CN1755175A - 曲状狭缝阀门 - Google Patents
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Abstract
提供了用于密封腔室中的一基片转移通道的装置的实施例。在一个实施例中,用于密封腔室中的基片转移通道的装置包括一个细长的门构件,该门构件具有一凸出的密封面和一背面。在另一个实施例中,提供了一种具有用于密封基片转移通道的装置的腔室,该腔室包括:一个具有内部容积的腔室主体;至少一个被确定为穿过腔室主体的基片进出口,它被构造成允许大面积的基片穿过其中;以及一个门构件,该门构件具有一个凸出的密封面,它可以在覆盖基片转移开口的一第一位置和越过基片转移开口的第二位置之间移动。在又一个实施例中,腔室主体可以是一个载荷锁定腔室。
Description
技术领域
本发明的实施例总地涉及一种狭缝阀门用于密封真空处理系统内的基片通道的狭缝阀门。
背景技术
薄膜晶体管(TFT)通常被用于活跃的矩阵显示中,如计算机、电视监控器、蜂窝电话显示器、个人数字助理(PDAs)和越来越多的其它装置。一般说来,平板是由两个玻璃板组成,有一层液晶材料夹在它们之间。至少在其中一块玻璃板上设置一层传导薄膜,它是与能量源相结合的。从能量源提供给传导薄膜的能量改变了晶体材料的方位,创立了一种模式排列。
随着平板技术被市场的接受,大容量、高产出和更低制造成本的需求已经促使设备制造商研制新的系统,该系统使更大尺寸的玻璃基片适用于平板显示器制造者。目前的玻璃生产设备通常被构造为适应大约一平方米的基片,生产设备被构造为适应基片尺寸的增加,可以预想在不远的将来会超过四平方米。
玻璃基片的加工典型地是在一组器具中进行,通过使基片经过很多连续的程序,从而在基片上生产出部件、导体和绝缘体。这些程序中的每一步骤通常是在一个加工腔室中完成的,该腔室是被设定用来完成生产过程中某一单独步骤的。为了有效地完成生产步骤的整个过程,这组器具包括一定数量的加工腔室,每个腔室连接着一中心转移腔室。在转移腔室中放入一个遥控设备,以利于基片在加工腔室和载荷锁定腔室间的转移,载荷锁定腔室允许基片在该组器具的真空环境和工厂接口(factory interface)的周边环境间被转移。用于玻璃基片加工的这样一组器具可以从AKT公司得到,该公司是加利福尼亚州Santa Clara市的应用材料公司的独资子公司。
当用于制造平板显示器的基片尺寸不断增大时,制造这些基片的设备也会在尺寸上相应变大。因此,将一个真空腔室(或载荷锁)与另一个腔室隔绝的门或闸门就变大了,或者由于两个腔室之间的缝隙开口变得更宽而特别加长,以适应基片通过该缝隙开口时的大宽度。门长度的增加就引起了一个技术上的挑战,为了在两个腔室之间得到一个好的隔离密封,通过在门和腔室壁之间的缝隙开口周围设置一个弹性体的封条以保持所述隔离密封。
图1A描述了一个基片通道108的局部剖视图,该基片通道被构成为通过腔室体106,并且被一个传统的狭缝阀门110有选择性地密封。传统的狭缝阀门典型地由一个扁平的铝制部件构成,它具有很长的侧向跨度。一紧密的外力施加于门110的中部,通过附连的支架102,如图1A-B所示,施加到难以旋转的轴104上。门110在密封通道108的位置(如图1A所示)和通过连接在轴104上的制动器118使其越过通道108的位置之间转动。在门110和腔室主体106之间,设置有一密封件116。
为了腔室能得到好的隔离就要使加载在密封件116上的外力足够大。将很高的载荷施加于靠近门110的中心,会导致高的载荷外力靠近门110的中心,而低的密封外力基本上接近门的两端,如代表外力的箭头112所示。轴104在载荷作用下可能会弯曲,如虚线所示的轴114,这是由于门110在腔室主体106的壁内布置的轴承支承件114与结合在门110中心的支架102之间具有一个很长的跨度。当门110处于关闭位置时,轴104的弯曲就加重了门端部密封的低载荷状况。在门边缘的低密封力可能通过通道108导致人们所不希望的泄漏。
为了提供一种不易弯曲的门,具有均衡的密封载荷,门和/或轴应该用更厚的材料或具有更高模数的材料制成。但是,这种办法会增加载荷锁定腔室的造价,因为高强度材料通常较贵,而且一个更大的载荷锁定腔室可能需要提供更大的具有更高强度的门,在运行的时候具有足够大的空隙。由于腔室自身增加了材料和制造费用,加上为了泵出更大的载荷锁定体积而增加的泵的容量,一个大的载荷锁定腔室是不受欢迎的。而且,增加的载荷锁定体积通常会增加泵出的时间,这会对系统的整个运作产生负面的影响。
因此,需要一种用于密封基片转移通道的改进的狭缝阀门。
发明内容
提供了用于密封腔室内基片转移通道的设备的实施例。在一个实施例中,一个用于密封腔室内基片转移通道的设备包括一个细长的门构件,它具有一个凹入的密封面和一个背部。
在另一个实施例中,提供了一个腔室,它具有一个用于密封基片转移通道的装置,包括:一个有内部容积的腔室主体;至少一个通过腔室主体的基片转移口,其被设定为允许大面积的基片通过其中;以及一个门构件,该门构件具有一个凹入的密封面,在覆盖基片转移口的第一位置和越过基片转移开口的第二位置间是可移动的。而在其它实施例中,腔室主体可以是一个载荷锁定腔室。
附图说明
这样,结合实施例以及附图所示,更具体的是上面简要概括的本发明的叙述,可以获得并详细地理解本发明的上述特征。
图1A是一个具有基片通道的腔室主体的局部剖视图,该基片通道由一个传统的狭缝阀门选择性地密封。
图1B是门制动器和图1A中的传统狭缝阀门的侧视图,并且腔室主体已被取下。
图2是一个用于加工大面积基片的加工系统的实施例的俯视平面图,该基片具有本发明的载荷锁定腔室。
图3是沿图2的线3-3截取的载荷锁定腔室的剖视图。
图4是沿图3的线4-4截取的载荷锁定腔室的剖视图。
图5是沿图4的线5-5截取的一个密封包装组件(seal pack assembly)的
实施例的剖视图。
图6是一个安装组件组件的实施例的立体图。
图7是图2中的载荷锁定腔室的局部剖切侧视图。
图8-9是一个门构件的实施例的主视图和俯视图。
图10是门构件上的密封力的示意图。
图11是载荷锁定腔室的另一实施例的局部剖视图。
但应当指出的是,附图仅仅示出了本发明的典型实施例,因此不能认为对本发明的保护范围进行了限制,本发明可容许其它它同等有效的实施例。
标号说明
102支架 112箭头
104轴 114轴承
106主体 116密封件
108通道 120轴
110门 200载荷锁定腔室
208转移腔室 416凹部
212工厂接口 430第二制动器
232加工腔室 502外壳
234真空遥控设备 504内部轴承
236大气遥控设备 506外部轴承
238盒 508轴密封件
240隔室 510紧固件
300门组件 512O型环
302第一侧壁 516间隔件
304第二侧壁 518保持环
306第三侧壁 520内侧端
308底部 522销
310顶部 524末端
312主体 526通道
314内壁 528套管
316开口 530主体
318第四侧壁 532间隔件
320基片转移腔室 540外端部
322基片转移腔室 542销
324基片转移腔室 544末端
330制动器 602弹簧
340开口 604第一指状物
342系统 606第二指状物
344支承件 702键
402门构件 802主要侧
404第一轴 804主要侧
406第二轴 806次要侧
408密封包装组件 808次要侧
410安装组件 810密封面
412内部制动器臂 812后边
414外部制动器臂 814密封装置
816密封体 1006合力
900线 1100载荷锁定腔室
902轴 1102制动器
912密封面 1104制动器
1002制动器力 1112腔室主体
1004压力
具体实施方式
本发明总体上提供了一种改进的狭缝阀门,该阀门尤其适合使用在大面积的基片加工腔室中。本发明将会在下面被描述为使用在平板加工系统统中,例如,可以从AKT公司(应用材料公司在加利福尼亚州Santa Clara市的分部)获得该平板加工系统。然而,应该认为,本发明也可以用来密封其它它系统系统构造的其它它类型的处理设备中的基片转移通道。
图2是加工系统250的一实施例的俯视平面图,它适合于加工大面积基片(如具有超过约0.16平方米平面区域的玻璃或聚合体基片)。加工系统250典型地包括一转移腔室208,它通过一载荷锁定腔室200与一个工厂接口212连接。转移腔室208至少有一个真空遥控设备234置于其中,用于适应众多周边的加工腔室232和载荷锁定腔室200之间的基片转移。可任选地,这些加工腔室232中的一个可以是预热腔室,这样,加工前的基片经受热处理,以提高系统250的生产能力。典型地,转移腔室208需保持在一个真空状态下,以消除在转移每一个基片后调节转移腔室208和单独的加工腔室232之间压力的必要性。
工厂接口212通常包括很多基片存储盒238和至少一个大气遥控设备236。盒238一般被可移动地设置在大量的、建立在工厂接口212一侧的隔室(bay)240中。大气遥控设备236适于在盒238与载荷锁定腔室200之间转移基片210。典型地,工厂接口212保持等于或略微大于大气压力。
图3是图2中载荷锁定腔室200的一个实施例的剖面图。载荷锁定腔室200包括狭缝阀门组件300,用于密封工厂接口212与转移腔室208之间的通道316。一个锁定载荷腔室的实例来自由Kurita等人于2003年10月20日提交的题为“大面积基片加工系统的载荷锁定腔室(LOAD LOCK CHAMBER FOR LARGE AREA SUBSTRATEPROCESSING EQUIPMENT)”、序列号为No.60/512,727的美国临时申请;以及由Kurita等人于1999年12月15日提交的题为“双基片载荷锁的加工设备(DUAL SUBSTRATELOADLOCK PROCESS EQUIPMENT”的美国专利申请No.09/464,362中描述的发明。可以预期,本发明的狭缝阀门组件300可与具有替代构造的载荷锁定腔室一起使用。同样可预期,狭缝阀门组件300也可被利用于选择性地密封形成在转移腔室208或加工腔室232中的基片开口。
在图3描述的实施例中,载荷锁定腔室200具有一个腔室主体312,它包括大量垂直叠放的与周围环境孤立的基片转移腔室,它们被真空密封的水平内壁314所分隔。尽管有三个单独的基片转移腔室320、322、324图示在图3描述的实施例中,但可以预想,载荷锁定腔室200的腔室主体312可包括两个或更多的垂直叠放的基片转移腔室。例如,载荷锁定腔室200可能包括由N-1个水平内壁314分隔的N个基片转移腔室,其中N是一个比1大的整数。
基片转移腔室320、322、324各自构成为容纳一个单独的大面积基片210,以使每一个腔室的体积减到最小,从而提高快速泵送和排放循环。在图3所描述的实施例中,每一个基片转移腔室320、322、324具有一个小于约2000公升的内部体积(在一个实施例中内部体积是1000公升),以提供具有平面表面积约3.7平方米的基片。可以预见,可以设置本发明的基片转移腔室具有其它的宽度、长度和/或高度,以容纳不同尺寸的基片。
腔室主体312包括第一侧壁302,一个第二侧壁304、一个第三侧壁306、底部308和顶部310。一个第四侧壁318(部分图示在图3中)与第三侧壁306相对。主体312由一种适于在真空状态下使用的刚性材料构成。腔室主体312由单独一块(如,一片)铝或其它适合的材料制成,或由模块部件制成。
基片210由第一转移腔室320的底部308以及限定第二和第三基片转移腔室322、324底部的内壁314上方的大量基片支承件344支承。基片支承件344被间隔设置成支承位于底部308(或壁314)之上的基片210,以避免基片与腔室主体312接触。基片支承件344被构造成使基片的划痕和污染达到最小程度。在图3描述的实施例中,基片支承件344是具有圆形顶端346的不锈销钉。其它合适的基片支承件在2003年5月5日提交的美国专利No.6,528,767、2001年10月27日提交的美国专利No.09/982,406以及2003年2月27日提交的No.60/376,857美国专利中有所描述。
基片转移腔室320、322、324中的每一个基片转移腔室的至少一个侧壁包括至少一个开口340,该开口被形成为贯穿其中开口并且连接于一个泵送系统342,以便于控制每一个腔室内部的真空压力。泵送系统342包括通风孔、泵和流量调节装置,它们能使泵送系统342有选择地排放或泵送基片转移腔室320、322、324中预先确定的一个。泵送系统的一个例子来自在先前确定的由Kurita等人于2003年10月20日提交的题为“大面积基片加工系统的载荷锁定腔室”、序列号为No.60/512,727的美国临时申请中描述的发明。
形成在腔室主体312内的基片转移腔室320、322、324中的每一个都包括两个基片进出开口316。开口316被构造成便于大面积基片210进出载荷锁定腔室200。在图3描述的实施例中,基片转移腔室320、322、324中的每一个的基片进出开口316被设置在腔室主体312的相对两侧,但开口316也可替代地设置在主体312的邻近的壁上。在一个实施例中,第一和第二基片进出开口316、316的宽度至少是1365毫米,但不局限于此。
每一个基片进出开口316各自被一相应的狭缝阀门组件300选择性地密封,从而适于选择性地将第一基片转移腔室320与转移腔室208和工厂接口212的环境隔离开来。每一个狭缝阀门组件300通过至少一个制动器330(制动器330通常位于图3中第四壁318上的腔室主体312外侧)在打开和闭合的位置之间移动。
图4是通过狭缝阀门组件300之一的载荷锁定腔室200的水平剖视图。该狭缝阀门组件300包括一个门构件402,该门构件至少连接于一第一轴404。通过制动器330,第一轴404可转动,使得门构件402在打开和闭合位置之间移动。在图4描述的实施例中,狭缝阀门组件300包括一第二轴406,该第二轴连接于门构件402和一第二制动器430,该第二制动器被图示为连接在腔室主体312的第三壁306外部。该第二制动器430与制动器330共同作用使门构件402旋转。第一和第二制动器330、430可以是液压汽缸、气压汽缸、发动机或者其它适于旋转轴404、406的制动器。
每一根轴404、406通过一内部制动器臂412与门构件402的一个安装组件410相连的。侧壁306、318包括一形成于其中的凹部416,该凹部允许内部制动器臂412旋转,藉此使腔室主体316的宽度和内部体容积最小化。每一根轴404、406也各自通过一个外部制动器臂414与制动器330、430连接。外部制动器臂414和轴404、406中的每一个都开有键槽、键或其它构造以防止其间的旋转滑移。
每一根轴404、406穿过一密封包装组件408,该密封包装组件允许轴在保持腔室主体312的真空完整性时可以旋转。密封包装组件408通常安装在腔室主体312的外部,来减小腔室主体312的宽度和内部容积。
图5是密封包装组件408的一个实施例的剖视图。密封包装组件408包括一外壳502、一内部轴承504、一外部轴承506和一个或多个轴密封件508。该外壳502通常通过多个紧固件510连接到腔室主体312上。一个O型环512设置在外壳502和腔室主体312之间,以提供它们之间的真空密封。
外壳502包括一通孔514,该通孔允许轴406穿过外壳502。孔514在其每一端都有沉孔,以接纳内部和外部轴承504、506。保持环518阻止轴承504、506移出孔514外。轴承504、506被压配在轴406的周围以便旋转。在图5描述的实施例中,轴承504、506为十字辊轴承。
一个或多个轴密封件508被设置在孔514内,并在第二轴406和外壳502之间提供动态的真空密封。在图5描述的实施例中,多个轴密封件508被图示为由间隔件516分开。
第二轴406的一内侧端520以一种确保旋转运动从轴406传递到臂412的方式连接到内部制动器臂412上。例如,内部制动器臂412可以与轴406相匹配或者包括一个键来确保其旋转。可选择的是,内部制动器臂412可以被夹在、钉在、压配在、焊接在或者粘在轴406上。
图5中的门构件402已经旋转到能以最佳方式图示内部制动器臂412的末端524通过销522的连接到安装组件410。销522使得门构件402相对于内部制动器臂412旋转,藉此在密封基片进出开口316时允许门构件402对准腔室主体312。
在图5描述的实施例中,安装组件410包括一主体530和一间隔件532。主体530从门构件402延伸,为销522和内部制动器臂412提供间隙。作为主体530一个完整部分的间隔件532,为使主体530和门构件402旋转越过内部制动器臂412,是独立的并允许有空隙。在图5的实施例中,销522被固定在内部制动器臂412的末端524,并与形成在安装组件410的主体530内的通道526相配合。套管528设置在销522和主体530之间的通道526内,以利于销522在安装组件410内旋转。套管528可由聚酰胺-酰亚胺,如TORLON,或其它合适的材料制造。
图6是具有弹簧602的安装组件410的立体图。弹簧602用于促使门构件402进入相对于内部制动器臂412预先设定的方位,以使门构件402在接触到腔室主体312时可以保持有利的方位。在图6描述的实施例中,弹簧602连接于门构件402,并且包括两个指状物604、606。每一个指状物604、606延伸到门构件402和内部制动器臂412之间,分别位于销522的任意一侧。指状物604、606促使门构件402沿相反的方向绕着销522的轴,以使门构件402在移出腔室主体312时返回到预定的方位。门构件402的方位通常被选择为使门构件402在与腔室主体312接触时大致与其平行。第一轴404以类似的方式连接于门构件402。
顺便参照图7,第二轴406的外端部540以这样一种方式连接到外部制动器臂414上,即,在外部制动器臂414旋转运动到第二轴406时确保其运动的传递。例如,外部制动器臂414可与轴406相匹配或包括一个键702来确保旋转。可选择的是,外部制动器臂414可以是被夹在、钉在、压配在、焊接在或者是粘在轴406上。
在图5和图7的实施例中,销542将外部制动器臂514的一末端544和制动器430相连接。销542允许制动器430的线性运动,以便可旋转地配合外部制动器臂514,藉此使第二轴406(和门构件402)旋转。制动器430可以是液压汽缸、气压汽缸或其它类型适合的线性制动器。可以预见,其它制动器,包括齿轮发动机和其它旋转发动机/制动器可被选择性的用将旋转运动施加于轴406。
图8-9描述了门构件402的一个实施例的主视图和俯视图。门构件402通常是细长的,由铝或其它适合的材料制造而成。门构件402包括主要侧(major side)802、804,次要侧(minor side)806、808,一密封面810和一后边812。安装组件410相应地接合到门构件402的后边812的相对两端,靠近次要侧808、810。在一个实施例中,门构件402是矩形的,并且在次要侧806、808之间具有至少1260毫米的宽度。可以预见,门构件402在宽度上可长些或短些,以适合不同尺寸的基片。
密封装置(seal gland)814形成在诸侧802、804、806、808里面的密封面810内。该密封装置814限制在门构件402中心部分,通过腔室主体312覆盖在基片进出开口316上。密封体816设置在密封装置814中,并且将门构件402密封到腔室主体316上。当受到制动器330、430的挤压时,通常将密封体816设置成防止门构件402接触到腔室主体316。在一个实施例中,密封体816由含氟聚合物或其它适合的材料制成的0型环构成。其它密封材料的例子包括碳氟化合物(fkm)或全氟弹性体(ffkm)、腈橡胶(nbr)和硅化物。可见,密封体816和密封装置814可被选择性地设置在腔室主体316上。
门构件402的密封面810至少相对于连接次要侧806、808的主轴902弯曲。主轴902平行于由门构件402密封到的腔室主体316的密封表面912确定的假想线900。轴902也与轴404、406平行。为清楚起见,在图9中,密封表面912和门构件402显示为一个放大的间隔分离的关系。假想线900也可以平行于轴404、406,并且与次要侧806、808垂直。在图9描述的实施例中,密封面810相对于线900是凸出的,这样当门构件402闭合时,密封面810的中心首先接触到腔室主体312,藉此在门构件402内部产生弹力。
在运行中,与设置在次要侧806、808上的安装组件412相连的制动器330、430使门构件402旋转关闭。由制动器330、430引起的门上的载荷力在图10中由箭头1002描述。由于门构件402的弯曲,门构件402的中心首先与腔室主体312接触。因为制动器330、430的力使门构件402变平,门构件402的弯曲就产生了一弹力从而增大了门构件402中心区域的密封体816。由门构件402的弹力而引起的载荷力在图10中由箭头1004描述。经过制动器330、430的门端部的高载荷的合力被门构件402的中心弹力抵消,从而在基片进出开口316的周围均匀地施压和加载密封体816。载荷力910、920的合力总和在图10中由箭头1006描述。在制动器的合力和门构件402产生的弹力的作用下,变平的密封面810在通过腔室主体312的通道周围提供了均匀的密封载荷816,藉此确保了通道外围的真空密封均匀而可靠,同时增加了密封的期限。为了预先确定门的几何尺寸和理想的真空状况,密封面810的弯曲程度将由光束的偏转分析决定。
再者,当第一和第二轴404、406比门构件402和载荷锁定腔室200的宽度短时,轴的偏转较小,从而使力更有效地从制动器342传递到门构件402。较短的轴404、406还可考虑利用较小的轴直径,藉此减少与造价有关的长轴,它们因硬度需要更大的直径和更大尺寸的相关硬件。另外,由于内部制动器臂412被设置在腔室主体316的凹部416内,为了一个提前确定的基片进出开口的宽度,载荷锁定腔室200的宽度和内部体积可以最小化,以利于减少制造载荷锁定腔室200的造价,并通过减小载荷锁定腔室200的体积而增加生产能力,需要在运转期间通风和泵送作业。
图11是载荷锁定腔室1100的另一个实施例的局部剖视图。载荷锁定腔室1100基本上类似于上面所描述的载荷锁定腔室,除了与门构件402的相对两端连接的制动器1102、1104被设置在腔室主体1112的内部。
虽然上述涉及的是本发明的最佳实施例,但可以在不脱离基本范围的情况下,设计本发明其它的和进一步的实施方式,该范围是由下面的权利要求书所决定。
Claims (39)
1.一种用于密封一腔室内的一基片转移通道的装置,它包括:
一个具有一凸起的密封面和一背面的细长门构件。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,密封面相对于该门构件的一个主轴是凸出的。
3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,密封面还包括:
一个形成在密封面内的密封装置,所述密封装置靠近门构件的主要侧和次要侧,限定门构件的一内部区域。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,还包括:
设置在密封装置中的含氟聚合物的密封体。
5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:
一个第一安装组件;以及
一个第二安装组件,第一和第二安装组件连接到门构件背面的相对两端。
6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,还包括:
一个连接到门构件的弹簧,该弹簧靠近至少一个安装组件。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,还包括:
一个连接到第一安装组件的第一轴;
一个连接到第一轴的第一制动器;
一个连接到第二安装组件的第二轴;以及
一个结合到第二轴的第二制动器,其中,第一和第二制动器适合于围绕第一和第二轴旋转门构件。
8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括:
一个为将门构件连接到第一制动器、并连接到门构件的第一次要端的第一装置;以及
一个为将门构件连接到第二制动器、并连接到门构件的第二次要端的第二装置。
9.一种腔室,它具有一用于密封一基片转移通道的装置,包括:
一个具有一内部体积的腔室主体;
至少一个穿过腔室主体形成的基片进出开口,该基片进出开口被设定为允许大面积基片通过其中;以及
一个具有凸起密封面的门构件,该密封面可以在覆盖基片进出开口的一第一位置和越过基片进出开口的一第二位置之间移动。
10.如权利要求9所述的腔室,其特征在于,密封面相对于具有贯穿其中的基片转移开口的腔室主体的一个壁是凸起的。
11.如权利要求9所述的腔室,其特征在于,密封面还包括:
一个形成在密封面内的密封装置,所述密封装置靠近门构件的外围侧,并限定门构件的一内部区域。
12.如权利要求11所述的腔室,其特征在于,还包括:
设置在密封装置中的含氟聚合物的密封体。
13.如权利要求9所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个延伸穿过腔室主体的第一轴;以及
一个延伸穿过腔室主体的第二轴,第一轴和第二轴连接到门构件背面的相对两端。
14.如权利要求13所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个连接到门构件背面的第一安装组件;
一个连接到第一轴的第一内部制动器臂;
一个将第一安装组件旋转连接到第一内部制动器臂的第一销钉;
一个连接到门构件背面并与第一安装组件相对的第二安装组件;
一个连接到第二轴的第二内部制动器臂;以及
一个将第二安装组件旋转连接到第二内部制动器臂的第二销钉。
15.如权利要求14所述的腔室,其特征在于,腔室主体还包括:
一个形成在第一侧壁上的第一凹部,以容纳第一内部制动器臂的至少一部分;以及
一个形成在第二侧壁上的第二凹部,以容纳第二内部制动器臂的至少一部分。
16.如权利要求14所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个连接到门构件上的弹簧,该弹簧适于迫使门构件相对于第一制动器臂到达一个预定的方位。
17.如权利要求14所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个连接到第一轴的第一制动器;以及
一个连接到第二轴的第二制动器,其中,第一和第二制动器适合于围绕第一和第二轴旋转门构件。
18.如权利要求9所述的腔室,其特征在于,门构件大致为矩形,并具有至少约1260毫米的宽度。
19.如权利要求9所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个设置成穿过腔室主体到达内部空间的第二基片转移开口。
20.如权利要求19所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个形成在腔室主体内的第二内部空间,该第二内部空间垂直叠放在第一内部空间上方,并适于容纳大面积的基片于其中;
一个被设置成穿过腔室主体到达第二内部空间的第三基片转移开口;以及
一个被设置穿过腔室主体到达第二内部空间的第四基片转移开口。
21.一种载荷锁定腔室,它具有一用于密封基片转移通道的装置,包括:
一个腔室主体,该腔室主体具有至少一个形成于其中的基片转移腔室;
一个第一基片转移开口和一个第二基片转移开口,所述开口被设置成穿过腔室主体到达基片转移腔室;
一个第一门构件,该第一门构件具有一个凸起的密封面,并且可以在靠近基片转移开口的一第一位置和越过基片转移开口的一第二位置之间移动;以及
一个压力控制系统,该压力控制系统连接到腔室主体,并适于控制基片转移腔室的内部空间的压力。
22.如权利要求21所述的腔室,其特征在于,密封面相对于腔室主体的一个壁是凸起的,该腔室主体具有形成为穿过其间的基片转移开口。
23.如权利要求22所述的腔室,其特征在于,密封面还包括:
一个形成在密封面内密封装置,所述密封装置靠近门构件的外围侧,并限定门构件的一内部区域。
24.如权利要求23所述的腔室,其特征在于,还包括:
设置在密封装置中的含氟聚合物的密封体。
25.如权利要求21所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个延伸穿过腔室主体的第一轴;以及
一个延伸穿过腔室主体的第二轴,第一轴和第二轴连接到门构件背面的相对两端。
26.如权利要求25所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个连接到门构件背面的第一安装组件;
一个连接到第一轴的第一内部制动器臂;
一个将第一安装组件旋转连接到第一内部制动器臂的第一销钉;
一个连接到门构件背面并与第一安装组件相对的第二安装组件;
一个连接到第二轴的第二内部制动器臂;以及
一个将第二安装组件旋转连接到第二内部制动器臂的第二销钉。
27.如权利要求26所述的腔室,其特征在于,腔室主体还包括:
一个形成在第一侧壁上的第一凹部,以容纳第一内部制动器臂的至少一部分;
一个形成在第二侧壁上的第二凹部,以容纳第二内部制动器臂的至少一部分。
28.如权利要求21所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个连接到门构件上的弹簧,该弹簧适于迫使门构件相对于第一制动器臂到达一个预定的方位。
29.如权利要求26所述的腔室。其特征在于,还包括:
一个连接到第一轴的第一制动器;以及
一个连接到第二轴的第二制动器,其中,第一和第二制动器适合于围绕第一和第二轴旋转门构件。
30.如权利要求21所述的腔室,其特征在于,第一基片转移开口的宽度至少约为1365毫米。
31.如权利要求21所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个形成在腔室主体内的第二内部容积,该第二内部容积垂直叠放在内部容积上,并适于容纳大面积的基片。
32.如权利要求31所述的腔室,其特征在于,还包括:
一个被设置穿过腔室主体到达第二内部空间的第三基片进出开口;以及
一个被设置穿过腔室主体到达第二内部空间的第四基片进出开口。
33.如权利要求21所述的方法,其特征在于,还包括:
一第一制动器,该第一制动器设置在腔室主体内部并连接到门构件的第一端;以及
一第二制动器,该第二制动器设置在腔室主体内部并连接到门构件的第二端。
34.一种用于改进在一个腔室壁和一个延长到腔室的门构件之间的密封力均匀度的方法,包括:
使门构件的中心部分接触到腔室的壁,以覆盖一基片进出通道;并且
将闭合力施加于门构件两端,以使门构件的密封面变平。
35.如权利要求34所述的方法,其特征在于,将闭合力施加于门构件两端的步骤还包括:
致动连接到门构件的第一端的第一制动器;并且
致动连接到门构件的第二端的第二制动器。
36.如权利要求35所述的方法,其特征在于,致动第一制动器的步骤还包括:
旋转一设置成穿过腔室壁的轴。
37.如权利要求36所述的方法,其特征在于,致动第一制动器的步骤还包括:
以一定的半径将门构件旋转到轴。
38.如权利要求37所述的方法,其特征在于,旋转门构件的步骤还包括:
使门构件相对于腔室壁保持一预定的方位。
39.如权利要求34所述的方法,其特征在于,施加到门构件两端的闭合力和由门构件变平的密封面产生的弹力,均匀地加载于门构件和腔室壁之间的密封体。
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Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101101066B (zh) * | 2006-06-28 | 2010-06-02 | 应用材料股份有限公司 | 具有球状联轴器的真空隔离阀门 |
US7845618B2 (en) | 2006-06-28 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Valve door with ball coupling |
CN102138033A (zh) * | 2008-08-28 | 2011-07-27 | 应用材料股份有限公司 | 具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门 |
CN102192337A (zh) * | 2010-02-04 | 2011-09-21 | Vat控股公司 | 具有可枢转的阀关闭梁的活板输送阀 |
CN102378873A (zh) * | 2009-03-31 | 2012-03-14 | 东京毅力科创株式会社 | 闸阀装置和具备该闸阀装置的基板处理装置 |
CN102374295A (zh) * | 2010-08-17 | 2012-03-14 | 初星太阳能公司 | 用于真空室模块的狭缝阀 |
CN102017068B (zh) * | 2008-05-05 | 2013-10-30 | 应用材料公司 | 具有增加的流动均匀度的狭缝阀 |
CN107973122A (zh) * | 2016-10-21 | 2018-05-01 | 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 | 活动式支撑机构 |
CN108502543A (zh) * | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种基板传输装置及方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7497414B2 (en) | 2004-06-14 | 2009-03-03 | Applied Materials, Inc. | Curved slit valve door with flexible coupling |
US8124907B2 (en) * | 2006-08-04 | 2012-02-28 | Applied Materials, Inc. | Load lock chamber with decoupled slit valve door seal compartment |
US8554719B2 (en) | 2007-10-18 | 2013-10-08 | Palantir Technologies, Inc. | Resolving database entity information |
KR101000493B1 (ko) | 2008-02-05 | 2010-12-14 | 주식회사 에스에프에이 | 화학 기상 증착 장치 |
KR101071955B1 (ko) | 2009-05-06 | 2011-10-11 | 주식회사 에스알티 | 게이트 밸브 |
EP2315236B1 (de) * | 2009-10-22 | 2014-05-14 | VAT Holding AG | Klappen-Transferventil |
CN101709785B (zh) * | 2009-12-05 | 2012-01-04 | 张英华 | 快开门阀门 |
CN104137248B (zh) | 2012-02-29 | 2017-03-22 | 应用材料公司 | 配置中的除污及剥除处理腔室 |
KR101327251B1 (ko) * | 2012-11-15 | 2013-11-13 | 주식회사 선익시스템 | 회전형 챔버도어 |
US10278501B2 (en) | 2014-04-25 | 2019-05-07 | Applied Materials, Inc. | Load lock door assembly, load lock apparatus, electronic device processing systems, and methods |
DE102014106467B4 (de) * | 2014-05-08 | 2022-01-13 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Ventilanordnung, Vakuumkammeranordnung und Verfahren zum Abdichten einer Substrat-Transfer-Öffnung. |
WO2017150743A1 (ko) * | 2016-02-29 | 2017-09-08 | 한신메디칼 주식회사 | 챔버의 도어 클램프 장치 |
JP2019532493A (ja) * | 2016-08-22 | 2019-11-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 真空チャンバ用のドアシール |
JP6882625B2 (ja) * | 2017-01-12 | 2021-06-02 | 株式会社島津製作所 | 真空バルブ |
DE102017104333B3 (de) | 2017-03-02 | 2018-07-05 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Zentrieranordnung, Ventilanordnung, Vakuumanordnung und Verfahren |
CN208014647U (zh) * | 2018-04-24 | 2018-10-26 | 君泰创新(北京)科技有限公司 | 一种沉淀室的隔离设备 |
CN114286906A (zh) * | 2019-07-31 | 2022-04-05 | 应用材料公司 | 隔离阀 |
US11488806B2 (en) * | 2020-05-08 | 2022-11-01 | Applied Materials, Inc. | L-motion slit door for substrate processing chamber |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3090593A (en) * | 1958-12-18 | 1963-05-21 | Air Placement Equipment Compan | Shut-off valve for cementitious pressure vessels |
US3557837A (en) * | 1969-01-21 | 1971-01-26 | Controls Co Of America | Modulating valve |
US3995563A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-07 | Whitehead & Kales Company | End door for rail cars |
US4128120A (en) * | 1977-08-17 | 1978-12-05 | Interroyal Corporation | Tambour door and housing assembly |
US4698940A (en) * | 1986-10-31 | 1987-10-13 | Truman's Inc. | Sandblast shutoff valve |
DE3637751A1 (de) * | 1986-11-05 | 1988-05-11 | Bayer Ag | Kunststoffdaempfer mit stossfaenger |
US5793050A (en) * | 1996-02-16 | 1998-08-11 | Eaton Corporation | Ion implantation system for implanting workpieces |
US5961269A (en) * | 1996-11-18 | 1999-10-05 | Applied Materials, Inc. | Three chamber load lock apparatus |
US6089543A (en) * | 1997-07-11 | 2000-07-18 | Applied Materials, Inc. | Two-piece slit valve door with molded-in-place seal for a vacuum processing system |
US6192827B1 (en) * | 1998-07-03 | 2001-02-27 | Applied Materials, Inc. | Double slit-valve doors for plasma processing |
-
2004
- 2004-06-14 US US10/867,100 patent/US7575220B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-13 JP JP2005172824A patent/JP4298680B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-06-13 KR KR1020050050329A patent/KR100736376B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 2005-06-14 CN CNB2005101132244A patent/CN100549476C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7845618B2 (en) | 2006-06-28 | 2010-12-07 | Applied Materials, Inc. | Valve door with ball coupling |
CN101101066B (zh) * | 2006-06-28 | 2010-06-02 | 应用材料股份有限公司 | 具有球状联轴器的真空隔离阀门 |
CN102017068B (zh) * | 2008-05-05 | 2013-10-30 | 应用材料公司 | 具有增加的流动均匀度的狭缝阀 |
CN102138033B (zh) * | 2008-08-28 | 2015-05-20 | 应用材料公司 | 具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门 |
CN102138033A (zh) * | 2008-08-28 | 2011-07-27 | 应用材料股份有限公司 | 具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门 |
US10453718B2 (en) | 2008-08-28 | 2019-10-22 | Applied Materials, Inc. | Slit valve door with moving mating part |
CN103939628B (zh) * | 2008-08-28 | 2016-05-18 | 应用材料公司 | 具有移动适配部分的用以耦接o形环的狭缝化tssl阀门 |
CN102378873A (zh) * | 2009-03-31 | 2012-03-14 | 东京毅力科创株式会社 | 闸阀装置和具备该闸阀装置的基板处理装置 |
US8590861B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-11-26 | Tokyo Electron Limited | Gate valve and substrate processing apparatus equipped with the same |
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CN102192337A (zh) * | 2010-02-04 | 2011-09-21 | Vat控股公司 | 具有可枢转的阀关闭梁的活板输送阀 |
CN102374295A (zh) * | 2010-08-17 | 2012-03-14 | 初星太阳能公司 | 用于真空室模块的狭缝阀 |
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