CN212182273U - 一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，属于半导体集成电路领域。包括干膜压膜机、传送支架，所述传送支架安装在干膜压膜机的进料端，所述传送支架包括两个水平设置的固定支杆和设置在两个固定支杆之间的若干传送辊，所述传送支架靠近压膜机进料端的端头上设置有下吸水海绵辊和上吸水海绵辊，传送支架上吸水海绵辊前侧设置有下粘尘辊和上粘尘辊。本实用新型使铜面和干膜更好的贴合，实现了高精密、低线距产品的正常生产，保证了产品质量，保证了印象框架图形的完整转移，便于推广使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体集成电路领域，具体涉及一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架。
背景技术
引线框架作为一种半导体集成电路的芯片载体，在电子产品中有广泛的应用，在蚀刻引线框架生产中，干膜属于重要物料，主要用于产品图形的转移和蚀刻时保护铜板不被蚀刻液腐蚀。干膜是一种感光材料，由聚酯薄膜，光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。在制作引线框架时，通常将干膜在加热加压的方式下，是干膜粘附在铜板表面，在干膜的外面在放上需要制作的产品图形，盖上盖板后真真空固定图形在干膜上的位置，然后通过曝光的方法使干膜发生光聚合反应，将要制作的引线框架图形转移到干膜上，将没有发生光聚合反应的干膜去掉显影，这样产品以外的部分就会裸露处铜板，在蚀刻过程中，蚀刻液喷淋到铜材表面进行腐蚀，有干膜的地方受到干膜保护使引线框架成型。
在生产引线框架过程中由于干膜和铜板之间的结合力不好，导致无法生产高精密、低线距产品。由于铜材在压膜前表面会有细小的附着物，在压膜后在铜材和干膜之间，一些大的附着物会将干膜挤破，导致沙孔和蚀崩的产生，是影响引线框架制作行业成品率的主要因素，也是引线框架制造行业共同面临的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对上述问题，提供一种蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架。
本实用新型采用的技术方案如下：
一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，包括干膜压膜机1、传送支架2，所述传送支架2安装在干膜压膜机1的进料端，所述传送支架2包括两个水平设置的固定支杆21和活动设置在两个固定支杆21之间的若干传送辊22，其特征在于：所述传送支架2靠近压膜机进料端的端头上设置有下吸水海绵辊 23和上吸水海绵辊24，传送支架2上吸水海绵辊前侧设置有下粘尘辊25和上粘尘辊26。
所述下吸水海绵辊23通过吸水管与供水箱连接。
所述下粘尘辊25和上粘尘辊26为硅胶粘尘辊。
所述下吸水海绵辊23和下粘尘辊25以及传送辊22的上接触面位于同一平面。
所述上吸水海绵辊24设置于下吸水海绵辊23的正上方，且两者之间设有间隙。
所述上粘尘辊26设置于下粘尘辊25的正上方，且两者之间设有间隙。
综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型中设置的吸水海绵辊，在压膜时铜板从上下两根吸水海绵中间穿过，经过侵水的铜面，可加速与干膜反应，将铜面的气体赶着使干膜软化粘性加强，使铜面和干膜更好的贴合，实现了高精密、低线距产品的正常生产。和普通的压膜方法相比，由干膜粘附不牢靠造成的不良品比例有原来的6％降低到2％，效果明显；
2、本实用新型中设置的粘尘辊，使铜板从上下粘尘辊中间穿过，粘尘辊和铜板接触，通过粘附力对铜材表面进行处理，将细微的表面附着物粘下后在进行压膜，保证了干膜的平整性，干膜没有损坏，保证了产品质量，保证了印象框架图形的完整转移，增加粘尘装置后，因铜面洁净度不达标造成的不良品比例有原来4％降低待现在2％甚至更低。
附图说明
图1是本实用新型传送支架的结构示意图。
图2是本实用新型的结构示意图。
图中标记：1-干膜压膜机、2-传送支架、21-固定支杆、22-传送辊、23-下吸水海绵辊、24-上吸水海绵辊、25-下粘尘辊、26-上粘尘辊。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
实施例1：
一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，如图1至2，包括干膜压膜机1、传送支架2，所述传送支架2安装在干膜压膜机1的进料端，所述传送支架2包括两个水平设置的固定支杆21和活动设置在两个固定支杆21之间的若干传送辊22，所述传送支架2靠近压膜机进料端的端头上设置有下吸水海绵辊 23和上吸水海绵辊24，传送支架2上吸水海绵辊前侧设置有下粘尘辊25和上粘尘辊26。
所述下吸水海绵辊23通过吸水管与供水箱连接。
所述下粘尘辊25和上粘尘辊26为硅胶粘尘辊。
所述下吸水海绵辊23和下粘尘辊25以及传送辊22的上接触面位于同一平面。
所述上吸水海绵辊24设置于下吸水海绵辊23的正上方，且两者之间设有间隙，间隙供铜带通过。
所述上粘尘辊26设置于下粘尘辊25的正上方，且两者之间设有间隙，间隙供铜带通过。
本实用新型的改进原理为：将压膜机进料段的传送支架的一根传动轴取出，增加两根(上下各一根)吸水海绵辊，同时通过吸水管连接供水箱到两根吸水海绵辊，使压膜过程中始终保持吸水海绵辊吸水半饱和状态。在压膜时铜板从上下两根吸水海绵辊中间穿过再进入压膜机的压膜辊压膜，经过侵水的铜面，可加速与干膜反应，将铜面的气体赶着使干膜软化粘性加强，使铜面和干膜更好的贴合，实现了高精密、低线距产品的正常生产。和普通的压膜方法相比，由干膜粘附不牢靠造成的不良品比例有原来的6％降低到2％，效果明显。
再将传送支架中的另一根传动轴取出，而增加两根(上下各一根)粘尘辊，使铜板从上下粘尘辊中间穿过，粘尘辊和铜板接触，通过粘附力对铜材表面进行处理，将细微的表面附着物粘下后在进行压膜，保证了干膜的平整性，干膜没有损坏，保证了印象框架图形的完整转移，增加粘尘装置后，因铜面洁净度不达标造成的不良品比例有原来4％降低待现在2％甚至更低。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，包括干膜压膜机(1)、传送支架(2)，所述传送支架(2)安装在干膜压膜机(1)的进料端，所述传送支架(2)包括两个水平设置的固定支杆(21)和活动设置在两个固定支杆(21)之间的若干传送辊(22)，其特征在于：所述传送支架(2)靠近压膜机进料端的端头上设置有下吸水海绵辊(23)和上吸水海绵辊(24)，传送支架(2)上吸水海绵辊前侧设置有下粘尘辊(25)和上粘尘辊(26)。
2.根据权利要求1所述的一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，其特征在于：所述下吸水海绵辊(23)通过吸水管与供水箱连接。
3.根据权利要求1所述的一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，其特征在于：所述下粘尘辊(25)和上粘尘辊(26)为硅胶粘尘辊。
4.根据权利要求1所述的一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，其特征在于：所述下吸水海绵辊(23)和下粘尘辊(25)以及传送辊(22)的上接触面位于同一平面。
5.根据权利要求1所述的一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，其特征在于：所述上吸水海绵辊(24)设置于下吸水海绵辊(23)的正上方，且两者之间设有间隙。
6.根据权利要求1所述的一种改进的蚀刻引线框架干膜压膜机传送支架，其特征在于：所述上粘尘辊(26)设置于下粘尘辊(25)的正上方，且两者之间设有间隙。
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN114050117A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-02-15 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种集成电路引线框架半蚀刻设备 |
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2020
- 2020-05-19 CN CN202020842586.7U patent/CN212182273U/zh active Active
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| CN114050117A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-02-15 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种集成电路引线框架半蚀刻设备 |
| CN114050117B (zh) * | 2021-11-17 | 2022-05-03 | 天水华洋电子科技股份有限公司 | 一种集成电路引线框架半蚀刻设备 |
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