CN1812267A - 驱动电路 - Google Patents
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Abstract
一种控制电路,是将变换器(INV2)的输出电压施加在用于控制输出晶体管的变换器(INV4)的输入端子,将变换器(INV4)的输出电压施加在输出段的变换器(INV6)的N沟道型MOS晶体管(18)的栅极。变换器(INV4)将P沟道型MOS晶体管(25)、第1电阻(R1)、第2电阻(R2)、N沟道型MOS晶体管(26)连接在正的高电源电位(VH)和负的高电源电位(VL)之间而构成,并将第1电阻(R1)和N沟道型MOS晶体管(26)之间的连接点作为所述变换器(INV4)的输出端子。从而,在转换驱动电路的输出段的变换器时,防止正升压充电泵电路(12)输出的正的高电源电位(VH)异常地下降。
Description
技术领域
本发明涉及驱动电路,尤其涉及例如在CCD照相机的控制中使用的驱动电路。
背景技术
以往,作为用于控制CCD照相机的驱动电路,其规格上,需要能够输出高电压的驱动电路,其中,所述CCD照相机将搭载在移动电话等移动信息设备上的CCD(Charge Coupled Device)作为摄像元件使用。图3是这样的驱动电路的电路图。
INV1是输入段的变换器(inverter),由P沟道型MOS晶体管10及N沟道型MOS晶体管11在低电源电位Vdd(例如,+3V)和接地电位0V之间串联连接而构成。12是根据低电源电位Vdd生成正的高电源电位VH(例如,+15V)的正升压充电泵电路(charge pump circuit),13是生成负的高电源电位VL(例如,-7.5V)的负升压充电泵电路。
在变换器INV1的输入端子上施加有CCD控制电压VIN,变换器INV1的输出电压通过下一段的电平移动电路14,进行电平移动,使其高电平成为VH、低电平成为VL。
电平移动电路14的输出电压施加在由P沟道型MOS晶体管15及N沟道型MOS晶体管16构成的变换器INV2的输入端子上,变换器INV2的输出电压进而施加在由P沟道型MOS晶体管17及N沟道型MOS晶体管18构成的输出段的变换器INV3的输入端子上。
另外,作为变换器INV2、INV3的高电位侧电源,由正的高电源电位VH供给,作为低电位侧电源,由负的高电源电位VL供给。在输出段的变换器INV3的输出端子19和负的高电源电位VL之间,连接有输出电容器C,所述输出电容器C介由IC外部的外部配线20、21外附在IC上。外部配线20、21分别具有寄生电感L1、L2。还有,关于正升压充电泵电路12及负升压充电泵电路13,在专利文献1中有相关记载。
【专利文献1】特开2001-231249号公报
然而,在上述的驱动电路中,如图4所示,发现:在输出段的变换器INV3的输出电压Vout从高电平变化为低电平之后,发生了正升压充电泵电路12的输出电位即正的高电源电位VH异常地下降的现象。这种异常现象在输出电容器C的值为500pF时不发生,但在输出电容器C的值达到作为CCD照相机控制所需规格的1000pF的大值时发生。
如果发生这样的异常现象,则存在以下问题:将正的高电源电位VH作为电源电位使用的IC内的其他的电路的运行变为不稳定,导致发生误操作。
发明内容
因此,本发明人查明了该异常现象的原因,并开发了本发明的驱动电路。首先,对该查明的原因进行说明。图5是表示构成驱动电路的输出段的变换器INV3的、P沟道型MOS晶体管17和N沟道型MOS晶体管18的构造的剖视图。
P沟道型MOS晶体管17形成在第1N阱51中,所述第1N阱51形成在P型半导体基板50的表面;N沟道型MOS晶体管18在P型半导体基板50的表面上形成在P阱53中,所述P阱53形成在与所述第1N阱51邻接而形成的第2N阱52中。另外,第1及第2N阱51、52的电位分别通过第1n型层54、第2n型层55设定为正的高电源电位VH(+15V),P阱53通过p型层56设定为正的高电源电位VL(-7.5V)。
根据图3、图5所示的驱动电路,模拟输出电压Vout从高电平变化为低电平时的结果如图6所示。在图6(a)、(b)中,纵轴表示Vout,横轴表示时间。图6(b)是图6(a)的局部放大图。从该模拟结果明显可知,在输出电容器C为1000pF的情况下,相比500pF的情况,输出电压Vout的振荡(ringing)大。
尤其,在输出电容器C为500pF的情况下,输出电压Vout过冲(Overshoot)到负的高电源电位VL(-7.5V)以下的间隔为40ns(纳秒)左右,但在输出电容器C为1000pF的情况下,输出电压Vout过冲到负的高电源电位VL(-7.5V)以下的间隔为60ns(纳秒)左右长。还有,在模拟中,将寄生电感L1、L2的合成电感值设为200nH(纳亨利)。
该过冲期间相当于由图5中的P阱53和N沟道型MOS晶体管18的n型漏极层57构成的寄生二极管导通的期间。即,在输出电容器C为1000pF的情况下,产生大的过冲,因此,所述寄生二极管上流过大电流,而这个电流成为基极电流IB,从而,寄生双极型晶体管导通。
在该寄生双极型晶体管中,图5中的n型漏极层57设为发射极,将P阱53设为基极,将第2N阱52设为集电极。如果导通该寄生双极型晶体管,则集电极电流IC从正的高电源电位VH(+15V)流过第2N阱52。因该集电极电流IC流过,正升压充电泵电路12输出的正的高电源电位VH(+15V)异常地下降。
从而,正的高电源电位VH(+15V)异常下降的原因是,输出段的变换器INV3的输出电压Vout由于由附带在输出电容器C和外部配线20、21的寄生晶体管L1、L2构成的LC电路而过冲为负的高电源电位VL(-7.5V)以下而引起。为了降低该过冲,可以考虑以与所述输出电容器C串联的方式将输出电阻插入到输出端子19,但由此,导致增大输出段的变换器INV3的输出阻抗,不能满足电路规格。
因此,本发明如图1所示,其特征在于,将用于限制过冲的第1电阻R1设置在输出段的变换器INV6的前段的变换器INV4上。由此,不存在输出段的变换器INV6的输出阻抗增大的情况,限制输出段的变换器INV6的输出电压Vout过冲到负的高电源电位VL(-7.5V)以下,从而,防止上述的寄生双极型晶体管导通。
根据本发明的驱动电路,能限制输出段的变换器的输出电压过冲,因此,在转换驱动电路的输出段的变换器时,能够防止正升压充电泵电路12输出的正的高电源电位VH异常地下降。尤其,在高电压输出(例如,15V左右以上)的驱动电路中,输出电压的振荡及过冲大,寄生双极型晶体管容易导通,因此,使用在这样的驱动电路上大有效果。
附图说明
图1是本发明的实施方式的驱动电路的电路图。
图2是表示本发明的实施方式的驱动电路的模拟结果的图。
图3是以往例的驱动电路的电路图。
图4是以往例的驱动电路的运行波形图。
图5是表示驱动电路的输出段的变换器INV3的构造的剖视图。
图6是表示以往的驱动电路的模拟结果的图。
图中,10、15、17、25、27-P沟道型MOS晶体管、11、16、18、26、28-N沟道型MOS晶体管、R1-第1电阻、R2-第2电阻、12-正升压充电泵电路、13-负升压充电泵电路。
具体实施方式
下面,参照图面对本发明的实施方式进行说明。图1是该驱动电路的电路图。在图1中,对与图3(以往例的电路)相同的构成部分附加相同的符号并省略说明。另外,构成输出段的变换器INV6的P沟道型MOS晶体管17和N沟道型MOS晶体管18的构造,与图5所示的剖面构造相同。
本实施方式中的驱动电路,与以往例中的电路不相同之点在于将变换器INV2的输出电源分别施加在用于控制输出段的变换器INV6的变换器INV4、INV5的输入端子,将变换器INV4的输出电压施加在输出段的变换器INV6的N沟道型MOS晶体管18(输出晶体管)的栅极,将变换器INV5的输出电压施加在输出段的变换器INV6的P沟道型MOS晶体管17(输出晶体管)的栅极。
变换器INV4是,将P沟道型MOS晶体管25、第1电阻R1、N沟道型MOS晶体管26按这个顺序连接在正的高电源电位VH(例如,+15V)和负的高电源电位VL(例如,-7.5V)之间而构成,并将第1电阻R1和N沟道型MOS晶体管26之间的连接点设为该变换器INV4的输出端子。第1电阻R1是作为P沟道型MOS晶体管25的漏极电阻插入的元件,如果导通P沟道型MOS晶体管25,则由该第1电阻R1限制流过P沟道型MOS晶体管25的电流。
这样,输出段的变换器INV6的N沟道型MOS晶体管18(输出晶体管)的栅极电位缓慢上升,与此对应,N沟道型MOS晶体管18(输出晶体管)也缓慢导通。由此,能够抑制输出段的变换器INV6的输出电压Vout的振荡(ringing),且能够限制过冲。
第1电阻R1优选由将杂质离子注入到半导体基板50中而形成的离子注入电阻层构成。另外,也可以取而代之第1电阻R1的插入,将P沟道型MOS晶体管25的导通电阻增大。具体来说,对于限制过冲来说优选的是,将P沟道型MOS晶体管25的尺寸比(沟道宽度W/沟道长度L)设为N沟道型MOS晶体管26的尺寸比的1/5以下。
进而,也可以插入第1电阻R1,且将P沟道型MOS晶体管25的尺寸比(沟道宽度W/沟道长度L)设为N沟道型MOS晶体管26的尺寸比的1/5以下,由此,能够进而限制输出段的变换器INV6的输出电压Vout的过冲。
图2是模拟输出段的变换器INV6的输出电压Vout从高电平变化为低电平时的结果。纵轴表示Vout,横轴表示时间。从该模拟结果明显可知,减少了输出电压Vout的振荡及过冲。还有,在本实施例的实际的驱动电路中,也确认出不发生像以往的正的高电源电位VH异常地下降现象。
在上述的驱动电路的构成上,为了限制输出段的变换器INV6的输出电压Vout从高电平变化为低电平时的过冲,而插入了第1电阻R1,但也可以与此情形相同地即如图1所示地,为限制输出段的变换器INV6的输出电压Vout从低电平变化为高电平时的过冲而插入第2电阻R2。
即,变换器INV5是将P沟道型MOS晶体管27、第2电阻R2、N沟道型MOS晶体管28按这个顺序连接在正的高电源电位VH(例如,+15V)和负的高电源电位VL(例如,-7.5V)之间而构成,并将第2电阻R2和P沟道型MOS晶体管27之间的连接点作为该变换器INV5的输出端子。第2电阻R2是作为N沟道型MOS晶体管28的漏极电阻而插入的元件,如果导通N沟道型MOS晶体管28,则由该第2电阻R2限制流过N沟道型MOS晶体管28的电流。
这样,输出段的变换器INV6的P沟道型MOS晶体管17(输出晶体管)的栅极电位缓慢下降,与此对应,P沟道型MOS晶体管17(输出晶体管)也缓慢导通。由此,能够抑制输出段的变换器INV6的输出电压Vout的振荡,且能够限制过冲。
第2电阻R2,优选的是,由将杂质离子注入半导体基板50中而形成的离子注入电阻层构成。另外,也可以取而代之第2电阻R2的插入,将N沟道型MOS晶体管28的导通电阻增大。具体来说,对于限制过冲来说优选的是,将N沟道型MOS晶体管28的尺寸比(沟道宽度W/沟道长度L)设为P沟道型MOS晶体管27的尺寸比的1/5以下。
进而,也可以插入第2电阻R2,且将N沟道型MOS晶体管28的尺寸比(沟道宽度W/沟道长度L)设为P沟道型MOS晶体管27的尺寸比的1/5以下,由此,能够进而限制输出段的变换器INV6的输出电压Vout的过冲。还有,优选在本实施方式中将第1及第2电阻R1、R2的电阻值设为20KΩ~30KΩ左右。
Claims (9)
1.一种驱动电路,具有:
由串联连接在第1电位和第2电位之间的第1及第2MOS晶体管构成的第1变换器;
生成所述第1电位的第1电源电路;
生成所述第2电位的第2电源电路;
具有串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间的第3及第4MOS晶体管的第2变换器;和
串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间并具有第5及第6MOS晶体管的第3变换器,
所述第2变换器的输出施加在所述第1MOS晶体管的栅极,所述第3变换器的输出施加在所述第2MOS晶体管的栅极,
所述驱动电路的特征是:
在所述第3MOS晶体管和所述第4MOS晶体管之间插入有限制所述第1变换器的输出的过冲的第1电阻。
2.根据权利要求1所述的驱动电路,其特征是:
在所述第5MOS晶体管和所述第6MOS晶体管之间插入有限制所述第1变换器的输出的过冲的第2电阻。
3.根据权利要求1所述的驱动电路,其特征是:
所述第1电阻由离子注入电阻层构成。
4.一种驱动电路,具有:
由串联连接在第1电位和第2电位之间的第1及第2MOS晶体管构成的第1变换器;
生成所述第1电位的第1电源电路;
生成所述第2电位的第2电源电路;
具有串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间的第3及第4MOS晶体管的第2变换器;和
串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间并具有第5及第6MOS晶体管的第3变换器,
所述第2变换器的输出施加在所述第1MOS晶体管的栅极,所述第3变换器的输出施加在所述第2MOS晶体管的栅极,
所述驱动电路的特征是:
将所述第3MOS晶体管的尺寸比设为所述第4MOS晶体管的尺寸比的1/5以下。
5.根据权利要求4所述的驱动电路,其特征是:
在所述第3MOS晶体管和所述第4MOS晶体管之间插入有限制所述第1变换器的输出的过冲的第1电阻。
6.一种驱动电路,具有:
由串联连接在第1电位和第2电位之间的第1及第2MOS晶体管构成的第1变换器;
生成所述第1电位的第1电源电路;
生成所述第2电位的第2电源电路;
具有串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间的第3及第4MOS晶体管的第2变换器;和
串联连接在所述第1电位和所述第2电位之间并具有第5及第6MOS晶体管的第3变换器,
所述第2变换器的输出施加在所述第1MOS晶体管的栅极,所述第3变换器的输出施加在所述第2MOS晶体管的栅极,
所述驱动电路的特征是:
将所述第6MOS晶体管的沟道宽度对沟道长度的比设为所述第5MOS晶体管的沟道宽度对沟道长度的比的1/5以下。
7.根据权利要求4记载的驱动电路,其特征是:
在所述第5MOS晶体管和所述第6MOS晶体管之间插入有限制所述第1变换器的输出过冲的第2电阻。
8.根据权利要求1~7所述的驱动电路,其特征是:
所述第2MOS晶体管形成在第2导电型的第1阱中,所述第2导电型的第1阱形成在第1导电型的半导体基板的表面上,
所述第1MOS晶体管形成在第1导电型的第3阱中,所述第1导电型的第3阱形成在第2导电型的第2阱中,所述第2导电型的第2阱形成在所述半导体基板的表面上。
9.根据权利要求8所述的驱动电路,其特征是:
所述第1及第2阱的电位设定为所述第1电位,所述第3阱设定为所述第2电位。
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