，并通过内翻挡板再次返回到搅拌叶附近参与搅拌，形成循环路线，搅拌非常彻底，不会有死角，通过上下分别设置的第一温度传感器和第二温度传感器，实时检测原料温度，当发现温度不足时，通过控制与之相邻的电加热组件进行加热升温，使原料液始终保持一定温度。

Description

胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置

技术领域

本实用新型涉及钯制备技术领域，尤其涉及胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置。

背景技术

胶体钯，是二价锡与钯盐混合配制的溶液，使用胶体钯对塑胶表面进行活化处理，是塑胶表面处理工艺的关键步骤之一，胶体钯的制备对制备过程的各溶液比例及温度控制要求较高，而市场上现有的药水制备装置并无针对胶体钯制备进行专门的设计，现有技术中，胶体钯制备过程中仍由人工搅拌，导致搅拌质量不高，且胶体钯制备过程中药剂混合与保温分开进行，不利于保持胶体钯性能。

为此，中国专利公开号CN104962885A，提出一种胶体钯的制备装置，包括反应釜、搅拌机、恒温设备，反应釜由里外两层玻璃制成，里外两层玻璃之间形成夹层并与里层玻璃形成的釜体隔绝，反应釜顶部设有与内部釜体贯通的第一开口、第二开口、第三开口及第四开口，反应釜底部设有出料口，出料口上设置有用于控制出料口打开或闭合的阀体；反应釜外侧还设有与所述夹层贯通相接的第五开口，恒温设备与第五开口相连接，搅拌机的搅拌桨通过第一开口伸入釜体中，该装置虽然使用搅拌机驱动搅拌桨取代了人工搅拌，但是其搅拌方式仍非常原始，单一的旋转会出现死角区域，仅仅有在搅拌桨附近的原料液被搅拌，其余部分原料液几乎不会被搅动，搅拌质量仍有待提高。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，包括底架及固定连接在底架上侧的搅拌筒，所述搅拌筒下壁且居中位置固定连接有出料口以及用于控制出料口通断的出料阀；上盖，所述上盖固定连接在搅拌筒上端，所述上盖上设置有用于搅拌原料的搅拌组件以及用于驱动搅拌组件的驱动组件，所述上盖上壁还设置有用于进料的进料口；所述搅拌筒由从外至内设置的外筒体、保温层、绝缘层、内胆层以及固定连接在外筒体底部的底板组成，所述搅拌筒内设置有用于对原料加热的加热组件以及用于检测温度的温度检测组件，所述内胆层内侧设置有使原料上旋循环的循环结构。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述驱动组件包括驱动电机、驱动轴，所述驱动电机固定连接在上盖上壁，所述驱动电机伸出轴外壁贯穿上盖至搅拌筒内侧，所述驱动轴固定连接在驱动电机伸出轴端部。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述搅拌组件包括四组搅拌叶，四组所述搅拌叶均固定连接在驱动轴外壁，四组所述搅拌叶旋转直径按从上到下顺序逐层增大。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述循环结构包括螺旋槽、内翻挡板，所述螺旋槽设置在内胆层内侧壁，所述内翻挡板固定连接在内胆层上端。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述温度检测组件包括第一温度传感器、第二温度传感器，所述第一温度传感器、第二温度传感器按从上到下顺序固定连接在搅拌筒外壁，所述第一温度传感器、第二温度传感器探测针外壁均贯穿搅拌筒内壁至内侧。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述电加热组件包括第一电加热圈、第二电加热圈，所述第一电加热圈、第二电加热圈均固定连接在绝缘层内壁且紧靠内胆层，所述第一电加热圈、第二电加热圈均设置在第一温度传感器、第二温度传感器之间。

本实用新型具有如下有益效果：

1、与现有技术相比，该胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，通过驱动电机带动四组逐渐增大的搅拌叶对原料液进行搅拌并向下推动，将原料液搅拌的同时使其进行旋转，旋转中的原料液外层通过内胆层内侧壁的螺旋槽形成向上螺旋升起的逆流，并通过内翻挡板再次返回到搅拌叶附近参与搅拌，形成搅拌、下压、旋转、螺旋上升、再搅拌的循环路线，搅拌非常彻底，不会有死角。

2、与现有技术相比，该胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，通过上下分别设置的第一温度传感器和第二温度传感器，实时检测原料温度，当发现温度不足时，通过控制与之相邻的电加热组件进行加热升温，使原料液始终保持一定温度。

附图说明

图1为本实用新型提出的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置的整体结构示意图；

图2为本实用新型提出的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置的搅拌筒及上盖局部结构剖视图；

图3为本实用新型提出的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置的驱动轴及搅拌叶连接结构示意图。

图例说明：

1、底架；2、外筒体；3、上盖；4、驱动电机；5、进料口；6、出料口；7、出料阀；8、第一温度传感器；9、第二温度传感器；10、驱动轴；11、搅拌叶；12、保温层；13、绝缘层；14、内胆层；15、螺旋槽；16、底板；17、内翻挡板；18、第一电加热圈；19、第二电加热圈。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参照图1到图3，本实用新型提供的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置：包括底架1及固定连接在底架1上侧的搅拌筒，搅拌筒下壁且居中位置固定连接有出料口6以及用于控制出料口6通断的出料阀7；上盖3，上盖3固定连接在搅拌筒上端，上盖3上设置有用于搅拌原料的搅拌组件以及用于驱动搅拌组件的驱动组件，上盖3上壁还设置有用于进料的进料口5；搅拌筒由从外至内设置的外筒体2、保温层12、绝缘层13、内胆层14以及固定连接在外筒体2底部的底板16组成，搅拌筒内设置有用于对原料加热的加热组件以及用于检测温度的温度检测组件，内胆层14内侧设置有使原料上旋循环的循环结构，通过进料口5进料，通过打开出料阀7后经出料口6出料。

驱动组件包括驱动电机4、驱动轴10，驱动电机4固定连接在上盖3上壁，驱动电机4伸出轴外壁贯穿上盖3至搅拌筒内侧，驱动轴10固定连接在驱动电机4伸出轴端部，通过驱动电机4带动驱动轴10转动。

搅拌组件包括四组搅拌叶11，四组搅拌叶11均固定连接在驱动轴10外壁，四组搅拌叶11旋转直径按从上到下顺序逐层增大，四组搅拌叶11均向下弯曲，旋转过程中可以将原料液向下推动，四组搅拌叶11从上到下逐层增大是为了使下一级搅拌叶11能够尽量接收到上一级搅拌叶11向下推动来的原料液，最下一组的搅拌叶11将原料液向搅拌筒底部推动的同时向内侧壁挤压。

循环结构包括螺旋槽15、内翻挡板17，螺旋槽15设置在内胆层14内侧壁，内翻挡板17固定连接在内胆层14上端，原料液通过搅拌组件的搅拌产生旋转以及向下流动，被最下一组的搅拌叶11挤压后，沿着螺旋槽15向上运动，最终经过内翻挡板17的折流，再次返回到最上一组搅拌叶11附近参与新一轮搅拌，形成循环搅拌路线。

温度检测组件包括第一温度传感器8、第二温度传感器9，第一温度传感器8、第二温度传感器9按从上到下顺序固定连接在搅拌筒外壁，第一温度传感器8、第二温度传感器9探测针外壁均贯穿搅拌筒内壁至内侧，通过温度检测组件可检测原料液的温度。

电加热组件包括第一电加热圈18、第二电加热圈19，第一电加热圈18、第二电加热圈19均固定连接在绝缘层13内壁且紧靠内胆层14，第一电加热圈18、第二电加热圈19均设置在第一温度传感器8、第二温度传感器9之间，当温度检测组件检测到原料液温度过低时，通过电加热组件进行加热升温，始终控制在设定温度范围内。

工作原理：通过进料口5进料到搅拌筒内侧，通过驱动电机4带动驱动轴10转动，进一步带动四组搅拌叶11转动，四组搅拌叶11均向下弯曲，原料液通过四组搅拌叶11的搅拌产生旋转以及向下流动，最下一组的搅拌叶11将原料液向搅拌筒底部推动的同时向内侧壁挤压，然后原料液沿着螺旋槽15向上运动，最终经过内翻挡板17的折流，再次返回到最上一组搅拌叶11附近参与新一轮搅拌，形成循环搅拌路线，通过温度检测组件可检测原料液的温度，通过电加热组件进行加热升温，始终控制在设定温度范围内。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：包括底架(1)及固定连接在底架(1)上侧的搅拌筒，所述搅拌筒下壁且居中位置固定连接有出料口(6)以及用于控制出料口(6)通断的出料阀(7)；

上盖(3)，所述上盖(3)固定连接在搅拌筒上端，所述上盖(3)上设置有用于搅拌原料的搅拌组件以及用于驱动搅拌组件的驱动组件，所述上盖(3)上壁还设置有用于进料的进料口(5)；

所述搅拌筒由从外至内设置的外筒体(2)、保温层(12)、绝缘层(13)、内胆层(14)以及固定连接在外筒体(2)底部的底板(16)组成，所述搅拌筒内设置有用于对原料加热的加热组件以及用于检测温度的温度检测组件，所述内胆层(14)内侧设置有使原料上旋循环的循环结构。

2.根据权利要求1所述的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：所述驱动组件包括驱动电机(4)、驱动轴(10)，所述驱动电机(4)固定连接在上盖(3)上壁，所述驱动电机(4)伸出轴外壁贯穿上盖(3)至搅拌筒内侧，所述驱动轴(10)固定连接在驱动电机(4)伸出轴端部。

3.根据权利要求2所述的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：所述搅拌组件包括四组搅拌叶(11)，四组所述搅拌叶(11)均固定连接在驱动轴(10)外壁，四组所述搅拌叶(11)旋转直径按从上到下顺序逐层增大。

4.根据权利要求3所述的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：所述循环结构包括螺旋槽(15)、内翻挡板(17)，所述螺旋槽(15)设置在内胆层(14)内侧壁，所述内翻挡板(17)固定连接在内胆层(14)上端。

5.根据权利要求4所述的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：所述温度检测组件包括第一温度传感器(8)、第二温度传感器(9)，所述第一温度传感器(8)、第二温度传感器(9)按从上到下顺序固定连接在搅拌筒外壁，所述第一温度传感器(8)、第二温度传感器(9)探测针外壁均贯穿搅拌筒内壁至内侧。

6.根据权利要求5所述的胶体钯制备用原料均匀搅拌溶解装置，其特征在于：所述加热组件包括第一电加热圈(18)、第二电加热圈(19)，所述第一电加热圈(18)、第二电加热圈(19)均固定连接在绝缘层(13)内壁且紧靠内胆层(14)，所述第一电加热圈(18)、第二电加热圈(19)均设置在第一温度传感器(8)、第二温度传感器(9)之间。

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