CN108279521A - 显示基板和显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板和显示面板，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底基板；衬底基板上设置有第一功能图形，设置有第一功能图形的衬底基板的外围区域中设置有孔洞；设置有第一功能图形的衬底基板上设置有第二功能图形以及填充结构，第二功能图形包括至少一种图形，填充结构位于孔洞中，且包括与第二功能图形中的至少一种图形同层设置的结构。本发明通过与第二功能图形中至少一个图形同层设置的填充结构来填充衬底基板的外围区域中设置的孔洞，以降低孔洞和其它区域的段差，避免了配向液大量聚集在这些孔洞中。解决了相关技术中配向层的厚度不均匀的问题。达到了提高配向层的厚度的均匀性的效果。

Description

显示基板和显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板和显示面板。
背景技术
显示面板中包括用于实现各种不同功能的显示基板，如阵列基板和彩膜基板等。
一种显示基板包括衬底基板以及设置在该衬底基板上的各种功能图形(这些功能图形包括有各种图形，如阵列基板中的栅线图形，或者如彩膜基板中的黑矩阵图形等)。这些图形可能遍布显示基板的显示区域和外围区域。这些功能图形之上可以设置有配向层，该配向层用于对后续形成的液晶层中的液晶进行配向。
在实现本发明的过程中，发明人发现相关技术至少存在以下问题：上述设置有功能图形的显示基板的外围区域可能存在一些孔洞，在涂覆用于形成配向层的配向液之后，该配向液会聚集在这些孔洞中，进而使得其形成的配向层的厚度不均匀。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示基板和显示面板，能够解决相关技术中配向层的厚度不均匀的问题。所述技术方案如下：
根据本发明的第一方面，提供了一种显示基板，所述显示基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板上设置有第一功能图形，设置有所述第一功能图形的衬底基板的外围区域中设置有孔洞；
设置有所述第一功能图形的衬底基板上设置有第二功能图形以及填充结构，所述第二功能图形包括至少一种图形，所述填充结构位于所述孔洞中，且包括与所述第二功能图形中的至少一种图形同层设置的结构。
可选的，所述外围区域包括由外向内依次设置的阵列基板行电路区域和设置有所述孔洞的区域，所述阵列基板行电路区域中，远离所述设置有所述孔洞的区域的一侧设置有封框胶区域，
设置有所述第二功能图形以及所述填充结构的衬底基板上设置有挡墙，所述挡墙设置在所述阵列基板行电路区域中的所述封框胶区域外，所述挡墙用于阻挡配向液流向所述封框胶区域。
可选的，设置有所述第二功能图形以及所述填充结构的衬底基板上设置有钝化层，所述钝化层上设置有所述挡墙。
可选的，所述挡墙与所述钝化层由灰度掩膜技术在一次构图工艺中形成。
可选的，所述第一功能图形包括依次设置在所述衬底基板的外围区域的公共电极块和覆盖在所述公共电极块上的栅极块，
所述公共电极块和所述栅极块上设置有贯穿所述公共电极块和所述栅极块的通孔；
设置有所述公共电极块和所述栅极块的衬底基板上设置有栅绝缘层，所述栅绝缘层在所述通孔所在的区域设置有所述孔洞；
所述孔洞内设置有由有源层图形和数据线图形构成的所述填充结构。
可选的，所述公共电极块和所述栅极块在构图工艺中通过同一块掩膜板进行曝光。
可选的，设置有所述填充结构的衬底基板上设置有钝化层；
设置有所述钝化层的衬底基板上设置有配向层。
可选的，所述阵列基板行电路区域包括第一区域、第二区域和走线区域，
所述第一区域和所述第二区域通过所述走线区域中的走线连接，所述走线区域设置有凹槽；
所述挡墙设置在所述凹槽靠近所述封框胶区域的一侧。
可选的，所述显示基板为彩膜基板。
根据本发明的第二方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括至少一块第一方面所述的显示基板。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
通过与第二功能图形中至少一个图形同层设置的填充结构来填充衬底基板的外围区域中设置的孔洞，以降低孔洞和其它区域的段差，避免了配向液大量聚集在这些孔洞中。解决了相关技术中在涂覆用于形成配向层的配向液之后，该配向液会聚集在外围区域的孔洞中，进而使得配向液形成的配向层的厚度不均匀的问题。达到了提高配向层的厚度的均匀性的效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术中一种显示基板的结构示意图；
图2是本发明实施例示出的一种显示基板的结构示意图；
图3A是本发明实施例示出的另一种显示基板的结构示意图；
图3B是本发明实施例示出的另一种显示基板的结构示意图；
图3C是图3B所示显示基板中的栅极块和衬底基板的俯视图；
图3D是本发明实施例示出的另一种显示基板的结构示意图。
通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
本发明实施例所涉及的显示面板可以为液晶显示面板(英文：Liquid CrystalDisplay；简称：LCD)，液晶显示面板可以包括阵列基板、彩膜基板以及设置在这两个基板之间的液晶层。制造显示面板的过程可以包括：
1、制造阵列基板和彩膜基板；
2、在阵列基板，和/或，彩膜基板上涂覆配向液，以形成配向层；
3、通过摩擦辊轮对配向层进行摩擦配向，摩擦配向后的配向层能够作用于液晶分子，从而使液晶分子能够有规律的排列；
3、将阵列基板和彩膜基板对盒；
4、向阵列基板和彩膜基板之间灌注液晶。
此外，也可以先在阵列基板或彩膜基板上形成液晶层，再将阵列基板和彩膜基板对盒，本发明实施例不进行限制。
但是，如图1所示，其为相关技术中一种显示基板的结构示意图，由于显示基板的外围区域中可能存在有一些孔洞k，若在显示基板上直接涂覆配向液，则配向液可能聚积在这些孔洞k中，而使得其他区域的配向液较少，进而形成的配向层厚度不均匀。而本发明实施例提供了一种显示基板，能够解决该问题。
图2是本发明实施例示出的一种显示基板的结构示意图。该显示基板可以包括：
衬底基板11。
衬底基板11上设置有第一功能图形12，设置有第一功能图形12的衬底基板11的外围区域中设置有孔洞(图2中未标出)。
设置有第一功能图形12的衬底基板11上设置有第二功能图形(图2中未示出)以及填充结构14，第二功能图形包括至少一种图形，填充结构14位于孔洞中，且包括与第二功能图形中的至少一种图形同层设置的结构。即填充结构14中有部分结构或全部结构可以与第二功能图形中的一些结构是通过一次构图工艺形成的结构，这样能够在不增加构图工艺的情况下，降低孔洞处的段差。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，通过与第二功能图形中至少一个图形同层设置的填充结构来填充衬底基板的外围区域中设置的孔洞，以降低孔洞和其它区域的段差，避免了配向液大量聚集在这些孔洞中。解决了相关技术中在涂覆用于形成配向层的配向液之后，该配向液会聚集在外围区域的孔洞中，进而使得配向液形成的配向层的厚度不均匀的问题。达到了提高配向层的厚度的均匀性的效果。
可选的，如图3A所示，其为本发明实施例示出的另一种显示基板的结构示意图，其中，外围区域p包括由外向内(这里的由外向内是指在平行于显示基板的方向上，由显示基板的外向显示基板的内)依次设置的阵列基板行电路(英文：Gate On Array；简称：GOA)区域d2和设置有孔洞k的区域d1，GOA区域d2中，远离设置有孔洞的区域d1的一侧设置有封框胶区域d3(该封框胶区域用于设置封框胶)。设置有孔洞k的区域d1远离GOA区域d2的一侧为显示区域AA。其中，GOA区域d2中设置有GOA电路。
设置有第二功能图形以及填充结构(填充结构可以位于设置有孔洞k的区域d1中，图3A中未示出)的衬底基板11上设置有挡墙w，挡墙w设置在阵列基板行电路区域d2中的封框胶区域d3外，挡墙用于阻挡配向液流向封框胶区域d3。由于配向层的形成通常早于封框胶的涂覆，而若配向液流入封框胶区域，并固化形成配向层，则后续形成于此处的封框胶就无法起到粘合阵列基板和彩膜基板的作用，使得阵列基板和彩膜基板粘合不良。而设置于阵列基板行电路区域d2中的封框胶区域d3外的挡墙w正能够阻挡配向液流向封框胶区域。
可选的，设置有第二功能图形以及填充结构的衬底基板11上设置有钝化层15，钝化层15上设置有挡墙w。
可选的，挡墙w与钝化层15由灰度掩膜技术在一次构图工艺中形成。
灰度掩膜技术是一种通过灰度掩膜板进行曝光的技术，灰度掩膜板是一种在不同区域可以具有不同透过率的掩模板，通过此种掩模板，能够形成不同区域厚度不同的图案。通过灰度掩模板能够在一次构图工艺中形成厚度较薄的钝化层15和厚度较厚的挡墙w。
此外，通过灰度掩模板技术还能够控制挡墙w的高度，使其高度控制在不会对摩擦辊轮绒布造成损伤的范围内。
可选的，该显示基板为彩膜基板，或者该显示基板为阵列基板。
可选的，如图3B所示，其为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图，该图示出了显示基板的外围区域的结构，第一功能图形12包括依次设置在衬底基板11的外围区域的公共电极块121和覆盖在公共电极块121上的栅极块122。
由于显示基板的外围区域可能存在面积较大的栅极块(该栅极块可以与栅线图案同层设置)和公共电极块(该公共电极块可以与显示基板上的其他公共电极同层设置)，若是这些栅极块和公共电极块在构图工艺中通过同一块掩膜板进行曝光，即形状相同，则在沉积用于形成包括栅极块的栅金属层时，公共电极块的水汽可能还为完全释放出，若栅极块盖在公共电极块上，可能由于水汽溢出的原因形成鼓包，进而可能造成显示面板周边的mura(mura是指显示面板亮度不均匀,造成各种痕迹的现象)或者公共电极的电学不良等问题。因此，公共电极块和栅极块上可以设置有贯穿公共电极块121和栅极块122的通孔(图3B中未标出)。
设置有公共电极块121和栅极块122的衬底基板11上设置有栅绝缘层16，栅绝缘层16在通孔所在的区域设置有孔洞(图3B中未标出)。
孔洞内设置有由有源层图形141和数据线图形142构成的填充结构14。位于不同孔洞中的有源层图形141和数据线图形142互相并不连接。
此外，根据显示基板结构的不同，第二功能图形还可以能包括其他结构，填充结构14中还可以包括与这些其他结构同层设置的结构，本发明实施例不进行限制。
可选的，公共电极块121和栅极块122在构图工艺中通过同一块掩膜板进行曝光。
可选的，设置有填充结构的衬底基板上设置有钝化层17。
设置有钝化层17的衬底基板上设置有配向层18。
图3B中，公共电极块的厚度可以为40um(微米)，栅极块的厚度可以为500um，栅极绝缘层的厚度可以为400um，有源层图形的厚度可以为200um，数据线图形的厚度可以为400um，钝化层的厚度可以为600um。
如图3C所示，其为图3B所示显示基板中的栅极块122和衬底基板11的俯视图，其中，在该通孔k为矩形孔时，该通孔k的开口的尺寸为20微米*50微米，孔深为540微米，通孔k的大小及深度完全可以容纳多滴配向液，且不易扩散出去。此外，通孔k的尺寸和形状(如圆形孔或正方形孔)还可以根据显示基板的不同而不同，本发明实施例不进行限制。
可选的，如图3D所示，其为本发明实施例示出的另一种显示基板的结构示意图，其中，阵列基板行电路区域d2包括第一区域q1、第二区域q2和走线区域q3。
第一区域q1和第二区域q2通过走线区域中的走线连接，走线区域q3设置有凹槽c，由于该区域仅包括走线，结构简单，而第一区域q1和第二区域q2中包括有各种电子器件，结构复杂，因而在图3D中，走线区域q3的高度低于第一区域q1和第二区域q2，以形成了凹槽c。该凹槽c的宽度(在方向f上的尺寸)为200um。与第一区域q1和第二区域q2的段差最大可达900um，因而该凹槽c能够容纳一定的配向液，避免配向液流向封框胶区域d3。但是由于该凹槽c的分布不均匀，难以完全挡住配向液，因而挡墙w可以设置在凹槽c靠近封框胶区域d3的一侧，以进一步阻挡配向液。
此外，由于阵列基板行电路区域d2上一般不存在钝化层的过孔，因而也较为容易通过灰度掩膜板技术同时形成钝化层和挡墙，避免了增加构图工艺。
在图3D中，配向液经过较低的走线区域q3，达到挡墙w位置，由于走线区域q3和挡墙w之间的段差超过1000um，因而可确保配向液的扩散被控制在封框胶之前，避免配向液与封框胶的重叠，从而避免了封框胶密封不良或彩膜基板和阵列基板导通不良的问题，提升了显示面板的画面品质。
其中，第一区域q1和第二区域q2中的一个区域可以设置有大型(英文：Thin FilmTransistor；简称：TFT)，另一部分设置有其他的TFT，具体可以参考相关技术，在此不再赘述。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，通过与第二功能图形中至少一个图形同层设置的填充结构来填充衬底基板的外围区域中设置的孔洞，以降低孔洞和其它区域的段差，避免了配向液大量聚集在这些孔洞中。解决了相关技术中在涂覆用于形成配向层的配向液之后，该配向液会聚集在外围区域的孔洞中，进而使得配向液形成的配向层的厚度不均匀的问题。达到了提高配向层的厚度的均匀性的效果。
此外，本发明实施例还提供一种显示面板，该显示面板可以包括上述实施例提供的至少一块显示基板。
本发明中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
本发明中术语“A和B的至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和B的至少一种，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。同理，“A、B和C的至少一种”表示可以存在七种关系，可以表示：单独存在A，单独存在B，单独存在C，同时存在A和B，同时存在A和C，同时存在C和B，同时存在A、B和C这七种情况。同理，“A、B、C和D的至少一种”表示可以存在十五种关系，可以表示：单独存在A，单独存在B，单独存在C，单独存在D，同时存在A和B，同时存在A和C，同时存在A和D，同时存在C和B，同时存在D和B，同时存在C和D，同时存在A、B和C，同时存在A、B和D，同时存在A、C和D，同时存在B、C和D，同时存在A、B、C和D，这十五种情况。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间惟一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
在本发明中，术语“第一”、“第二”、“第三”和“第四”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。术语“多个”指两个或两个以上，除非另有明确的限定。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板上设置有第一功能图形，设置有所述第一功能图形的衬底基板的外围区域中设置有孔洞；
设置有所述第一功能图形的衬底基板上设置有第二功能图形以及填充结构，所述第二功能图形包括至少一种图形，所述填充结构位于所述孔洞中，且包括与所述第二功能图形中的至少一种图形同层设置的结构。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述外围区域包括由外向内依次设置的阵列基板行电路区域和设置有所述孔洞的区域，所述阵列基板行电路区域中，远离所述设置有所述孔洞的区域的一侧设置有封框胶区域，
设置有所述第二功能图形以及所述填充结构的衬底基板上设置有挡墙，所述挡墙设置在所述阵列基板行电路区域中的所述封框胶区域外，所述挡墙用于阻挡配向液流向所述封框胶区域。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，设置有所述第二功能图形以及所述填充结构的衬底基板上设置有钝化层，所述钝化层上设置有所述挡墙。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙与所述钝化层由灰度掩膜技术在一次构图工艺中形成。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一功能图形包括依次设置在所述衬底基板的外围区域的公共电极块和覆盖在所述公共电极块上的栅极块，
所述公共电极块和所述栅极块上设置有贯穿所述公共电极块和所述栅极块的通孔；
设置有所述公共电极块和所述栅极块的衬底基板上设置有栅绝缘层，所述栅绝缘层在所述通孔所在的区域设置有所述孔洞；
所述孔洞内设置有由有源层图形和数据线图形构成的所述填充结构。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述公共电极块和所述栅极块在构图工艺中通过同一块掩膜板进行曝光。
7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，设置有所述填充结构的衬底基板上设置有钝化层；
设置有所述钝化层的衬底基板上设置有配向层。
8.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阵列基板行电路区域包括第一区域、第二区域和走线区域，
所述第一区域和所述第二区域通过所述走线区域中的走线连接，所述走线区域设置有凹槽；
所述挡墙设置在所述凹槽靠近所述封框胶区域的一侧。
9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板。
10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括至少一块权利要求1至9任一所述的显示基板。
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