CN104119106A - V形自动浸釉装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种V形自动浸釉装置，碗托由环形转台送至前支架，釉前吸盘将待上釉的碗坯搬至碗托上的凹槽中，横推气缸动作将碗托及碗坯向前推到V形导架的导柱上，V形导架的导柱旋转运动使碗托及碗坯向釉池运动，并且随后浸入釉池当中上釉，上釉完成后碗坯及碗托脱离V形导架运动到后支架上方，釉后吸盘将完成上釉的碗坯吸至传送带二上运走，纵推气缸驱动纵向推板将碗托推向环形转台，环形转台将碗托送至A工位开始下一个上釉周期，本装置可用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的驱动机构复杂、效率不高、上釉质量差、自动化程度不高的缺陷。

Description

V形自动浸釉装置

技术领域

本发明涉及日用陶瓷生产设备，特别是自动上釉装置。

背景技术

在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”， 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

2、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

3、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

4、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

5、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。 

6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种全自动化上釉装置，能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程，最大限度缩短日用陶瓷生产时间，同时克服现有的淋釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷，提供了结构简单、操作便利的流动式自动浸釉机。

本发明通过以下技术方案实现上述目的; 一种V形自动浸釉装置, 传送带一安装在传送支架一上，待上釉的碗坯由传送带一传送至A工位，所述传送支架一的一端附近安装横推机构，横推机构前端为V形导架和釉池，所述V形导架和釉池均放置于地面上，所述V形导架最低点插入釉池当中，以便碗托经过时碗坯能充分浸入釉水，后支架位于V形导架的一端，纵推气缸和纵向推板均安装与后支架上端，在前支架与后支架之间的一侧为环形转台。所述横推机构包括横向推板、前支架和横推气缸，所述前支架放在地面上，所述前支架上端表面为碗托，横推气缸安装在所述前支架一端侧面，所述横推气缸活塞连接横向推板，所述横向推板沿着前支架移动。

所述碗托中间加工有两级圆孔，两级圆孔中小圆孔穿透碗托，大圆孔没有穿透，碗托表面均布小孔，且碗托底面加工有纵横交错的纹槽。所述前支架和后支架上端表面加工有导向凹槽，以便碗托沿着横向推板和纵向推板正前方移动。

    发明的显著效果在于：

1、本发明装置结构简单、紧凑，控制方便，因此价格低廉，便于推广使用。

2、本装置上釉时，碗坯充分浸入釉池釉水中，可以实现碗坯均匀、无死角上釉，对异形碗坯的适应性很好。

3、碗托在环形转台上不断重复利用，碗托与碗坯自动组合、自动分离，不需要人员补充碗托数量。

4、整个上釉过程为带式传输、流水线式生产，不需要人员参与，生产效率高，也便于与其他工序组合。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

其中：1-传送支架一；2-碗坯；3-传送带一；4-釉前吸盘；5-环形转台；6-碗托；7-釉后吸盘；8-纵向推板；9-传送带二；10-传送支架二；11-纵推气缸；12-后支架；13-釉池；14-V形导架；15-前支架；16-横向推板；17-横推气缸。

图2为工位示意图，其中A为上釉前工位。

图3为局部B处横推机构放大示意图。

具体实施方式

现结合附图说明本装置的具体实施方式。

如图1—3所示，本装置工作之前，传送带一3安装在传送支架一1上，未施釉的碗坯2放于传送带一3上并随传送带一3运动到工位A处，横推气缸17安装于前支架15，横推气缸17活塞杆处于收回状态，横向推板16停靠于前支架15与横推气缸17连接的位置，环形转台5将空的碗托6送至前支架15的凹槽中。

 设备启动后，釉前吸盘4将待上釉的碗坯2运至处于前支架15的碗托6中心凹槽位置，随后横推气缸17动作，横向推板16在横推气缸17活塞杆的作用下向前推动碗托6及其上的碗坯2滑向V形导架14，在V形导架14的作用下碗坯2逐渐运动到处于V形导架14最低点的釉池13当中上釉，由于碗坯2全部浸入釉水且碗托6上加工有小圆孔，碗坯2上釉无死角。

随着V形导架14上滚子的转动，碗托6及完成施釉的碗坯2继续向上运动，随后被推入到后支架12上端，釉后吸盘7将碗坯2运至传送带二9上并被送至下一个工序，同时纵推气缸11活塞杆伸出，使纵向推板8推动碗托6到环形转台5的滚子上，环形转台5将碗托6运至工位A处再次使用，设备开始下一个工作循环。

Claims (3)

1.一种V形自动浸釉装置, 传送带一（3）安装在传送支架一（1）上，待上釉的碗坯（2）由传送带一（3）传送至A工位，所述传送支架一（1）的一端附近安装横推机构，横推机构前端为V形导架（14）和釉池（13），所述V形导架（14）和釉池（13）均放置于地面上，所述V形导架（14）最低点插入釉池（13）当中，以便碗托（5）经过时碗坯（2）能充分浸入釉水，后支架（12）位于V形导架（14）的一端，纵推气缸（11）和纵向推板（8）均安装与后支架（12）上端，在前支架（15）与后支架（12）之间的一侧为环形转台（5）；所述横推机构包括横向推板（16）、前支架（15）和横推气缸（17），所述前支架（15）放在地面上，所述前支架（15）上端表面为碗托（6），横推气缸（17）安装在所述前支架（15）一端侧面，所述横推气缸（17）活塞连接横向推板（16），所述横向推板（16）沿着前支架（15）移动。

2.根据权利要求1所述的一种V形自动浸釉装置,其特征在于:所述碗托（6）中间加工有两级圆孔，两级圆孔中小圆孔穿透碗托（6），大圆孔没有穿透，碗托（6）表面均布小孔，且碗托（6）底面加工有纵横交错的纹槽。

3.根据权利要求1所述的一种V形自动浸釉装置,其特征在于:所述前支架（15）和后支架（12）上端表面加工有导向凹槽，以便碗托（6）沿着横向推板（16）和纵向推板（8）正前方移动。