CN1707326A - 剥离力调整方法、粘合剂层及带粘合剂的光学构件 - Google Patents

Abstract

一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。本发明提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下可容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，还提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。

Description

剥离力调整方法、粘合剂层及带粘合剂的光学构件

技术领域

本发明涉及硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法、在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上层叠有粘合剂层的光学构件用粘合剂层及其制造方法、以及带粘合剂的光学构件。进而还涉及使用了上述光学构件用粘合剂层的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等图像显示装置。作为上述光学构件，可以举出偏振片、相位差板、光学补偿薄膜、亮度改善薄膜、还有层叠有它们的构件等。

背景技术

用于液晶显示装置等的光学构件例如偏振片或相位差板，可以使用粘合剂而贴附在液晶单元上。通常使用的是在光学构件上层叠有粘合剂层的带粘合剂的光学构件。用于光学构件的材料在加热条件下或加湿条件下的伸缩较大，所以在贴附之后容易出现与其相伴随的脱皮或剥离。为此，对于光学构件用粘合剂而言，要求其具有也能适应于加热条件下或加湿条件的耐久性。

另外，这些带粘合剂的光学构件通常显示出与已实施硅酮剥离处理的剥离衬垫成为一体的平滑性。由于透明性、耐热性、平滑性出色且外观缺陷较少，目的被用作该带粘合剂的光学构件的剥离衬垫的是在PET薄膜上精密地涂敷了硅酮的剥离衬垫。

该硅酮剥离衬垫可以在不需要的时候剥离除去，但当剥离除去时的硅酮剥离衬垫的剥离力过大时，在剥离剥离衬垫时，难以完成剥离，另一方面，如果过小，则在冲裁等光学构件制造工序中会产生剥离衬垫脱皮或剥离的问题，因而需要适度的剥离力。

作为调节为上述的适度的剥离力的方法，例如，已有人提出了改变硅酮成分的使用量的方法(例如，参照专利文献1和2)。但是，如果在硅酮成分中欲使用例如再剥离剂(重剥離剤)等调节剥离力，则存在再剥离剂被转印到粘合面上而使粘合特性下降的可能性。另外，在将硅酮剥离衬垫卷成原材料卷时，再剥离剂会被转印在背面上，在剥离剥离衬垫时会出现一些不良情况。

专利文献1：特开平6-298875号公报

专利文献2：特开2000-199199号公报

发明内容

因此，本发明的目的在于，提供一种在不使用再剥离剂等硅酮成分的条件下能够容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力的方法。另外，本发明的目的还在于，提供一种耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层及其制造方法。进而，本发明还提供具有上述粘合剂层的带粘合剂的光学构件以及使用该光学构件的图像显示装置。

本发明人等为了解决上述课题进行了潜心研究，结果发现，通过作为硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法而使用如下所述的方法，可以达到上述目的，从而完成了本发明。

即，本发明的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。

另外，本发明的带硅酮剥离衬垫的粘合剂层的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的粘合剂层的制造方法，包括对硅酮剥离衬垫的剥离力进行调整的工序。

采用本发明的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法时，如实施例的结果所示，通过使用包括如下工序的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，可以容易地调整硅酮剥离衬垫的剥离力，其中，所述的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序以及经加热使上述过氧化物的一部分或全部分解的工序。通过上述调整方法能够容易地调整硅酮剥离衬垫的详细原因尚不清楚，但可推测为由粘合剂组合物中的过氧化物的热分解而产生的自由基活性种，引发了硅酮分子的脱氢反应等，其结果造成了硅酮面性质的变化。

在上述硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法中，相对于上述粘合剂组合物1g，优选经加热使上述过氧化物分解1～20μmol。通过调整过氧化物的量，能够产生适度的剥离力并调整剥离力。

另外，本发明的带硅酮剥离衬垫的粘合剂层的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的粘合剂层的制造方法，其中包括对硅酮剥离衬垫的剥离力进行调整的工序。通过使用该制造方法，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合剂层。

在上述粘合剂层的制造方法中，上述粘合剂组合物中，作为基础聚合物优选含有在100重量份单体成分中含80重量份以上的(甲基)丙烯酸烷基酯的(甲基)丙烯酸聚合物。通过使用该粘合剂组合物，可以得到耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层。

另外，在上述粘合剂层的制造方法中，在粘合剂组合物100重量份中，可以含有硅烷偶合剂0.01～1重量份。通过使用该粘合剂组合物，可以得到耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层。

另一方面，本发明的带硅酮剥离衬垫的粘合片类的制造方法，是包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序的带硅酮剥离衬垫的粘合片类的制造方法，其特征在于，通过上述经加热使过氧化物的一部分或者全部发生分解的工序，将硅酮剥离衬垫的剥离力调整在0.1～0.4N/50mm的范围内。通过使用该制造方法，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的带硅酮剥离衬垫的粘合片类。

另一方面，本发明的光学构件用粘合剂层是通过上述的方法制造的。由于本发明的粘合剂层能发挥如上所述的作用效果，因此通过使用本发明的粘合剂层，可以得到耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合片类。因此特别适合用作再剥离型的粘合剂层。

另外，本发明的光学构件用粘合片类是在剥离衬垫上形成通过上述方法制造的粘合剂层而成的。采用本发明的光学构件用粘合片类时，因为具备能发挥如上所述作用效果的粘合剂层，所以可成为耐久性出色且具有适度剥离力的光学构件用粘合片类。

进而，本发明的带粘合剂的光学构件的特征在于，在光学构件的一面或两面上形成上述的光学构件用粘合剂层而成。采用本发明的带粘合剂的光学构件时，因为具备能发挥如上所述作用效果的粘合剂层，所以可成为耐久性出色且具有适度剥离力的带粘合剂的光学构件。

另外，本发明的图像显示装置是使用了上述带粘合剂的光学构件的液晶显示装置、有机EL显示装置、PDP等，即使在高温高湿状态下保存，也可以体现不发生剥离或发泡的高耐久性，且即使在剥离光学构件且对图像显示装置进行再利用的情况下，也不会出现胶粘力的增大，可以在不对装置造成不良影响的情况下容易地完成剥离。

附图说明

图1是表示实施例等中的过氧化物分解量和剥离力之间的关系的图。

具体实施方式

本发明的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法包括：在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、经加热使上述过氧化物的一部分或全部发生分解的工序。

在本发明的设置粘合剂组合物的层的工序中，可以采用不使用粘合剂组合物的分散溶剂的热熔涂敷，但为了改善涂敷精度，优选使用分散溶剂。

对上述分散溶剂没有特别限制，可以适当使用例如甲苯、醋酸乙酯、醇类、酮类等有机溶剂以及水等。另外，也可以采用直接利用在聚合物的聚合中使用的溶剂的涂敷方式，也可以适当添加溶剂。这些溶剂可以单独使用，还可以混合2种以上使用。

如“粘合手册(第2版)、P174，粘合带工业会编，1995，10.12”所示，作为硅酮剥离衬垫，有使用了缩合反应型硅酮剥离剂(例如，通常是指，作为基础聚合物使用在两个末端具有羟基的聚二甲基硅氧烷，作为交联剂使用聚甲基氢化二烯硅氧烷，作为催化剂使用锡系的物质)的衬垫、和使用了加成反应型硅酮剥离剂(例如，通常是指，作为基础聚合物使用在两个末端具有羟基的聚二甲基硅氧烷的甲基的一部分被乙烯基取代而成的聚合物，作为交联剂使用聚甲基氢化二烯硅氧烷，作为催化剂使用铂系催化剂的物质)的衬垫，但在本发明中没有特别限制，可以是使用了任一种剥离剂的剥离衬垫。

作为本发明的过氧化物，只要是通过加热能产生自由基活性种且与剥离衬垫的硅酮发生反应的物质，都可以适用，但考虑到操作性和稳定性，优选使用1分钟半衰期温度为80℃～160℃的过氧化物，更优选使用1分钟半衰期温度为90℃～140℃的过氧化物。当1分钟半衰期温度过低时，在涂布干燥之前的保存过程中会发生反应，有时会导致粘度增高而无法进行涂布的问题，另一方面，当1分钟半衰期温度过高时，因交联反应时的温度升高，会出现副反应，另外，有时会因未反应的过氧化物大量残留而在经过一段时间之后发生交联反应，所以不优选。其中，过氧化物的半衰期是表示过氧化物的分解速度的指标，是指过氧化物的残留量达到一半所需的时间。关于获得任意时间的半衰期的分解温度、或在任意温度下的半衰期时间，在厂家目录(maker catalog)等中有记载，例如，记载于日本油脂株式会社的有机过氧化物目录第9版(2003年5月)等中。

作为用于本发明的过氧化物，可以举例为二(2-乙基己基)过氧化二碳酸酯(1分钟半衰期温度为90.6℃)、二(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯(1分钟半衰期温度为92.1℃)、二仲丁基过氧化二碳酸酯(1分钟半衰期温度为92.4℃)、叔丁基过氧新癸酸酯(1分钟半衰期温度为103.5℃)、叔己基过氧三甲基乙酸酯(1分钟半衰期温度为109.1℃)、叔丁基过氧三甲基乙酸酯(1分钟半衰期温度为110.3℃)、二月桂酰过氧化物(1分钟半衰期温度为116.4℃)、二正辛酰过氧化物(1分钟半衰期温度为117.4℃)、1，1，3，3-四甲基丁基过氧化2-乙基己酸酯(1分钟半衰期温度为124.3℃)、二(4-甲基苯甲酰)过氧化物(1分钟半衰期温度为128.2℃)、二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期温度为130.0℃)、叔丁基过氧异丁酸酯(1分钟半衰期温度为136.1℃)、1，1-二(叔己基过氧化)环己烷(1分钟半衰期温度为149.2℃)等，其中，从交联反应效率出色的观点来看，特别优选二(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯(1分钟半衰期温度为92.1℃)、二月桂酰过氧化物(1分钟半衰期温度为116.4℃)、二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期温度为130.0℃)。这些过氧化物可以单独使用，也可以混合2种以上使用。

将本发明中的粘合剂组合物涂布在已实施剥离处理的剥离衬垫上之后进行干燥，就会成为粘合剂组合物的层。另外，可以将形成在其他基材上的粘合剂组合物的层转印到剥离衬垫上。

在本发明的剥离力调整方法中，除了过氧化物量的调整之外，分解处理温度和分解处理时间的调整也是比较重要的。

相对于上述粘合剂组合物1g，本发明中的过氧化物的分解量优选1～20μmol，更优选2μmol～16μmol，进一步优选2μmol～12μmol。当过氧化物的分解量少于1μmol时，剥离力有过小的趋势，另一方面，当超过20μmol时，剥离力有过大的趋势，所以不优选。

相对于粘合剂组合物100重量份，优选使用0.02～2重量份上述过氧化物，更优选使用0.05～1重量份。当少于0.02重量份时，隔离件的剥离有过小的趋势；另一方面，当多于2重量份时，剥离力有过大的趋势，另外在粘合剂层中有大量过氧化物残留，所以经过一段时间之后粘合特性有可能发生变化。

就上述过氧化物的分解处理温度和分解处理时间而言，如果能将过氧化物的分解量控制在每1g粘合剂组合物为1～20μmol、优选2μmol～16μmol，进一步优选2μmol～12μmol，则没有特别的问题，但当达到170℃以上的温度时，有可能发生副反应。作为分解处理温度，可以直接采用干燥时的温度，也可以在干燥后进行分解处理。关于处理时间，可以根据生产效率或作业性进行设定，但通常为0.2～20分钟左右，优选0.5～10分钟左右。

作为用于本发明的粘合剂组合物，如果是具有上述的粘合性的组合物，则没有特别限制，但优选将(甲基)丙烯酸系聚合物作为基础聚合物的粘合剂组合物。

作为被用作上述基础聚合物的单体成分的(甲基)丙烯酸烷基酯，可使用与碳原子数为12以下的醇的酯。特别优选具有碳原子数为4～12的烷基的(甲基)丙烯酸系单体。

作为上述(甲基)丙烯酸系单体，可以举例为(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯等。这些丙烯酸系单体化合物可以单独使用，也可以混合2种以上使用。

其中，本发明的(甲基)丙烯酸系聚合物是指丙烯酸系聚合物和/或甲基丙烯酸系聚合物，另外(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。

作为上述(甲基)丙烯酸系聚合物，特别优选在单体成分100重量份中(甲基)丙烯酸烷基酯占80重量份以上的(甲基)丙烯酸系聚合物。

上述(甲基)丙烯酸系聚合物中的(甲基)丙烯酸烷基酯的比率优选在单体成分100重量份中占80重量份以上(例如80～99.8重量份左右)，更优选为85重量份以上(例如85～99.5重量份左右)。当不到80重量份时，缺乏应力松弛性，所以不优选。

另外，在本发明中，可以使用含有羟基等官能团的含官能团单体。这样的官能团的种类可以适宜选择。

作为上述含官能团单体的具体例，可以举例为(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸、巴豆酸、马来酸酐、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧乙基苯二甲酸等含羧基单体或其酸酐，(甲基)丙烯酰胺、N，N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体，(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟丁酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯等含羟基单体，(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁胺基乙酯等含氨基单体，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等含缩水甘油基单体，(甲基)丙烯腈、N-(甲基)丙烯酰基吗啉，N-乙烯基-2-吡咯烷酮等。

可以单独使用上述含官能团单体，还可以组合使用。其总含量在(甲基)丙烯酸系聚合物的单体成分100重量份，优选为0.01～20重量份，更优选0.05～10重量份。当含官能团单体的含量少于0.01重量份时，无法充分形成交联结构，有时耐久性较差，所以不优选。另一方面，当含官能团单体的含量超过20重量％时，存在对液晶单元等的粘合力过分增大的趋势，所以不优选。

本发明中使用的(甲基)丙烯酸系聚合物的重均分子量为10万以上500万以下，优选为20万以上400万以下，更优选为30万以上300万以下。当重均分子量少于10万时，由于粘合剂组合物的内聚力的减小而存在产生胶残留的趋势。另一方面，当重均分子量超过500万时，聚合物的流动性降低，无法充分润湿偏振片，有可能成为剥离衬垫和光学构件等的粘合剂组合物层之间残留空气的诱因。本发明的重均分子量是指通过GPC(凝胶渗透色谱法)测得的数值。

另外，上述(甲基)丙烯酸系聚合物的玻璃化温度(Tg)为0℃以下(通常为-100℃以上)，优选为-10℃以下。当玻璃化温度高于0℃时，聚合物难以流动，无法充分润湿偏振片，有可能成为偏振片和表面保护薄膜的粘合剂组合物层之间残留空气的诱因。其中，(甲基)丙烯酸系聚合物的Tg可以通过适当改变所使用的单体成分或组成比调整到上述范围内。本发明中的玻璃化温度(Tg)是指通过使用了动态粘弹性装置的测定方法而测得的数值。

对用于本发明的(甲基)丙烯酸系聚合物的聚合方法没有特别限制，可以通过溶液聚合、乳液聚合、本体聚合、悬浮聚合等公知的方法适当聚合。另外，得到的聚合物可以是无规聚合物、嵌段聚合物等中的任一种。例如，在采用溶液聚合的情况下，相对于单体100重量份，配合偶氮二异丁腈等聚合引发剂0.01～0.2重量份，使用醋酸乙酯等聚合溶剂，在氮气气流下且在50～70℃下使其反应8～30小时，由此可以得到规定的(甲基)丙烯酸系聚合物。

另外，在本发明中作为(甲基)丙烯酸系聚合物等的聚合过程中的聚合引发剂，也可以使用过氧化物。在这种情况下，也有部分过氧化物在聚合反应时不发生反应而残留在之后的上述粘合剂组合物层中，此时可以使用该残留的过氧化物调整剥离衬垫的剥离力。另外，可以对此时未反应的过氧化物的残留量进行定量，并根据需要添加过氧化物而使之达到规定的量之后予以使用。

作为本发明中的硅烷偶合剂，可以没有限制地使用以往公知的物质。可以举例为3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等含环氧基硅烷偶合剂，3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-三乙氧基硅烷基-N-(1，3-二甲基亚丁基)丙胺等含胺基硅烷偶合剂，3-丙烯氧丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯氧丙基三乙氧基硅烷等含(甲基)丙烯基的硅烷偶合剂，3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等含异氰酸酯基的硅烷偶合剂等。

在本发明中，相对于丙烯酸系聚合物的固体成分100重量份，配合0.01～1重量份的上述硅烷偶合剂，优选0.02～0.6重量份。当配合量增多时，有时向液晶单元等的粘合力增加，会导致再剥离性的下降。另一方面，如果过少，则耐久性会下降。

通过适当交联(甲基)丙烯酸系聚合物，本发明的粘合剂组合物可以具备更出色的耐热性。作为用于本发明的交联剂，可以使用异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺系树脂、氮丙啶衍生物、以及金属螯合物等。其中，从主要获得适度的内聚力的观点出发，特别优选使用异氰酸酯化合物或环氧化合物。其中，特别是在制造聚合物时，优选通过使丙烯酸2-羟乙酯等含羟基单体进行共聚而向聚合物中导入羟基，并对于这种聚合物将聚异氰酸酯化合物用作交联剂。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用。

作为异氰酸酯化合物，可以举例为亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等低级脂肪族聚异氰酸酯类，亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯类，2，4-甲苯撑二异氰酸酯、4，4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯等芳香族二异氰酸酯类，三羟甲基丙烷/甲苯撑二异氰酸酯3聚体加成物(日本聚氨酯工业制，商品名Coronate L)、三羟甲基丙烷/六亚甲基二异氰酸酯3聚体加成物(日本聚氨酯工业制，商品名Coronate HL)、六亚甲基二异氰酸酯的三聚异氰酸酯体(日本聚氨酯工业制，商品名CoronateHX)等异氰酸酯加成物，多元醇的二异氰酸酯加成物等。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用。

作为环氧化合物，可以举例为N，N，N’，N’-四缩水甘油基-间苯二甲胺(商品名TETRAD-X，三菱瓦斯化学制)、1，3-双(N，N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷(商品名TETRAD-C，三菱瓦斯化学制)等。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用。

作为三聚氰胺系树脂，可以举例为六羟甲基三聚氰胺等。作为氮丙啶衍生物，可以举例为作为市售品的商品名为HDU(相互药工制)、商品名为TAZM(相互药工制)、商品名为TAZO(相互药工制)的产品等。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用。

金属螯合物中，作为金属成分可以举出铝、铁、锡、钛、镍等，作为螯合成分有乙炔、乙酰乙酸甲酯、乳酸乙酯等。这些化合物可以单独使用，也可以组合使用。

用于本发明的交联剂的含量相对于(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，通常为0.01～5重量份左右，但优选调整交联剂量以使利用交联剂的交联之后的凝胶比例为45～95重量％，更优选调整交联剂量使凝胶比例为50～85重量％。在凝胶比例低于45重量％的情况下，在加热试验中会出现产生发泡等不良情形，另外，粘合剂组合物的内聚力减小，有可能成为胶残留的原因。另一方面，在凝胶比例高于95重量％的情况下，粘合剂组合物的内聚力增大，胶粘性有变差的趋势。

本发明中的粘合剂组合物的凝胶比例是指作为交联度而表示粘合剂层中交联的部分的比例的值。

上述凝胶比例的测量方法如下所示。称取刚刚进行交联处理的粘合剂层约0.1g，对其进行称量求出粘合剂层的重量份W₁(g)。接着，用微孔性四氟乙烯膜包裹上述粘合剂层(包裹后的膜重量为W₂(g))，在约25℃下浸渍于约50ml的醋酸中2天，然后萃取除去可溶成分。接着，从醋酸乙酯中取出上述粘合剂层，测量在110℃下干燥1小时之后的W₃(g)。从这些测量值按照下述的式子求出粘合剂层的凝胶比例(重量％)。另外，在涂敷之后测量室温下保存1周后的凝胶比例。

凝胶比例(重量％)＝(W₃-W₂/W₁)×100。

本发明的粘合剂组合物将如上所述的(甲基)丙烯酸系聚合物作为基础聚合物。

在本发明中的粘合剂层中，作为任意成分，除了使用上述成分以外，还可以进一步适当使用酚醛树脂、萜烯-酚醛树脂、萜烯树脂、二甲苯树脂、松香、氢化松香等各种增粘剂，碳酸钙、碳黑等无机填充剂，润滑剂，防老化剂，着色剂，颜料等粉状物质，表面活性剂，增塑剂，消泡剂，光稳定剂，摇变剂，紫外线吸收剂，低分子量聚合物，表面润滑剂，流平剂，防氧化剂，聚合抑制剂，耐热稳定剂、耐水解稳定剂等稳定剂，金属粉末，颗粒状物，箔状物等。这些任意成分可以单独使用1种，还可以使用2种以上。

就用于本发明的粘合剂层的厚度而言，优选其干燥后的厚度为2μm～500μm，更优选5μm～100μm。当小于2μm时，相对光学构件的粘合力不够充分，当超过500μm时，粘合力达到饱和且不经济，或者会造成粘合剂的渗出，也会成为凝集破坏的原因，从而会变得难以剥离。

本发明的粘合剂层是在已进行剥离处理的硅酮剥离衬垫上形成含有这种粘合剂组合物的粘合剂层而成的。此时，粘合剂层的形成通常是在涂布粘合剂组合物溶液之后再挥发掉溶剂而进行的，也可以通过将把溶剂从粘合剂组合物溶液挥发掉之后得到的粘合剂层转印到剥离处理基材等上而形成。另外，可以通过采用逆涂或凹版印刷涂敷等辊涂，幕式帘涂，割裂涂敷，模具涂敷，辊刷，喷涂，气刀刮涂法等涂布粘合剂组合物而形成粘合剂层。另外，例如，可以在涂布后以粘合剂层的成分移动的调节或交联反应的调节等为目的进行养护。当在已进行剥离处理的硅酮剥离衬垫上涂布粘合剂组合物时，为了可以在剥离处理基材上进行均匀涂布，可以在该组合物中再添加聚合溶剂以外的一种以上的溶剂。作为已进行剥离处理的剥离衬垫，可以举例为对于PET薄膜进行了硅酮系剥离处理的硅酮剥离衬垫等。

本发明的粘合片类是，将形成有通常厚2～500μm，优选厚5～100μm左右的上述粘合剂层的硅酮剥离衬垫，形成在由聚酯薄膜等塑料薄膜、纸、无纺布等多孔质材料等构成的各种支撑体的单面或双面上，作成片状或带状等形态而作成的。

构成粘合片类的支撑体优选为具有耐热性和耐溶剂性的同时还具有可挠性的树脂薄膜。通过使支撑体具有可挠性，可以采过逆涂或凹版印刷涂敷等辊涂，幕式帘涂，割裂涂敷，模具涂敷，辊刷，喷涂，气刀刮涂法等涂布粘合剂组合物，并可以卷绕成辊状。

就形成作为支撑体的支撑薄膜的树脂而言，如果是可以形成为片状或薄膜状的材料，则没有特别限制，可以举例为聚乙烯、聚丙烯、聚-1-丁烯、聚-4-甲基-1-戊烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-1-丁烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物等聚烯烃薄膜，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯薄膜，聚丙烯酸酯薄膜，聚苯乙烯薄膜、尼龙6、尼龙6，6、部分芳香族聚酰胺等聚酰胺薄膜，聚氯乙烯薄膜，聚偏氯乙烯薄膜，聚碳酸酯薄膜、聚氟乙烯等含氟树脂，聚酰亚胺、尼龙、纤维素等。

还有，为了改善粘合剂层和支撑薄膜间的粘附性，可以对支撑薄膜的表面进行电晕处理等。另外，可以对支撑薄膜进行背面处理。

上述薄膜的厚度通常为5～200μm，优选10～100m左右。

本发明的光学构件用粘合剂层的制造方法包括：在已进行剥离处理的硅酮剥离衬垫上涂布上述粘合剂组合物后使其干燥，并对上述过氧化物进行加热分解处理的工序。该工序如上所述。

本发明的光学构件是在偏振片等光学构件的一面或两面上形成粘合剂层而成，其中，所述的粘合剂层是由上述制造方法而形成的。当表面上有粘合剂层露出时，用已进行剥离处理的薄片等进行适当保护直到供于实用。

作为光学构件，可以使用在液晶显示装置等图像显示装置的形成中使用的构件，对其种类没有特别限制。例如，作为光学构件，可以举出偏振片。作为偏振片通常使用在偏振镜的一面或两面上设有透明保护薄膜的偏振片。

对偏振镜没有特别限制，可以使用各种偏振镜。作为偏振镜，可以举例为在聚乙烯醇系薄膜、部分缩甲醛化的聚乙烯醇系薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等亲水性高分子薄膜上，吸附碘或二色性染料等二色性物质并单向拉伸的薄膜；聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。在这些偏振镜中，优选由聚乙烯醇系薄膜和碘等二色性物质构成的偏振镜。对这些偏振镜的厚度没有特别限制，一般为5～80μm。

将聚乙烯醇系薄膜用碘染色后经单向拉伸而成的偏振镜，例如，可以通过将聚乙烯醇浸渍于碘的水溶液中进行染色后拉伸至原长度的3至7倍来制作。也可以浸渍于根据需要可含硼酸或硫酸锌、氯化锌等的碘化钾等的水溶液中。此外，根据需要，也可以在染色前将聚乙烯醇系薄膜浸渍于水中水洗。通过水洗聚乙烯醇系薄膜，可以洗去聚乙烯醇系薄膜表面上的污物或防粘连剂，除此之外，还可使聚乙烯醇系薄膜溶胀，由此防止染色斑等不均匀现象。拉伸既可以在用碘染色之后进行，也可以一边染色一边进行拉伸，或者也可以在拉伸之后用碘进行染色。也可以在硼酸或碘化钾等的水溶液中或水浴中进行拉伸。

作为形成设置在上述偏振镜的一面或两面上的透明保护薄膜的材料，优选使用透明性、机械强度、热稳定性、水分遮蔽性、各向同性等优良的材料。可以举例为聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯系聚合物；二乙酸纤维素或三乙酸纤维素等纤维素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂)等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。此外，作为形成上述透明保护薄膜的聚合物的例子，还可以举例为聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯-丙烯共聚物之类的聚烯烃系聚合物；氯乙烯系聚合物；尼龙或芳香族聚酰胺等酰胺系聚合物；酰亚胺系聚合物；砜系聚合物；聚醚砜系聚合物；聚醚醚酮系聚合物；聚苯硫醚系聚合物；乙烯基醇系聚合物，偏氯乙烯系聚合物；聚乙烯醇缩丁醛系聚合物；芳酯系聚合物；聚甲醛系聚合物；环氧系聚合物；或者上述聚合物的混合物等。透明保护薄膜还可以形成为丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、硅酮系等热固化型、紫外线固化型的树脂的固化层。

另外，可以举出特开2001-343529号公报(WO01/37007)中所述的聚合物薄膜，如含有(A)侧链上具有取代和/或未取代亚胺基的热塑性树脂、和(B)侧链上具有取代和/或未取代苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物。作为具体的例子，可以举出含有由异丁烯与N-甲基马来酰亚胺构成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物的薄膜。作为薄膜可以使用由树脂组合物的混合挤压品等构成的薄膜。

可以适当确定保护薄膜的厚度，但一般从强度或操作性等作业性、薄层性等观点来看，其厚度为1～500μm左右。特别优选1～300μm，更优选5～200μm。

另外，保护薄膜最好尽量不着色。因此，优选使用的保护薄膜是用Rth＝[(nx+ny)/2-nz]·d(其中，nx、ny是薄膜平面内的主折射率，nz是薄膜厚度方向的折射率，d是薄膜厚度)表示的薄膜厚度方向的相位差值为-90nm～+75nm的保护薄膜。通过使用这样的厚度方向的相位差值(Rth)为-90nm～+75nm的薄膜，可以几乎完全消除由保护薄膜引起的偏振片的着色(光学着色)。厚度方向相位差值(Rth)进一步优选为-80nm～+60nm，特别优选-70nm～+45nm。

从偏振特性和耐久性等观点来看，作为保护薄膜优选三乙酸纤维素等纤维素系聚合物。特别优选三乙酸纤维素薄膜。其中，当在偏振镜的两侧设置保护薄膜时，其内外侧可以使用由相同聚合物材料构成的保护薄膜，也可以使用由不同聚合物材料等构成的保护薄膜。上述偏振镜和保护薄膜通常借助水系胶粘剂等粘附在一起。作为水系胶粘剂，可以例示异氰酸酯系胶粘剂、聚乙烯醇系胶粘剂、明胶系胶粘剂、乙烯基系乳胶类、水系聚氨酯、水系聚酯等。

在上述透明保护薄膜的没有粘接偏振镜的面上，可以实施硬涂层或防反射处理、防粘连、以扩散或防眩为目的的处理。

实施硬涂层处理的目的是防止偏振片的表面损坏等，例如可以通过在透明保护薄膜的表面上附加由丙烯酸系、硅酮系等适当的紫外线固化性树脂构成的硬度、滑动特性等良好的固化被膜的方式等形成。实施防反射处理的目的是防止在偏振片表面的外光的反射，可以通过形成以往的防反射薄膜等来完成。此外，实施防粘连处理的目的是防止与相邻层的粘附。

另外，实施防眩处理的目的是防止外光在偏振片表面反射而干扰偏振片透过光的辨识等，例如，可以通过采用喷砂方式或压纹加工方式的粗面化方式以及配合透明微粒的方式等适当的方式，向透明保护薄膜表面赋予微细凹凸结构来形成。作为在上述表面微细凹凸结构的形成中含有的微粒，例如，可以使用平均粒径为0.5～50μm的由二氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等构成的可具有导电性的无机系微粒、由交联或者未交联的聚合物等组成的有机系微粒等透明微粒。当形成表面微细凹凸结构时，微粒的使用量相对于100重量份的形成表面微细凹凸结构的透明树脂，通常为大约2～50重量份，优选5～25重量份。防眩层也可以兼用作将偏振片透射光扩散而扩大视角等的扩散层(视角扩大功能等)。

还有，上述防反射层、防粘连层、扩散层和防眩层等除了可以设置为透明保护薄膜自身以外，还可以作为其他的光学层而与透明保护薄膜分开设置。

另外，作为本发明的光学构件，可以举例为反射板或半透过板、相位差板(包括1/2或1/4波长板)、视角补偿薄膜、亮度改善薄膜等可成为用于形成液晶显示装置等的光学层的材料。它们可以单独用作本发明的光学构件，除此之外，可以在实际应用时层叠在上述偏振片上，并使用1层或2层以上。

特别优选在偏振片上进一步层叠反射板或半透过反射板而成的反射型偏振片或半透过型偏振片、在偏振片上进一步层叠相位差板而成的椭圆偏振片或圆偏振片、在偏振片上进一步层叠视角补偿薄膜而成的宽视角偏振片、或者在偏振片上进一步层叠亮度改善薄膜而成的偏振片。

反射型偏振片是在偏振片上设置反射层的偏振片，用于形成使来自辨识侧(显示侧)的入射光反射并显示的类型的液晶显示装置等，具有可以省略背光灯等光源的内置而容易使液晶显示装置薄型化等优点。反射型偏振片的形成，根据需要可以通过借助透明保护层等在偏振片的一面上设置由金属等构成的反射层的方式等适宜方式进行。

作为反射型偏振片的具体例子，可以举例为根据需要通过在经消光处理的透明保护薄膜的一面上，附设由铝等反射性金属组成的箔或蒸镀膜而形成了反射层的偏振片等。另外，还可以举例为通过使上述透明保护薄膜含有微粒而形成表面微细凹凸结构，并在其上具有微细凹凸结构的反射层的反射型偏振片等。上述的微细凹凸结构的反射层通过漫反射使入射光扩散，由此防止定向性和外观发亮，具有可以抑制明暗不均的优点等。另外，含有微粒的透明保护薄膜还具有当入射光及其反射光透过它时可以通过扩散进一步抑制明暗不均的优点等。反映透明保护薄膜的表面微细凹凸结构的微细凹凸结构的反射层的形成，例如可以通过用真空蒸镀方式、离子镀方式及溅射方式等蒸镀方式或镀覆方式等适当的方式在透明保护层的表面上直接附设金属的方法等进行。

作为代替将反射板直接附设在上述偏振片的透明保护薄膜上的方法，还可以在以该透明薄膜为基准的适当的薄膜上设置反射层形成反射片等使用。还有，由于反射层通常由金属组成，所以从防止由于氧化而造成的反射率的下降，进而长期保持初始反射率的观点和避免另设保护层的观点等来看，优选用透明保护薄膜或偏振片等覆盖其反射面的使用形式。

还有，在上述中，半透过型偏振片可以通过作成用反射层来反射光的同时使光透过的半透半反镜等半透过型的反射层而获得。半透过型偏振片通常被设于液晶单元的背面侧，可以形成如下类型的液晶显示装置等，即，在比较明亮的环境中使用液晶显示装置等的情况下，反射来自于辨识侧(显示侧)的入射光而显示图像，在比较暗的环境中，使用内置于半透过型偏振片的背面的背光灯等内置光源来显示图像。也就是说，半透过型偏振片在如下类型的液晶显示装置等的形成中十分有用，即，在明亮的环境下可以节约使用背光灯等光源的能量，在比较暗的环境下也可以利用内置光源使用的类型的液晶显示装置等的形成中非常有用

下面对偏振片上进一步层叠相位差板而构成的椭圆偏振片或圆偏振片进行说明。在将直线偏振光改变为椭圆偏振光或圆偏振光、将椭圆偏振光或圆偏振光改变为直线偏振光、或者改变直线偏振光的偏振方向的情况下，可以使用相位差板等。特别是，作为将直线偏振光改变为圆偏振光、将圆偏振光改变为直线偏振光的相位差板，可使用所谓的1/4波长板(也称为λ/4板)。1/2波长板(也称为λ/2板)通常用于改变直线偏振光的偏振方向的情形。

椭圆偏振片可以有效地用于以下情形等，即补偿(防止)超扭曲向列相(STN)型液晶显示装置因液晶层的双折射而产生的着色(蓝或黄)，从而进行上述没有着色的白黑显示的情形。另外，控制三维折射率的偏振片还可以补偿(防止)从斜向观察液晶显示装置的画面时产生的着色，因而优选。圆偏振光片可以有效地用于例如对以彩色显示图像的反射型液晶显示装置的图像的色调进行调整的情形等，而且还具有防止反射的功能。

作为相位差板，可以举出对高分子材料实施单向或双向拉伸处理而成的双折射性薄膜、液晶聚合物的取向薄膜、将液晶聚合物的取向层支撑于薄膜上的相位差板等。对相位差板的厚度没有特别限制，一般为20～150μm左右。

作为高分子材料，例如可以举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羟乙基酯、羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、甲基纤维素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚烯丙基砜、聚乙烯醇、聚酰胺、聚酰亚胺、聚烯烃、聚氯乙烯、纤维素类聚合物、降冰片烯类树脂、或它们的二元类、三元类各种共聚物、接枝共聚物、混合物等。这些高分子材料可通过拉伸等而成为取向物(拉伸薄膜)。

作为液晶性聚合物，例如可以举出在聚合物的主链或侧链上导入了赋予液晶取向性的共轭性的直线状原子团(mesogene)的主链型或侧链型的各种聚合物等。作为主链型液晶性聚合物的具体例子，可以举出具有在赋予弯曲性的间隔部上结合了上述mesogene基的构造的聚合物，例如向列取向性的聚酯系液晶性聚合物、圆盘状聚合物或胆甾醇型聚合物等。作为侧链型液晶性聚合物的具体例子，可以举出如下的聚合物等，即，将聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作为主链骨架，作为侧链借助由共轭性的原子团构成的间隔部具有由赋予向列取向性的对位取代环状化合物单元构成的mesogene部的聚合物。这些液晶聚合物通过以下方法进行处理，即，例如在对形成在玻璃板上的聚酰亚胺或聚乙烯醇等薄膜的表面进行摩擦处理后的材料、在斜向蒸镀了氧化硅的材料等的取向处理面上，铺展液晶性聚合物的溶液后进行热处理。

相位差板可以是例如各种波长板或用于补偿由液晶层的双折射造成的着色或视角等的材料等具有对应于使用目的的适宜的相位差的材料，也可以是层叠2种以上的相位差板而控制了相位差等光学特性的材料等。

另外，上述椭圆偏振片或反射型椭圆偏振片是通过适当地组合并层叠偏振片或反射型偏振片和相位差板而成的。这类椭圆偏振片等也可以通过在液晶显示装置的制造过程中依次分别层叠(反射型)偏振片及相位差板来形成，以构成(反射型)偏振片及相位差板的组合，而如上所述，预先形成为椭圆偏振片等光学构件的情况下，由于在质量的稳定性和层叠操作性等方面出色，因此具有可以提高液晶显示装置等的制造效率的优点。

视角补偿薄膜是在从不垂直于画面的稍微倾斜的方向观察液晶显示装置的画面的情况下也可使图像看起来比较清晰的、用于扩大视角的薄膜。作为这种视角补偿相位差板，例如可以由相位差板、液晶聚合物等的取向薄膜或在透明基材上支撑液晶聚合物等的取向层的材料等构成。通常作为相位差板使用的是沿其面方向被实施了单向拉伸的、具有双折射的聚合物薄膜，与此相对，作为被用作视角补偿薄膜的相位差板，可以使用沿其面方向被实施了双向拉伸的具有双折射的聚合物薄膜、沿其面方向被单向拉伸并且沿其厚度方向也被拉伸了的可控制厚度方向的折射率的具有双折射的聚合物或像倾斜取向膜等双向拉伸薄膜等。作为倾斜取向薄膜，例如可以举出在聚合物薄膜上粘接热收缩膜后在因加热形成的收缩力的作用下对聚合物薄膜进行了拉伸处理或/和收缩处理的材料、使液晶聚合物倾斜取向而成的材料等。作为相位差板的原材料聚合物，可以使用与上述的相位差板中说明的聚合物相同的聚合物，可以使用以防止基于由液晶单元造成的相位差而形成的辨识角的变化所带来的着色等或扩大辨识度良好的视角等为目的的适宜的聚合物。

另外，从达到辨识性良好的宽视角的观点等来看，可以优选使用用三乙酸纤维素薄膜支撑由液晶聚合物的取向层、特别是圆盘状液晶聚合物的倾斜取向层构成的光学各向异性层的光学补偿相位差板。

将偏振片和亮度改善薄膜贴合在一起而成的偏振片通常被设于液晶单元的背面侧而使用。亮度改善薄膜是显示如下特性的薄膜，即，当由液晶显示装置等的背光灯或来自背面侧的反射等，有自然光入射时，反射规定偏振轴的直线偏振光或规定方向的圆偏振光，而使其他光透过，因此将亮度改善薄膜与偏振片层叠而成的偏振片可使来自背光灯等光源的光入射，而获得规定偏振状态的透过光，同时，所述规定偏振状态以外的光不能透过，被予以反射。借助设于其后侧的反射层等再次反转在该亮度改善薄膜面上反射的光，使之再次入射到亮度改善薄膜上，使其一部分或全部作为规定偏振状态的光而透过，从而增加透过亮度改善薄膜的光，同时向偏振镜提供难以吸收的偏振光，从而增加可以在液晶显示图像的显示等中利用的光量，并由此可以提高亮度。即，在不使用亮度改善薄膜而用背光灯等从液晶单元的背面侧穿过偏振镜而使光入射的情况下，具有与偏振镜的偏振轴不一致的偏振方向的光基本上被偏振镜所吸收，因而无法透过偏振镜。即，虽然会因所使用的偏振镜的特性而有所不同，但是大约50％的光会被偏振镜吸收掉，因此在液晶显示装置等中可以利用的光量将相应地减少，导致图像变暗。由于亮度改善薄膜反复进行如下操作，即，使具有可以被偏振镜吸收的偏振方向的光不入射到偏振镜上，而是使该类光在亮度改善薄膜上发生反射，进而借助设于其后侧的反射层等完成反转，使光再次入射到亮度改善薄膜上，这样，亮度改善薄膜只使在这两者间反射并反转的光中的、其偏振方向变为可以通过偏振镜的偏振方向的偏振光透过，同时将其提供给偏振镜，因此可以在液晶显示装置的图像的显示中有效地使用背光灯等的光，从而可以使画面明亮。

在亮度改善薄膜和上述反射层等之间也可以设置扩散板。由亮度改善薄膜反射的偏振状态的光射向所述反射层等，所设置的扩散板可将通过的光均匀地扩散，同时消除偏振状态而成为非偏振状态。即，扩散板使偏振光恢复到原来的自然光状态。将该非偏振状态即自然光状态的光射向反射层等，借助反射层等反射后，再次通过扩散板而又入射到亮度改善薄膜上，如此反复进行。由此通过在亮度改善薄膜和上述反射层等之间设置使偏振光恢复到原来的自然光状态的扩散板，可以在维持显示画面的亮度的同时，减少显示画面的亮度的不均，从而可以提供均匀并且明亮的画面。通过设置该扩散板，可适当增加初次入射光的重复反射次数，并利用扩散板的扩散功能，可以提供均匀的明亮的显示画面。

作为上述亮度改善薄膜，例如可以使用：电介质的多层薄膜或折射率各向异性不同的薄膜的多层层叠体之类的显示出使规定偏振轴的直线偏振光透过而反射其他光的特性的薄膜、胆甾醇型液晶聚合物的取向膜或在薄膜基材上支撑了该取向液晶层的薄膜之类的显示出将左旋或右旋中的任一种圆偏振光反射而使其他光透过的特性的薄膜等适宜的薄膜。

因此，通过利用使上述的规定偏振轴的直线偏振光透过的类型的亮度改善薄膜，使该透过光直接沿着与偏振轴一致的方向入射到偏振片上，可以在抑制由偏振片造成的吸收损失的同时，使光有效地透过。另一方面，利用胆甾醇型液晶层之类的使圆偏振光透过的类型的亮度改善薄膜，虽然也可以直接使光入射到偏振镜上，但是，从抑制吸收损失这一点考虑，最好借助相位差板对该圆偏振光进行直线偏振光化，之后再入射到偏振片上。而且，通过使用1/4波长板作为该相位差板，可以将圆偏振光变换为直线偏振光。

在可见光区域等较宽波长范围中能起到1/4波长板作用的相位差板，例如可以利用以下方式获得，即，将相对于550nm波长的浅色光能起到1/4波长板作用的相位差层和显示其他的相位差特性的相位差层例如能起到1/2波长板作用的相位差层进行重叠的方式等。所以，配置于偏振片和亮度改善薄膜之间的相位差板可以由1层或2层以上的相位差层构成。

还有，就胆甾醇型液晶层而言，也可以组合不同反射波长的材料，构成重叠2层或3层以上的配置构造，由此获得在可见光区域等较宽的波长范围内反射圆偏振光的构件，从而可以基于此而获得较宽波长范围的透过圆偏振光。

另外，偏振片如同上述的偏振分离型偏振片，可以由层叠了偏振片和2层或3层以上的光学层的构件构成。因此，也可以是组合上述反射型偏振片或半透过型偏振片和相位差板而成的反射型椭圆偏振片或半透过型椭圆偏振片等。

在偏振片上层叠了上述光学层的光学构件，可以利用在液晶显示装置等的制造过程中依次独立层叠的方式来形成，但是预先经层叠而成为光学构件的构件在质量的稳定性或组装操作等方面优良，因此具有可改善液晶显示装置等的制造工序的优点。在层叠中可以使用粘合层等适宜的粘接手段。在粘接上述偏振片和其他光学层时，它们的光学轴可以根据目标相位差特性等而采用适宜的配置角度。

还有，在本发明的粘合型光学构件的光学构件或粘合剂层等各层上，可以利用例如用水杨酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并三唑系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物系化合物等紫外线吸收剂进行处理的方式等，使之具有紫外线吸收能力等。

本发明的粘合型光学构件优选用于液晶显示装置等各种图像显示装置的形成等。液晶显示装置可以根据以往的方法形成。即，一般来说，液晶显示装置可以通过适宜地组合液晶单元和粘合型光学构件、以及根据需要而加入的照明系统等构成构件并装入驱动电路等而形成，在本发明中，除了使用本发明的光学构件这一点之外，没有特别限定，可以依据以往的方法形成。对于液晶单元而言，也可以使用例如TN型或STN型、π型等任意类型的液晶单元。

可以形成在液晶单元的一侧或两侧配置了粘合型光学构件的液晶显示装置、在照明系统中使用了背光灯或反射板的装置等适宜的液晶显示装置。此时，本发明的光学构件可以设置在液晶单元的一侧或两侧上。当将光学构件设置在两侧时，它们既可以是相同的材料，也可以是不同的材料。另外，在形成液晶显示装置时，可以在适宜的位置上配置1层或2层以上的例如扩散板、防眩层、防反射膜、保护板、棱镜阵列、透镜阵列薄片、光扩散板、背光灯等适宜的构件。

接着，对有机电致发光装置(有机EL显示装置)进行说明。一般来说，有机EL装置中在透明基板上依次层叠透明电极、有机发光层和金属电极而形成发光体(有机电致发光体)。这里，有机发光层是各种有机薄膜的层叠体，已知有：例如由三苯基胺衍生物等构成的空穴注入层和由蒽等荧光性的有机固体构成的发光层的层叠体、或此种发光层和由二萘嵌苯衍生物等构成的电子注入层的层叠体、或者这些空穴注入层、发光层及电子注入层的层叠体等各种组合。

有机EL显示装置根据如下的原理进行发光，即，通过在透明电极和金属电极上加上电压，向有机发光层中注入空穴和电子，由这些空穴和电子的复合而产生的能量激发荧光物质，被激发的荧光物质回到基态时，就会放射出光。其中的复合机理与一般的二极管相同，由此也可以推测出，电流和发光强度相对于外加电压显示出伴随整流性的较强的非线性。

在有机EL显示装置中，为了取出有机发光层中产生的光，至少一方的电极必须是透明的，通常将由氧化铟锡(ITO)等透明导电体制成的透明电极作为阳极使用。另一方面，若要使电子的注入容易从而提高发光效率，在阴极上使用功函数较小的物质是十分重要的，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金属电极。

在具有这种构成的有机EL显示装置中，有机发光层由厚度为10nm左右的极薄的膜构成。因此，有机发光层也与透明电极一样，使光基本上完全地透过。其结果，在不发光时从透明基板的表面入射并透过透明电极和有机发光层而在金属电极反射的光会再次向透明基板的表面侧射出，因此，当从外部进行辨识时，有机EL装置的显示面如同镜面。

在包含如下所述的有机电致发光体的有机EL显示装置中，可以在透明电极的表面侧设置偏振片，同时在这些透明电极和偏振片之间设置相位差板，上述有机电致发光体中，在通过施加电压而进行发光的有机发光层的表面侧设有透明电极，同时在有机发光层的背面侧设有金属电极。

由于相位差板以及偏振片具有使从外部入射并在金属电极反射的光成为偏振光的作用，因此由该偏振光作用，具有使得从外部无法辨识出金属电极的镜面的效果。特别是，采用1/4波长板构成相位差板并且将偏振片和相位差板的偏振方向的夹角调整为π/4时，可以完全遮蔽金属电极的镜面。

即，入射到该有机EL显示装置的外部光因偏振片的存在而只有直线偏振光成分透过。该直线偏振光一般会被相位差板转换成椭圆偏振光，特别是当相位差板为1/4波长板并且偏振片和相位差板的偏振方向的夹角为π/4时，就会成为圆偏振光。

该圆偏振光透过透明基板、透明电极、有机薄膜，在金属电极上反射，之后再次透过有机薄膜、透明电极、透明基板，由相位差板再次转换成直线偏振光。由于该直线偏振光与偏振片的偏振方向正交，因此无法透过偏振片。其结果可以完全遮蔽金属电极的镜面。

[实施例]

实施例

下面，通过实施例具体说明本发明，但本发明并不限于这些实施例。另外，实施例等中的评价项目是按照如下所示的方法测定的。其中，各例中的％都是以重量为基准。

<丙烯酸系聚合物的重均分子量的测定>

所制作的聚合物的重均分子量是使用GPC(凝胶渗透色谱法)测定的。

分析装置：东ソ一制、HLC-8120GPC

柱：

样品柱：

东ソ一制、G7000H_XL+GMH_XL+GMH_XL

流量：0.8ml/min

注入量：100μl

柱温度：40℃

洗提液：THF

注入试样浓度：约0.1重量％

检测器：差示折射计(RI)

还有，重均分子量是通过聚苯乙烯换算而求出的。

<过氧化物的分解量的测定>

热分解处理后的过氧化物的分解量(分解率)可以通过HPLC(高速液体色谱法)进行如下所示的测定。

分别取出分解处理前后的粘合剂组合物约0.2g，浸渍于醋酸乙酯10ml中，用振荡机在25℃、120rpm下振荡萃取3小时后，室温下静置3天。接着，添加乙腈10ml，在25℃、120rpm下振荡30分钟，将通过膜滤器(0.45μm)过滤得到的萃取液约10μl注入到HPLC中进行分析，将分解处理前后的过氧化物量的减少量作为过氧化物的分解量。

装置：东ソ一制、HPL CCPM/UV8000

柱：

样品柱：

MACHEREY-NAGEL制，NUCLEOSIL 7C18(4.6mmΦ×250mm)

流量：1.0ml/min

柱压力：41kg/cm²

柱温度：40℃

洗提液：水/乙腈＝30/70

注入量：10μl

注入试样浓度：0.01重量％

检测器：UV检测器(230nm)

<剥离衬垫的剥离力测定>

用万能抗伸试验机以300mm/分钟的剥离速度(剥离角度180°)，测量对所制作的被切成宽50mm、长100mm尺寸的带剥离衬垫的光学构件进行剥离时的剥离衬垫的剥离力。测量是在23℃×50％RH的环境下进行的。当剥离力不到0.1N/50mm时，因为剥离力过小，所以在冲裁等制造工序重容易产生剥离衬垫脱皮等问题。另一方面，当大于0.4N/50mm时，因为剥离力过大，所以在实际使用时容易出现剥离衬垫的剥离变得困难的问题。

<耐久性的评价>

将制作的光学构件(12英寸的尺寸)贴附在无碱玻璃板上(コ一ニング公司制，商品名为コ一ニング1737，250×350mm，厚度：0.7mm)，在50℃、0.5MPa的压力下进行高压锅处理30分钟。随后，在60℃×90％RH的环境下保存500小时，然后回到室温，得到评价用样品。确认经过该处理后的与玻璃板的附着状态。评价基准如下所示。

光学构件没有出现脱皮或剥离：○

光学构件出现脱皮或剥离：×。

(实施例1)

将丙烯酸丁酯95重量份、丙烯酸3.0重量份、丙烯酸2-羟乙基酯0.10重量份、2，2-偶氮二异丁腈0.050重量份和醋酸乙酯200重量份，放入到设置有氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，在充分进行氮气置换之后，在氮气气流下边进行搅拌边在55℃下进行聚合反应20小时，得到重均分子量为157万的高分子量的丙烯酸系聚合物A的溶液。

相对于上述丙烯酸系聚合物A的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期：130.0℃)0.15重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.080重量份、作为交联剂的由三羟甲基丙烷的甲苯撑二异氰酸酯加成物构成的异氰酸酯系交联剂(Coronate L，日本聚氨酯工业制)0.60重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理，并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为69％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为7.56μmol。

(实施例2)

在实施例1中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.30重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例1相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为82％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为11.74μmol。

(实施例3)

在实施例1中，除了使用聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRN38(缩合反应型硅酮))代替聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))之外，与实施例1相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为70％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为7.50μmol。

(实施例4)

将丙烯酸异辛酯100重量份、丙烯酸2-羟丁基酯1.0重量份、2，2-偶氮二异丁腈0.10重量份和醋酸乙酯200重量份，放入到设置有氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，在充分进行氮气置换之后，在氮气气流下边进行搅拌边在55℃下进行聚合反应20小时，得到重均分子量为175万的高分子量的丙烯酸系聚合物B的溶液。

相对于上述丙烯酸系聚合物B的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期：130.0℃)0.15重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.10重量份、作为交联剂的由三羟甲基丙烷的甲苯撑二异氰酸酯加成物构成的异氰酸酯系交联剂(Coronate L，日本聚氨酯工业制)0.10重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理，并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为79％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为8.0μmol。

(实施例5)

在实施例4中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.30重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例4相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为83％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为12.0μmol。

(实施例6)

将丙烯酸2-乙基己酯70重量份、丙烯酸丁酯29重量份、丙烯酸1.0重量份、2，2-偶氮二异丁腈0.050重量份和醋酸乙酯200重量份，放入到设置有氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，在充分进行氮气置换之后，在氮气气流下边进行搅拌边在55℃下进行聚合反应20小时，得到重均分子量为146万的高分子量的丙烯酸系聚合物C的溶液。

相对于上述丙烯酸系聚合物C的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期：130.0℃)0.15重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.10重量份、作为交联剂的由三羟甲基丙烷的甲苯撑二异氰酸酯加成物构成的异氰酸酯系交联剂(Coronate L，日本聚氨酯工业制)0.60重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理，并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为61％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为9.0μmol。

(实施例7)

在实施例6中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.30重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例6相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为74％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为13.0μmol。

(实施例8)

将丙烯酸2-乙基己酯70重量份、丙烯酸丁酯30重量份、丙烯酸1.0重量份、和3-丙烯酰氧基丙基三乙氧烷硅烷0.070重量份，加入到已添加了反应性乳化剂アクアロンHS-10(第一工业制药制)2.0重量份的水25重量份中，用均质混合器进行乳化，得到乳化物。接着，放入到设置有氮气导入管、冷凝器的四口烧瓶中，在进行1小时氮气置换之后，加水30重量份，和引发剂VA-057(和光纯药制)0.10重量份，接着，将体系保持在59℃下，同时用4.5小时滴入上述的乳化物，进行聚合反应。反应结束后，添加氨，将pH调节至8，得到乳胶型的丙烯酸系聚合物D的溶液。

相对于上述丙烯酸系聚合物D的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合二苯甲酰过氧化物(1分钟半衰期：130.0℃)0.15重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.10重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理。并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为72％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为12.4μmol。

(实施例9)

相对于上述丙烯酸系聚合物A的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合二(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯(1分钟半衰期温度为92.1℃)0.15重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.080重量份、作为交联剂的由三羟甲基丙烷的甲苯撑二异氰酸酯加成物构成的异氰酸酯系交联剂(Coronate L，日本聚氨酯工业制)0.60重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理，并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为81％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为8.0μmol。

(实施例10)

相对于上述丙烯酸系聚合物A的溶液(固体成分)100重量份，均匀混合1，1-二(叔己基过氧化)环己烷(1分钟半衰期温度为149.2℃)0.30重量份、作为硅烷偶合剂的3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷0.075重量份、作为交联剂的由三羟甲基丙烷的甲苯撑二异氰酸酯加成物构成的异氰酸酯系交联剂(Coronate L，日本聚氨酯工业制)0.60重量份，调制粘合剂组合物。

在已进行硅酮剥离处理的厚38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(三菱聚酯公司制，MRF38(加成反应型硅酮))上，涂布上述粘合剂组合物并使粘合剂层的干燥厚度为25μm，在150℃下进行2分钟的干燥以及过氧化物分解处理，并转印到偏振薄膜上，制成本发明的带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为72％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为5.0μmol。

(比较例1)

在实施例1中，除了没有添加二苯甲酰过氧化物之外，与实施例1相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为62％。

(比较例2)

在实施例1中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.60重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例1相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为88％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为22.2μmol。

(比较例3)

在实施例3中，除了没有添加二苯甲酰过氧化物之外，与实施例3相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为59％。

(比较例4)

在实施例4中，除了没有添加二苯甲酰过氧化物之外，与实施例4相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为75％。

(比较例5)

在实施例4中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.60重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例4相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为79％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为24.0μmol。

(比较例6)

在实施例5中，除了没有添加二苯甲酰过氧化物之外，与实施例5相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为60％。

(比较例7)

在实施例5中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.60重量份代替二苯甲酰过氧化物0.30重量份之外，与实施例5相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为78％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为21.0μmol。

(比较例8)

在实施例8中，除了没有添加二苯甲酰过氧化物之外，与实施例8相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为63％。

(比较例9)

在实施例8中，除了使用二苯甲酰过氧化物0.60重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例8相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为78％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为23.1μmol。

(比较例10)

在实施例2中，除了没有添加硅烷偶合剂之外，与实施例2相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为82％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为11.74μmol。

(比较例11)

在实施例8中，除了没有添加硅烷偶合剂之外，与实施例8相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为78％，过氧化物的分解量相对于粘合剂组合物1g为12.4μmol。

(比较例12)

在实施例1中，除了使用2，2’-偶氮二异丁腈(和光纯药制，偶氮系引发剂)0.30重量份代替二苯甲酰过氧化物0.15重量份之外，与实施例8相同地制作带粘合剂的光学构件。其中，粘合剂层的凝胶比例为72％。

根据上述方法，对所制作的带粘合剂的光学构件进行上述评价。得到的结果如表1所示。

表1

	丙烯酸系聚合物种类	硅酮剥离处理剂种类	过氧化物(S除外)			剥离衬垫剥离力[N/50mm]	硅烷偶合剂	耐久性
									化合物种类	化合物配合量[重量％]	过氧化物分解量[μmol/g]
			实施例1	A	加成型							P	0.15	7.6	0.25	有	○
实施例2	A	加成型				P	0.30	11.7	0.32	有	○
			实施例3	A	缩合型							P	0.15	7.5	0.21	有	○
实施例4	B	加成型				P	0.15	8.0	0.18	有	○
			实施例5	B	加成型							P	0.30	12.0	0.34	有	○
实施例6	C	加成型				P	0.15	9.0	0.18	有	○
			实施例7	C	加成型							P	0.30	13.0	0.28	有	○
实施例8	D	加成型				P	0.15	12.4	0.18	有	○
			实施例9	A	加成型							Q	0.15	8.0	0.19	有	○
实施例10	A	加成型				R	0.30	5.0	0.15	有	○
			比较例1	A	加成型							-	-	-	0.05	有	○
比较例2	A	加成型				P	0.60	22.2	0.66	有	○
			比较例3	A	缩合型							-	-	-	0.05	有	○
比较例4	B	加成型				-	-	-	0.06	有	○
			比较例5	B	加成型							P	0.60	24.0	0.66	有	○
比较例6	C	加成型				-	-	-	0.07	有	○
			比较例7	C	加成型							P	0.60	21.0	0.61	有	○
比较例8	D	加成型				-	-	-	0.06	有	○
			比较例9	D	加成型							P	0.60	23.1	0.63	有	○
比较例10	A	加成型				P	0.30	11.7	0.32	-	×
			比较例11	D	加成型							P	0.30	12.4	0.18	-	×
比较例12	A	加成型				S(偶氮系)	0.30	0.0	0.05	有	○

其中，表1所示的化合物种类(过氧化物和偶氮系化合物)如下所示。

a)过氧化物P：

二苯甲酰过氧化物

b)过氧化物Q：

二(4-叔丁基环己基)过氧化二碳酸酯

c)过氧化物R：

1，1-二(叔己基过氧化)环己烷

d)偶氮系化合物S

2，2’-偶氮二异丁腈

根据上述表1的结果可知，按照本发明的制造方法，在硅酮处理衬垫上形成粘合剂层的工序中包括在剥离衬垫上使过氧化物分解的工序的情况下(实施例1～10)，在所有实施例中，均可以获得耐久性出色且将硅酮剥离衬垫的剥离力容易地调节至适度的剥离力的光学构件用粘合剂层以及使用该粘合剂层的带粘合剂的光学构件(参照图1)。

与此相反，不包括在剥离衬垫上使过氧化物分解的工序的情况下(比较例1、3～4、6、8、12)，尽管耐久性出色，但剥离衬垫的剥离力都小于0.1N/50mm，胶粘力不够充分。另外，在过氧化物分解量多于20μmol的情况下(比较例2、5、7、9)，尽管耐久性出色，但剥离衬垫的剥离力都大于0.4N/50mm，剥离力过大。另一方面，在不含硅烷偶合剂的情况下(比较例10～11)，尽管具有适度的剥离力，但它们的耐久性均较差。

由此可知，通过本发明的粘合剂层的制造方法，可以获得耐久性出色且具有适度的剥离力的光学构件用粘合剂层以及使用该粘合剂层的带粘合剂的光学构件。

Claims (10)

1、一种硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，其特征在于，包括：

在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序、和

经加热使所述过氧化物的一部分或者全部分解的工序。

2、如权利要求1所述的硅酮剥离衬垫的剥离力调整方法，其特征在于，

相对所述粘合剂组合物1g，经加热使所述过氧化物分解1～20μmol。

3、一种带硅酮剥离衬垫的粘合剂层的制造方法，包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的工序，其特征在于，

包括对硅酮剥离衬垫的剥离力进行调整的工序。

4、如权利要求3所述的粘合剂层的制造方法，其特征在于，

在所述粘合剂组合物中，作为基础聚合物含有在100重量份单体成分中(甲基)丙烯酸烷基酯占80重量份以上的(甲基)丙烯酸系聚合物。

5、如权利要求3所述的粘合剂层的制造方法，其特征在于，

在粘合剂组合物100重量份中，含有0.01～1重量份的硅烷偶合剂。

6、一种带硅酮剥离衬垫的粘合片类的制造方法，包括在硅酮剥离衬垫的剥离处理面上设置含有基础聚合物和过氧化物的粘合剂组合物层的工序，其特征在于，

通过经加热使所述过氧化物的一部分或全部分解的工序，将硅酮剥离衬垫的剥离力调整在0.1～0.4N/50mm的范围内。

7、一种光学构件用粘合剂层，其特征在于，

是通过权利要求3～5中任意一项所述的方法制造的。

8、一种光学构件用粘合片类，其特征在于，

具有通过权利要求3～5中任意一项所述的方法所制造的光学构件用粘合剂层。

9、一种带粘合剂的光学构件，其特征在于，在光学构件的一面或两面上形成通过权利要求3～5中任意一项所述的方法所制造的光学构件用粘合剂层而成。

10、一种图像显示装置，其特征在于，使用至少一片带粘合剂的光学构件，其中，所述带粘合剂的光学构件是在光学构件的一面或两面上形成通过权利要求3～5中任意一项所述的方法所制造的光学构件用粘合剂层而成的。

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