CN213499925U - 陶瓷杯自动上釉擦釉设备 - Google Patents

Abstract

一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带、釉池、用以接走陶瓷杯的第二传送带，还设有转台、升降台和基座，转台安装在升降台上，转台设有竖向转轴，升降台还安装有驱动转台绕竖向转轴水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构;所述第一传送带布置在升降台的前侧方，所述釉池布置在升降台的左侧方，所述擦釉机构布置在升降台的后侧方，所述第二传送带布置在升降台的右侧方；转台的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构。本实用新型能自动将陶瓷杯自动上釉，并且将陶瓷杯杯底外边沿部位的釉料擦除。

Description

陶瓷杯自动上釉擦釉设备

技术领域

本实用新型属于陶瓷制品施釉设备的技术领域，尤其涉及一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备。

背景技术

陶瓷杯包括杯壁和杯底，杯底的外表面呈中间高而四周边沿低的上凹结构，杯壁与杯底两者的圆形交界线部位（即杯底外边沿）最低。陶瓷杯在生产过程中，必须对陶瓷杯表面形成一层釉料，俗称上釉，上釉之后送入窑炉进行烧结。烧结时，陶瓷杯搁置在硅板上面。为了避免烧结过程中，杯底部位的釉料与硅板黏连在一起，必须将杯底外边沿部位的釉料擦除后才入窑烧结，这个工序俗称擦釉。

目前对于陶瓷杯生产过程中的上釉工序和擦釉工序多采用人工方式进行，人工成本高，而且生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述缺点而提供一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，它能自动将陶瓷杯自动上釉，并且将陶瓷杯杯底外边沿部位的釉料擦除。

其目的可以按以下方案实现：一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带、釉池、用以接走陶瓷杯的第二传送带，其主要特点在于，还设有转台、升降台和基座，升降台能竖向移动地安装在基座上，基座上还设有驱动升降台升降的气缸；转台安装在升降台上，转台设有竖向转轴，升降台还安装有驱动转台绕竖向转轴水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构;所述第一传送带布置在升降台的前侧方，所述釉池布置在升降台的左侧方，所述擦釉机构布置在升降台的后侧方，所述第二传送带布置在升降台的右侧方；

第一传送带的后端上方设有固定不动的定位挡块，定位挡块形成有V字形叉口, V字形叉口的开口朝向前方；所述擦釉机构包括有循环转动的环形皮带，环形皮带的两端套设有传动轴，环形皮带的外层设有海绵层，该海绵层随同环形皮带循环转动；环形皮带上方设有用以冲洗釉料的喷水管，环形皮带下方设有集水槽；在传动轴旁边还设有挤压辊，挤压辊与传动轴紧靠在一起；

转台的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构，四套吸附机构关于转台的中心呈旋转对称布置，每相邻两套吸附机构相对于转台的竖向转轴所在的方位错开90度；每套吸附机构包括摆动支架、空心金属杆、吸盘，每个摆动支架利用一根水平铰接轴与转台形成铰接； 还设有驱动摆动支架绕对应的水平铰接轴摆动的摆动支架驱动机构；空心金属杆安装在摆动支架的摆动端，吸盘安装在空心金属杆的下端；所述转台里面还设有负压部件，空心金属杆的上端通过吸气管连接到负压部件；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧时，该套吸附机构对应的水平铰接轴的延伸方向为水平横向；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧、且该套吸附机构的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构的吸盘位于第一传送带的定位挡块的V字形叉口的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台左侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述釉池的水平投影位置范围内；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台后侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述擦釉机构的环形皮带的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台右侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述第二传送带的正上方。

所述传动轴套设在环形皮带的前后两端，所述传动轴的轴向为横向。

本实用新型具有以下优点和效果：

一、本实用新型可以实现自动将陶瓷杯上釉，并且上釉之后可以自动将陶瓷杯底外边沿部位的釉料自动擦除；

二、本实用新型的升降台的前后左右四面侧方形成四个工位，每个工位对应负责一个工序，四个工序分别是吸附工件、工件上釉、工件擦釉、释放工件；转台上的四套吸附机构可以同时进行工作，四套吸附机构在同一时刻分别进行吸附工件、工件上釉、工件擦釉、释放工件的工作，随着转台的转动，四套吸附机构的进行的工序不断轮换，工作效率高；

三、转台的升降可以同时协助四个工位实现各自的工作内容，即转台的每一次升降都既有助于实现吸附工件，也有助于实现工件上釉，还有助于实现工件擦釉，以及有助于实现释放工件，使整体动作简化；

四、四套吸附机构围绕着转台布置，使整体布置紧凑、占地面积小。

附图说明

图1是本实用新型具体实施例的主要部件的俯视位置关系示意图。

图2是本实用新型具体实施例的纵向剖面结构示意图。

图3是图2中B-B剖面结构示意图。

图4是图3中局部放大结构示意图。

具体实施方式

图1、图2、图3、图4所示的一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带1、釉池2、用以接走陶瓷杯的第二传送带3;还设有转台51、升降台52、基座53，升降台52利用竖向导柱55能竖向移动地安装在基座53上，基座53上还设有驱动升降台升降的气缸54；转台51设有竖向转轴50，升降台52还安装有驱动转台51绕竖向转轴50水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构3;所述第一传送带1布置在升降台52的前侧方，所述釉池2布置在升降台52的左侧方，所述擦釉机构3布置在升降台52的后侧方，所述第二传送带4布置在升降台52的右侧方；

图1、图3所示，第一传送带1的后端上方设有固定不动的定位挡块11，定位挡块11形成有V字形叉口10, V字形叉口10的开口朝向前方；

图4、图3所示，所述擦釉机构3包括有循环转动的环形皮带31，环形皮带31的前后两端套设有传动轴30，传动轴30的轴向为横向，环形皮带31的外层设有一层海绵层32，该海绵层32随同环形皮带31循环转动；环形皮带31上方设有用以冲洗釉料的喷水管33，环形皮带31下方设有集水槽34；在传动轴30旁边还设有挤压辊35，挤压辊35与传动轴30紧靠在一起；

图1、图3、图4所示，转台51的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构6，四套吸附机构关于转台的中心呈旋转对称布置；每相邻两套吸附机构6相对于转台51的竖向转轴所在的方位错开90度；每套吸附机构6包括摆动支架61、空心金属杆62、吸盘63，空心金属杆62安装在摆动支架61的摆动端，吸盘63安装在空心金属杆62的下端；每个摆动支架61利用一根水平铰接轴60与转台51形成铰接，还设有驱动各摆动支架61绕对应的水平铰接轴60摆动的摆动支架驱动机构；所述转台51里面还设有负压部件，空心金属杆62的上端通过吸气管64连接到负压部件；

当任意一套吸附机构6随同转台51转动到升降台52前侧时，该套吸附机构6对应的水平铰接轴60的延伸方向为水平横向，如图1、图2、图3所示；

当任意一套吸附机构6随同转台51转动到升降台52前侧、且该套吸附机构的空心金属杆62摆动到竖直姿势时，该套吸附机构的吸盘63位于第一传送带的定位挡块的V字形叉口10的正上方，如图1、图2、图3所示；

当任一套吸附机构6随同转台51转动到升降台52左侧、且该套吸附机构6对应的空心金属杆62摆动到竖直姿势时，该套吸附机构6对应的吸盘63的水平投影位置位于所述釉池2的水平投影位置范围内，如图1、图2、图3所示；

当任一套吸附机构6随同转台51转动到升降台52后侧、且该套吸附机构6对应的空心金属杆62摆动到竖直姿势时，该套吸附机构6对应的吸盘63的水平投影位置位于所述擦釉机构的环形皮带31的正上方，如图1、图2、图3所示；

当任一套吸附机构6随同转台51转动到升降台52右侧、且该套吸附机构6对应的空心金属杆62摆动到竖直姿势时，该套吸附机构6对应的吸盘63的水平投影位置位于所述第二传送带4的正上方，如图1、图2、图3所示。

上述实施例的工作步骤原理如下：

（1）、陶瓷杯放在第一传送带1上面，陶瓷杯在第一传送带1带动下向后移动，直至进入定位挡块11的V字形叉口10，使陶瓷杯的水平位置得到固定，接着，升降台52和转台51下降，空心金属杆62下端的吸盘63接触到陶瓷杯的杯底；再接着，负压部件通过吸气管64、空心金属杆62吸气，使吸盘63吸起陶瓷杯，然后升降台52和转台51上升，陶瓷杯和吸附机构6随之上升；

（2）、转台水平转动90度，陶瓷杯来到釉池2上方，对应的摆动支架61绕水平铰接轴60向上摆动，使空心金属杆62和陶瓷杯向外摆动到倾斜姿势，然后升降台52和转台51下降，空心金属杆62、吸盘63、陶瓷杯随之下降，陶瓷杯以倾斜姿势进入釉池2，接着，对应的摆动支架61绕水平铰接轴60向下摆动，使空心金属杆62和陶瓷杯恢复到直立姿势；再接着，升降台52和转台51上升，陶瓷杯和吸附机构随之上升，陶瓷杯离开釉池2，陶瓷杯完成上釉；

（3）、转台3再水平转动90度，陶瓷杯来到擦釉机构3的不停循环转动的环形皮带31上方；升降台52和转台51下降，空心金属杆62、吸盘63、陶瓷杯随之下降，陶瓷杯接触环形皮带31外层的海绵层32，不停转动的海绵层32将陶瓷杯杯底外边沿部位的釉料擦除；接下来，升降台52和转台51上升，空心金属杆62、吸盘63、陶瓷杯随之上升，陶瓷杯离开环形皮带31外围的海绵层32；而喷水管将海绵层32吸附的釉料冲掉，废水流入集水槽34；当海绵层32移动经过传动轴和挤压辊35之间的夹缝时，海绵层32里面的水分被拧干；

（4）、转台3又再水平转动90度，陶瓷杯来到第二传送带4上方，升降台52和转台51下降，空心金属杆62、吸盘63、陶瓷杯随之下降，陶瓷杯的杯底靠近第二传送带4上表面，接着，吸盘63断开负压而将陶瓷杯松开，升降台52和转台51上升，空心金属杆62、吸盘63随之上升，而陶瓷杯则被第二传送带4向下游传送；

此后，转台3又再水平转动90度，于是可再进行步骤（1），如此不断循环。

上面是从一个陶瓷杯和其中一套吸附机构的角度叙述本实用新型的工作过程。在上述具体实施例的工作中，转台上的四套吸附机构6可以同时进行工作，四套吸附机构6在同一时刻分别进行上述步骤（1）、步骤（2）、步骤（3）、步骤（4）的工作，随着转台的转动，四套吸附机构的进行的工序步骤不断轮换，因而整体工作效率高，而且升降台52和转台51的每一次升降动作都可对四套吸附机构的工序发挥作用。

Claims (2)

1.一种陶瓷杯自动上釉擦釉设备，包括用以传送陶瓷杯的第一传送带、釉池、用以接走陶瓷杯的第二传送带，其特征在于：还设有转台、升降台和基座，升降台能竖向移动地安装在基座上，基座上还设有驱动升降台升降的气缸；转台安装在升降台上，转台设有竖向转轴，升降台还安装有驱动转台绕竖向转轴水平自转的转台驱动机构；还设有擦釉机构;所述第一传送带布置在升降台的前侧方，所述釉池布置在升降台的左侧方，所述擦釉机构布置在升降台的后侧方，所述第二传送带布置在升降台的右侧方；

第一传送带的后端上方设有固定不动的定位挡块，定位挡块形成有V字形叉口, V字形叉口的开口朝向前方；所述擦釉机构包括有循环转动的环形皮带，环形皮带的两端套设有传动轴，环形皮带的外层设有海绵层，该海绵层随同环形皮带循环转动；环形皮带上方设有用以冲洗釉料的喷水管，环形皮带下方设有集水槽；在传动轴旁边还设有挤压辊，挤压辊与传动轴紧靠在一起；

转台的四个侧面边缘分别安装有一套用以吸附陶瓷杯的吸附机构，四套吸附机构关于转台的中心呈旋转对称布置，每相邻两套吸附机构相对于转台的竖向转轴所在的方位错开90度；每套吸附机构包括摆动支架、空心金属杆、吸盘，每个摆动支架利用一根水平铰接轴与转台形成铰接；还设有驱动摆动支架绕对应的水平铰接轴摆动的摆动支架驱动机构；空心金属杆安装在摆动支架的摆动端，吸盘安装在空心金属杆的下端；所述转台里面还设有负压部件，空心金属杆的上端通过吸气管连接到负压部件；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧时，该套吸附机构对应的水平铰接轴的延伸方向为水平横向；

当任意一套吸附机构随同转台转动到升降台前侧、且该套吸附机构的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构的吸盘位于第一传送带的定位挡块的V字形叉口的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台左侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述釉池的水平投影位置范围内；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台后侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述擦釉机构的环形皮带的正上方；

当任一套吸附机构随同转台转动到升降台右侧、且该套吸附机构对应的空心金属杆摆动到竖直姿势时，该套吸附机构对应的吸盘的水平投影位置位于所述第二传送带的正上方。

2.根据权利要求1所述的陶瓷杯自动上釉擦釉设备，其特征在于：所述传动轴套设在环形皮带的前后两端，所述传动轴的轴向为横向。

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