CN108407061A - 一种施-抹匀化复合施釉装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种施‑抹匀化复合施釉装置,工作时操作人员需先把碗坯放置到多孔板上加工的圆形凹槽当中，操作人员将碗坯组合单元放置到升起的托架中，液压缸再次动作使碗坯组合单元随托架浸入釉池当中对碗坯施釉，施釉完成后托架升起，吸盘将碗坯运至下抹釉海绵，小电机启动，传送带将托板运送至上抹釉海绵下方后，抹釉电机启动，同时抹釉气缸动作将上抹釉海绵贴紧碗破表面，在上、下抹釉海绵的作用下碗坯表面的釉水均匀分布，从而完成施釉到使碗坯表面釉水匀化的过程。本发明用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的驱动机构复杂、效率不高、上釉质量差、自动化程度不高的缺陷。

Description

一种施-抹匀化复合施釉装置

技术领域

本发明涉及日用陶瓷生产技术，特别是一种用于日用陶瓷生产过程中的自动上釉装置。

背景技术

在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”， 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

2、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

3、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

4、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

5、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。

6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种施-抹匀化复合施釉装置，能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程，最大限度缩短日用陶瓷生产时间，同时克服现有的淋釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷，提供了结构简单、操作便利的复合式浸釉机。

本发明施-抹匀化复合施釉装置,釉池放置与地面上，在釉池的内部放置了浸釉机构，浸釉机构中的托架上放置的为碗坯组合单元，所述釉池的前方为釉水匀化机构。所述浸釉机构包括托架、升降杆、底座、推板和液压缸以及内底板，所述底座放置在釉池的内部，在底座的一端下侧安装内底板，所述内底板上固定液压缸，液压缸输出杆固连推板，推板驱动升降杆转动，托架与升降杆连接并因升降杆转动而升降。所述釉水匀化机构中的传送支架放置于地面上，带轮安装于传送支架两侧，并且驱动传送带转动，在所述传送带之间铰接托板，托板固连小电机，小电机的输出轴端安装下抹釉海绵，在所述传送支架的中部固定部件支架，支架的顶部安装抹釉气缸，抹釉气缸的输出活塞杆固连滑移板，滑移板上侧安装抹釉电机， 抹釉电机连接并驱动上抹釉海绵

所述碗坯组合单元包括多孔板、碗坯和把手，所述多孔板放置在托架内部，碗坯放置于多孔板上加工的圆形凹槽中，把手被固定在多孔板的两侧。

本发明的显著效果在于：

1、传送带传递便于组成自动化生产线，结构简单、紧凑，工作稳定，控制方便。

2、上、下抹釉海绵与碗坯充分接触，并且可以适应碗口形状和口径的变化，能将碗坯上的釉水迅速抹涂均匀，增加了夹持的稳定性，同时冲击性小。

3、采用了浸釉的方法一次能对碗坯组合单元施釉，提高生产效率和改善均匀性，可以实现碗坯均匀、无死角上釉，上釉效果好。

4、整个上釉过程为全自动化，不需要人员参与，生产效率高。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图2为本发明装置主视图，其中A为碗坯施釉生产线流动方向标识，B为釉水匀化机构方向标识。

图3为C处浸釉机构放大示意图。

图4为D处釉水匀化机构放大示意图。

图5为碗坯组合单元的结构示意图。

图6为托架的结构示意图。

其中：1-釉池；2-多孔板；3-吸盘；4-碗坯；5-抹釉气缸；6-传送带；7-带轮；8-位置传感器；9-支架；10-传送支架；11-托架；12-升降杆；13-底座；14-推板；15-液压缸；16-抹釉电机；17-滑移板；18-上抹釉海绵；19-小电机；20-托板;21-下抹釉海绵；22-把手；23-内底板。

具体实施方式

如图1—6所示，底座13放置于釉池1的底部，液压缸15的活塞杆伸出，推动推板14向前移动，升降杆12转动，托架11位置升高离开釉水面，传送带6处于停滞转动状态，抹釉气缸5活塞杆收回腔内，滑移板17上移，抹釉电机16断电，此即为系统的未工作状态。

当需要使用本装置进行施釉时，操作人员或者上游的自动化设备将待上釉的碗坯4倒扣地放置到托架11上加工的圆形凹槽当中，随后液压缸15动作，其活塞杆收回腔体内，升降杆12转动，托架11向下移动浸入到釉池1当中对碗坯4进行施釉，待施釉完成后，液压缸15驱动托架11上移，碗坯4露出釉池面，吸盘3将碗坯4搬运至下抹釉海绵21，随后小电机19转动，传送带6动作将碗坯4向前移动，当位置传感器8检测到碗坯4时传送带6停止，抹釉气缸5的活塞杆下移，从而使上抹釉海绵18接近碗坯4，抹釉电机16驱动上抹釉海绵18，当上抹釉海绵18与碗坯4接触时，上抹釉海绵18和下抹釉海绵21同时抹擦碗坯4的表面，从而使碗坯4表面的釉水均匀分布在碗坯4的表面，完成釉水匀化作业后，传送带6将碗坯4向前送走，下一个碗坯4运动到上抹釉海绵18的下方等待抹釉。

Claims (2)

1.一种施-抹匀化复合施釉装置,釉池（1）放置与地面上，其特征在于：在釉池（1）的内部放置了浸釉机构，浸釉机构中的托架（11）上放置的为碗坯组合单元，所述釉池（1）的前方为釉水匀化机构；所述浸釉机构包括托架（11）、升降杆（12）、底座（13）、推板（14）和液压缸（15）以及内底板（23），所述底座（13）放置在釉池（1）的内部，在底座（13）的一端下侧安装内底板（23），所述内底板（23）上固定液压缸（15），液压缸（15）输出杆固连推板（14），推板（14）驱动升降杆（12）转动，托架（11）与升降杆（12）连接并因升降杆（12）转动而升降；所述釉水匀化机构中的传送支架（10）放置于地面上，带轮（7）安装于传送支架（10）两侧，并且驱动传送带（6）转动，在所述传送带（6）之间铰接托板（20），托板（20）固连小电机（19），小电机（19）的输出轴端安装下抹釉海绵（21），在所述传送支架（10）的中部固定部件支架（9），支架（9）的顶部安装抹釉气缸（5），抹釉气缸（5）的输出活塞杆固连滑移板（17），滑移板（17）上侧安装抹釉电机（16）， 抹釉电机（16）连接并驱动上抹釉海绵（18）。

2.根据权利要求1所述的一种施-抹匀化复合施釉装置，其特征在于:所述碗坯组合单元包括多孔板（2）、碗坯（4）和把手（22），所述多孔板（2）放置在托架（11）内部，碗坯（4）放置于多孔板（2）上加工的圆形凹槽中，把手（22）被固定在多孔板（2）的两侧。