CN208217873U - 位置补偿装置以及清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种位置补偿装置以及清洗系统。所述位置补偿装置包括用于与玻璃基板相结合的推送机构，所述玻璃基板设置在一传送机构上，所述推送机构设置在传送机构的一侧，当所述玻璃基板与推送机构结合时，所述推送机构于预定方向上推动玻璃基板。所述清洗系统包括位置补偿装置、清洗机构和传送机构，所述传送机构用于输送玻璃基板，所述清洗机构用于清洗玻璃基板并设置在传送机构的一侧。当所述传送机构停止驱动玻璃基板运动时，通过推送机构与玻璃基板的结合，可以使玻璃基板能够获取额外的动力而运动至指定停放位置，这样可以保证玻璃基板停放位置的准确性，确保玻璃基板能够被顺利安装或准确加工。

Description

位置补偿装置以及清洗系统

技术领域

本实用新型涉及平板显示技术领域，特别涉及一种位置补偿装置以及清洗系统。

背景技术

在液晶显示器以及有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示器生产工艺中，玻璃基板作为关键基础材料之一，其经常需要清洗后方可传送至相应的机台进行加工。

一般地，清洗后的玻璃基板会停放在指定位置以待机械手抓取进行传送。然而，基于传动误差等的影响，清洗后的玻璃基板经常无法停放到指定位置，致使机械手抓取玻璃基板时位置不准确，从而出现了一些问题，比如工艺位置或者是安装位置不准确，这样会影响加工质量，或者是导致玻璃基板无法顺利安放等问题。

因此，有必要开发一种能够保证玻璃基板停放位置的位置补偿装置以及清洗系统。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种位置补偿装置以及清洗系统，能够在玻璃基板清洗完成后，令玻璃基板顺利到达指定停放位置。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种位置补偿装置，其包括用于与玻璃基板相结合的推送机构，所述玻璃基板设置在一传送机构上，所述推送机构设置在所述传送机构的一侧；当所述玻璃基板与所述推送机构结合时，所述推送机构于预定方向上推动所述玻璃基板。

可选的，所述推送机构包括被驱动件和驱动件；所述被驱动件用于驱动所述玻璃基板作第一方向运动，所述驱动件用于驱动所述被驱动件作第二方向运动的，所述第一方向垂直于所述第二方向。

可选的，所述被驱动件和所述驱动件上各自设置有一个磁性体，该二个磁性体的相同极性面对面设置。

可选的，所述驱动件固定连接所述被驱动件，且所述驱动件为可伸缩的弹性体。

可选的，所述驱动件活动连接所述被驱动件，且所述驱动件用于提供电力驱动或流体动力驱动。

可选的，所述推送机构具有渐窄的顶面，该顶面用于与所述玻璃基板相结合。

可选的，所述推送机构的数量为多个，多个所述推送机构并排对齐设置。

可选的，所述位置补偿装置还包括用于限定所述玻璃基板停放位置的挡位机构；该挡位机构设置在所述玻璃基板的前进方向上，并相较于所述推送机构远离所述玻璃基板的起始位置。

可选的，所述挡位机构的数量为多个，多个所述挡位机构并排对齐设置。

为实现上述目的，本实用新型还提供了一种清洗系统，用于清洗玻璃基板，其包括清洗机构、前述传送机构以及前述位置补偿装置；所述传送机构用于输送所述玻璃基板，所述清洗机构设置在所述传送机构一侧并用于清洗所述玻璃基板。

可选的，所述传送机构包括多个水平间隔布置的滚轮组，每个滚轮组包括一根转轴和多个固接在转轴上的滚轮，所述转轴的一端与一个传动轮固接，所述传动轮与一个驱动轮啮合。

可选的，所述推送机构设置在二个相邻滚轴之间。

可选的，所述清洗系统还包括具有出口的壳体，所述清洗机构、传送机构和推送机构设置在壳体内，所述挡位机构设置在壳体外并位于所述出口处。

综上，在本实用新型提供的位置补偿装置以及清洗系统中，设置有位于传送机构一侧的推送机构，那么，当所述传送机构停止驱动玻璃基板运动时，由于惯性、传动间隙等影响，所述玻璃基板依然会向前运动，而在其向前运动过程中，所述推送机构将会与玻璃基板结合，并可在平行于传送机构之传送方向上给予所述玻璃基板一推力，以便于玻璃基板能够获取额外的动力而向前运动至指定停放位置后静止，这样可以保证玻璃基板停放位置的准确性，使得相关设备可以根据符合要求的姿态抓取该玻璃基板，以使玻璃基板能够被顺利安装至机台，或者能够保持正常的生产姿态，从而确保生产效率，提供加工质量。

附图说明

图1是一种现有的清洗系统的结构示意图；

图2是本实用新型一实施例提供的玻璃基板在其运行方向上经过位置补偿装置之推送机构的示意图；

图3是图2所示玻璃基板越过推送机构并停放在挡位机构处的示意图；

图4是本实用新型一实施例提供的推送机构的结构示意图；

图5是本实用新型另一实施例提供的推送机构的结构示意图；

图6是本实用新型其他实施例提供的推送机构的结构示意图；

图7是本实用新型一实施例提供的清洗系统的结构示意图。

附图标记说明如下：

10、40-清洗系统；11-清洗箱；12-喷嘴；13、30-玻璃基板；14、431-转轴；15、432-滚轮；16-传动轮；17-驱动轮；41-壳体；411-出口；42-清洗机构；421-喷嘴；43-传送机构；

20-位置补偿装置；210、310、410-推送机构；211、311、411-被驱动件；212、312、412-驱动件；213、214-磁性体；215-保护套；220-挡位机构。

具体实施方式

图1提供了一种现有的清洗系统10的结构示意图，如图1所示，所述清洗系统10包括密闭的清洗箱11、装接在清洗箱11内的传送机构以及位于传送机构相对两侧的喷嘴12。其中，所述玻璃基板13用于设置在所述传送机构上并在所述传送机构的驱动下运动，而所述喷嘴12用于对玻璃基板13的两个相对面喷淋清洗。所述传送机构具体包括多个水平间隔布置的滚轮组，每个滚轮组包括一根转轴14和多个固接在转轴14上的滚轮15，所述转轴15的一端与一个传动轮16固接，所述传动轮16与一个驱动轮17啮合。那么，所述玻璃基板13直接放置在多个滚轮上15，由滚轮15驱动其运动。

发明人发现，所述玻璃基板13的输送是通过传动轮16和驱动轮17之间的齿轮咬合旋转带动的，由于咬合时存在间隙，致使玻璃基板13传送位置存在一定的偏差，而且电机等驱动机构相应存在传动误差，故而同样会影响传送的准确性。具体来说，清洗完成后，所述传送机构将驱动玻璃基板13运动至预定位置后停止运行，此时，由于惯性、齿轮咬合间隙、电机传动误差等影响，所述玻璃基板13在传送机构停止运行后仍然会继续向前运动，直至因阻力而静止。

发明人进一步发现，所述玻璃基板13在失去传送机构的驱动力后，其自身往往难于运动至指定的停放位置，即没有足够的能量运动至所述指定的停放位置，停放位置的不准确将会影响其后续的加工、装配等。为此，本实用新型提供了一种位置补偿装置以及包含该位置补偿装置的清洗系统，该位置补偿装置能够令玻璃基板在失去传送机构的驱动力后，具有足够的能量运动至指定的停放位置，从而能够确保玻璃基板的顺利安装、加工等，以此提高加工质量，提升生产效率。

本实用新型提供的位置补偿装置包括用于与玻璃基板相结合的推送机构，所述玻璃基板设置在传送机构上，所述推送机构设置在传送机构的一侧，当所述传送机构停止驱动玻璃基板时，所述推送机构可与所述玻璃基板相结合，并于预定方向上给予所述玻璃基板一推力，以使所述玻璃基板在所述推力的作用下运动至指定停放位置。

以下结合附图2至图7以及具体实施例对本实用新型提出的位置补偿装置以及清洗系统作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

参阅图2和图3，图2是本实用新型一实施例提供的位置补偿装置20之推送机构210与玻璃基板30相结合时的示意图，图3是图2所示的推送机构210与玻璃基板30相分离后的示意图，其中，图2所示的玻璃基板30即将脱离推送机构210。

本实施例中，所述推送机构210设置在垂直于玻璃基板30运行方向的位置上，比如玻璃基板30沿水平方向运动，则所述推送机构210沿竖直方向设置。然而，本实用新型包括但不限于在垂直于玻璃基板30运行方向的位置设置推送机构210，只要推送机构210能够在玻璃基板30运行方向上给予一推力即可，至于推送机构210的安装位置不作特别的限定。

可选的，所述推送机构210的数量为二个，优选左右并排对齐设置。如图4所示，所述推送机构210可包括被驱动件211和驱动件212，所述被驱动件211相对于驱动件212可分离，所述驱动件212与外部机构相固定。可选的，所述被驱动件211具有向外凸起的顶面，该顶面的形状优选为弧形，更优选为圆弧形，这样一方面可借助于弧形的顶面向玻璃基板30施加一推力，以使玻璃基板30沿着传送机构的传送方向向前运动，另一方面使得玻璃基板30能够顺利越过推送机构210且可避免碰撞。不过，除了可设置弧形的顶面外，所述被驱动件211的顶面还可设置为梯形，总之，只要使被驱动件211的顶面尺寸渐窄即可。

一个实施例中，所述驱动件212和被驱动件211上各自设置有一个磁性体213、214，每个磁性体具有南北极，且该二个磁性体213、214的同极相对，比如该二个磁性体213、214的北极N相对或南极S相对。

结合图2至图4来说，该推送机构210的工作原理为：

首先，在所述传送机构(为了简化图面，未图示)停止运行后，该传送机构上设置的玻璃基板30会继续沿着箭头A所指示的方向向前运动；

如图2所示，在所述玻璃基板30运动至靠近并进一步爬上推送机构210后，其底部的一部分将抵靠在推送机构210的被驱动件211上，此时在重力作用下，所述玻璃基板30抵压被驱动件211，使得被驱动件211在该压力的作用下逐渐靠近驱动件212，甚至与驱动件212相贴合；

之后，随着所述玻璃基板30逐渐远离推送机构210，压力随之减小，使得被驱动件211在磁性力的作用下逐渐远离驱动件212，在远离过程中，所述被驱动件211以其弧形的顶面向玻璃基板30施加沿箭头A所指方向的推力，令该玻璃基板30在该推力的作用下继续向前运动，直至其完全脱离推送机构210(示出于图3)；

最后，所述玻璃基板30将最终静止并达到指定的停放位置。

其中，所述弧形顶面的坡度可以根据实际需要设置，坡度越大，所述玻璃基板30被推送的越远，所述弧面的坡度可设置在30°左右，基本可满足实际需要。此外，应当知晓的是，所述玻璃基板30在传送机构上运行时，其底部相对于参考面(如地面)的高度可稍低于所述被驱动件211的最高点相对于参考面的高度，以使玻璃基板30能够在运动过程中抵压推送机构210的被驱动件211，以达到推送机构210自动回弹的效果。

可选的，所述位置补偿装置20还包括挡位机构220，该挡位机构220的数量优选为二个，更优选左右并排对齐设置。所述挡位机构220具体设置在玻璃基板30的运动路径上，用以限制玻璃基板30沿箭头A方向的运动，即玻璃基板30运动至挡位机构220处即可停止，此设置可保证具有不同传送速度的玻璃基板能够达到同一个指定的停放位置。显然，所述挡位机构220的位置相比于推送机构210，其更远离玻璃基板30的运动起始位置，以在玻璃基板30脱离推送机构210后，所述玻璃基板30可以由挡位机构220进行限位，防止其超过预设的停放位置。

然而，需要说明的是，本实用新型包括但不限于二个挡位机构220，一个或多个皆可，只要能够有效阻挡玻璃基板30向前运动即可。本实用新型同样包括但不限于二个推送机构210，一个或多个皆可，只要能够平稳地推送玻璃基板30便可。

所述挡位机构220包括但不限于T字型结构，倘若为T字型结构，其水平部分221可呈梯形，即自顶部向底部方向的尺寸逐渐缩小，这样可以避免损坏玻璃基板30且可灵活设置。

进一步，所述推送机构210还包括保护套215，设置在二个磁性体213、214的外围，用于包覆该二个磁性体213、214，以避免推送机构210作业时污染外部环境。所述被驱动件211的材质优选为UPE(超高分子量聚乙烯)，可以防止与玻璃基板30接触时损伤基板。

更进一步，所述玻璃基板30的四周另设置有阻挡物(未图示)，以定位固定玻璃基板，使玻璃基板自传送机构上取出时位置是相同的，确保工艺的稳定性。

本实施例中，为了驱动玻璃基板30沿传送机构的传送方向向前运动(本文中，定义推送机构指向挡位机构的方向为向前)，除了上述实施例描述的推送机构210外，还可以是如图5所示的推送机构310。如图5所示，所述推送机构310可包括被驱动件311和驱动件312，所述驱动件312用于驱动被驱动件311运动。其中，所述被驱动件311与驱动件312活动连接，即被驱动件311可相对于驱动件312产生位移，且所述驱动件312用于提供流体动力驱动，或用于提供电力驱动，比如液压缸、气缸、马达等。与上述被驱动件211相类似，所述被驱动件311的顶面同样可设置为弧形或梯形。

结合图5来说，所述推送机构310的工作原理为：首先，在所述传送机构停止运行后，所述玻璃基板30会继续沿着箭头A所指示的方向向前运动；在玻璃基板30向前运动过程中，其在经过推送机构310时(但未接触)，所述推送机构310之驱动件312驱动被驱动件311向上靠近玻璃基板30，直至与玻璃基板30相接触，此时，所述被驱动件311便通过其顶面向玻璃基板30施加一推力，而使玻璃基板30沿箭头A所指方向运动。

优选的，所述推送机构310之被驱动件311的最高点相对于地面的高度须低于玻璃基板30相对于地面的高度，以防止玻璃基板30在向前运动过程中与推送机构310直接碰撞。

接着，另可以是图6所示的推送机构410，该推送机构410包括被驱动件411和驱动件412，所述驱动件412为可伸缩的弹性体，如弹簧、弹片等弹性结构。所述驱动件412的一端与被驱动件411固连，另一端与外部机构固定，比如与外围的保护套固定。

与前述推送机构210的工作方式类似：

首先，在所述传送机构停止运行后，所述玻璃基板30会继续沿着箭头A所指示的方向向前运动；

之后，当所述玻璃基板30运动至并爬上被驱动件411后，其可施压于被驱动件411，而使驱动件412压缩；

接着，当所述玻璃基板30逐渐远离推送机构410，所述被驱动件411所受的压力逐渐减小，导致驱动件412回弹而驱动被驱动件411向上运动，同时通过其顶面向玻璃基板30施加沿箭头A方向的推力，令玻璃基板30继续向前运动。

显然，无论是哪一种推送机构，其驱动件的外围均设置有保护套，比如推送机构310的驱动件312外部设置有罩子，比如推送机构410的驱动件412外部设置有所述罩子，这些罩子就可以隔离内外环境，以避免污染生产机台。

进一步的，如图7所示，本实施例还提供了一种用于清洗玻璃基板30的清洗系统40，该清洗系统40包括一壳体41，所述壳体41内设置有清洗机构42、传送机构43以及上述实施例提供的位置补偿装置20之推送机构。

所述清洗机构42可设置在传送机构43的上方，也可设置在传送机构43的下方，或者同时设置在传送机构43的上方和下方。所述清洗机构42用于向传送机构43上设置的玻璃基板30喷洒清洗液(比如水)，以清洁玻璃基板30。所述传送机构43用于通过滚动的方式驱动玻璃基板30运动，以实现玻璃基板30的全方位清洗。

所述位置补偿装置20的推送机构210(以210示意)可设置在玻璃基板30的下方，具体可设置在传送机构43的二个相邻转轴431之间，并优选左右并排设置二个推送机构210。所述位置补偿装置20的挡位机构220可设置在壳体41的出口411处并位于壳体41外，用于防止玻璃基板30在清洗过程中或清洗完成后直接冲出壳体41。可选的，所述出口411处左右并排设置二个挡位机构220。

所述清洗机构42可以包括二排喷嘴421，分别设置在玻璃基板30上方和下方。所述传送机构43可以包括多个水平间隔布置的滚轮组，每个滚轮组包括一根转轴431和多个固接在转轴431上的滚轮432。所述转轴431可带动滚轮432转动。由此，所述玻璃基板30由滚轮432驱动其水平运动。

本实施例中，在完成玻璃基板30的清洗后，所述传送机构43将玻璃基板30传送至预定位置后停止运行，比如在壳体41内设置有一个或多个传感器，该传感器用于采集玻璃基板30的位置信号并将该位置信号发送至控制台，该控制台根据该位置信号判断玻璃基板30是否到达所述预定位置，若到达该预定位置，则所述传送机构43停止运行，若未到达预定位置，则所述传送机构43继续驱动玻璃基板30运动。

到达所述预定位置后，因传动误差等影响，所述玻璃基板30将继续朝着出口411方向运动，在此运动过程中，所述玻璃基板30将接触前方的推送机构210，进而该推送机构210推动玻璃基板30继续向着出口411方向运动，致使玻璃基板30能够准确到达指定的停放位置，也就是，利用推送机构补偿了因传动误差所造成的位移差。

最后，本实用新型较佳实施例如上所述，但不限于上述实施例所公开的范围，本领域技术人员应当能够理解，其他可以用于实现推送机构推动玻璃基板向前运动的方式，都可以以引用的方式包含于此。此外，本实用新型提供的清洗系统不限于以喷嘴喷洒清洗液的方式清洗玻璃基板，也不限于以滚轮驱动玻璃基板运动，本领域技术人员应当能够理解，其他可以用于实现玻璃基板清洗以及其他可以用于实现玻璃基板运动的方式，都可以以引用的方式包含于此。

综上，在本实用新型提供的位置补偿装置以及清洗系统中，设置有位于传送机构一侧的推送机构，那么，当所述传送机构停止驱动玻璃基板运动时，由于惯性、传动间隙等影响，所述玻璃基板依然会向前运动，而在其向前运动过程中，所述推送机构将会与玻璃基板结合，并可在平行于传送机构之传送方向上给予所述玻璃基板一推力，以便于玻璃基板能够获取额外的动力而向前运动至指定停放位置后静止，这样可以保证玻璃基板停放位置的准确性，使得相关设备可以根据符合要求的姿态抓取该玻璃基板，以使玻璃基板能够被顺利安装至机台，或者能够保持正常的生产姿态，从而确保生产效率，提供加工质量。

上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种位置补偿装置，其特征在于，包括用于与玻璃基板相结合的推送机构，所述玻璃基板设置在一传送机构上，所述推送机构设置在所述传送机构的一侧；当所述玻璃基板与所述推送机构结合时，所述推送机构于预定方向上推动所述玻璃基板。

2.如权利要求1所述的位置补偿装置，其特征在于，所述推送机构包括：

用于驱动所述玻璃基板作第一方向运动的被驱动件；以及

用于驱动所述被驱动件作第二方向运动的驱动件；

其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

3.如权利要求2所述的位置补偿装置，其特征在于，所述被驱动件和所述驱动件上各自设置有一个磁性体，该二个磁性体的相同极性面对面设置。

4.如权利要求2所述的位置补偿装置，其特征在于，所述驱动件固定连接所述被驱动件，且所述驱动件为可伸缩的弹性体。

5.如权利要求2所述的位置补偿装置，其特征在于，所述驱动件活动连接所述被驱动件，且所述驱动件用于提供电力驱动或流体动力驱动。

6.如权利要求1至5中任一项所述的位置补偿装置，其特征在于，所述推送机构具有渐窄的顶面，该顶面用于与所述玻璃基板相结合。

7.如权利要求1至5中任一项所述的位置补偿装置，其特征在于，所述推送机构的数量为多个，多个所述推送机构并排对齐设置。

8.如权利要求1至5中任一项所述的位置补偿装置，其特征在于，还包括用于限定所述玻璃基板停放位置的挡位机构；该挡位机构设置在所述玻璃基板的前进方向上，并相较于所述推送机构远离所述玻璃基板的起始位置。

9.如权利要求8所述的位置补偿装置，其特征在于，所述挡位机构的数量为多个，多个所述挡位机构并排对齐设置。

10.一种清洗系统，用于清洗玻璃基板，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的位置补偿装置，还包括：

用于输送所述玻璃基板的所述传送机构；以及

用于清洗所述玻璃基板的清洗机构，设置在所述传送机构的一侧。