CN204874322U - 大角度全方位喷釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种大角度全方位喷釉装置，传送带二将碗坯传送至洗盘二的下方，吸盘二将碗坯搬运至中空旋转座上，吸管吸附碗坯固定其位置，喷头对碗坯施釉，此时侧转机构动作使悬浮板大角度偏转，将碗坯前后侧暴露早喷头正下方，碗坯翻转机构适时动作将碗坯上下面翻转，喷釉完成后移动电机将碗坯运送至悬浮板的左侧，随后吸盘一将碗坯运至传送带一上，完成一个施釉周期，可用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、自动化程度不高的缺陷。

Description

大角度全方位喷釉装置

技术领域

本实用新型涉及日用陶瓷自动生产设备。

背景技术

在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”，该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

2、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“陶瓷制品的局部表面上釉”，该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

3、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

4、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

5、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。

6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。

发明内容

本实用新型提供一种大角度全方位喷釉装置，能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程，最大限度缩短日用陶瓷生产时间，同时克服现有的淋釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷。

一种大角度全方位喷釉装置，传送带一和传送带二分别安装在传送支架一和传送支架二上，传送带一和传送带二的上方为吸盘一和吸盘二，所述传送支架一和传送支架二之间为底座，所述底座的四个角点上安装侧转机构，与所述侧转机构相连的悬浮板，悬浮板长度方向上对称安装导轨，与导轨相连的为碗坯翻转机构，所述悬浮板的两端安装了丝杆安装板连接丝杆，所述丝杆的一侧则连接移动电机。所述侧转机构包括撑杆、气缸、活塞杆和倾翻杆，所述气缸一底座铰接，活塞杆一端可以在气缸内部移动，另一端铰接倾翻杆，撑杆分别与气缸缸体和倾翻杆上加工的铰接点连接。所述碗坯翻转机构包括旋转气缸、旋转气缸活塞杆、移动支架、滑块和中空旋转座，所述滑块沿导轨滑动，滑块上侧固定移动支架，所述移动支架的两侧安装旋转气缸，旋转气缸活塞杆一端可以在在所述旋转气缸内移动，另一端与中空旋转座连接。

所述移动支架的形状为槽型，在槽的一侧加工有凸台，凸台上加工有与丝杆连接的螺纹孔。

本实用新型的显著效果在于：

1、带式传递，移动电机驱动丝杆旋转精确定位，结构简单、紧凑，自动化程度高、使用成本有效降低，由于零部件多为标准件，通用性好。

2、本装置利用喷釉的方式促进釉水大范围的分布在空气中，以增加釉水附着在碗坯上的几率，同时侧转机构和碗坯翻转机构的协调动作将碗坯大角度的变换位置，碗坯的下方、内侧均可迎向喷头，从而可以实现碗坯均匀、无死角上釉，上釉效果好。

3、整个上釉过程为全自动化，不需要人员参与，生产效率高。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。其中：1-传送带一；2-碗坯；3-吸盘一；4-丝杆安装板；5-喷头；6-移动电机；7-吸盘二；8-传送带二；9-传送支架二；10-导轨；11-丝杆；12-悬浮板；13-底座；14-传送支架一；15-撑杆；16-气缸；17-活塞杆；18-倾翻杆；19-旋转气缸;20-旋转气缸活塞杆；21-移动支架；22-滑块；23-吸管；24-中空旋转座。

图2是本实用新型的装置的俯视图。其中A——工位施釉及流向工位。

图3为局部B处侧转机构局部放大示意图。

图4为局部C处碗坯翻转机构放大示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步描述。

对照图1—4，装置工作开始之前需要完成一些准备工作，各个活塞杆17收回与各自对应的气缸16当中，从而使悬浮板12保持水平，移动电机6启动通过丝杆11驱动固连于滑块22上的移动支架21向右方移动，随后工作人员将待施釉的碗坯2放置在传送带二8上，传送带二8动作将碗坯2向传送带二8的左则移动，碗坯2到达左侧时吸盘二7将碗坯2搬运至中空旋转座24上，吸管23固定住碗坯2，移动电机6再一次动作通过丝杆11驱动移动支架21向左方移动至喷头5的正下方，喷头5喷出釉水对碗坯2施釉，待施釉完成后移动电机6驱动移动支架21向传送带一1的右方移动，随后吸盘一3动作将碗坯2运至传送带一1上运走，至此本装置完成一个碗坯2的施釉工作，随后移动电机6通过丝杆11使移动支架21再一次运动到传送带二8的左侧开始第二个碗坯2的施釉作业。

Claims (2)

1.一种大角度全方位喷釉装置，其特征在于：传送带一（1）和传送带二（8）分别安装在传送支架一（14）和传送支架二（9）上，传送带一（1）和传送带二（8）的上方为吸盘一（3）和吸盘二（7），所述传送支架一（14）和传送支架二（9）之间为底座（13），所述底座（13）的四个角点上安装侧转机构，与所述侧转机构相连的悬浮板（12），悬浮板（12）长度方向上对称安装导轨（10），与导轨（10）相连的为碗坯翻转机构，所述悬浮板（12）的两端安装了丝杆安装板（4）连接丝杆（11），所述丝杆（11）的一侧则连接移动电机（6）；所述侧转机构包括撑杆（15）、气缸（16）、活塞杆（17）和倾翻杆（18），所述气缸（16）与底座（13）铰接，活塞杆（17）一端可以在气缸（16）内部移动，另一端铰接倾翻杆（18），撑杆（15）分别与气缸（16）缸体和倾翻杆（18）上加工的铰接点连接；所述碗坯翻转机构包括旋转气缸（19）、旋转气缸活塞杆（20）、移动支架（21）、滑块（22）和中空旋转座（24），所述滑块（22）沿导轨（10）滑动，滑块（22）上侧固定移动支架（21），所述移动支架（21）的两侧安装旋转气缸（19），旋转气缸活塞杆（20）一端可以在在所述旋转气缸（19）内移动，另一端与中空旋转座（24）连接。

2.根据权利要求1所述的大角度全方位喷釉装置，其特征在于:所述移动支架（21）的形状为槽型，在槽的一侧加工有凸台，凸台上加工有与丝杆（11）连接的螺纹孔。