CN217476215U - 一种杯体浸外釉设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及陶瓷浸外釉领域，特别涉及一种杯体浸外釉设备，用于杯体外釉，包括机架、放置区、釉池、擦底区、夹持机构，釉池设于放置区与擦底区之间，放置区用于放置杯体，夹持机构架设于机架上，夹持机构用于吸附杯体在夹持区、釉池与擦底区之间往复移动；夹持机构包括移动装置、支撑杆、顶杆、吸盘，支撑杆横向延伸设于移动装置上，顶杆间隔排列穿设于支撑杆上，各顶杆底部设有吸盘；放置区内设有若干放置杯体的放置空间，一顶杆对应一放置空间，移动装置可带动顶杆在水平方向与竖直方向上移动，使顶杆通过移动装置移动至放置区并伸入杯体内使杯体吸附于吸盘上，并带动杯体脱离放置区，使移动装置带动杯体依次进入釉池与擦底区。

Description

一种杯体浸外釉设备

技术领域

本实用新型涉及陶瓷浸外釉领域，特别涉及一种杯体浸外釉设备。

背景技术

釉是由很多种以石英、长石、硼砂、黏土等为原料制成的物质,涂在瓷器或是陶器的表面,烧制成有玻璃光泽,可分为结晶釉裂纹釉等,在烧制好的毛坯上涂覆上一层玻璃质的釉层,主要起到保护和装饰作用,传统上釉方法采用人工上釉的方式,每个工人一次只能给一件产品上釉,工作效率低,工人劳动强度大,产品品质无法保证,且上釉过程繁杂冗长,耗时长,无法做到批量生产，所以需要设计一种可以减少人工劳动强度且可进行批量生产的浸外釉机。

实用新型内容

为克服现有技术中的不足，本实用新型提供一种可批量上釉且节省人工劳动力的杯体浸外釉设备。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种杯体浸外釉设备，用于杯体外釉，包括机架、放置区、釉池、擦底区、夹持机构，所述釉池设于放置区与擦底区之间，所述放置区用于放置杯体，所述夹持机构架设于机架上，所述夹持机构用于吸附杯体在夹持区、釉池与擦底区之间往复移动；

夹持机构包括移动装置、支撑杆、顶杆、吸盘，所述支撑杆横向延伸设于移动装置上，所述顶杆设有若干根，且所述顶杆间隔排列穿设于支撑杆上，各所述顶杆底部设有吸盘；所述放置区内设有若干放置杯体的放置空间，一所述顶杆对应一放置空间，所述移动装置可带动顶杆在水平方向与竖直方向上移动，使顶杆通过移动装置移动至放置区并伸入杯体内使杯体吸附于吸盘上，并带动杯体脱离放置区，使移动装置带动杯体依次进入釉池与擦底区。

进一步的，所述移动装置包括水平移动装置、升降装置，所述水平移动装置包括导轨、立板，所述导轨设于机架一侧，所述立板设于可滑动的设于导轨上，所述升降装置包括升降板，所述升降板与立板连接且可在立板上上下移动，所述支撑杆设于升降板上。

进一步的，所述支撑杆设有两根，且两支撑杆平行设置于升降板上，且一所述支撑杆上对应设有五个顶杆。

进一步的，所述升降板上设有一转动盘，所述支撑杆设于转动盘上，用于让所述转动盘用于带动杯体倾斜转动。

进一步的，所述顶杆上设有一封闭盖，所述封闭盖底部设有密封层，杯体吸附于所述吸盘上的状态下，密封层与杯体的杯口贴合并封闭杯口。

进一步的，所述放置区内设有两卡板，所述卡板上设有若干缺口，相邻缺口之间收尾相连，形成一波浪形结构，一杯体嵌设于一缺口内，两卡板设有缺口的一侧呈对向设置。

进一步的，所述放置区内还设有光栅，所述光栅设有两个且分别设有两卡板两侧，所述光栅一侧设有检测口，所述检测口朝向卡板一侧设置，检测杯体是否设于缺口内。

进一步的，所述釉池包括外池体与内池体，所述外池体设于机架上，所述内池体通过连接管架设于外池体内。

进一步的，所述擦底区为自动擦底机。

由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型提供的一种杯体浸外釉设备，在放置区内设置两卡板的作用在于通过将杯体卡设与缺口内，使夹持机构可对杯体进行批量吸附动作，且进行批量的施釉，提高工作效率，减少了人工劳动强度；设置光栅的作用在于通过光栅的检测口对缺口方向进行检测是否还存在杯体停留于缺口内，若光栅检测到还有杯体停留于缺口处则重新进行吸坯动作；设置夹持机构的作用在于通过设置吸盘使杯体可吸附于吸盘上，并设置了封闭盖使得杯体吸附于吸盘上时可以封闭杯口，防止进入釉池浸釉时釉液流入杯体内；设置转动盘的作用在于使杯体吸附于吸盘上时可通过转动盘让杯体转动倾斜进入釉池，减少杯体与釉池的接触面，使杯体进入釉池的状态更加平稳，且杯体从釉池出来时也通过转动盘使杯体转动倾斜一下使杯体上多余的釉液加快流走；设置擦底机的作用在于对施完釉液的杯体的地步进行擦拭。

附图说明

图1为本实用新型一种杯体浸外釉设备主视结构示意图。

图2为本实用新型一种杯体浸外釉设备侧视结构示意图。

图3为本实用新型一种杯体浸外釉设备俯视结构示意图。

图4为本实用新型一种杯体浸外釉设备A处结构放大示意图。

图中标识对应如下：1.机架、11.放置区、111.卡板、112.缺口、12.光栅、2.釉池、21.外池体、22.内池体、3.擦底区、31.擦底机、4.夹持机构、41.水平移动装置、411.导轨、412.立板、42.升降装置、421.升降板、422.转动盘、43.支撑杆、44.顶杆、441.封闭盖、442.密封层、45.吸盘。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

参照图1至图4所示一种杯体浸外釉设备，包括机架1、放置区11、釉池2、擦底区3、夹持机构4。

放置区11、釉池2、擦底区3分别架设于机架1上，所述釉池2设于放置区11与擦底区3之间，所述放置区11用于放置还未进行施釉的杯体，所述夹持机构4可活动的架设于机架1上，所述夹持机构4用于吸附杯体在夹持区、釉池2与擦底区3之间往复移动。

夹持机构4包括移动装置、支撑杆43、顶杆44、吸盘45、封闭盖441，所述支撑杆43横向延伸设于移动装置上，所述顶杆44设有若干根，且所述顶杆44间隔排列穿设于支撑杆43上，各所述顶杆44底部设有吸盘45，所述顶杆44上设有一封闭盖441，所述封闭盖441底部设有密封层442，杯体吸附于所述吸盘45上的状态下，密封层442与杯体的杯口贴合并封闭杯口，通过顶杆44伸入杯体内通过抽气使得杯体被吸盘45吸附，同时封闭盖441贴合并封闭杯口，放置杯体施釉过程釉液流入杯体内，促使通过驱动移动装置将杯体提起，并且所述支撑杆43设有两根，且两支撑杆43平行设置于升降板421上，且一所述支撑杆43上对应设有五个顶杆44，使得每次可对十个杯子同时进行吸附且对十个杯子同时进行浸外釉，达到了批量生产的目的且减少了人工劳动力。

放置区11内设有若干放置杯体的放置空间，一所述顶杆44对应一放置空间，所述移动装置可带动顶杆44在水平方向与竖直方向上移动，使顶杆44通过移动装置移动至放置区11并伸入杯体内使杯体吸附于吸盘45上，并带动杯体脱离放置区11，使移动装置带动杯体依次进入釉池2对杯体进行浸外釉与进入擦底区3对本体进行擦底动作；所述放置区11内设有两卡板111，所述卡板111上设有若干缺口112，相邻缺口112之间收尾相连，形成一波浪形结构即所述放置空间，一杯体嵌设于一缺口112内，两卡板111设有缺口112的一侧呈对向设置，使得各杯体每次摆放的时候都能定位在同一个位置，方便夹持机构4根据设定的读取位置进行吸附动作；所述放置区11内还设有光栅12，所述光栅12设有两个且分别设有两卡板111两侧，所述光栅12一侧设有检测口，所述检测口朝向卡板111一侧设置，检测杯体是否设于缺口112内，若因夹持机构4为完全把所有的杯体都吸附住而向上升起时，所述光栅12可通过检测口检测都所对应的的缺口112内还有杯子，就会发送信号让夹持架构重新返回放置区11对杯体进行重新吸附。

移动装置包括水平移动装置41、升降装置42，所述水平移动装置41包括导轨411、立板412，所述导轨411设于机架1一侧，所述立板412设于可滑动的设于导轨411上，所述升降装置42包括升降板421，所述升降板421与立板412连接且可在立板412上上下移动，所述支撑杆43设于升降板421上，通过水平移动装置41控制横向移动，升降装置42控制竖向移动，且所述升降板421上设有一转动盘422，所述支撑杆43设于转动盘422上，用于让所述转动盘422用于带动杯体倾斜转动，使得转动盘422可以带动支撑杆43转动并且带动顶杆44转动，目的在与当夹持机构4吸附杯体准备进入釉池2时，通过转动盘422转动一定角度让所有本体呈倾斜状态再进入釉池2，减少杯体与釉液的接触面积，可以使杯体进入釉池2时更加平稳，防止溢出严重，待进入釉池2内再将杯体摆正，完成浸釉后杯体从釉池2离开后，在釉池2上方转动盘422再次让杯体呈倾斜状态，目的是为了让杯体上釉液加快流光。

釉池2包括外池体21与内池体22，所述外池体21设于机架1上，所述内齿体通过连接管架设于外齿体内，通过连接管朝内池体22内添加釉液至溢出至外池体21内，使得内池体22内的釉液始终保持溢出状态，让每次杯体进入内池体22时都有足够的釉液进行施釉。

擦底区3为自动擦底机31，擦底机31是现有技术，即海绵输送带，通过海绵输送带对杯体的底部进行擦拭。

该种杯体浸外釉设备的工作原理如下：

工作过程，先将杯体摆放放置区11内的两卡板111的缺口112内，一缺口112对应一杯体，然后启动夹持机构4，通过移动装置移动至放置区11上方，通过通过升降装置42驱动支撑杆43带动顶杆44朝杯体内底部下降，使吸盘45下降至杯体底部并抽气使吸盘45将杯体吸附提起，并且此时封闭盖441贴个封闭杯口，在升降装置42带动杯体提起时，光栅12通过检测口对缺口112方向进行检测是否还有杯体没被吸附走，若检测出有杯体还在缺口112内则发送信号让夹持机构4重新返回放置区11对杯体进行重新吸附，若为检测出，则夹持机构4待着杯体进入釉池2；在釉池2上方先通过转动盘422使所有杯体呈倾斜状态进入釉池2，减少杯体与釉池2的接触面积，避免釉液溢出，待进入釉池2后再将杯体摆正，完成浸釉后杯体向上脱离釉池2，并在釉池2上方通过转动盘422让杯体再次呈倾斜状态，让残留在杯体上的釉液加快流出并流入釉池2内，避免浪费；然后将杯体移动至擦底区3内，夹持机构4继续夹持住杯体在擦底机31上完成擦拭杯底，带擦底完成后，将擦底机31暂停，然后将所有杯体放在擦底机31上，最后由人工将施釉擦底完成的杯体拿走，如此循环进行批量生产。

上述仅为本实用新型的一种具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。

Claims (9)

1.一种杯体浸外釉设备，用于杯体外釉，包括机架，其特征在于：包括放置区、釉池、擦底区、夹持机构，所述釉池设于放置区与擦底区之间，所述放置区用于放置杯体，所述夹持机构架设于机架上，所述夹持机构用于吸附杯体在夹持区、釉池与擦底区之间往复移动；

夹持机构包括移动装置、支撑杆、顶杆、吸盘，所述支撑杆横向延伸设于移动装置上，所述顶杆设有若干根，且所述顶杆间隔排列穿设于支撑杆上，各所述顶杆底部设有吸盘；所述放置区内设有若干放置杯体的放置空间，一所述顶杆对应一放置空间，所述移动装置可带动顶杆在水平方向与竖直方向上移动，使顶杆通过移动装置移动至放置区并伸入杯体内使杯体吸附于吸盘上，并带动杯体脱离放置区，使移动装置带动杯体依次进入釉池与擦底区。

2.根据权利要求1所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述移动装置包括水平移动装置、升降装置，所述水平移动装置包括导轨、立板，所述导轨设于机架一侧，所述立板设于可滑动的设于导轨上，所述升降装置包括升降板，所述升降板与立板连接且可在立板上上下移动，所述支撑杆设于升降板上。

3.根据权利要求2所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述支撑杆设有两根，且两支撑杆平行设置于升降板上，且一所述支撑杆上对应设有五个顶杆。

4.根据权利要求2所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述升降板上设有一转动盘，所述支撑杆设于转动盘上，用于让所述转动盘用于带动杯体倾斜转动。

5.根据权利要求1所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述顶杆上设有一封闭盖，所述封闭盖底部设有密封层，杯体吸附于所述吸盘上的状态下，密封层与杯体的杯口贴合并封闭杯口。

6.根据权利要求1所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述放置区内设有两卡板，所述卡板上设有若干缺口，相邻缺口之间收尾相连，形成一波浪形结构，一杯体嵌设于一缺口内，两卡板设有缺口的一侧呈对向设置。

7.根据权利要求6所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述放置区内还设有光栅，所述光栅设有两个且分别设有两卡板两侧，所述光栅一侧设有检测口，所述检测口朝向卡板一侧设置，检测杯体是否设于缺口内。

8.根据权利要求1所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述釉池包括外池体与内池体，所述外池体设于机架上，所述内池体通过连接管架设于外池体内。

9.根据权利要求1所述一种杯体浸外釉设备，其特征在于：所述擦底区内设有自动擦底机。

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