CN203976641U - 立式转盘自动浸釉装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种立式转盘自动浸釉装置，包括驱动机构、碗坯,上料支架和上料传送带将待上釉的碗坯传送到A工位，所述驱动机构驱动转位浸釉机构转位，当转位上釉机构转至A工位时上料吸盘动作，上料吸盘将位于上料传送带上的碗坯搬至L形碗托上，随后转盘转位，L形碗托连同碗坯浸入到釉池当中对碗坯上釉，待碗坯上釉完成后立式转盘转位将已经完成上釉的碗坯传送至B工位，从而完成上釉工序，当立式转盘再一次转位时则开始下一个上釉周期，本装置用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，克服传统上釉装置存在的驱动机构复杂、效率不高、上釉存在死角、自动化程度不高、工人劳动强度大的缺陷。

Description

立式转盘自动浸釉装置

技术领域

本实用新型涉及日用陶瓷生产设备，特别是日用陶瓷自动上釉装置。

背景技术

在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”， 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

2、专利文献【公开号：CN2647444】公开了一种“上釉机”。该上釉机通过将往复机构及转角机构相组合喷枪机构并以控制器控制的电动机作为动力源来实现上釉，其喷枪机构布置在机架上，机架上同时还布置有工件装夹机构等。该上釉机适用于对有波纹环的圆柱形工件外表面进行上釉处理，不适于异形工件的上釉处理。

3、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

4、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

5、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

6、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。 

7、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度有待提高等缺陷。

实用新型内容

本实用新型提供一种立式转盘自动浸釉装置，解决现有的上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、工人劳动强度过大、自动化程度有待提高等缺陷。

本实用新型立式转盘自动浸釉装置的上料传送带安装在上料支架上，卸料传送带则安装在卸料支架上，驱动机构固定安装在支座上，转位浸釉机构穿过支座与驱动机构连接。所述驱动机构包括变频电机、皮带、大带轮和小带轮，所述变频电机固定安装在支座上，所述小带轮与变频电机输出轴端固定安装，所述大带轮则与穿过支座的立式转盘连接，所述皮带将大带轮与小带轮连接。所述转位浸釉机构包括悬架、L形碗托和立式转盘，所述立式转盘穿过支座安装，所述悬架则固定安装在立式转盘上，所述L形碗托与悬架铰接。

所述L形碗托上开有凹槽，并且在碗托上加工有小孔。

本实用新型的显著效果在于：

1、本实用新型结构简洁，动作简单，而且实现了自动化。

2、本实用新型L形碗托底部加工有小孔，在上釉时L形碗托全部浸入釉池当中，上釉无死角。

3、本实用新型采用变频电机驱动立式转盘转动，可以方便的调节上釉速度。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中：1-变频电机；2-皮带；3-大带轮；4-悬架；5-L形碗托；6-碗坯；7-卸料传送带；8-卸料支架；9-卸料吸盘；10-上料吸盘；11-釉池；12-上料支架；13-上料传送带；14-小带轮；15-立式转盘；16-支座。

图2为本实用新型两工位示意图。

其中，A为上料工位，B为卸料工位，箭头表示生产流向。

具体实施方式

如图1、2所示，首先上料支架12和上料传送带13将碗坯6传送至A工位，变频电机1驱动小带轮14转动，通过皮带2将小带轮14的转动传送到大带轮3，大带轮3则驱动立式转盘15转位到A工位，随后上料吸盘10动作将上料传送带13上的待上釉碗坯6搬至L形碗托5上，完成碗坯6的上料过程，同时L形碗托5由于重力的作用使其底面始终与地面平行，从而保证碗坯6不从L形碗托5上跌落。

随后变频电机1通过小带轮14、皮带2和大带轮3驱动立式转盘15转位将L形碗托5和碗坯6带入釉池11当中对碗坯6上釉，待上釉完成后立式转盘15继续转位将L形碗托5和碗坯6带出釉池11，立式转盘15转动过程中，在重力的作用下停留在L形碗托5上的釉水会落入釉池11当中，从而避免浪费釉水，当立式转盘15转至B工位时卸料吸盘9动作将碗坯6搬至卸料传送带7上，卸料传送带7将碗坯6传送至下一道工艺，从而完成了整个上釉工艺，立式转盘15再一次转位至A工位时重复前述的过程进行下一个上釉周期，循环往复。

Claims (2)

1.一种立式转盘自动浸釉装置，上料传送带（13）安装在上料支架（12）上，卸料传送带（7）安装在卸料支架（8）上，驱动机构固定安装在支座（16）上，转位浸釉机构穿过支座（16）与驱动机构连接；所述驱动机构包括变频电机（1）、皮带（2）、大带轮（3）和小带轮（14），所述变频电机（1）固定安装在支座（16）上，所述小带轮（14）与变频电机（1）输出轴端固定安装，所述大带轮（3）则与穿过支座（16）的立式转盘（15）连接，所述皮带（2）将大带轮（3）与小带轮（14）连接；所述转位浸釉机构包括悬架（4）、L形碗托（5）和立式转盘（15），所述立式转盘（15）穿过支座（16）安装，所述悬架（4）则固定安装在立式转盘（15）上，所述L形碗托（5）与悬架（4）铰接。

2.根据权利要求1所述的立式转盘自动浸釉装置，其特征在于：所述L形碗托（5）上开有凹槽，并且在L形碗托（5）上加工有小孔。