CN1892424A - 感光性树脂组合物及层合体 - Google Patents

Abstract

本发明的感光性树脂组合物及感光性树脂层合体的显影液分散稳定性优异、不产生凝聚物、显影后的解像性及粘合性良好，可提供具有盖孔性和良好的耐蚀刻液性的感光性树脂层合体。本发明提供了含有(a)可溶于碱的高分子、(b)特定的光聚合性不饱和化合物、(c)光聚合引发剂的感光性树脂组合物及用其形成的感光性树脂层合物。

Description

感光性树脂组合物及层合体

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物及层合体。以及关于其用途更具体而言，本发明涉及适合于制造印刷电路板、柔性基板、引线框架等导体图形的感光性树脂层合体，以及用其形成抗蚀剂图形的方法。

背景技术

在个人电脑、便携电话等电子器件中，作为器件或半导体等的安装使用印刷电路板等。作为印刷电路板等制造用的抗蚀剂，一直是使用将由感光性树脂组合物形成的感光性树脂层层合在支承体上，并根据需要在感光性树脂层上进一步层合保护层而形成的感光性树脂层合体，即，所谓干膜抗蚀剂(以下也称为DFR)。

作为此处使用的感光性树脂层，目前一般使用弱碱水溶液作为显影液的碱显影型感光性树脂层。

使用DFR制作印刷电路板的方法通常为如下所述的方法。

首先，当DFR上具备保护层时，将其剥离。然后，使感光性树脂层与镀铜层压板或柔性基板等永久电路制作用基板进行接触，通过层压机等使感光性树脂层与支承体进行层合。之后，透过布线图形掩模膜对感光性树脂层进行曝光。接着，根据需要剥离支承体，用显影液溶解或分散除去未曝光部分的感光性树脂层，在基板上形成抗蚀剂图形。

形成抗蚀剂图形后，再形成电路的方法大致可分为两种。第一种方法是通过蚀刻除去未被抗蚀剂图形覆盖的镀铜层压板等的铜面，然后再用比显影液碱性更强的碱水溶液除去抗蚀剂图形部分。在这种情况下，从工序简便性的观点出发，多使用利用固化膜覆盖通孔，然后进行蚀刻的方法(盖孔法)。此时，要求固化膜具有耐蚀刻液性和经过盖孔工序后固化膜不发生破损(盖孔性)。第二种方法在与上述相同的铜面上实施铜、软焊料、镍及锡等镀敷处理，然后同样除去抗蚀剂图形部分，再对出现的镀铜层合板等的铜面进行蚀刻的方法(镀敷法)。在蚀刻时，可以使用氯化铜、氯化铁、铜氨络合物溶液等。

通过上述显影液溶解或分散除去未曝光部分的感光性树脂层的工序被称为显影工序。未曝光部分的感光性树脂层的成分并不是完全溶解在显影液中，每次重复显影工序时都会增加对显影液分散性差的不溶解成分，从而出现凝聚物(也称为浮渣)。当凝聚物重新附着于基板而实施盖孔、蚀刻的工艺时，会引起短路的不良问题。

在上述蚀该工序中，如果耐蚀刻液性能弱，则有时蚀刻液会从抗蚀剂底面渗入，引起铜回路毁坏，或抗蚀剂线滑动等，成为不良的原因。

另外，近年来为了应对个人电脑等搭载的印刷电路板的微细化，要求抗蚀剂具有高解像性及粘合性。高解像性一般通过提高感光性树脂组合物的交联密度来实现，但提高交联密度时，会发生抗蚀剂固化膜变硬变脆、盖孔性变差的问题。

专利文献1中公开了显影时凝聚物减少、在高解像性下具有足够的盖孔性的感光性树脂层合体。但是，相对于近年来所需要的解像性及粘合性，其性能不足，显影时的凝集性及耐蚀刻液性也不充分。

专利文献2中公开了解像性、粘合性及耐蚀刻液性优异的感光性树脂组合物。但是，还不能完全满足对盖孔性的要求。

专利文献1：特开2002-323761号公报

专利文献2：特开昭58-1142号公报

发明内容

本发明的目的是提供在显影工序中显影液分散稳定性优异、不产生凝聚物、具有高解像性及高粘合性、具有良好的盖孔性和良好的耐蚀刻液性的感光性树脂组合物，以及具有由该组合物构成的感光性树脂层的感光性树脂层合体，还提供使用了该层合体的形成抗蚀剂图形的方法，和制造导体图形的方法。

为了解决上述问题，发明人进行了研究，结果发现通过使用特定的感光性树脂组合物，使得在显影工序中显影液分散稳定性优异、不产生凝聚物、具有高解像性及高粘合性、具有良好的盖孔性和良好的耐蚀刻液性，可形成良好的导体图形，从而完成了本发明。另外，还发现使用特定的碱性染料时，可进一步优化膜的贮存稳定性。

即，本发明的内容为以下的感光性树脂组合物、感光性树脂层合体、抗蚀剂图形的形成方法及导体图形的制造方法。

(1)感光性树脂组合物，其特征在于含有(a)羧基含量以酸当量计为100～600，且重均分子量为5000～500000的粘结剂用树脂：20～90质量％、(b)含有下述通式(I)所示的化合物及下述通式(II)所示的化合物两者的光聚合性不饱和化合物：3～70质量％、及(c)光聚合引发剂：0.1～20质量％，

式中，R₁及R₂为H或CH₃，它们可以相同或不同，m₁+m₂为2～10的整数，m₁及m₂各自独立地为1～5的整数；

式中，R₃及R₄为H或CH₃，它们可以相同或不同，A表示亚乙基，B表示亚丙基，m₃+m₄为20～40的整数，m₅+m₆为0～6的整数，m₃及m₄各自独立地为1～39的整数，m₅及m₆各自独立地为0～6的整数，另外，-(A-O)-及-(B-O)-的重复单元的排列可以是嵌段状的也可以不是嵌段状的，当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在联苯基一侧。

(2)上述(1)中所述的感光性树脂组合物，其特征在于含有下述通式(III)所示的化合物，其相对于(a)粘结剂用树脂和(b)光聚合性不饱和化合物的总量为0.1～20质量％，

式中，R₅及R₆为亚乙基或亚丙基，它们是不同的，m₇，n₁，m₈，n₂，m₉，n₃，m₁₀及n₄各自独立地为大于等于0的整数，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄为0～40，-(R₅-O)-及-(R₆-O)-的重复单元的排列可以是嵌段状的，也可以不是嵌段状的，当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在吡喃糖环一侧，D、E、F及G为相互独立的H或碳数为1～30的脂肪酸酰基。

(3)上述(1)或(2)所述的感光性树脂组合物，其特征在于(b)光聚合性不饱和化合物的反应性端基在每100g的感光性树脂组合物中为0.06～0.20摩尔。

(4)上述(1)或(2)中任一项所述的感光性树脂组合物，其特征在于进一步含有0.01～1质量％的下述通式(IV)所示的碱性染料。

(5)感光性树脂层合体，其特征在于在支承体上具有上述(1)～(4)中任一项所述的感光性树脂组合物。

(6)抗蚀剂图形的形成方法，其特征在于，将上述(5)所述的感光性树脂层合体层合于金属板、或金属被覆绝缘板的基板表面上，进行紫外线曝光，然后通过显影除去未曝光部分。

(7)导体图形的制造方法，其特征在于，对通过上述(6)所述方法形成了抗蚀剂图形的基板进行蚀刻或镀敷。

根据本发明，可以提供在显影工序中显影液分散稳定性优异、不产生凝聚物、具有高解像性及高粘合性、具有良好的盖孔性和良好的耐蚀刻液性、适合于形成良好的导体图形的感光性树脂组合物，以及具有由该组合物构成的感光性树脂层的感光性树脂层合体。另外，还提供用该层合体形成抗蚀剂图形的方法，和制造具有微细布线的印刷电路板等的导体图形的方法。

具体实施方式

以下，对本发明进行具体说明。

本发明中使用的感光性树脂层合体是在支承体上层合感光性树脂层而形成的层合膜，以及进一步在感光性树脂层上层合保护层而形成的层合膜，有时也称为感光元件、感光膜、干膜(抗蚀剂)或DFR。

本发明的感光性树脂组合物中使用的(a)粘结剂用树脂中所含的羧基量以酸当量计优选为100～600，更优选为300～450。酸当量是指其中含有1当量羧基的线性聚合物的质量。

为了使感光性树脂层具有相对于碱水溶液的显影性、剥离性，粘结剂用树脂中的羧基是必需的。从耐显影性、解像性及粘合性的观点考虑，酸当量优选为100或以上，从显影性及剥离性的观点考虑，优选为600或以下。

本发明中使用的(a)粘结剂用树脂的重均分子量优选为5000～500000。从解像性的观点考虑，粘结剂树脂的重均分子量优选为500000或以下，从熔边的观点考虑，优选为5000或以上。

为了更好地发挥本发明的效果，粘结剂用树脂的重均分子量优选为5000～200000，更优选为5000～100000。分散性(也称为分子量分布)用下述式的重均分子量与数均分子量之比表示。

(分散性)＝(重均分子量)/(数均分子量)

可使用分散性约为1～6的品种，优选为1～4。

另外，酸当量的测定是使用平沼産業(株)制造的平沼自动滴定装置(COM-555)，通过电位差滴定法而实施的，其中采用0.1mol/L的氢氧化钠水溶液。

分子量是通过日本分光(株)制造的凝胶渗透色谱仪(GPC)作为重均分子量(聚苯乙烯校正)求出的。(GPC的泵：Gulliver，PU-1580型；柱：昭和电工(株)制造的Shodex(注册商标)(KF-807、KF-806M、KF-806M、KF-802.5)4柱串联；流动层溶剂：四氢呋喃，使用聚苯乙烯标准样品作标准曲线)。

本发明中使用的(a)粘结剂用树脂是使下述两类单体中的各一种或更多种单体进行共聚而得到的。

第一类单体是分子中具有一个聚合性不饱和基团的羧酸或酸酐。例如，可以列举(甲基)丙烯酸、富马酸、桂皮酸、巴豆酸、衣康酸、马来酸酐、马来酸半酯等。

这里，(甲基)丙烯酸表示丙烯酸或甲基丙烯酸。

第二类单体是分子中具有一个聚合性不饱和基团的非酸性化合物。该化合物是为了保证感光性树脂的显影性、在蚀刻及镀敷工序中的耐受性、固化膜的柔性等各种特性而选用的。作为该化合物，例如可以使用(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸腈、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲氧基苄酯、(甲基)丙烯酸氯苄酯、(甲基)丙烯酸糠基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘基酯等(甲基)丙烯酸芳基酯、带有苯基的乙烯基化合物(例如，苯乙烯)等。

本发明中使用的(a)粘结剂用树脂优选通过以下方式合成，即，用丙酮、甲乙酮或异丙醇等溶剂稀释上述第一类单体和第二类单体的混合物，在所获得的溶液中滴加适量的过氧化苯甲酰、偶氮双异丁腈等自由基聚合引发剂，再进行加热搅拌。有时是一边向反应液中滴加混合物的一部分，一边进行反应。有时是在反应完成后再添加溶剂，调节到所希望的浓度。作为合成手段，除了溶液聚合外，还可以使用本体聚合、悬浮聚合或乳液聚合。

(a)粘结剂用树脂相对于全部感光性树脂组合物的比例优选为20～90质量％。更优选为30～70质量％。从通过曝光、显影所形成的抗蚀剂图形具有抗蚀剂特性，例如在盖孔、蚀刻及各种镀敷中的充足耐受性的观点考虑，优选为20质量％～90质量％。

下面，对本发明的感光性树脂组合物中所使用的(b)光聚合性不饱和化合物进行说明。

(b)光聚合性不饱和化合物的特征在于，含有下述通式(I)所示的化合物及下述通式(II)所示的化合物两者。

(式中，R₁及R₂为H或CH₃，它们可以相同或不同，m₁+m₂为2～10的整数，m₁及m₂各自独立地为1～5的整数。)

(式中，R₃及R₄为H或CH₃，它们可以相同或不同，A表示亚乙基，B表示亚丙基，m₃+m₄为20～40的整数，m₅+m₆为0～6的整数，m₃及m₄各自独立地为1～39的整数，m₅及m₆各自独立地为0～6的整数。还有，-(A-O)-及-(B-O)-的重复单元排列可以是嵌段状的，也可以不是嵌段状的，当重复单元排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在联苯基一侧。)

此处，-(A-O)-及-(B-O)-的重复单元排列为嵌段状是指从联苯基开始，-(A-O)-及-(B-O)-的重复单元分别聚集成群进行排列。

在上述通式(I)所示的化合物中，m₁+m₂的下限优选大于等于2，更优选大于等于4。上限优选小于等于10，更优选小于等于6。如果m₁+m₂不足2，则固化膜的柔软性差，如果m₁+m₂超过10，则对解像性的效果不足。从对解像性的效果来看，m₁+m₂最优选为4～6。

作为上述通式(I)所示的具体例子，有在双酚A的两端分别加合平均2摩尔环氧乙烷而形成的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制造的NKエステルBPE-200)或在双酚A的两端分别加合平均5摩尔环氧乙烷而形成的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制造的NKエステルBPE-500)。

在上述通式(II)所示的化合物中，m₃+m₄为20～40，如果m₃+m₄不足20，则对盖孔性的效果不足，如果m₃+m₄超过40，则对感光度的效果不足。优选m₃+m₄为25～35。作为上述通式(II)所示的具体例子，有在双酚A的两端分别加合平均15摩尔环氧乙烷而形成的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯或在双酚A的两端分别加合平均2摩尔环氧乙烷而形成的聚乙二醇二甲基丙烯酸酯。

上述通式(I)和通式(II)所示的化合物可通过用公知方法在双酚A上加合环氧乙烷及根据需要使用的环氧丙烷而形成的化合物，与丙烯酸或甲基丙烯酸的酯化反应来获得。

作为(b)光聚合性不饱和化合物，除了上述通式(I)和通式(II)所示的化合物群体外，还可以同时使用下述所示的可进行光聚合的不饱和化合物。例如可以列举1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-二(对羟苯基)丙烷二(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、聚氧丙烯三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、聚氧乙烯三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚三(甲基)丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、β-羟丙基-β’-(丙烯酰氧基)丙基邻苯二甲酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚烷撑二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、在加合有环氧丙烷的聚丙二醇两端进一步加合环氧乙烷而形成的聚烷撑二醇的二(甲基)丙烯酸酯等。

另外，也可以列举氨基甲酸酯化合物。作为氨基甲酸酯化合物，例如可以列举通过六亚甲基二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯或2，2，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物与每分子中含有羟基和(甲基)丙烯酰基的化合物(2-羟基丙基丙烯酸酯、低聚丙二醇单甲基丙烯酸酯等)进行反应而得到的氨基甲酸酯化合物等。具体来说，有六亚甲基二异氰酸酯与低聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日本油脂(株)制造的ブレンマ-PP1000)的反应产物。

上述通式(I)所示的化合物及上述通式(II)所示的光聚合性不饱和化合物分别相对于全部感光性树脂组合物的比例为1～69质量％。从解像性的观点考虑为大于等于1质量％，从抗蚀剂图形的柔性考虑为小于等于69质量％。更优选为3～40质量％。

另外，对于全部(b)光聚合性不饱和化合物相对于全部感光性树脂组合物的比例，从感光度的观点考虑，优选大于等于3质量％，从熔边的观点考虑，优选小于等于70质量％。更优选为10～60质量％，进一步优选为15～55质量％。

在本发明的感光性树脂组合物中，从耐蚀刻液性的观点考虑，优选(b)光聚合性不饱和化合物的反应性端基在每100g感光性树脂组合物中为0.06～0.20摩尔。

此处的反应性端基是指在光聚合性不饱和化合物的结构中，通过引发剂而发生聚合的活性基团，丙烯酰基及甲基丙烯酰基。

该值的设定是从各光聚合性不饱和化合物的分子量与反应性端基的关系，通过选择适当的光聚合性不饱和化合物而实现的。

如果该值不足0.6，则有曝光后的交联密度变低，蚀刻液容易从抗蚀剂线底面渗入，易于发生铜线晃动等问题的倾向。如果该值超过0.20，则有交联密度过高，因此易导致固化膜的柔性变差的倾向。上述值的优选范围为0.07～0.18，更优选为0.07～0.15。

作为本发明的感光性树脂组合物中使用的(c)光聚合引发剂，可以使用通常使用的化合物，只要是可通过活性光线、例如紫外线等进行活化、引发聚合的化合物即可。

其中，从高解像性的观点考虑，优选的实施方式是含有通式(V)所示的2，4，5-三芳基咪唑二聚体。

(式中，X、Y及Z各自独立地表示氢、烷基、烷氧基及卤素中的任一种，p、q及r各自独立地为1～5的整数。)

在上述通式(V)表示的化合物中，连接两个2，4，5-三苯基咪唑基的共价键处于1，1’-、1，2’-、1，4’-、2，2’-、2，4’-或4，4’-位，但优选处于1，2’-位的化合物。作为2，4，5-三芳基咪唑二聚体，例如有2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体、2-(邻氯苯基)-4，5-双-(间甲氧苯基)咪唑二聚体、2-(对甲氧苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体等，但特别优选2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体。

作为本发明中使用的(c)光聚合引发剂，优选同时使用上述通式(V)所示的2，4，5-三芳基咪唑二聚体和对氨基苯基酮。作为对氨基苯基酮，例如可以列举，对氨基二苯甲酮、对丁基氨基苯乙酮、对二甲基氨基苯乙酮、对二甲基氨基二苯甲酮、p，p’-双(乙氨基)二苯甲酮、p，p’-双(二甲氨基)二苯甲酮[米蚩酮]、p，p’-双(二乙氨基)二苯甲酮、p，p’-双(二丁氨基)二苯甲酮等。

作为其它的光聚合引发剂，例如有2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌等醌类，二苯甲酮等芳香酮类，苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚等苯偶姻醚类，9-苯基吖啶等吖啶化合物，苄基二甲醛缩苯乙酮、苄基二乙醛缩苯乙酮等。

另外，还有例如噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮等噻吨酮类与二甲氨基苯甲酸烷基酯化合物等叔胺化合物的组合。

另外，还有1-苯基-1，2-丙二酮-2-O-苯甲酰肟、1-苯基-1，2-丙二酮-2-(O-乙氧羰基)肟等肟酯类等。另外，还可以使用N-芳基-α-氨基酸化合物，其中，特别优选N-苯基甘氨酸。

在本发明的感光性树脂组合物中，(c)光聚合引发剂的比例优选为0.1～20质量％。从感光度的观点考虑，优选大于等于0.1质量％，从解像性的观点考虑，优选小于等于20质量％。

在本发明的感光性树脂组合物中，使用下述通式(III)所示的化合物可使显影液的分散性良好、对于抑制凝聚物的产生是有用的。

(式中，R₅及R₆为亚乙基或亚丙基，它们是不同的。m₇，n₁，m₈，n₂，m₉，n₃，m₁₀及n₄各自独立地为大于等于0的整数，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄为0～40。-(R₅-O)-及-(R₆-O)-的重复单元排列，可以是嵌段状也可以不是嵌段状的。当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在吡喃糖环一侧。D、E、F及G为相互独立的H或碳数为1～30的脂肪酸酰基。)

在上述式(III)中，优选下述通式(VI)所示的化合物。

(式中，R₅及R₆为亚乙基或亚丙基，它们是不同的。m₇，n₁，m₈，n₂，m₉，n₃，m₁₀及n₄各自独立地为大于等于0的整数，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄为0～40。-(R₅-O)-及-(R₆-O)-的重复单元排列，可以是嵌段状的，也可以不是嵌段状的。当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在吡喃糖环一侧。D、E、F及G为相互独立的H或碳数为1～30的脂肪酸酰基。)

在上述通式(III)中，从感光度及粘合性的观点考虑，优选m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄小于等于40。作为碳数为1～30的脂肪酸酰基，有碳数为1～30的饱和脂肪酸酰基和碳数为1～30的不饱和脂肪酸酰基。作为碳数为1～30的饱和脂肪酸酰基，例如可列举甲酰基、乙酰基、丙酰基、丁酰基、月桂酰基、肉豆蔻酰基、棕榈酰基、硬脂酰基等。作为碳数为1～30的不饱和脂肪酸酰基，例如可列举丙烯酰基、丙炔酰基、甲基丙烯酰基、油酰基等。

作为上述通式(III)所示的化合物，可以列举以下化合物，但并不局限于此。

作为酯型化合物，可以列举失水山梨糖醇月桂酸酯[D：月桂酰基，E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)20)]、失水山梨糖醇硬脂酸酯[D：硬脂酰基，E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)S-60C)]、失水山梨糖醇油酸酯[D：油酰基，E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)S-80C)]、失水山梨糖醇棕榈酸酯[D：棕榈酰基，E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：东邦化学工业(株)制造，ソルボン(商标)S-40)]、失水山梨糖醇椰子油脂肪酸酯[D：椰子油脂肪酸酰基(此处的椰子油是指由椰子科核肉中获得的脂肪，其脂肪酸是月桂酸或肉豆蔻酸等饱和脂肪酸与油酸或亚油酸等不饱和脂肪酸的混合物)、E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)S-20)]制造、失水山梨糖醇三油酸酯[D＝E＝G：油酰基，F：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝0(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)S-85、或日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)3-80)]等及其混合物等。

作为失水山梨糖醇与氧亚乙基链的复合型化合物，可以列举聚氧乙烯失水山梨糖醇月桂酸酯[D：月桂酰基，E＝F＝G：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝20、n₁+n₂+n₃+n₄＝0、R₅：亚乙基(实例：日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)25)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇硬脂酸酯[D：硬脂酰基，E＝F＝G：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝20、n₁+n₂+n₃+n₄＝0，R₅：亚乙基(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)T-60C)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇油酸酯[D：油酰基，E＝F＝G：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝8或20，n₁+n₂+n₃+n₄＝0，R₅：亚乙基(实例：日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)82或85)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇棕榈酸酯[D：棕榈酰基，E＝F＝G：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝20，n₁+n₂+n₃+n₄＝0，R₅：亚乙基(实例：东邦化学工业(株)制造，ソルボン(商标)T-40)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇三油酸酯[D＝E＝G：油酰基，F：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝20，n₁+n₂+n₃+n₄＝0、R₅：亚乙基(实例：日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)3-85)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇椰子油脂肪酸酯[D：椰子油脂肪酸酰基，E＝F＝G：氢，m₇+m₈+m₉+m₁₀＝20，n₁+n₂+n₃+n₄＝0，R₅：亚乙基(实例：三洋化成工业(株)制造，イオネツト(商标)T-20C)]、聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯[D：混合脂肪酸的酰基(油酸：66％、硬脂酸：2％、碳数为20的饱和及不饱和脂肪酸：18％、碳数为16的饱和及不饱和脂肪酸：7％、碳数超过20的饱和及不饱和脂肪酸：7％)，E＝F＝G：氢，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄＝30、(m₇+m₈+m₉+m₁₀)/(n₁+n₂+n₃+n₄)＝2/1，R₅：亚乙基，R₆：亚丙基(实例：日本乳化剂(株)制造，ニユ一コ一ル(商标)95-FJ)]等及它们的混合物。

这些通式(III)所示的化合物可以单独使用、也可以两种或两种以上同时使用。优选上述通式(III)所示的化合物的含量相对于(a)粘结剂用树脂和(b)光聚合性不饱和化合物的总和为0.1～20质量％。从显影时达到充分降低凝聚物的效果考虑，优选大于等于0.1质量％，从感光性树脂层的感光度的观点出发，优选小于等于20质量％。其含量更优选为0.1～10质量％，进一步优选为0.5～5质量％。

在本发明的感光性树脂组合物中，使用下述通式(IV)所示的碱性染料是优选的实施方式。

(R₇为氢或碳数为1～4的烷基。)

如果使用上述通式(IV)所示的碱性染料，则具有膜贮存的色调稳定性良好的特征。作为上述通式(IV)所示的化合物的具体例子，有R7为乙基的维多利亚蓝(保土ケ谷化学(株)制造的アイゼン(注册商标)VICTORIA PURE BLUE)。当含有通式(IV)所示的碱性染料时，优选其含量相对于感光性树脂组合物总量为0.01～1质量％。

作为上述通式(IV)所示化合物之外的可使用着色物质，例如可列举品红、酞菁绿、槐黄碱，氧化铜绿S、副品红、结晶紫、甲基橙、尼罗蓝-2B、孔雀绿(保土ケ谷化学(株)制造的アイゼン(注册商标)MALACHITE GREEN)、碱性蓝-20、钻石绿(保土ケ谷化学(株)制造的アイゼン(注册商标)DIAMOND GREEN GH)等。优选着色物质的总含量相对于感光性树脂组合物总量为0～1质量％。

在本发明使用的光聚合性树脂组合物中，也可以含有通过光照射发色的发色类染料。作为使用的发色类染料，可以列举例如，隐色染料或荧烷染料与卤素化合物的组合。

作为隐色染料，可以列举出例如，三(4-二甲基氨基-2-甲基苯基)甲烷[无色结晶紫]、三(4-二甲基氨基-2-甲基苯基)甲烷[无色孔雀绿]等。优选隐色染料的含量相对于感光性树脂组合物总量为0～3质量％。

作为卤素化合物，例如可以列举正戊基溴、异戊基溴、溴化异丁烯、溴化乙烯、二苯基甲基溴、二溴甲基苯、二溴甲烷、三溴甲基苯基砜、四溴化碳、磷酸三(2，3-二溴丙基)酯、三氯乙酰胺、碘代正戊基碘、异丁基碘、1，1，1-三氯-2，2-双(对氯苯基)乙烷、六氯乙烷、三嗪化合物等。作为该三嗪化合物，可以列举2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪等。

在这样的发色类染料中，三溴甲基苯基砜与隐色染料的组合、三嗪化合物与隐色染料的组合是有用的。

优选卤素化合物的含量相对于感光性树脂组合物总量为0～5质量％。

为了提高本发明中感光性树脂组合物的热稳定性、贮存稳定性，优选使感光性树脂组合物中含有自由基聚合抑制剂。作为这样的自由基聚合抑制剂，例如可以列举，对甲氧基苯酚、氢醌、连苯三酚、萘胺、叔丁基儿茶酚、氯化亚铜、2，6-二-叔丁基对甲酚、2，2’-亚甲基双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、二苯基亚硝胺等。优选自由基聚合抑制剂的含量相对于感光性树脂组合物总量为0～2质量％。

而且，在本发明的感光性树脂组合物中，根据需要，还可以含有增塑剂等添加剂。作为这样的添加剂，例如可以列举，邻苯二甲酸二乙酯等的邻苯二甲酸酯类、邻甲苯磺酰胺、对甲苯磺酰胺、柠檬酸三丁酯、柠檬酸三乙酯、乙酰基柠檬酸三乙酯、乙酰基柠檬酸三正丙酯、乙酰基柠檬酸三正丁酯、聚丙二醇、聚乙二醇、聚乙二醇烷基醚、聚丙二醇烷基醚等。优选添加剂的含量相对于感光性树脂组合物总量为0～20质量％。

本发明的感光性树脂层合体是通过在支承体上层合上述感光性树脂组合物，从而形成感光性树脂层来制作的。

作为支承体，通常使用能透过活性光线的透明基材膜，作为这种基材膜，有厚度为10μm～100μm程度的聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯等合成树脂膜，但优选使用具有适度柔性及强度的聚对苯二甲酸乙二酯。为了使层合时不易产生皱纹，以及从防止支承体产生破损的观点考虑，优选膜厚大于等于10μm。另外，为了获得充足的解像性，优选膜厚小于等于100μm。另外，优选浊度不大于5。

本发明的感光性树脂层合体中的感光性树脂层的膜厚因用途而异，但通常为5μm～100μm。更优选为5μm～50μm。

在本发明的感光性树脂层合体上，还可以根据需要在感光性树脂层的与支承体相反一侧的表面上形成保护层。保护层必须具有以下特性，即，在与感光性树脂层的粘合性方面，感光性树脂层与保护层的粘合力要小于感光性树脂层与支承体的粘合力，从而可以容易地剥离保护层。

保护层是用于保护本发明的感光性树脂层的膜，作为这种膜，有厚度为10～100μm左右的聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯等合成树脂膜，但优选使用聚乙烯膜或聚丙烯膜。

以下对本发明的感光性树脂层合体的制作方法进行说明。

依次层合支承体、感光性树脂层及保护层而制作感光性树脂层合体的方法，可以采用以前已知的方法。

例如，将感光性树脂层中使用的感光性树脂组合物与对其进行溶解的溶剂进行混合，形成均匀的溶液，首先采用刮棒涂布机或辊涂机将其涂布于支承体上并进行干燥，在支承体上层合由感光性树脂组合物形成的感光性树脂层。

然后通过在感光性树脂层上层合保护层来制作感光性树脂层合体。

接着，对使用本发明的感光性树脂层合体制造印刷电路板的方法的一个实例进行说明。

印刷电路板是通过以下各工序而进行制造的。

(1)层合工序

一边剥离感光性树脂层合体的保护膜，一边用热轧层压机将其层压在镀铜层压板或柔性基板等基板上而进行层合的工序。

(2)曝光工序

将具有所预期的电路图形的掩模薄膜粘合在支承体上，用活性光线进行曝光的工序。

(3)显影工序

剥离支承体后，用碱显影液溶解或分散除去感光性树脂层的未曝光部分，在基板上形成抗蚀剂图形的工序。

(4)蚀刻工序或镀敷工序

从所形成的抗蚀剂图形上方喷洒蚀刻液，对未被抗蚀剂图形覆盖的铜面进行蚀刻的工序，或在未被抗蚀剂图形覆盖的铜面上实施铜、软焊料、镍及锡等的镀敷处理的工序。

(5)剥离工序

用碱剥离液从基板上除去抗蚀剂图形的工序。

作为在上述(2)曝光工序中使用的活性光源，可以列举高压水银灯、超高压水银灯、紫外线荧光灯、炭弧灯、氙灯等。另外，为了获得更微细的抗蚀剂图形，更优选使用平行光光源。在尽量减少浮渣或异物影响的情况下，有时是使光掩模呈漂浮在支承体上方数十μm至数百μm处的状态下进行曝光(接近曝光)。

另外，作为上述(3)显影工序中使用的碱显影液，可以列举碳酸钠、碳酸钾等的水溶液。这些碱水溶液可根据感光性树脂层的特性进行选择，但通常使用、0.5～3质量％的碳酸钠水溶液。

上述(4)蚀刻工序可以通过酸性蚀刻、碱性蚀刻等适合于所使用的DFR的方法进行实施。

作为上述(5)剥离工序中使用的碱剥离液，可以列举比在通常显影中使用的碱水溶液更强的碱性水溶液，例如1～5质量％的氢氧化钠、氢氧化钾的水溶液。

另外，在设置半添加法工艺等镀敷工序的情况下，有时在剥离抗蚀剂图形后，对抗蚀剂图形下方出现的铜面进行蚀刻。

以下，通过实施例对本发明的实施方式的实例进行详细说明。

[实施例]

以下，列出实施例和比较例的评价用样品的制作方法以及对于得到的样品的评价方法和评价结果。

1、评价用样品的制作

实施例和比较例中的感光性树脂层合体按以下方式制作。

<感光性树脂层合体的制作>

将表1所示组成的感光性树脂组合物与甲乙酮的混合物进行充分搅拌、混合，使用刮棒涂布机将其均匀涂布在作为支承体的20μm厚的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的表面上，在95℃的干燥机中干燥4分钟，形成感光性树脂层。感光性树脂层的厚度为40μm。

接着，在感光性树脂层的没有层压聚对苯二甲酸乙二酯薄膜的表面上，贴合作为保护层的25μm厚的聚乙烯薄膜，从而得到感光性树脂层合体。

<基板面的整理>

作为耐蚀刻液性、解像性、粘合性、盖孔性评价用基板，使用层压了35μm压延铜箔的厚度为1.6mm的敷铜层压板，并对表面进行湿式抛光辊研磨(スリ一エム(株)制造，スコツチブライト(注册商标)HD#600，2次)。

<层合>

一边剥离感光性树脂层合体的聚乙烯薄膜，一边整理板面，在60℃预热了的敷铜层压板上利用热轧层压机(旭化成(株)社制造的AL-70)，在105℃的轧辊温度下进行层压。空气压力为0.35MPa，层压速度为2.0m/min。

<曝光>

将感光性树脂层的评价所必需的掩模薄膜置于作为支承体的聚对苯二甲酸乙二酯薄膜上，利用超高压水银灯(オ一ク制作所制造，HMW-201KB)以50mJ/cm²的曝光量进行曝光。

<显影>

将聚对苯二甲酸乙二酯薄膜剥离后，在规定的时间里喷洒30℃的1质量％的Na₂CO₃水溶液，溶解除去感光性树脂层的未曝光部分。此时，将未曝光部分的感光性树脂层完全溶解所需要的最少时间作为最小显影时间。

<抗蚀剂剥离>

在显影后的评价基板上，喷洒被加热至50℃的3质量％的氢氧化钠水溶液，剥离固化的抗蚀剂。

2、评价方法

(1)显影液分散性(凝聚性评价)

使感光性树脂层合体中的厚度40μm、面积0.15m²的感光性树脂层(抗蚀剂层)溶解在200ml的1质量％Na₂CO₃水溶液中，采用循环式喷射装置、以0.1MPa的喷射压力进行3小时的喷射。然后，将显影液放置3天，观察凝聚物的形成。如果形成大量的凝聚物，可在喷射装置的底部或侧面观察到粉状或油状物质。另外，有时显影液中的凝聚物是悬浮状的。显影液凝聚性良好的组成，完全不会形成这些凝聚物，或即使产生凝聚物也只是极微量形成并可通过水洗进行简单地洗脱。通过目视观察凝聚物形成的情况，分成如下等级。

◎：完全未形成凝聚物。

○：在喷射装置的底部或侧面不存在凝聚物，但可观察到在显影液中悬浮有能目视确认的极微量凝聚物，并可通过水洗进行简单地洗脱。

△：在喷射装置的底部或侧面的一部分上及显影液中有凝聚物悬浮。即使进行水洗也不能完全洗脱。

×：在整个喷射装置上都出现了凝聚物且显影液中有凝聚物悬浮。即使进行水洗也不可能完全洗脱，大部分会残留下来。

(2)耐蚀刻液性评价

一边剥离保护膜，一边在5cm×5cm的镀铜层压板上层压厚度为40μm的DFR，利用HMW-201KB，透过半径为5mm的圆形掩模(等间隔)进行50mJ/cm²的曝光。将作为支承体的聚对苯二甲酸乙二酯剥离后，用最小显影时间的2倍时间来喷洒30℃的1质量％Na₂CO₃水溶液，得到半径为5mm的圆形固化图像。将得到的固化图像的层合体，于50℃下在氯化铜浓度为250g/l、盐酸浓度为3mol/l的氯化铜蚀刻液100ml中浸渍15分钟。然后，进行水洗、室温干燥，之后进行セロテ一プ(注册商标)剥离。此时，根据セロテ一プ(注册商标)剥离所导致的半径为5mm的圆形固化抗蚀剂的剥落情况进行如下的分级。抗蚀剂易于剥落是指耐蚀刻液性不良。

○：固化抗蚀剂完全没有剥落。

△：可看到固化抗蚀剂有些剥落。

×：固化抗蚀剂全部剥落。

(3)解像性评价

透过曝光部分与未曝光部分的宽度比1∶1的线图形掩模，来对层压后经过了15分钟的解像性评价用基板进行与上述(2)相同的曝光。用最小显影时间的2倍时间来进行与上述(2)相同的显影，将正常形成了固化抗蚀剂线的最小掩模宽度作为解像性的值，按如下方式对解像性进行分级。

◎：解像性的值小于等于30μm。

○：解像性的值大于30μm，小于等于35μm。

△：解像性的值大于35μm，小于等于50μm。

×：解像性的值大于50μm。

(4)粘合性评价

透过只有曝光部分的线图形掩模，来对层压后经过了15分钟的粘合性评价用基板进行与上述(2)相同的曝光。用最小显影时间的2倍时间来进行与上述(2)相同的显影，将正常形成了固化抗蚀剂线的最小掩模宽度作为粘结性的值，按如下方式对粘合性进行分级。

◎：粘合性的值小于等于30μm。

○：粘合性的值大于30μm，小于等于35μm。

△：粘合性的值大于35μm，小于等于50μm。

×：粘合性的值大于50μm。

(5)盖孔性评价

在等间隔地存在有半径为6mm的通孔(1008孔)的盖孔性评价用基板上，剥离感光性树脂层合体上的保护层、层压感光性树脂层和支承体，用HMW-201KB进行50mJ/cm²的β曝光，用最小显影时间的2倍时间来进行与上述(2)相同的显影，进而在水洗槽中，以0.3MPa的喷射压进行水洗，测定水洗后的膜破坏率。根据膜破坏率进行如下分级。

◎：膜破坏率不到1％。

○：膜破坏率为1％～不到10％。

△：膜破坏率为10％～不到20％。

×：膜破坏率大于等于20％。

(6)膜贮存的色调稳定性评价

将感光性树脂层合体保存在50℃、60％的恒温恒湿槽中，3天后取出，用UV分光器测定光谱，测定透过率的变化。此时，将在恒温恒湿槽中保管前的透过率作为空白，测定630nm的透过率变化，进行下述分级。

◎：透过率的变化不到1％。

○：透过率的变化为1％～不到3％。

△：透过率的变化为3％～不到10％。

×：透过率的变化大于等于10％。

3、评价结果

实施例和比较例的评价结果示于表1。表1中，比较例1～5中缺少通式(I)表示的化合物及上述通式(II)所示的化合物中的两者或其中之一。

还有，表1中的简略记号(P-1～K-3)所表示的感光性树脂组合物中成分的材料示于表2、表3。

表1中的P-1及P-2指粘结剂树脂的甲乙酮(也称为MEK)溶液，其值为含有MEK的值。

表2的记号中，M-5及M-6对应于上述通式(I)的化合物，M-8对应于上述通式(II)的化合物，M-1～M-4，M-7，M-9及M-10对应于上述通式(I)及(II)的化合物以外的(b)光聚合性不饱和化合物。

[表1]

	记号	实施例1	实施例2	实施例3	实施例4	实施例5	实施例6	实施例7	实施例8	实施例9	实施例10	比较例1	比较例2
														感光性树脂组合物(质量份)	P-1	140	140	140	140	140			140	140	140	140	140
P-2						150	150
													M-1		5	5	5	5	5	5		5	5	5	5	5
M-2
													M-3
M-4					10	5	5
													M-5		5	5	5	5	5	5	5	15	5		10
M-6	10	10	10	10	5	10	10		10	15	10
													M-7								5
M-8	5	5	5	5	10	10	10	5	5	5		20
													M-9
M-10	10	10	10	10				10	10	10	10	10
													I-1		0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1
I-2	3	3	3	3	3	3	3	3	3	3	3	3
													D-1		0.05					0.05			0.05		0.05	0.05
D-2		0.05	0.05	0.05	0.05		0.05	0.05		0.05
													D-3		0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5
L-1	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5	5
													K-1		3	3			3	3	3	3		3	3	3
K-2			3
													K-3					3
*1双键浓度	摩尔	0.091	0.091	0.091	0.091	0.078	0.074	0.076	0.102	0.094	0.086	0.106															0.059
													凝聚性评价	等级	◎	◎	◎	◎	◎	◎	◎	◎	○	◎	◎	△
耐蚀刻液性评价	等级	○	○	○	○	○	○	○	○	○	○	○
													解像性评价	等级[μm]	◎30	◎30	◎30	◎30	◎30	◎30	◎30	◎30	◎30	○35	○35	×55
粘合性评价	等级[μm]	○35	○35	○35	○35	○35	○35	○35	○35	○35	○35	○35															×55
													盖孔性评价	等级	○	○	○	○	◎	○	○	○	○	○		△
膜贮存的色调稳定性	等级	○	◎	◎	◎	◎	○	◎	◎	○	◎	○															△

^*1双键浓度：光聚合性不饱和化合物的反应性端基在每100g感光性树脂组合物固形成分中的摩尔数。

[表2]

记号	成分
		P-1	组成为甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸/丙烯酸丁酯(重量比为65/25/10)、重均分子量为10万的共聚物的30质量％的MEK溶液
P-2	组成为甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸/苯乙烯(重量比为50/25/25)、重均分子量为5万的共聚物的35质量％的MEK溶液
		M-1	4-壬基苯基七乙二醇二丙二醇丙烯酸酯(日本油脂(株)制造、LS-100A)
M-2	四乙二醇二甲基丙烯酸酯(新中村化学(株)制造、NKエステル4G)
		M-3	九丙二醇二丙烯酸酯(新中村化学(株)制造、NKエステルAPG-400)
M-4	在加合了平均12摩尔环氧丙烷的聚丙二醇两端，再分别加合平均3摩尔的环氧乙烷而形成的聚烷撑二醇的二甲基丙烯酸酯
		M-5	在双酚A的两端分别加合平均2摩尔的环氧乙烷而形成的聚乙二醇的二甲基丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制造的NKエステルBPE-200)
M-6	在双酚A的两端分别加合平均5摩尔的环氧乙烷而形成的聚乙二醇的二甲基丙烯酸酯(新中村化学工业(株)制造的NKエステルBPE-500)
		M-7	在双酚A的两端分别加合平均2摩尔的环氧丙烷和平均6摩尔的环氧乙烷而形成的聚烷撑二醇的二甲基丙烯酸酯
M-8	在双酚A的两端分别加合平均2摩尔的环氧丙烷和平均15摩尔的环氧乙烷而形成的聚烷撑二醇的二甲基丙烯酸酯
		M-9	加合了环氧乙烷的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化学(株)，NKエステルA-TMPT-3EO)
M-10	属于六亚甲基二异氰酸酯和低聚丙二醇单甲基丙烯酸酯(日本油脂(株)制造、ブレンマ-PP1000)的反应产物的聚氨酯聚丙二醇二甲基丙烯酸酯
		I-1	4，4’-双(二乙氨基)二苯甲酮
I-2	2-(邻氯苯基)-4，5-二苯基咪唑二聚体
		D-1	保土ケ谷化学(株)制造的アイゼン(注册商标)DIAMOND GREEN GH
D-2	保土ケ谷化学(株)制造的アイゼン(注册商标)VICTORIA PURE BLUE
		D-3	无色结晶紫
L-1	在双酚A的两端分别加合平均2摩尔的环氧丙烷而形成的聚丙二醇(日本乳化剂(株)制造的BA-P4U二醇)

[表3]

记号	商品名	化学结构(通式(III))
										m7+m8+m9+m10	n1+n2+n3+n4	R5	R6	D	E	F	G
		K-1	ニユ一コ一ル3-85(日本乳化剂制造)	20	0	亚乙基	亚丙基	油酰基	油酰基									氢	油酰基
K-2	イオネツトS-20(三洋化成工业制造)									0	0	亚乙基	亚丙基	椰子油脂肪酸酰基	氢	氢	氢
		K-3	ニユ一コ一ル3-80(日本乳化剂制造)	0	0	亚乙基	亚丙基	油酰基	油酰基									氢	油酰基

由以上结果可知，在比较例1中，由于不含有通式(II)所示的化合物(M-8)，因此，没有盖孔性。在比较例2中，由于不含有通式(I)所示的化合物(M-5，M-6)，因而，凝聚性、耐蚀刻液性、解像性、粘合性、盖孔性、膜贮存的色调稳定性都不好。

本发明的实施例1～10，通过使用通式(I)所示化合物和通式(II)所示化合物的组合，可使得凝聚性、耐蚀刻液性、解像性、粘合性、盖孔性、膜贮存的色调稳定性达到平衡。

工业实用性

本发明的感光性树脂组合物及其层合体适合于在印刷电路板、柔性电路板、引线框架、半导体封装等的制造、金属精密加工等领域中用作抗蚀剂。

Claims (7)

1、感光性树脂组合物，其特征在于含有(a)羧基含量以酸当量计为100～600，且重均分子量为5000～500000的粘结剂用树脂：20～90质量％、(b)含有下述通式(I)所示的化合物及下述通式(II)所示的化合物两者的光聚合性不饱和化合物：3～70质量％、及(c)光聚合引发剂：0.1～20质量％，

式中，R₁及R₂为H或CH₃，它们可以相同或不同，m₁+m₂为2～10的整数，m₁及m₂各自独立地为1～5的整数；

式中，R₃及R₄为H或CH₃，它们可以相同或不同，A表示亚乙基，B表示亚丙基，m₃+m₄为20～40的整数，m₅+m₆为0～6的整数，m₃及m₄各自独立地为1～39的整数，m₅及m₆各自独立地为0～6的整数，另外，-(A-O)-及-(B-O)-的重复单元的排列可以是嵌段状的也可以不是嵌段状的，当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在联苯基一侧。

2、权利要求1中所述的感光性树脂组合物，其特征在于含有下述通式(III)所示的化合物，其相对于(a)粘结剂用树脂和(b)光聚合性不饱和化合物的总量为0.1～20质量％，

式中，R₅及R₆为亚乙基或亚丙基，它们是不同的，m₇，n₁，m₈，n₂，m₉，n₃，m₁₀及n₄各自独立地为大于等于0的整数，m₇+n₁+m₈+n₂+m₉+n₃+m₁₀+n₄为0～40，-(R₅-O)-及-(R₆-0)-的重复单元的排列可以是嵌段状的，也可以不是嵌段状的，当重复单元的排列是嵌段状时，在顺序上任意一个都可以在吡喃糖环一侧，D、E、F及G为相互独立的H或碳数为1～30的脂肪酸酰基。

3、权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其特征在于(b)光聚合性不饱和化合物的反应性端基在每100g的感光性树脂组合物中为0.06～0.20摩尔。

4、权利要求1或2中任一项所述的感光性树脂组合物，其特征在于进一步含有0.01～1质量％的下述通式(IV)所示的碱性染料。

5、感光性树脂层合体，其特征在于在支承体上具有权利要求1～4中任一项所述的感光性树脂组合物。

6、抗蚀剂图形的形成方法，其特征在于，将权利要求5所述的感光性树脂层合体层合于金属板、或金属被覆绝缘板的基板表面上，进行紫外线曝光，然后通过显影除去未曝光部分。

7、导体图形的制造方法，其特征在于，对通过权利要求6所述方法形成了抗蚀剂图形的基板进行蚀刻或镀敷。