CN203134796U

CN203134796U - 一种阵列基板及其平板显示器

Info

Publication number: CN203134796U
Application number: CN 201220728769
Authority: CN
Inventors: 彦文晶; 李俊谊
Original assignee: Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd
Current assignee: Xiamen Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date: 2012-12-26
Filing date: 2012-12-26
Publication date: 2013-08-14
Anticipated expiration: 2022-12-26

Abstract

本实用新型公开了一种阵列基板及其平板显示器。所述阵列基板包括：一基板，所述基板包括显示区域和包围所述显示区域的周边区域；一形成于所述基板上的平坦层；一形成于所述平坦层上的钝化层；其中，位于所述周边区域内的钝化层上设置有多个透气孔,位于所述周边区域内的所述平坦层上设置有多个通孔。所述平板显示器，包括所述的阵列基板和一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。采用本实用新型的阵列基板，可以有效减少钝化层的鼓起，同时还可以提高钝化层与下面膜层的粘附性，从而提高了阵列基板的剥离信赖性。

Description

一种阵列基板及其平板显示器

技术领域

本实用新型涉及一种平板显示器，特别涉及一种阵列基板及平板显示器。

背景技术

平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，符合未来图像显示器发展的必然趋势，近年来得到了飞速发展。目前主要的平板显示器包括：液晶显示器(Liquidcrystaldisplay，LCD)、有机发光显示器(Organiclight-emittingdiode display，OLED)、场效应显示器(Fieldemissiondisplay，FED)、等离子显示器(Plasmadisplaypanel，PDP)以及投影显示技术（包括CathodeRayTub，阴极射线管投影技术、Liquidcrystaldisplay，液晶显示投影技术、Liquidcrystalon Silicon，硅基液晶反射投影技术、DigitalLightProcession，数字光处理投影技术）等。液晶显示器是众多平板显示器件中发展最快、技术最成熟、应用面最广。通常，液晶显示器包括彩膜基板、阵列基板以及填充于所述彩膜基板和阵列基板之间的液晶。

阵列基板上通常设置众多的薄膜层，通过对各薄膜层的刻蚀形成薄膜晶体管、像素电极以及公共电极等。为了将更多外围电路集成在阵列基板上，还会在阵列基板上形成一些驱动电路。随着薄膜晶体管的功能越来越强大，阵列基板上集成的电路越来越多，在形成薄膜晶体管和一些主要电路后，阵列基板表面的段差变得非常大。为避免较大的段差导致的各种显示问题，通常，在阵列基板表面会形成一层平坦层。

如图1所示，阵列基板100包括一绝缘层101、平坦层102以及一钝化层103。其中，所述平坦层102形成于所述绝缘层101上，所述钝化层103形成于所述平坦层102上。通常，平坦层102采用有机膜材料，而钝化层103的制作过程中，多采用高温工艺，有机膜材料在经过高温工艺后，会挥发出一些水汽和其他物质，但是这些挥发物质通常无法穿透膜质致密的钝化层，从而导致个别区域的钝化层103的表面形成鼓起104（arraybubble），最终导致不良。特别是在显示区域外的周边区域内，钝化层鼓起的现象尤为明显。

另外，由于有机膜挥发物质存留在钝化层103和平坦层102之间，使所述钝化层103和平坦层102之间的粘附力下降，从而导致所述阵列基板100在后续的剥离信赖性测试（Peelingtest）中，容易出现钝化层103被剥落的情形。

实用新型内容

本实用新型提供一种阵列基板及其液晶显示器，以解决钝化层表面鼓起和剥离信赖性差的问题，从而实现降低阵列基板的不良发生率和提高信赖性品质的目的。

为解决上述技术为题，本实用新型提供一种阵列基板，包括：

一基板，所述基板包括显示区域和包围所述显示区域的周边区域；

一形成于所述基板上的平坦层；

一形成于所述平坦层上的钝化层；

其中，位于所述周边区域内的钝化层上设置有多个透气孔,位于所述周边区域内的所述平坦层上设置有多个通孔。

可选的，所述阵列基板还包括一形成于所述基板上的绝缘层，所述平坦层形成于所述绝缘层上。

可选的，所述透气孔暴露出部分所述平坦层，所述通孔暴露出部分绝缘层，所述钝化层通过所述通孔接触所述绝缘层。

可选的，所述透气孔与所述通孔交错设置。

可选的，所述透气孔与所述通孔间隔设置。

可选的，所述阵列基板还包括一形成于所述平坦层上的透明电极层，所述钝化层形成于所述透明电极层上，所述透气孔暴露出部分所述透明电极层，所述透明电极层上设置有多个穿孔，所述穿孔与所述通孔位置对应，所述钝化层通过所述穿孔和所述通孔接触所述绝缘层。

可选的，所述透明电极层是氧化铟锡或者氧化铟锌。

可选的，所述钝化层是氮化硅，所述平坦化层是有机膜。

可选的，所述透气孔和/或所述通孔为圆形或者方形。

相应的，本实用新型还提供一种液晶显示器，包括所述阵列基板和一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。

在本实用新型所提供的阵列基板中，位于所述周边区域内的钝化层上设置有多个透气孔，位于所述周边区域内的所述平坦层上设置有多个通孔。因为钝化层上设置了透气孔，所述透气孔可以将平坦层暴露出来，如果平坦层在高温工艺中有物质挥发出来，所述挥发的物质可以经由透气孔发散出去，因此可以大大减少因此而产生的钝化层的鼓起。另外，因为平坦层上设置了多个通孔，钝化层经由通孔与平坦层下面的膜层接触，增大了钝化层与平坦层的接触面积，提高了钝化层与平坦层的粘附性，同时增加了钝化层和其他膜层的接触面积，提高了钝化层与下面膜层的粘附性，从而提高了阵列基板的剥离信赖性。

附图说明

图1为现有技术中阵列基板的剖面图；

图2为本实用新型实施例一的阵列基板的俯视图；

图3为图2中沿A-A'的剖面图；

图4为本实用新型实施例二的阵列基板的剖面图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的，技术方案和优点更加清楚，下面结合附图来进一步做详细说明。

实施例一

如图2、图3所示，本实施例的阵列基板200包括：基板201、形成于所述基板201上的平坦层202和形成于所述平坦层202上的钝化层203。其中，所述基板201包括显示区域2011和包围所述显示区域2011的周边区域2012。具体的，所述钝化层和平坦化层是透明绝缘材料。优选的，所述钝化层203是氮化硅，所述平坦化202层是有机膜。其中，位于所述周边区域2012内的钝化层203上设置有多个透气孔2031，位于所述周边区域2012内的所述平坦层202上设置有多个通孔2021。

在所述钝化层203上设置透气孔2031后，所述透气孔2031将所述平坦层202的部分表面暴露出来。如果后续出现高温工艺的话，平坦层202因为高温所产生的挥发物，可以经由所述透气孔2031散发出去，避免了挥发物聚集在平坦层202和钝化层203之间，产生鼓起的问题。

所述透气孔2031与所述通孔2021交错设置，例如每隔N（N为自然数）个透气孔2031设置一个通孔2021，或者每隔一个透气孔2031设置M（M为自然数）个通孔2021。优选的，所述透气孔2031与所述通孔2021间隔设置，即每隔一个透气孔2031设置一个通孔2021，如图2中所示。

所述透气孔2031与所述通孔2021的形状可以是任意形状，例如方形（包括长方形或者正方形）、三角形、圆形、椭圆形、十字形或者其他几何图形。优选的，所述透气孔2031和/或所述通孔2021为圆形或者方形，图中示出的是方形。

进一步地，结合图2和图3，通常所述阵列基板200还包括形成于基板上的绝缘层204，所述平坦层202形成于所述绝缘层204上，所述钝化层203形成于所述平坦层202上。所述透气孔2031暴露出部分所述平坦层202。当对阵列基板200进行高温工艺时，所述平坦层202因为高温所挥发出来的物质会经由所述透气孔2031发散掉，而不会汇集在平坦层202和钝化层203之间的某个地方造成钝化层203的鼓起。

继续参考图2和图3，所述通孔2021会使钝化层203和平坦层202的接触面从平面变为斜面，增大了接触面积，从而使得钝化层203和平坦层202的粘附性提高。而且，所述通孔2021暴露出部分绝缘层204，所述钝化层203通过所述通孔2021接触所述绝缘层204，而钝化层203和绝缘层204同为绝缘无机物质，因此钝化层203和绝缘层204的粘附性要明显优于钝化层203和平坦层202的粘附性，从而使得钝化层203的粘附性进一步增强。

实施例二

本实施例与实施例一的不同之处在于，在所述平坦层和钝化层之间增加了透明电极层。

如图4所示，通常，所述平坦层202为有机材料，而有机材料比较容易因为外界环境而发生变化，例如高温或者高湿等。为了保护所述透气孔2031所暴露出的那部分平坦层202不受外界环境影响，可以在所述平坦层202上设置透明电极层205，所述钝化层203形成于所述透明电极层205上，所述透气孔2031孔暴露出部分所述透明电极层205，所述透明电极层205上设置有多个穿孔2051，所述穿孔2051与所述通孔2021位置对应（也即它们形成在基板201的同一个位置上，形成互相匹配的一个整体），所述钝化层203通过所述穿孔2051和所述通孔2021接触所述绝缘层204。

所述透明电极层205是透明的导电材料，优选的，所述透明电极层205是氧化铟锡或者氧化铟锌。因为氧化铟锡或者氧化铟锌的膜质比较疏松，因此平坦层202的挥发物质仍然可以通过氧化铟锡或者氧化铟锌膜层发散出去，同时也能够对平坦层202仍能起到一定的保护作用。

另外，包括所述阵列基板200的平板显示器也属于本实用新型的保护范围。具体的，本实用新型还提供一种平板显示器包括以上任意一种实施例所述阵列基板200和一与所述阵列基板200相对设置的彩膜基板。优选的，所述平板显示器是液晶显示器，包括以上任意一种实施例所述阵列基板和一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，以及填充于所述阵列基板和彩膜基板中的液晶。由于平板显示器的其他惯常结构为本领域公知技术，在此不再赘述。

综上所述，在本实用新型所提供的阵列基板中，因为钝化层上设置了透气孔，所述透气孔可以将平坦层暴露出来，因此平坦层的挥发物质可以经由所述透气孔发散出去，可以大大减少因此而产生的钝化层的鼓起。另外，因为平坦层上设置了多个通孔，钝化层经由所述通孔与平坦层下面的膜层接触，不仅增大了钝化层与平坦层的接触面积，提高了钝化层与平坦层的粘附性，也同时增加了钝化层和其他膜层的接触面积，进一步提高了钝化层与下面膜层的粘附性，从而提高了阵列基板的剥离信赖性。

显然，本领域的技术人员可以对实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包括这些改动和变型在内。

Claims

1.一种阵列基板，包括：

一形成于所述基板上的平坦层；

一形成于所述平坦层上的钝化层；

其特征在于，位于所述周边区域内的钝化层上设置有多个透气孔，位于所述周边区域内的所述平坦层上设置有多个通孔。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括一形成于所述基板上的绝缘层，所述平坦层形成于所述绝缘层上。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔暴露出部分所述平坦层，所述通孔暴露出部分绝缘层，所述钝化层通过所述通孔接触所述绝缘层。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔与所述通孔交错设置。

5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔与所述通孔间隔设置。

6.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，还包括一形成于所述平坦层上的透明电极层，所述钝化层形成于所述透明电极层上，所述透气孔暴露出部分所述透明电极层，所述透明电极层上设置有多个穿孔，所述穿孔与所述通孔位置对应，所述钝化层通过所述穿孔和所述通孔接触所述绝缘层。

7.如权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述透明电极层是氧化铟锡或者氧化铟锌。

8.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述钝化层是氮化硅，所述平坦层是有机膜。

9.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透气孔和/或所述通孔为圆形或者方形。

10.一种平板显示器，包括一如权利要求1至9任意一项所述的阵列基板和一与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。