TWI312529B - Curved slit valve door - Google Patents

Description

1312529 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明的實施例，一般而言係有關於一種狹缝閥門，用 於密封真空處理系統内的基板通道。 【先前技術】 薄膜電晶體（TFT)通常被用於主動陣列顯示中，如電腦、 電視監控器、行動電話顯示器、個人數位助理（pDAs )和越 來越多的其他裝置。一般而言’平板是由兩個玻璃板組成， 有一層液晶材料炎在λ等之W。至少在纟中^鬼玻璃板上設 置-層導電薄膜，其連結一電源。從電源提供給導電薄膜的 電力改變了晶體材料的方位，產生一顯示圖案。 隨著平板技術被市場的接受，大容量、高產出和更低製 造成本的需求已經促使設備製造商研製新的系統，該系統使 更大尺寸的玻璃基板適用於平板顯示器製造者。目前的玻璃 生產設備it常配置成可以容納大約一”公尺的基板，生產 設備配置成可以容納基板尺寸的增加，可以預想在不久的將 來會超過四平方公尺。 玻璃基板的處理典型地是在一叢集工具中進行藉由使 基板經過多數系列㈣，在基板上生產元#、導體和絕緣 體。=些製帛中的每-步驟通常是在-處自室中完成的，該 處理室是設置來完成生產過程中某一單獨步驟的。為了有效 地完成生產步驟的整個過程，這叢集工具包括若干處理室， 每二處理室連接著-中央轉移處理f。在該轉移處理室中放 械人’方便在該等處理室和該負載鎖定室間的轉移該 等基板i負載鎖定室允許複數基板在該叢集工具的真空環境 和工廠介面（fact〇ry interface )的周邊環境間被轉移。用二 1312529 玻璃基板處理之如此—叢集工具可以購自akt公司，該八 是加利福尼亞州Santa Clara市的應用材料公司的獨；；： 司 〇 當用於製造平板顯示器的基板尺寸不斷增大時，製 些基板的設備也會在尺寸上相應變大。因此，將一真理 室（或負載鎖定室）與另一處理室隔 工 丹力爽狂至h絕的門或閘門就變大 η:兩個處理室之間的縫隙開口變得更寬而特別加 ι以適應基板通過該縫隙開口時的大寬度。門長度的增加 ::工一技術上的挑戰，為了在兩個處理室之間得到-好 的隔離密封，藉由在門和處理室壁之間 好 一彈性體的封條以保持所述隔離密封。.-丫 * 口α圍設置 .曾二1 二圖：述了—基板通道m的局部剖視圖，該基板通 處理室體，並且被一習知的狭縫閥門"。 有選擇性地密封。習知的狹縫閥門典型 件構成，其具有一長的橫向跨距 ：：：銘製構 堅硬的轉動軸104上，通過連加一在 u飞 ία逯的支架1〇2朝向門U0的中 圖所示。門U〇在密封通道⑽的位置(如 由連接在轴叫上的致動器118使其越 ==的位置之間轉動。在門"〇和處理室主體ι〇6之 間，設置有—密封件1 1 6。 的外為力了足處夠理室能得到好的隔離就要使載入在密封件"“ 導致高的載r。將很南的載荷施加於靠近門110的中心，會 力靠近門110的中心，而低的密封外力基本 上接近門的兩端，如代轰外六 荷作用下可能會彎曲，如斤示。軸104在載 在處理室主趙106的壁内佈置的:的：：這是由於門110 u。中心的支架1〇2之間具有：C"4與結合在門 後長的跨距。當門110處於 關閉位置時，軸104的彎曲就加重了門端部密封的低負載狀 沉。在門邊緣的低密封力可能通過通道1〇8導致人們所不希 望的泄漏。 為了提供一種不易彎曲的門，具有均衡的密封負載，門 和/或軸應該用更厚的材料或具有更高模數的材料製成。佴 是，這種辦法會增加負載鎖定室的成本，因為高強度材料通 常較貴，而且一更大的負載鎖定室可能需要提供更大的具有 更问強度的門’在操作的時候具有足夠大的空隙。由於處理 室自身增加了材料和製造費用，加上為了泵出更大的負載鎖 定室體積而增加的泵的容量，一大的負載鎖定室是不受歡迎 的。而且，増加的負載鎖定室體積通常會增加泵出的時間， 這會對系統的整個運作產生負面的影響。 因此’需要一種用於密封基板轉移通道的改進的狹縫閥 門。 【發明内容】 提供用於密封處理室内基板轉移通道的設備的實施例。 在一實施例中’一用於密封處理室内基板轉移通道的設備包 括一長形的門構件，其具有一凹入的密封面和一背部。 在另一實施例中’提供一處理室，其具有一用於密封基 板轉移通道的裝置，包括：一有内部空間的處理室主體；至 少一通過該處理室主體的基板轉移口，其設置成允許大面積 的基板通過其中；以及-門構件，該Π構件具有-凹入的密 封面在覆蓋該基板轉移口的一第一位置和越過該基板轉移 開口的一第二位置間是可移動的。而在其他實施例中’該處 理室主體可以1 —負m鎖定室。 1312529 【實施方式】 如此，藉由參照實施例以及附圖說明，可以更清楚理解 上面本發明詳細說明及簡要概括之本發明的特徵。，

本發明一般而言係提供一種改進的狹縫閥門，該閥門尤 其適合使用在大面積的基板處理室中。本發明將會在下面被 描述為使用在平板處理系統統中，例如，可以從Ακτ公司 (應用材料公司在加利福尼亞州Santa Clara市的分部）講 得該平板處理系統。然而，應瞭解本發明也可以用來密封其 他系統系統構造的其他類型的處理設備中的基板轉移通道。 第2圖是處理系統2 5 0的一實施例的俯視平面圖，其適 合於處理大面積基板（如具有超過約〇16平方公尺平面區域 的玻璃或聚合體基板）。處理系統25〇典型地包括一轉移處 理室20 8 ’其藉由一負載鎖定室2〇〇與一工廠介面212連接。 轉移處理室208至少有一真空機械人234置於其中，用於適 應多數周邊的處理室232和負載鎖定室2〇〇之間的基板轉 移。或者，這些處理室23 2中的一個可以是預熱處理室，這 樣，處理前的基板經受熱處理，以提高系統25〇的生產力。 典型地，轉移處理室208需保持在一真空狀態下，以消除在 轉移每一基板後調節轉移處理室2〇8和單獨的處理處理室 232之間壓力的必要性。 工廠介面212通常包括多數基板存儲匣盒238和至少一 大氣機械人236。匣盒238 —般被可移動地設置在多數、建 立在工廠介面212 —側的隔室（bay) 24〇中。大氣機械人 23 6適於在匣盒23 8與負載鎖定室2〇〇之間轉移基板21〇。 典型地，工廠介面212保持等於或略微大於大氣壓力。 第3圖疋第2圖中負載鎖定室2〇〇的一實施例的剖面 1312529

圖。負載鎖定室200包括狹缝閥門組件300，用於密封工廠 介面212與轉移處理室208之間的通道316。一負載鎖定室 的例子來自由Kurita等人於2003年1〇月20日申請，案名 為“大面積基板處理系統的負載鎖定室（LOAD LOCK CHAMBER FOR LARGE AREA SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT) ” 、序列號碼為No.60/512,727的美國臨時申 請；以及由Kurita等人於1999年12月15曰申請，案名為 “雙基板負載鎖定室的處理設備（DUAL SUBSTRATE LOADLOCK PROCESS EQUIPMENT ” 的美國專利申請 No.09/464,362中描述的發明。可以預期，本發明的狹縫閥門 組件300可與具有替代構造的負載鎖定室一起使用。同樣可 預期，狭縫閥門組件300也可被利用於選擇性地密封形成在 轉移處理室208或處理室232中的基板開口。 在第3圖描述的實施例中，負載鎖定室200具有一處理 室主體312’包括多數垂直疊放的與周圍環境孤立的基板轉 移處理室’其等被真空密封的水平内壁314所分隔。儘管有 三個單獨的基板轉移處理室3 2〇、3 22、3 24圖示在第3囷描 述的實施例中，但可以預想，負載鎖定室200的處理室主體 312可包括兩個或.更多的垂直疊放的基板轉移處理室。例 如’負載鎖定室200可能包括由N-1個水平内壁314分隔的 N個基板轉移處理室，其中N是一個比1大的整數。 基板轉移處理室320、322、324各自構成為容納一單獨 的大面積基板2 1 0 ’以使每一處理室的體積減到最小，從而 加快泵送和排放循環。在第3圖所描述的實施例中，每一基 板轉移處理室320、322、324具有一小於約2000公升的内 邹體積（在一實施例中内部體積是1〇0〇公升），以提供具 有平面表面積約3_7平方公尺的基板。可以預見，可以設置 7 1312529 本發明的基板轉移處 rn η 處至具有其他的寬度、長度和/或高度’ 用以谷納不同尺寸的基板。 處理室主體312白虹楚 第=伽辟匕括第—側壁302，一第二侧壁304、一 弟一側壁306、底邮= ^ ,履部308和頂部310。一第四侧壁318 (部分 圖不在第3圖中、伽银1 73 於在真與第二壁3〇6相對。主體312由一種適 猫ί 的剛性材料構成。處理室主體312由單 材製成。 ）鋁或其他適合的材料製成，或由模組型

由第一轉移處理室320的底部308以及限定第 :和第三基板轉移處理室322、324底部的内帛314上方的 數基板支撐件344支承。基板支撐件344被間隔設置成支 4 =底部308(或壁314)之上的基板21〇，以避免基板與 理室主體312接觸。基板支料344係配置成使基板的劃 痕和污染㈣最小程p在第3圖繪示的實施例中，基板支 撑件344疋具有圓形頂$ 346的不鐵銷。其他合適的基板支 推件在2GG3 4 3月5日巾請的美國專利中冑Ν(3·6,528,767、 2001年10月27曰申請的美國專利申請No.09/982,406以及 2003年2月27日申請的美國專利申請N〇 6〇/376 857中有所 描述。 基板轉移處理室320、322、324中的每一基板轉移處理 室的至少一側壁包括至少一開口埠340，該開口埠被形成為 貫穿其中開口並且連接於一泵送系統342，以便於控制每一 處理室内部的真空壓力。泵送系統342包括通風孔、泵和流 量調節裝置，其等能使泵送系統342有選擇地排放或泵送基 板轉移處理室320、322、3 24中預先確定的一。泵送系統的 -例子來自在先前確定的由Kurita等人於2003年10月20 曰申清’案名為大面積基板處理系統的負載鎖定室”、序

造成便於大面積基板210進出負載鎖定室2〇〇。在第3圖描 述的實施例中，基板轉移處理室 320 、 322 ' 開口 3 1 6被構 320、322、324中的每一的 基板進出開口 3 1 6被設置在處理室主體3〗2的相對兩側，但 開口 316也可替代地設置在主體312的鄰近的壁上。在一實 施例中’第一和第二基板進出開口 316、316的寬度至少是 1365毫米，但不局限於此。 每一基板進出開口 3 1 6各自被一相應的狹縫閥門組件 300選擇性地密封，從而適於選擇性地將第一基板轉移處理 室320與轉移處理室208和工廠介面212的環境隔離開來。 每一狹縫閥門組件300藉由至少一致動器33〇 (致動器33〇 通常位於第3圖中第四壁318上的處理室主體312外側）在 打開和閉合的位置之間移動。 第4圖是通過狹缝閥門組件3〇〇之一的負載鎖定室2〇0 的水平剖視圖。該狹縫閥門組件300包括一門構件402，該 門構件至少連接於一第一桿4〇4。通過致動器330，第一桿 404可轉動，使得門構件402在打開和閉合位置之間移動。 在第4圖描述的實施例中，狹缝閥門組件300包括一第二桿 406，該第二桿連接於門構件402和一第二致動器430，該第 二致動器被圖示為連接在處理室主體312的第三壁3 06外 部。該第二致動器430與致動器330共同作用使門構件402 旋轉。第一和第二致動器33〇、430可以是液壓汽缸、氣壓 汽缸、發動機或者其他適於旋轉軸404、406的致動器。 每一根軸404、406通過一内部致動器臂412及閘構件 402的一安裝組件410相連的。側壁306、318包括一形成於 1312529 其中的凹部416，該凹部允許内部致動器臂412旋轉，藉此 使處理室主體316的寬度和内部空間最小化。每一根軸4〇4、 406也各自通過一外部致動器臂414與致動器33〇、4以連 接。外部致動器臂414和軸4〇4、4〇6中的每一都開有鍵槽、 鍵或其他構造以防止其間的旋轉滑移。 每一根軸404、406穿過一密封塊組件4〇8，該密封塊組 件允許軸在保持處理室主體3 12的真空完整性時可以旋轉。 密封塊組件408通常安裝在處理室主體312的外部，來減小 處理室主體312的寬度和内部空間。 ' 第5圖是密封塊組件4〇8的一實施例的剖視圖。密封塊 組件4〇8包括一外殼502、—内部轴承504、一外部軸承5〇6 和一個或多個轴密封件5〇8。該外殼5〇2通常通過多個緊固 件510連接到處理室主體312上…〇型環512設置在外殼 502和處理室主體312之間，以提供其等之間的真空密封。 外殼502包括一通孔514，該通孔允許軸4〇6穿過外殼 502孔514在其每—端都有坑孔，以接納内部和外部軸承 504、506。保持環518阻止轴承5〇4、5〇6移出孔514外。 軸承504、506被壓配在軸4〇6的周圍以便旋轉。在第$圖 描述的實施例中，軸承504、5〇6為十字輥軸承。 一個或多個軸密封件508被設置在孔514内，並在第二 桿406和外殼5〇2之間提供動態的真空密封。在第$圖描述 的實施例中/個轴密封件5〇8被圖示為由間隔件516分開。 該第才干406的一内側端52〇以一種確保旋轉運動從轴 406傳遞到臂4 1 2的方式連接到内部致動器臂4丨2上。例如， 内部致動器臂412可以與軸4〇6相匹配或者包括—鍵來確保 其旋轉者’内部致動器臂412可以被夾在、釘在、壓配 在、焊接在或者黏接在軸406上。 10 1312529 第5圖中& 4 的該門構件402已經旋轉到能以最佳方式圖 内部致動器臂410&丄 、固不 41〇。銷522使得二：端524通…2的連接到安裝組件 藉此在密封基=屮 相 部致動器臂412旋轉， 主艘312。進出開口 3料允許Η構件術對準處理室 在第5圖插述的實施例中，該安裝組件41〇 530和一間隔株m 2。該主體530從該門構件402延伸，* 銷⑵和内部致動器臂412提供間隙。作為主體53〇_完= 部分的ί:隔件532 ’為使主體530和門構件402旋轉越過内 七致動412’是獨立的並允許有空隙。在第亏圖的實施 例中冑522被固定在内部致動器臂412的末端524，並與 形成在安裝組件+ " 的主體530内的通道526相配合。轴输 528汉，在銷522和主體53()之間的通道似内以利於銷 522在安裝組件41G内旋轉。轴襯⑶可由聚酿胺_酿亞胺， 如TORLON®，或其他合適的材料製造。 第6圖是具有彈簧術的-安裝組件4Π)的立體圖。彈 簧602用於促使門構件4〇2進入相對於内部致動器臂斗^預 先設定的方位’以|門構件4〇2在接_處理室主體312時 可以保持有利的方位°在第6圖描述的實施例中，彈吾6〇2 連接於門構件402 ’並且包括兩個指狀物6〇4、祕。每一指 狀物604、606延伸到門構件4〇2和内部致動器臂412之間曰， 分別位於帛522的任意-側。指狀物604、606促使門構件 402沿相反的方向繞㈣522的轴，以使門構件繼在移出 處理至主體3 1 2時返回到預定的方位。該門構件4〇2的方位 通常被選擇為使該門構件4〇2在與該處理室主體312接觸時 大致與其平行。第-桿4G4以類似的方式連接於該門構件 402 ° 11 1312529 參照第7圖，第二桿406的一外端部54〇以—種方式連 接到外部致動器臂414上，即，在外部致動器臂414旋轉運 動到第二桿406時確保其運動的傳遞。例如，外部致動器臂 414可與軸406相匹配或包括一鍵7〇2來確保旋轉。或者， 外部致動器臂414可以是被夾在、釘在、壓配在焊接在或 者是黏在軸406上。 在第5圖和第7圖的實施例中，銷542將外部致動器臂 514的一末端544和致動器43〇相連接。銷542允許致動器 430的線性運動，以便可旋轉地配合外部致動器臂514，藉 此使第二桿406 (和門構件402 )旋轉。致動器43〇可以是 液壓汽缸、氣壓汽缸或其他類型適合的線性致動器。可以預 見，其他致動器，包括選擇性地使用齒輪發動機和其他旋轉 發動機/致動器來將旋轉運動施加於轴406 » 第8—9圖描述門構件402的一實施例的主視圖和俯視 圖。門構件402通常是細長的，由鋁或其他適合的材料製造 而成。門構件402包括較長邊緣（inaj0r side) 802、8〇4,較 短邊緣（minor side) 806、808，一 密封面 810 和一後邊812。 安裝組件410相應地連接到門構件402的後邊812的相對兩 端’靠近較短邊緣8 0 8、8 1 0。在一實施例中，門構件4 〇 2是 矩形的，並且在較短邊緣806、808之間具有至少126〇毫米 的莧度。可以預見’門構件402在寬度上可長些或短些，以 適合不同尺寸的基板。 密封襯片（seal gland) 814形成在諸側802、804、806、 808裏面的密封面810内。該密封襯片814限制在門構件4〇2 中心部分’通過處理室主體312覆蓋在基板進出開口 316 上。密封件816設置在密封襯片814中，並且將門構件4〇2 密封到處理室主體316上。當受到致動器330、430的擠壓 12 1312529 ，，、常將密封件8丨6設置成防止 主體316^丄_ 籌件402接觸到處理室 在一實施例中，密封件 81 & + a & 適合的松％L 由3氣聚合物或其他 材枓製成的〇型環構成。其他密 氟化合物彳1 、他•在封材枓的例子包括碳 物（fkm)或全氟彈性體（ffkm 矽化物》骑橡膠（nbr )和 了見，密封件816和密封襯片814可被選《 % 置在處理室主體316上。 4 了被選擇性地設 _、8m 8ig至少相對於連接較短邊緣 密料處理 2 f曲°該主轴902平行於由門構件術 900。;站 冑316的-密封表面912界定的―假想線 =902也與該等軸彻、偏平行。為清楚起見，在 Η隔八施’該密封表面912和該門構件402顯示為-放大的 間卜離的關係。假㈣900也可以平行於該轴4〇4、楊， f且與：較短邊緣806 ' 808垂直。在第9圖描述的實施例 中’該密封面810相對於該線90〇係凸出的，這樣當門構件 402閉。時，該密封面8〗〇的中心首先接觸到處理室主體 312’藉此在門構件4〇2内部產生彈力。 在操作中，與設置在較短邊緣8〇6、8〇8上的安裝組件 412相連的致動器33〇、43〇使門構件4〇2旋轉關閉。由致動 器330、430引起的門上的負載力在第1〇圖中由箭頭1〇〇2 描述。由於門構件402的彎曲’門構件4〇2的中心首先與處 理室主體312接觸。因為致動器33〇、43〇的力使門構件4〇2 變平，門構件402的彎曲就產生了一彈力從而增大了門構件 4 02中心區域的密封件8丨6。由門構件4〇2的彈力而引起的 負載力在第10圖中由箭頭i 0〇4描述。經過致動器33〇、430 的門端部的向負栽的合力被門構件4〇2的中心彈力抵消，從 而在基板進出開口 316的周圍均勻地施壓和載入密封件 816。負載力910、920的合力總和在第1〇圖中由箭頭1〇〇6 13 1312529 描述。在致動器的合力和門構件 ^ T j稱件402產生的彈力的作用下， 變平的密封面810在通過處理宮轳 ^ , 处至至主體312的通道周圍提供均 勻的岔封負載8 1 6，藉此確保了 # 通逞週邊的直空密封均勻而 可靠，同時增加了密封的期限。故了祐上 «τ 可刃肩隈為了預先確定門的幾何尺寸 和理想的真空狀況，密封面81〇的蠻曲 v ^ 的驚曲程度將由光束的偏轉 分析決定。 丹有，當弟

仟刊*、4Ut>比門構件 定室200的寬度短時，軸的偏轉較小’從而使 致動器342傳遞到門構件4〇2。較短的輛4〇4、 利用較小的軸直徑，藉此減少與成本有關的長 度需要更大的直徑和更大尺寸的相關硬體◊另 致動器臂412被設置在處理室主體316的凹部 一提前確定的基板進出開口的寬度，負载鎖定 和内部體積可以最小化，以利於減少製造負載 成本，並藉由減小負載鎖定室2〇〇的體積而增 要在運轉期間通風和果送作業。 402和 力更有 406還 軸，其 外，由 41 6内 室200 鎖定室 加生產 負載鎖 效地從 可考慮 等因硬 於内部 ，為了 的寬度 200的 力，需 第11 負載鎖定t 1100 &另—實施例的局

圖。除了將閘構件402的相對兩端連接的致動器1102、11()4 設置在處理室主體1112的内部負載鎖定室以外，1100基本 上類似於上面所描述的負載鎖定室，。 雖然上述係本發明的最佳實施例，但應可以在不脫離基 本範圍的情況下，設計本發明其他的和進一步的實施方式， 該範圍是由下面的申請專利範圍所決定。 【圖式簡單說明】 第1A圖是一具有基板通道的處理室主體的局部剖視 圖’該基板通道由一習知的狹縫閥門選擇性地密封。 14 1312529 第1 B圖是門致動器和第1 A圖中的傳統狹縫閥門的側視 圖’並且處理室主體已被取下。 第2圖是一用於處理大面積基板的處理系統的實施例的 俯視平面圖，該基板具有本發明的負載鎖定室。 第3圖是沿第2圖的線3— 3截取的負載鎖定室的剖視 圖。 第4圖是沿第3圖的線4 — 4截取的負載鎖定室的剖視 圖。 第5圖是沿第4圖的線5 — 5截取的一密封塊組件（seal pack assembly )的實施例的剖視圖。 第6圖是一安裝組件元件的實施例的立體圖。 第7圖是第2圖中的負載鎖定室的局部切開側視圖。 第8 — 9圖是一門構件的實施例的主視圖和俯視圖。 第10圖是門構件上的密封力的示意圖。 第11圖是負載鎖定室的另一實施例的局部剖視圖。 應瞭解附圖只例示本發明的典型實施例，因此不他認 係限定本發明的範圍，本發明可包括其他等效的實施:。 【主要元件符號說明】 02支架 120 轴 104轴 200 負載鎖定室 106主體 208 轉移處理室 108 通道 210 基板 110門 212 工廠介面 112箭頭 232 處理室 1 14軸承 234 真空機械人 116密封件 236 大氣機械人 15 1312529

238 匣盒 430 第 二 致 動 器 240 隔室 502 外 殼 300 門組件 504 内 部 轴 承 302 第一側 壁 506 外 部 神 承 304 第二側 壁 508 軸 密 封 件 306 第三側壁 5 10 緊 固 件 308 底部 512 0型ϊ t 310 頂部 516 間 隔 件 3 12 主體 518 保 持 環 3 14 内壁 520 内 侧 端 3 16 開口 522 銷 318 第四侧 壁 524 末 端 320 基板轉 移 處 理室 526 通 道 322 基板轉 移 處 理室 528 軸 襯 324 基板轉 移 處 理室 530 主 體 330 致動器 532 間 隔 件 340 開口 540 外 端 部 342 糸統 542 銷 344 支撐件 544 末 端 402 門構件 602 彈 簧 404 第一桿 604 第 一 指 狀 物 406 第二桿 606 第 二 指 狀 物 408 密封塊 組 件 702 鍵 410 安裝組 件 802 較 長 邊 緣 412 内部致 動 器 臂 804 較 長 邊 緣 414 外部致 動 器 臂 806 較 短 邊緣 416 凹部 808 較 短 邊 緣 16 1312529 810 密封面 1100 負載鎖定室 812 後邊 1102 致動器 814 密封襯片 1104 致動器 816 密封件 1112 處理室主體 900 線9 02 軸 912 密封面 1002 致動器力 1004 壓力 1006 合力

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Claims (1)

1312529 拾、申請專利範圍： 1. 一種用於密封一真空處理室内的一基板轉移通道的裝 置，包括： 一長形門構件，其具有一凸起的密封面，該凸起的密封 面係用以密封該真空處理室之一基板轉移通道；以及

用以將該長形門構件平坦化而抵靠該基板轉移通道的裝 置，其中一施加到該長形門構件之負載力以及一由經平坦化 長形門構件所產生之彈力的組合係壓迫位於該長形門構件 與該真空處理室之該基板轉移通道之間的一密封件。 2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該密封面相對於 該門構件的一主軸係凸出的。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該密封面更包括： 一形成在密封面内的密封襯片，該密封襯片形成於緊鄰 該門構件的該較長側和較短側之該密封面中，並限定該門構 件的一内部區域。 4. 如申請專利範圍第3項之裝置，其中： 該密封件為設置在該密封襯片中的一含氟聚合物密封 件。 5. 如申請專利範圍第1項之裝置，更包括： 一第一安裝組件；以及 一第二安裝組件，第一和第二安裝組件連接到該門構件 之背面的相對末端。 6. 如申請專利範圍第5項之裝置，更包括： 18 1312529 一連接到該門構件的一彈簧，該彈簧靠近至少—安裴組 件。 7. 如申請專利範圍第6項之裝置，更包括： 一連接到該第一安裝組件的第一桿； 一連接到該第一桿的第一致動器； 一連接到該第二安裝組件的第二桿；以及 一連接到該第二桿的第二致動器，其中，該第—和第二 φ 致動器適合於圍繞該第一和該第二桿以旋轉該門構件。 8. 如申請專利範圍第1項之裝置，更包括： 一第一裝置，用以將該門構件連接到一第一致動器、並 連接到該門構件的一第一較短末端；以及 一第二裝置，用以將該門構件連接到一第二致動器 '並 連接到該門構件的一第二較短末端。 9. 一種處理室，具有一用於密封一基板轉移通道的裝 置，包括： • 一具有一第一内部體積的處理室主體； 一平坦密封表面，其圍繞一穿過該處理室主體而形成的 第一基板轉移開口，該基板轉移開口設置成允許一大面積義 板通過其中；以及 —具有相對於該平坦密封表面凸起的密封面的門構件， 該門構件可以在覆蓋該第一基板轉移開口的—第_位置和 越過該第一基板轉移開口的一第二位置之間移動， 此且施 加到該門構件之負載力以及一藉由將該門構件之該凸起密 19 1312529 封面平坦化所產生之彈力的組合係在該第一位置時壓迫位 於該門構件與圍繞該第一基板轉移開口的該平坦密封表面 之間的一密封件。 1〇,如申請專利範圍第9項之處理室，其中該凸起密封面 相對於該處理室主體的一壁係凸起的，該處理室主體具有貫 穿其間形成的該第一基板轉移開口。 11. 如申請專利範圍第9項之處理室，其中該凸起密封面 φ 更包括： 一形成在該密封面内的密封襯片該密封襯片靠近該鬥 構件的周圍邊緣，並限定該門構件的一内部區域。 12. 如申請專利範圍第n項之處理室其中： 該密封件為設置在該密封襯片中的一含氟聚合物密封 件。 13. 如申請專利範圍第9項之處理室，更包括： 一延伸穿過該處理室主體的第—桿·以及 • 一延伸穿過該處理室主體的第二桿，該第一桿和該第二 桿連接到該門構件的一背面的相對末端。 14. 如申請專利範圍第13項之處理室，更包括： 一連接到該門構件的背面的第一安裝組件； 一連接到該第一桿的第一内部致動器臂： 一將該第一安裝組件旋轉連接到該第一内部致動器臂的 第一銷； 一連接到該門構件的背面並與該第一安裝組件相 τ的第 20 1312529 二安裝組件； 連接到該第二桿的第二内部致動器臂；以及 一將該第二安裝組件旋轉連接到該第二内部致動器臂的 第二銷。 15.如申請專利範圍第14項之處理室，其中該處理室主 體更包括：

一形成在一第一侧壁上的第—凹部，用以溶·納該第一内 部致動器臂的至少一部分；以及 一形成在一第二側壁上的第二凹部，用以容納該第二内 部致動器臂的至少一部分。 16.如申請專利範圍第14項之處理室，更包括： 一連接到該門構件上的彈簧，該彈簧適於迫使該門構件 相對於該第一致動器臂到達一預定的方位。 17·如申請專利範圍第14項之處理室，更包括： 一連接到該第一桿的第一致動器；以及 一連接到該第二桿的第二致動器，其中，該第一和該第 二致動器適合於圍繞該第一和該第二桿以旋轉該門構件。 18. 如申請專利範圍第9項之處理室，其中該門構件實質 上為矩形’並具有至少約1260毫米的寬度。 19. 如申請專利範圍第9項之處理室，更包括： 一設置成穿過該處理室主體到達該第一内部空間的第_ 基板轉移開口。 20. 如申請專利範圍第ip項之處理室，更包括： 21 1312529 一形成在該處理室主體内的第二内部空間，該第二内部 空間垂直疊放在該第一内部空間上方，並適於容納_大面積 的基板於其中； 一被設置成穿過該處理室主體到達該第二内部空間的第 三基板轉移開口；以及 一設置成穿過該處理室主體到達該第二内部空間的第四 基板轉移開口。

的裝置，包括： 一處理室主體，該處理室主體具有至少一形成於其中的 基板轉移處理室； 一第一基板轉移開口和一第二基板轉移開〇,該開口被 設置成穿過該處理室主體到逹該基板轉移處理室；

一第-門構件，該第-門構件具有一凸起的密封面該 凸起的密封面用以密封該第一基板轉移開口，其中該第一門 構件可以在閉合該基板轉移開口的一 一 1弟 置和越過該第 基板轉移開口的一第二位置之 Jr ^ ^ 動，I凸起的密封面係 在該第-位置被平坦化而抵靠該處理室主體 —” 該門構件以將該凸起密封面平坦化…一=到 該門構件之該凸起密封面平垣化所產生之彈 藉由將 該第-位置時麼迫位於該門構 、、且合係在 口的該平坦密封表面之間的—密封基板轉移開 T 1午，以及 一壓力控制系統，該壓力 力控制系統連接到該處理室主 22 1312529 體，並適於控制該基板轉移處理室的一第一内部空間的壓 力。 22.如申請專利範圍第21項之負載鎖定室，其中該密封 面相對於該處理室主體的一壁係凸起的，該處理室主體具有 穿過其間形成的該第一基板轉移開口。 2 3.如申請專利範圍第22項之負載鎖定室，其中該密封 面更包括：

一形成在密封面内的密封襯片，該密封襯片靠近該門構 件的一周圍邊緣，並限定該門構件的一内部區域。 24. 如申請專利範圍第23項之負載鎖定室，其中： 該密封件為設置在該密封襯片中的一含氟聚合物密封 件。 25. 如申請專利範圍第21項之負載鎖定室，更包括： 一延伸穿過該處理室主體的第一桿；以及 一延伸穿過該處理室主體的第二桿，該第一桿和第二桿 連接到該門構件的背面的相對末端。 2 6.如申請專利範圍第25項之負載鎖定室，更包括： 一連接到該門構件的背面的第一安裝組件； 一連接到該第一桿的第一内部致動器臂； 一將該第一安裝組件旋轉連接到該第一内部致動器臂的 第一銷； 一連接到該門構件的背面並與該第一安裝組件相對的第 二安裝組件； 23 1312529 -連接到該第二桿的第二内部致動器臂，·以及 一將該第二安襞組件旋轉連接到該第二内部致動器臂的 第二銷。 27.如申請專利範圍第“項之負載鎖定室，其中該處理 室主體更包括： 形成在第側壁中的第一凹部，用以容納該第一内 部致動器臂的至少一部分； φ -形成在-第二側壁中的第二凹部，用以容納該第二内 部致動器臂的至少一部分。 28·如申請專利範圍第21項之負載鎖定室，更包括： 一連接到該門構件的彈簧，當該門構件在該第-位置 時，該彈簧適於迫使該n構件相對於該處理室主體到達一預 定的方位。 29. 如申請專利範圍第26項之負載鎖定室，更包括： 一連接到該第一桿的第一致動器；以及 • -連接到該第二桿的第二致動器，其中，該第—和第一 致動器適合於圍繞該第一和第二桿以旋轉該門構件。二 30. 如申請專利範圍第21項之負載鎖定室， 該第 — 基板轉移開口的寬度至少約為1365毫米。 31. 如申請專利範圍第21項之負 t 更包括： 一形成在該處理室主體内的第二内部空間，該第二 空間垂直疊放在該第一内部空間上方，並適於—部 沾I拓。 、、.—大面積 24 1312529 32·如申請專利範圍第31項之負載鎖定室更包^ 一設置成穿過該處理室主體到達該第二内部空間 基板轉移開口；以及 一設置成穿過該處理室主體到達該第二内部空間 基板轉移開口。 33. 如申請專利範圍第21項之負載鎖定室更包才 一第一致動器，該第一致動器設置在該處理室主 並連接到該門構件的一第一端；以及 一第二致動器，該第二致動器設置在該處理室主 並連接到該門構件的一第二端。 34. 種用於改進在一處理室的壁和一長形門構 對於該處理室的密封力均勻度的方法，包括： 使該門構件的一密封面的中心部分接觸該處理室 以覆蓋一基板進出通道’其中該處理室的壁係平坦， 封面相對於該處理室的壁係凸起的；並且 將閉合力施加於該門構件的末端，以使該門構件 封面平坦化》 35. 如申請專利範圍第34項之方法’其中該將閉 加於該門構件末端的步驟更包括： 致動連接到該門構件的—第一端的一第一致動器 致動連接到該門構件的—第二端的一第二致動器 3 6.如申請專利範圍第35項之方法，其中該致動 動器的步驟更包括： 的第三 的第四 % : 髅内部 體内部 件之間 的壁， 且該密 的該密 合力施 ;並且 〇 第一致 25 1312529 旋轉一設置成穿過該處理室的壁的軸。 37.如申請專利範圍第36項之方法，其中該致動第一致 動器的步驟更包括： 在一半徑範圍將該門構件旋轉到該軸。 3 8.如申請專利範圍第3 7項之方法，其中該旋轉門構件 的步驟更包括： 使該門構件相對於該處理室壁保持一預定的方位。

3 9.如申請專利範圍第3 4項之方法，其中施加到該門構件 的末端的閉合力和由該門構件的經平坦化密封面所產生的 彈力的組合係均勻地在該門構件和該處理室壁之間載入一 密封。

26 1312529 柒、指定代表圖： (一） 、本案指定代表圖為：第9圖。 (二） 、本代表圖之元件代表符號簡單說明： 304 第 二 側 壁 306 第 三 側 壁 312 主 體 3 16 開 口 3 18 第 四 側 壁 330 致 動 器 402 門 構 件 410 安 裝 組 件 430 第 二 致 動器 802 較 長 邊 緣 806 較 短 邊 緣 808 較 短 邊 緣 810 密 封 面 812 後 邊 900 線 902 軸 912 密 封 面

請揭示最能顯示發 挪、本案若有化學式時 明特徵的化學式：