CN104119107B - 一种流动式自动浸釉装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种流动式自动浸釉装置，未上釉的碗坯放在碗托当中，上釉之前传送带一将碗坯连同碗托送到A工位，釉泵将釉水由釉泵进口经过釉泵出口送入上釉池进釉口中，流过上釉池的碗坯自动浸入釉水当中，碗坯的底面也可与釉水接触，当碗托流过小釉池但还处于大釉池正上方时，碗托及碗坯上残留的釉水会流入到大釉池中回收，从而完成整个施釉过程。本装置可用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的驱动机构复杂、效率不高、自动化程度不高的缺陷。

Description

一种流动式自动浸釉装置

技术领域

本发明涉及日用陶瓷生产设备，特别是自动上釉装置。

背景技术

在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”， 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

2、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

3、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

4、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

5、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。

6、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不足等缺陷。

发明内容

本发明的目的在于提供一种全自动化上釉装置，能够快速、可靠、安全的完成碗坯上釉过程，最大限度缩短日用陶瓷生产时间，同时克服现有的淋釉设备操作员工数量多、上釉过程存在死角的缺陷，提供了结构简单、操作便利的流动式自动浸釉机。

本发明通过以下技术方案实现上述目的; 一种流动式自动浸釉装置, 大釉池放置在地面上，支架整个放在大釉池内部，所述支架上方支撑上釉池，支架的上方一侧安装补釉装置，所述上釉池上方有传送支架一和传送带一穿过，所述传送带一安装在传送支架一上，在所述传送带一的上方为碗托，碗托上安放碗坯。所述补釉装置包括抽釉电机、大釉池、上釉池进釉口、釉泵、釉泵出口和釉泵进口，所述抽釉电机安装在支架的一侧上方，抽釉电机输出轴端连接釉泵，所述釉泵也安装在支架的上方，釉泵分别与釉泵出口和釉泵进口联通，釉泵出口接入上釉池进釉口，釉泵进口联通大釉池。

所述上釉池的其中一相对的两侧加工有缺口，缺口的高度大于碗托上方高度，缺口的宽度等于传送支架一的宽度。

所述碗托为弓字形，中间加工有圆形凹槽，圆形凹槽的底部加工有圆孔。

发明的显著效果在于：

1、本发明装置结构简单、紧凑，控制方便，因此价格低廉，便于推广使用。

2、本装置对异形碗坯的适应性很好，并且釉池中釉水自动添加，无需人员参与。

3、上釉时，碗坯充分浸入釉池釉水中，可以实现碗坯均匀、无死角上釉，上釉效果很好。

4、整个上釉过程为全自动化，不需要人员参与，生产效率高。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

其中：1-传送带一；2-吸盘；3-碗坯；4-传送支架二；5-传送带二；6-上釉池；7-碗托；8-抽釉电机；9-大釉池进釉口；10-大釉池；11-上釉池进釉口；12-支架；13-传送支架一；14-釉泵出口；15-釉泵；16-釉泵进口。

图2为工位示意图，其中A为上釉工位。

图3为局部B处补釉装置放大示意图。

具体实施方式

如图1—3所示，碗坯3放置在碗托7上的圆形凹槽当中，碗坯3和碗托7的组合体放置在传送带一1上，并且由传送带一1运送到A工位，抽釉电机8启动，驱动釉泵15从大釉池10中吸取釉水经过上釉池进釉口11向上釉池6不断补充釉水，使上釉池6的釉水面高于传送带一1上碗托7的高度，传送带一1带动碗托7和碗坯3的组合体经过上釉池6时，碗坯3充分浸入到釉水当中，从而完成施釉主要过程，同时随着传送带一1移动，碗托7和碗坯3移出上釉池6边界进入上釉池6和大釉池10之间的边界区域，这段过程期间残留于碗托7和碗坯3上的釉水会由于重力流到大釉池10当中，从而完成了整个上釉过程，当碗托7运动到传送带一1和传送带二5衔接的位置时，吸盘2动作将碗坯3吸附搬运至传送带二5上，传送带二5将碗坯3送至下一个工序，碗托7则有工作人员取下。

Claims (3)

1.一种流动式自动浸釉装置, 大釉池（10）放置在地面上，支架（12）整个放在大釉池（10）内部，所述支架（12）上方支撑上釉池（6），支架（12）的上方一侧安装补釉装置，所述上釉池（6）上方有传送支架一（13）和传送带一（1）穿过，所述传送带一（1）安装在传送支架一（13）上，在所述传送带一（1）的上方为碗托（7），碗托（7）上安放碗坯（3）；所述补釉装置包括抽釉电机（8）、大釉池（10）、上釉池进釉口（11）、釉泵（15）、釉泵出口（14）和釉泵进口（16），所述抽釉电机（8）安装在支架（12）的一侧上方，抽釉电机（8）输出轴端连接釉泵（15），所述釉泵（15）也安装在支架（12）的上方，釉泵（15）分别与釉泵出口（14）和釉泵进口（16）联通，釉泵出口（14）接入上釉池进釉口（11），釉泵进口（16）联通大釉池（10）。

2.根据权利要求1所述的流动式自动浸釉装置，其特征在于:所述上釉池（6）的其中一相对的两侧加工有缺口，缺口的高度大于碗托（7）上方高度，缺口的宽度等于传送支架一（13）的宽度。

3.根据权利要求1所述的流动式自动浸釉装置，其特征在于:所述碗托（7）为弓字形，中间加工有圆形凹槽，圆形凹槽的底部加工有圆孔。