CN1749443A - 制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 - Google Patents
制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1749443A CN1749443A CN 200510014993 CN200510014993A CN1749443A CN 1749443 A CN1749443 A CN 1749443A CN 200510014993 CN200510014993 CN 200510014993 CN 200510014993 A CN200510014993 A CN 200510014993A CN 1749443 A CN1749443 A CN 1749443A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- zno
- crystal film
- preparing
- nano stick
- stick crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
本发明公开了一种制备一维ZnO纳米棒晶薄膜的电场辅助的方法,步骤依次为:将Zn(NO3) 2·6H2O与NaOH溶解于水中,搅拌均匀;置于30~90℃的水浴中;用三电极化学沉积系统进行恒电位沉积,以涂覆ZnO溶胶作为种底的导电玻璃为阳极,铂片为对电极,饱和Ag/AgCl电极(vs Ag/AgClsat)为参比电极,在500-1300mV的外加电压下沉积;将衬底取出,清洗后,于烘箱中干燥,获得ZnO一维纳米棒晶薄膜材料。本发明通过施加并调节外电场的大小,有效控制了ZnO的生长形态,提高了生长速度;本发明广泛应用在发光二极管、光探测器、光敏二极管、气敏传感器、太阳能电池等方面。
Description
技术领域
本发明是关于制备ZnO薄膜的方法,尤其是制备一维ZnO纳米棒晶薄膜的电场辅助的方法。
背景技术
氧化锌(ZnO)是一种重要的宽禁带半导体功能材料,室温下带隙宽度为3.3eV,激子束缚能高达60meV,在紫外波段具有强的自由激子跃迁发光,加上原材料资源丰富、价格便宜,无毒害,适合于薄膜的外延生长,在信息光电领域有广泛的应用前景,是近年来继GaN之后国际上又一研究热点。由于一维ZnO阵列纳米材料具有独特的光学、电学和声学等性质而使其在发光二极管、光探测器、光敏二极管、气敏传感器、太阳能电池等方面具有广泛的应用前景。
目前制备高质量ZnO纳米线/棒阵列所采用的方法主要有气-液-固法(VLS),化学气相沉积法(CVD),模板法,水溶液法等。在这些方法中,VLS和CVD法需要较复杂的设备、较高的温度,和金属催化剂,不适合大面积制备薄膜,模板法在去除模板的过程中容易造成薄膜的塌陷和棒的破坏,大面积制备均一的薄膜也存在困难。水溶液法与其它方法相比,设备简单,反应条件温和,无需催化剂,环境友好,是大面积制备一维ZnO微结构的理想方法。目前国际上多用锌的前驱体盐和铵盐制备ZnO纳米棒阵列,但Peterson等人在美国《Langmuir》杂志2004年5月的《从NaOH溶液中外延化学沉积ZnO纳米棒》[EpitaxialChemical Deposition of ZnO nanocolumns from NaOH solutions]的文章中报导了采用NaOH作为复合反应盐制备ZnO纳米棒阵列的方法。比起使用铵盐的方法,使用NaOH不仅简化了反应体系,而且强碱的环境大大降低了对生长基底表面的要求,更利于大面积生长。
该方法目前存在的主要问题是:由于反应时为溶解-再结晶的平衡过程,ZnO棒在达到一定长度之后生长会停滞,这在应用中是相当不利的;同时,纳米棒的生长形态较大程度上受基底表面状态的影响,而基底表面状态受客观环境的影响又较大(如空气的湿度等),难于控制,因此想要获得直立生长的纳米棒阵列较为困难。所以,反应后期纳米棒的生长停滞以及纳米棒的生长形态难于控制即难以获得直立生长的纳米棒阵列的问题是现有技术的主要不足。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术中的缺点和不足,首次采用了阳极式外加电场辅助ZnO纳米棒的生长,提供了一种能够促进纳米棒的进一步生长以及控制纳米棒的生长形态即获得直立生长的纳米棒阵列的方法。
本发明制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,包括如下步骤:
(1)在搅拌条件下,将化学纯的Zn(NO3)2·6H2O与NaOH溶解于水中;
(2)将搅拌均匀的透明溶液置于30~90℃的水浴中;
(3)用三电极化学沉积系统进行恒电位沉积,以涂覆了ZnO溶胶作为种底的导电玻璃为阳极,铂片为对电极,饱和Ag/AgCl电极(vs Ag/AgClsat)为参比电极,在500-1300mV的外加电压下沉积;
(4)将衬底取出,用去离子水清洗后,于烘箱中干燥,获得ZnO一维纳米棒晶薄膜材料。
所述步骤(3)的外加电压为500-900mV,获得直立生长的纳米棒阵列。
所述步骤(3)的外加电压为1000-1300mV,促进纳米棒的进一步生长。
所述步骤(3)的沉积时间为2小时。
所述步骤(4)的干燥温度为100℃。
本发明的有益效果是通过施加并调节外电场的大小,有效控制了ZnO的生长形态即获得直立生长的纳米棒阵列,提高了生长速度;该方法工艺易于控制,可实现廉价大规模生产。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步阐述,但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之内。
在搅拌条件下,将化学纯的0.03克ZnNO3·6H2O与0.4克NaOH溶解于100毫升水中,形成均一的透明溶液,然后置于70℃的水浴中;用三电极化学沉积系统进行恒电位沉积,以涂覆了ZnO溶胶作为种底的导电玻璃为阳极,铂片为对电极,饱和Ag/AgCl电极(vsAg/AgClsat)为参比电极,在500~1300mV的外加电压下沉积2h;将衬底取出,用去离子水清洗后,在烘箱中100℃干燥,可以获得理想的一维纳米ZnO阵列的薄膜材料。
本发明实施例详见表1。
表1
ZnNO3 | NaOH | 外加电压 | 反应温度 | 反应时间 | |
1# | 0.03g | 0.4g | 500mV | 70℃ | 2h |
2# | 0.03g | 0.4g | 700mV | 70℃ | 2h |
3# | 0.03g | 0.4g | 900mV | 70℃ | 2h |
4# | 0.03g | 0.4g | 1000mV | 70℃ | 2h |
5# | 0.03g | 0.4g | 1200mV | 70℃ | 2h |
6# | 0.03g | 0.4g | 1300mV | 70℃ | 2h |
外加电场较小时,在500~900mV的电压下,纳米棒由于带相同电性而相互排斥直立;当外加电场达一定数值后,在1000~1300mV的电压下,阳极发生羟基氧化反应,降低阳极附近溶液的pH值,从而促进纳米棒的进一步生长,使得纳米棒的长度及生长速度大大提高。
所得一维纳米ZnO薄膜,采用JEOLJSM6700型场发射扫描电镜及PHILIPS型扫描电子显微镜观测,得到纳米棒晶生长的表面形态及棒长,具体性能详见表2。
表2
外加电压 | 棒的形态 | 棒长(nm/2h) | |
对比例 | 无 | 倾斜 | 700 |
1# | 500mV | 直立 | 700 |
2# | 700mV | 直立 | 700 |
3# | 900mV | 直立 | 750 |
4# | 1000mV | 倾斜 | 800 |
5# | 1200mV | 倾斜 | 900 |
6# | 1300mV | 倾斜 | 1000 |
由表中可以看出,相对于未加电场的纳米棒,其生长速度由700nm/2h可以增长到1000nm/2h,提高了生长速度约40%;当外加电场500~900mV范围内,可获得理想的形态直立的纳米棒。
Claims (5)
1.一种制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,包括如下步骤:
(1)在搅拌条件下,将Zn(NO3)2·6H2O与NaOH溶解于水中;
(2)将搅拌均匀的透明溶液置于30~90℃的水浴中;
(3)用三电极化学沉积系统进行恒电位沉积,以涂覆ZnO溶胶作为种底的导电玻璃为阳极,铂片为对电极,饱和Ag/AgCl电极(vs Ag/AgClsat)为参比电极,在500-1300mV的外加电压下沉积;
(4)将衬底取出,用去离子水清洗后,于烘箱中干燥,获得ZnO一维纳米棒晶薄膜材料。
2.根据权利要求1所述的制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)的外加电压为500-900mV。
3.根据权利要求1所述的制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)的外加电压为1000-1300mV。
4.根据权利要求1所述的制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(3)的沉积时间为2小时。
5.根据权利要求1所述的制备ZnO一维纳米棒晶薄膜的方法,其特征在于,所述步骤(4)的干燥温度为100℃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200510014993 CN1749443A (zh) | 2005-09-06 | 2005-09-06 | 制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 200510014993 CN1749443A (zh) | 2005-09-06 | 2005-09-06 | 制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1749443A true CN1749443A (zh) | 2006-03-22 |
Family
ID=36605095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 200510014993 Pending CN1749443A (zh) | 2005-09-06 | 2005-09-06 | 制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1749443A (zh) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100463859C (zh) * | 2007-02-13 | 2009-02-25 | 天津大学 | 一种垂直生长的氧化锌薄膜的制备工艺 |
CN101271078B (zh) * | 2008-04-03 | 2010-12-15 | 东南大学 | 一种生物化学传感器的制备方法 |
CN101948129A (zh) * | 2010-09-26 | 2011-01-19 | 华南理工大学 | 外电场诱导制备ZnO纳米粒子的方法及其装置 |
CN102214734A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-10-12 | 济南大学 | 一种氧化锌/氧化亚铜薄膜太阳能电池的制备方法 |
CN101861654B (zh) * | 2007-07-09 | 2012-08-15 | 塔林科技大学 | 基于氧化锌纳米棒的光伏电池及其制造方法 |
CN103320867A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-09-25 | 武汉理工大学 | 一种电场辅助制备一维纳米ZnO晶须的方法 |
CN103422129A (zh) * | 2013-07-24 | 2013-12-04 | 浙江大学 | 一种通过添加Ca2+来改变ZnO形貌的方法 |
CN105040107A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-11-11 | 济南大学 | 一种外加静电场辅助半导体材料掺杂的方法 |
CN112233973A (zh) * | 2020-09-22 | 2021-01-15 | 南方科技大学 | 一种调控宽禁带半导体材料缺陷及掺杂特性的方法 |
-
2005
- 2005-09-06 CN CN 200510014993 patent/CN1749443A/zh active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100463859C (zh) * | 2007-02-13 | 2009-02-25 | 天津大学 | 一种垂直生长的氧化锌薄膜的制备工艺 |
CN101861654B (zh) * | 2007-07-09 | 2012-08-15 | 塔林科技大学 | 基于氧化锌纳米棒的光伏电池及其制造方法 |
CN101271078B (zh) * | 2008-04-03 | 2010-12-15 | 东南大学 | 一种生物化学传感器的制备方法 |
CN101948129A (zh) * | 2010-09-26 | 2011-01-19 | 华南理工大学 | 外电场诱导制备ZnO纳米粒子的方法及其装置 |
CN101948129B (zh) * | 2010-09-26 | 2012-08-08 | 华南理工大学 | 外电场诱导制备ZnO纳米粒子的方法及其装置 |
CN102214734A (zh) * | 2011-06-07 | 2011-10-12 | 济南大学 | 一种氧化锌/氧化亚铜薄膜太阳能电池的制备方法 |
CN103320867A (zh) * | 2013-04-12 | 2013-09-25 | 武汉理工大学 | 一种电场辅助制备一维纳米ZnO晶须的方法 |
CN103320867B (zh) * | 2013-04-12 | 2015-12-09 | 武汉理工大学 | 一种电场辅助制备一维纳米ZnO晶须的方法 |
CN103422129A (zh) * | 2013-07-24 | 2013-12-04 | 浙江大学 | 一种通过添加Ca2+来改变ZnO形貌的方法 |
CN103422129B (zh) * | 2013-07-24 | 2015-09-30 | 浙江大学 | 一种通过添加Ca2+来改变ZnO形貌的方法 |
CN105040107A (zh) * | 2015-06-02 | 2015-11-11 | 济南大学 | 一种外加静电场辅助半导体材料掺杂的方法 |
CN112233973A (zh) * | 2020-09-22 | 2021-01-15 | 南方科技大学 | 一种调控宽禁带半导体材料缺陷及掺杂特性的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1749443A (zh) | 制备氧化锌一维纳米棒晶薄膜的方法 | |
CN106498372B (zh) | 光沉积制备Bi/BiVO4复合光电阳极材料的方法 | |
CN109402656B (zh) | 一种磷化钴修饰钼掺杂钒酸铋光电极的制备方法 | |
CN108043410B (zh) | 顶端修饰Cu2O的ZnO纳米棒异质结及其制备方法与应用 | |
CN101348931A (zh) | 一种脉冲电沉积制备均匀透明氧化锌纳米棒阵列薄膜的方法 | |
CN103400878B (zh) | 一种氧化锌纳米铅笔阵列电极及其制备方法和应用 | |
CN101354971B (zh) | 掺杂金属的染料敏化TiO2纳晶薄膜光电极的制备方法 | |
CN109706478B (zh) | 氢气还原的薄层碳化钛负载光电解水用氧化亚铜光阴极材料及其制备方法 | |
CN1769548A (zh) | 制备一维取向的纳米二氧化钛管状晶薄膜的方法 | |
CN107675200B (zh) | 一种改性g-C3N4量子点/TiO2纳米线光阳极及其应用 | |
CN110473927B (zh) | 一种氧化亚铜/硫氰酸亚铜异质结光电薄膜及其制备方法 | |
CN103871750B (zh) | 锐钛矿TiO2纳米树状阵列及其在太阳能电池制备中的应用 | |
CN102231332A (zh) | 基于二氧化钛纳米棒阵列薄膜的柔性染料敏化太阳电池及其制备方法 | |
CN103132120A (zh) | 一种制备可高效降解有机污染物的光电催化电极材料的方法 | |
CN106384669A (zh) | 一种光电响应型碳量子点修饰氧化锌光阳极的制备方法 | |
Wan et al. | Modulation of dendrite growth of cuprous oxide by electrodeposition | |
CN109020257A (zh) | 一种自组装二级结构氧化钛纳米阵列的制备方法 | |
CN106967979B (zh) | 一种磷酸钴助催化剂改性BiFeO3薄膜光电极及其制备方法 | |
CN100552099C (zh) | 改进的电化学沉积工艺制备单一c轴取向氧化锌薄膜方法 | |
CN108866563A (zh) | 一种硼化钴修饰的钒酸铋膜光电阳极、其制备方法与用途 | |
CN101396651B (zh) | 一种纳米有序构造的光电转换复合薄膜及其制备方法 | |
CN1313377C (zh) | 在水溶液中大面积快速制备一维氧化锌阵列薄膜的方法 | |
CN104746119B (zh) | 一种ZnO纳米材料以及合成ZnO纳米材料的方法 | |
CN103320828B (zh) | 一种六次甲基四胺掺杂纳米氧化锌薄膜的电化学制备方法 | |
CN108588778A (zh) | 一种在柔性塑料基底上低温电沉积制备有序ZnO纳米棒的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |