KR20060049521A

KR20060049521A - 박리력 조정 방법, 광학 부재용 점착제층 및 그의 제조방법, 점착제 부착 광학 부재, 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20060049521A
Application number: KR1020050047291A
Authority: KR
Inventors: 고헤이 야노; 유타카 모로이시; 후미코 나카노; 마사유키 사타케; 도시츠구 호소카와; 아키코 오가사와라; 후미아키 시라후지
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2004-06-03
Filing date: 2005-06-02
Publication date: 2006-05-19
Also published as: TW200600858A; CN100460948C; CN1707326A; KR100777877B1; JP2005344014A; JP3822213B2; TWI375821B

Abstract

본 발명은 중박리제 등의 실리콘 성분을 이용하지 않고 용이하게 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법을 제공하기 위한 것이다. 또한, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층 및 그 제조 방법을 제공하기 위한 것이다. 또한, 상기 점착제층을 갖는 점착제 부착 광학 부재, 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공하기 위한 것이다. 본 발명의 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법은 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정, 및 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정을 포함한다.

Description

박리력 조정 방법, 광학 부재용 점착제층 및 그의 제조 방법, 점착제 부착 광학 부재, 및 화상 표시 장치{PEELING FORCE ADJUSTING METHOD, PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER FOR OPTICAL MEMBER AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL MEMBER WITH PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE, AND IMAGE DISPLAY}

도 1은 실시예 등에서 과산화물 분해량과 박리력의 관계도를 나타낸 것이다.

본 발명은, 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 점착제층이 적층된 광학 부재용 점착제층 및 그의 제조 방법, 및 점착제 부착 광학 부재에 관한 것이다. 또한 상기 광학 부재용 점착제층을 사용한 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등의 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상기 광학 부재로서는, 편광판, 위상차판, 광학 보상 필름, 휘도 향상 필름, 또한 이들이 적층된 것 등을 들 수 있다.

액정 표시 장치 등에 사용되는 광학 부재, 예컨대 편광판이나 위상차판 등은 액정 셀에 점착제를 사용하여 부착된다. 통상, 광학 부재에 점착제층이 적층된 점착제 부착 광학 부재가 사용된다. 광학 부재에 사용되는 재료는 가열 조건하에서나 가습 조건하에서는 신축이 크기 때문에, 부착 후에는 그에 수반된 들뜸이나 벗겨짐이 생기기 쉽다. 그 때문에, 광학 부재용 점착제에는 가열 조건하에서나 가습 조건하에서도 대응할 수 있는 내구성이 요구된다.

또한, 이들 점착제 부착 광학 부재는, 보통 실리콘 박리 처리를 실시한 박리 라이너와 일체가 된 평활성을 나타내고 있다. 이 점착제 부착 광학 부재의 박리 라이너에는 투명성, 내열성, 평활성이 우수하고 외관 결함이 적다는 이유로 PET 필름에 실리콘을 정밀 코팅한 박리 라이너가 사용되고 있다.

이 실리콘 박리 라이너는 불필요하게 되는 시점에서 박리 제거되지만, 박리 제거될 때의 실리콘 박리 라이너의 박리력이 지나치게 크면, 박리 라이너를 벗길 때에 벗기기 어렵고, 한편, 지나치게 작으면, 타발(打拔) 등의 광학 부재 제조 공정 상에서 박리 라이너가 들뜨거나 벗겨지는 문제가 생겨, 적절한 박리력이 필요하게 된다.

상기 적절한 박리력을 조정하는 방법으로서는, 예컨대, 실리콘 성분의 사용량을 변경하는 방법이 제안되어 있다(예컨대, 일본 특허 공개 제 1994-298875호 공보 및 일본 특허 공개 제 2000-199199호 공보 참조). 그러나 실리콘 성분에, 예컨대 중(重)박리제 등을 이용하여 박리력을 조정하고자 하면, 중박리제가 점착면에 전사하여 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다. 또한, 실리콘 박리 라이너를 원래와 반대로 감았을 때에 배면에 중박리제가 전사하여, 박리 라이너를 박리할 때에 불량이 생기는 문제가 밝혀졌다.

그래서, 본 발명은 중박리제 등의 실리콘 성분을 이용하지 않고 용이하게 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 상기 점착제층을 갖는 점착제 부착 광학 부재, 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법으로서 이하에 나타내는 방법을 이용하는 것에 의해 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법은, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정, 및 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정을 포함하는 것이다.

또한, 본 발명의 실리콘 박리 라이너 부착 점착제층의 제조 방법은, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정을 포함하는 점착제층의 제조 방법으로서, 실리콘 박리 라이너의 박리력을 조정하는 공정을 포함하는 것이다.

본 발명의 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법에 의하면, 실시예의 결과 에 나타낸 바와 같이, 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정, 및 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정을 포함하는 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법을 이용하는 것에 의해, 실리콘 박리 라이너의 박리력을 용이하게 조정할 수 있다. 상기 조정 방법에 의해 실리콘 박리 라이너의 박리력을 용이하게 조정할 수 있는 이유의 상세한 사항은 분명하지 않지만, 점착제 조성물 중의 과산화물의 열분해에 의해 발생한 라디칼 활성종에 의해 실리콘 분자중의 수소 인발 반응 등이 일어나, 그 결과 실리콘면이 변성하기 때문으로 추정된다.

상기 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법에 있어서, 상기 점착제 조성물 1 g에 대하여 상기 과산화물 1 내지 20μmol을 가열 분해시키는 것이 바람직하다. 과산화물의 양을 조정하는 것에 의해 적절한 박리력을 발현시켜 박리력을 조정할 수 있다.

또한, 본 발명의 실리콘 박리 라이너 부착 점착제층의 제조 방법은, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정을 포함하는 점착제층의 제조 방법으로서, 실리콘 박리 라이너의 박리력을 조정하는 공정을 포함하는 것이다. 이 제조 방법을 이용하는 것에 의해, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층을 얻을 수 있다.

상기 점착제층의 제조 방법에 있어서, 상기 점착제 조성물이 단량체 성분 100중량부중 (메트)아크릴산 알킬에스터를 80중량부 이상 갖는 (메트)아크릴계 중 합체를 베이스 중합체로서 함유하는 것이 바람직하다. 이 점착제 조성물을 이용하는 것에 의해, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층을 얻을 수 있다.

또한, 상기 점착제층의 제조 방법에 있어서, 점착제 조성물 100중량부중 실레인 커플링제를 O.01 내지 1중량부 함유할 수 있다. 이 점착제 조성물을 이용하는 것에 의해, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층을 얻을 수 있다.

한편, 본 발명의 실리콘 박리 라이너 부착 점착 시이트류의 제조 방법은, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정을 포함하는 실리콘 박리 라이너 부착 점착 시이트류의 제조 방법에 있어서, 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정에 의해서 실리콘 박리 라이너의 박리력이 0.1 내지 0.4 N/50 mm의 범위가 되도록 조정하는 것을 특징으로 한다. 이 제조 방법을 이용하는 것에 의해, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 실리콘 박리 라이너 부착 점착 시이트류를 얻을 수 있다.

한편, 본 발명의 광학 부재용 점착제층은 상기 방법에 의해 제조된 것이다. 본 발명의 점착제층은 상기와 같은 작용 효과를 나타내기 때문에, 본 발명의 점착제층을 이용하는 것에 의해 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용점착 시이트류를 얻을 수 있다. 이것 때문에, 특히 재박리형의 점착제층으로서 유용하게 된다.

또한, 본 발명의 광학 부재용 점착 시이트류는 상기 방법에 의해 제조된 점착제층을 박리 라이너상에 형성하여 이루어지는 것이다. 본 발명의 광학 부재용 점착 시이트류에 의하면, 상기와 같은 작용 효과를 나타내는 점착제층을 갖추기 때문에 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착 시이트류로 된다.

또한, 본 발명의 점착제 부착 광학 부재는 상기 광학 부재용 점착제층을 광학 부재의 한 면 또는 양면에 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 점착제 부착 광학 부재에 의하면, 상기와 같은 작용 효과를 나타내는 점착제층을 갖추기 때문에 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 점착제 부착 광학 부재로 된다.

또한, 본 발명의 화상 표시 장치는 상기 점착제 부착 광학 부재를 이용한 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, PDP 등으로, 고온고습 상태로 보존되더라도 박리나 발포가 발생하지 않는 고내구성이 발현하여, 광학 부재를 벗겨 화상 표시 장치가 재이용되는 경우라도 접착력의 증대가 보이지 않고, 장치에 악영향을 주지 않고 용이하게 박리할 수 있는 기능을 갖는다.

본 발명의 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법은, 실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정, 및 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정을 포함하는 것이다.

본 발명의 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정에서는, 점착제 조성물의 분산 용매를 사용하지 않는 가열 용융 도공(塗工)을 사용할 수 있지만, 도공 정밀도를 향상시키기 위해서는 분산 용매를 사용하는 것이 바람직하다.

상기 분산 용매는 특별히 한정되지 않고, 예컨대, 톨루엔, 아세트산 에틸, 알코올류, 케톤류 등의 유기 용제 및 물 등을 적절히 사용할 수 있다. 또한 중합체의 중합에 사용한 용매를 직접 이용한 도공도 가능하고, 또한 용매를 적절히 가하여 사용할 수도 있다. 이들 용제는 단독으로 사용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

「점착핸드북(제2판), P174, 점착테이프공업회편, 1995.10.12」에 보여진 바와 같이, 실리콘 박리 라이너에는 축합반응형 실리콘 박리제(예컨대, 베이스 중합체로서 양 말단에 하이드록실기를 갖는 폴리다이메틸실록세인, 가교제로서 폴리메틸하이드로다이엔실록세인, 촉매로서 주석계를 이용한 것이 일반적임)를 이용한 것, 및 부가반응형 실리콘 박리제(예컨대, 베이스 중합체로서 양 말단에 하이드록실기를 갖는 폴리다이메틸실록세인의 메틸기의 일부가 바이닐기로 치환된 것, 가교제로서 폴리메틸하이드로다이엔실록세인, 촉매로서 백금계 촉매를 이용한 것이 일반적임)를 이용한 것이 있지만, 본 발명에서는 특별히 한정되지 않고, 어느 박리제를 이용한 박리 라이너도 좋다.

본 발명의 과산화물로서는, 가열에 의해 라디칼 활성종을 발생시켜 박리 라이너의 실리콘과 반응하는 것이면 적절하게 사용가능하지만, 작업성이나 안정성을 감안하여, 1분간반감기 온도가 80℃ 내지 160℃인 과산화물을 사용하는 것이 바람 직하고, 90℃ 내지 140℃인 과산화물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 1분간반감기 온도가 지나치게 낮으면, 도포 건조하기 전의 보존시에 반응이 진행하여, 점도가 높아져 도포 불능이 되는 경우가 있고, 한편 1분간반감기 온도가 지나치게 높으면, 가교 반응시의 온도가 높아지기 때문에 부반응이 일어나고 미반응의 과산화물이 대부분 잔존하여 시간 경과에 따를 가교가 진행하는 경우가 있어 바람직하지 못하다. 한편, 과산화물의 반감기란 과산화물의 분해 속도를 나타내는 지표이며, 과산화물의 잔존량이 절반으로 되기까지의 시간을 말한다. 임의의 시간에서 반감기를 얻기 위한 분해 온도나, 임의의 온도에서의 반감기 시간에 관해서는 제조사 카탈로그 등에 기재되어 있고, 예컨대, 니폰유시가부시키가이샤(日本油脂株式會社)의 유기 과산화물 카탈로그 제9판(2003년 5월) 등에 기재되어 있다.

본 발명에 사용될 수 있는 과산화물로서는, 예컨대 다이(2-에틸헥실)퍼옥시다이카보네이트(1분간반감기 온도: 90.6℃), 다이(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시다이카보네이트(1분간반감기 온도: 92.1℃), 다이-sec-부틸퍼옥시다이카보네이트(1분간반감기 온도: 92.4℃), t-부틸퍼옥시네오데카노에이트(1분간반감기 온도: 103.5℃), t-헥실퍼옥시피발레이트(1분간반감기 온도: 109.1℃), t-부틸퍼옥시피발레이트(1분간반감기 온도: 110.3℃), 다이라우로일퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 116.4℃), 다이-n-옥타노일퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 117.4℃), 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(1분간반감기 온도: 124.3℃), 다이(4-메틸벤조일)퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 128.2℃), 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 130.0℃), t-부틸퍼옥시아이소부티레이트(1분간반감기 온도: 136.1℃), 1,1-다이 (t-헥실퍼옥시)사이클로헥세인(1분간반감기 온도: 149.2℃) 등을 들 수 있다. 그중에서도 특히 가교 반응 효율이 우수하기 때문에 다이(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시다이카보네이트(1분간반감기 온도: 92.1℃), 다이라우로일퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 116.4℃), 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기 온도: 130.0℃) 등이 바람직하게 사용된다. 이들 과산화물은 단독으로 사용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

본 발명에서의 점착제 조성물은, 박리 처리를 실시한 박리 라이너에 도포된 후 건조되어, 점착제 조성물의 층이 된다. 또한, 다른 기재상에 형성한 점착제 조성물의 층을 박리 라이너에 전사할 수도 있다.

본 발명의 박리력 조정 방법에서는, 과산화물의 양을 조정하는 것 이외에, 분해 처리 온도 및 분해 처리 시간이 중요하다.

본 발명에서 과산화물의 분해량은 상기 점착제 조성물 1 g에 대하여 1 내지 20μmol인 것이 바람직하고, 2μmol 내지 16μmol인 것이 보다 바람직하고, 2μmol 내지 12μmol인 것이 더 바람직하다. 과산화물의 분해량이 1μmol보다도 적은 경우, 박리력이 지나치게 작게 되는 경향이 있고, 한편 20μmol보다도 지나치게 많은 경우, 박리력이 지나치게 커지는 경향이 있기 때문에 바람직하지 못하다.

상기 과산화물은 점착제 조성물 100중량부에 대하여 0.02 내지 2중량부 사용하지만, 바람직하게는 0.05 내지 1중량부 사용하는 것이 보다 바람직하다. 0.02중량부보다도 적어지면, 세퍼레이터의 박리력이 지나치게 작게 되는 경향이 있고, 한편 2중량부보다도 많아지면, 박리력이 지나치게 커지는 경향이 있으며 점착제층중 에 과산화물이 다량으로 잔존하여 버리기 때문에 시간 경과에 따라 점착 특성이 변화될 가능성이 있다.

상기 과산화물의 분해 처리 온도와 분해 처리 시간에 대하여, 과산화물의 분해량이 점착제 조성물 1 g 당 1μmol 내지 20μmol, 바람직하게는 2μmol 내지 16μmol, 더 바람직하게는 2μmol 내지 12μmol가 되도록 제어할 수 있으면 특별히 문제는 없지만, 170℃ 이상의 온도를 걸면 부반응이 일어날 가능성이 생긴다. 분해 처리 온도로서 건조시의 온도를 그대로 사용할 수도 있고, 건조후에 분해 처리를 하더라도 좋다. 처리 시간에 관해서는 생산성이나 작업성을 고려하여 설정되지만, 보통 0.2 내지 20분 정도이며, 0.5 내지 10분 정도가 바람직하다.

본 발명에 사용되는 점착제 조성물로서는 상술한 것에 해당하는 점착성을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않지만, (메트)아크릴계 중합체를 베이스 중합체로 하는 점착제 조성물이 바람직하다.

상기 베이스 중합체의 단량체 성분으로서 사용되는 (메트)아크릴산 알킬에스터로서는, 탄소수 12 이하의 알코올과의 에스터가 사용된다. 특히 탄소수 4 내지 12인 알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 단량체가 바람직하다.

상기 (메트)아크릴계 단량체로서는, 예컨대, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 아이소부틸(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 아이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 아이소노닐(메트)아크 릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 아이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 아크릴계 단량체는 단독으로 사용할 수도 있고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용할 수도 있다.

한편, 본 발명에서의 (메트)아크릴계 중합체란, 아크릴계 중합체 및/또는 메타크릴계 중합체를 말하고, 또한 (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다.

상기 (메트)아크릴계 중합체로서는, 단량체 성분 100중량부중 (메트)아크릴산 알킬 에스터를 80중량부 이상 갖는 (메트)아크릴계 중합체를 특히 바람직한 것으로서 들 수 있다.

상기 (메트)아크릴계 중합체에서의 (메트)아크릴산 알킬 에스터의 비율은, 단량체 성분 100중량부중 80중량부 이상(예컨대 80 내지 99.8중량부 정도)인 것이 바람직하고, 85중량부 이상(예컨대 85 내지 99.5중량부 정도)인 것이 보다 바람직하다. 80중량부 미만이면 응력완화성이 모자라게 되어 바람직하지 못하다.

또한, 본 발명에서는 하이드록실기 등의 작용기를 함유하고 있는 작용기 함유 단량체를 이용할 수 있다. 이러한 작용기의 종류는 적절히 선택할 수 있다.

상기 작용기 함유 단량체의 구체예로서는, 예컨대 (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 크로톤산, 무수 말레산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸석신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산 등의 카복실기 함유 단량체 또는 그 무수물, (메트)아크릴아마이드, N,N-다이메틸(메트)아크릴아마이드, N-메틸올(메트)아크릴아마이드, N-메톡시메틸(메트)아크릴아마이드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아마이드 등의 아마 이드기 함유 단량체, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜모노(메트)아크릴레이트 등의 수산기 함유 단량체, (메트)아크릴산 다이메틸아미노에틸, (메트)아크릴산 t-부틸아미노에틸 등의 아미노기 함유 단량체, (메트)아크릴산글라이시딜 등의 글라이시딜기 함유 단량체, (메트)아크릴로나이트릴, N-(메트)아크릴로일모폴린, N-바이닐-2-피롤리돈 등을 들 수 있다.

상기 작용기 함유 단량체는 단독으로 사용할 수도 있고, 조합할 수도 있지만, 전체로서의 함유량은 (메트)아크릴계 중합체의 단량체 성분 100중량부중 0.01 내지 20중량부인 것이 바람직하고, 0.05 내지 10중량부인 것이 보다 바람직하다. 작용기 함유 단량체의 함유량이 O.01중량부보다도 적은 경우, 가교 형성이 불충분 하게 되어 내구성이 뒤떨어지는 경우가 있어 바람직하지 못하다. 한편, 작용기 함유 단량체의 함유량이 20중량%를 넘는 경우, 액정 셀 등에의 점착력이 지나치게 커지는 경향이 있기 때문에 바람직하지 못하다.

본 발명에 사용되는 (메트)아크릴계 중합체는, 중량평균 분자량이 10만 이상 500만 이하, 바람직하게는 20만 이상 400만 이하, 더 바람직하게는 30만 이상 300만 이하이다. 중량평균 분자량이 10만보다 작은 경우는, 점착제 조성물의 응집력이 작게 되는 것에 의해 접착제 잔존을 발생시키는 경향이 있다. 한편, 중량평균 분자량이 500만을 넘는 경우는, 중합체의 유동성이 저하되어 편광판에의 젖음이 불 충분하게 되므로 박리 라이너 및 광학 부재 등의 점착제 조성물층과의 사이에 공기가 잔존하는 원인이 되는 경향이 있다. 본 발명에서의 중량평균 분자량은 GPC(겔 투과 크로마토그래피)에 의해 측정하여 수득된 것을 말한다.

또한, 상기 (메트)아크릴계 중합체의 유리 전이 온도(Tg)가 0℃ 이하(통상 1100℃ 이상), 바람직하게는 -10℃ 이하인 것이 바람직하다. 유리 전이 온도가 0℃보다 높은 경우, 중합체가 유동하기 어려워 편광판에의 젖음이 불충분하게 되므로 편광판과 표면 보호 필름의 점착제 조성물층과의 사이에 공기가 잔존하는 원인이 되는 경향이 있다. 한편, (메트)아크릴계 중합체의 Tg는 사용하는 단량체 성분이나 조성비를 적절히 바꾸는 것에 의해 상기 범위 내로 조정할 수 있다. 본 발명에서 유리 전이 온도(Tg)는 동적 점탄성 장치를 사용한 측정 방법에 의해 측정하여 수득된 것을 말한다.

본 발명에 사용되는 (메트)아크릴계 중합체의 중합 방법은 특별히 제한되지 않고, 용액 중합, 유화 중합, 괴상 중합, 현탁 중합 등의 공지된 방법에 의해 적절히 중합된다. 또한, 얻어지는 중합체는, 랜덤 중합체, 블록 중합체 등 어떤 것이라도 좋다. 예컨대, 용액 중합을 이용하는 경우에는 단량체 100중량부에 대하여 아조비스아이소부티로나이트릴 등의 중합개시제를 0.01 내지 0.2중량부 배합하고 아세트산 에틸 등의 중합 용매를 사용하여 질소 기류하에서 50 내지 70℃에서 8 내지 30시간 반응시키는 것에 의해 소정의 (메트)아크릴계 중합체를 얻을 수 있다.

또한, 본 발명에서는 (메트)아크릴계 중합체 등의 중합시에 중합개시제로서 과산화물을 이용할 수도 있다. 이러한 경우에는, 중합 반응 시에는 반응하지 않고 서, 그 후 상기 점착제 조성물의 층에 잔존하고 있는 경우도 있지만, 이 잔존하고 있는 과산화물을 이용하여 박리 라이너의 박리력을 조정할 수도 있다. 또한, 이 때 미반응 과산화물의 잔존량을 정량하고 필요에 따라 과산화물을 첨가하여 소정의 과산화물량으로 하여 사용할 수 있다.

본 발명에 있어서의 실레인 커플링제로서는, 종래부터 알려져 있는 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 예컨대, 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인, 3-글라이시독시프로필트라이에톡시실레인, 3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실레인, 2-(3,4에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실레인 등의 에폭시기 함유 실레인 커플링제, 3-아미노프로필트라이메톡시실레인, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸다이메톡시실레인, 3-트라이에톡시실릴-N-(1,3-다이메틸부틸리덴)프로필아민 등의 아미노기 함유 실레인 커플링제, 3-아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인, 3-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인 등의 (메트)아크릴기 함유 실레인 커플링제, 3-아이소사이아네이트프로필트라이에톡시실레인 등의 아이소사이아네이트기 함유 실레인 커플링제 등을 들 수 있다.

본 발명에서 상기 실레인 커플링제는 아크릴계 중합체의 고형분 100중량부에 대하여 0.01 내지 1중량부, 바람직하게는 0.02 내지 0.6중량부 배합된다. 배합량이 많아지면 액정 셀 등에의 점착력이 증대하여 재박리성이 저하되는 경우가 있고, 한편 지나치게 적으면 내구성이 저하되는 경우가 있다.

본 발명의 점착제 조성물은 (메트)아크릴계 중합체를 적절히 가교함으로써 보다 내열성이 우수한 것으로 된다. 본 발명에 사용되는 가교제로서는, 아이소사 이아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민계 수지, 아지리딘 유도체 및 금속 킬레이트 화합물 등이 사용된다. 그중에서도, 주로 적절한 응집력을 얻는 관점에서, 아이소사이아네이트 화합물이나 에폭시 화합물이 특히 바람직하게 사용된다. 그중에서도 특히, 중합체의 제조시에 2-하이드록시에틸아크릴레이트 등의 하이드록실기 함유 단량체를 공중합하는 것에 의해 중합체에 하이드록실기를 도입하고, 이러한 중합체에 대하여 폴리아이소사이아네이트 화합물을 가교제로서 사용하는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있다.

아이소사이아네이트 화합물로서는, 예컨대, 부틸렌다이아이소사이아네이트, 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트 등의 저급 지방족 폴리아이소사이아네이트류, 사이클로펜틸렌다이아이소사이아네이트, 사이클로헥실렌다이아이소사이아네이트, 아이소포론다이아이소사이아네이트 등의 지환족 아이소사이아네이트류, 2,4-톨릴렌다이아이소사이아네이트, 4,4'-다이페닐메탄다이아이소사이아네이트, 자일렌다이아이소사이아네이트 등의 방향족 아이소사이아네이트류, 트라이메틸올프로판/톨릴렌다이아이소사이아네이트 3량체 부가물(상품명 콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄공업사 제품), 트라이메틸올프로판/헥사메틸렌다이아이소사이아네이트 3량체 부가물(상품명 콜로네이트 HL, 닛폰폴리우레탄공업사 제품), 헥사메틸렌다이아이소사이아네이트의 아이소사이아누레이트체(상품명 콜로네이트 HX, 닛폰폴리우레탄공업사 제품) 등의 아이소사이아네이트 부가물, 폴리올에의 다이아이소사이아네이트 부가물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있다.

에폭시 화합물로서는, 예컨대, N,N,N',N'-테트라글라이시딜-m-자일렌다이아민(상품명 TETRAD-X, 미쓰비시가스화학사 제품)이나 1,3-비스(N,N-다이글라이시딜아미노메틸)사이클로헥산(상품명 TETRAD-C, 미쓰비시가스화학사 제품) 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있다.

멜라민계 수지로서는 헥사메틸올멜라민 등을 들 수 있다. 아지리딘 유도체로서는, 예컨대 시판품으로서의 상품명 HDU(소고약공(相互藥工)사 제품), 상품명 TAZM(소고약공사 제품), 상품명 TAZO(소고약공사 제품) 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있다.

금속 킬레이트 화합물로서는, 금속 성분으로서 알루미늄, 철, 주석, 타이타늄, 니켈 등, 킬레이트 성분으로서 아세틸렌, 아세토아세트산 메틸, 락트산 에틸 등을 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 조합하여 사용할 수도 있다.

본 발명에 사용되는 가교제의 함유량은, (메트)아크릴계 중합체 100중량부에 대하여 통상 0.01 내지 5중량부 정도이지만, 가교제에 의한 가교후의 겔분이 45 내지 95중량%가 되도록 가교제량을 조정하는 것이 바람직하고, 50 내지 85중량%가 되도록 가교제량을 조정하는 것이 보다 바람직하다. 겔분이 45중량%보다도 낮은 경우, 가열 시험에서 발포 등의 불량이 생기고, 점착제 조성물의 응집력이 작게 되어, 접착제 잔존의 원인이 되는 경향이 있다. 한편, 겔분이 95중량%보다도 높은 경우, 점착제 조성물의 응집력이 커져 접착성이 뒤떨어지는 경향이 있다.

본 발명에서 점착제 조성물의 겔분이란 가교도로서, 점착제층에서 가교하고 있는 부분의 비율을 나타내는 것이다.

상기 겔분의 측정 방법을 이하에 나타낸다. 가교 처리한 직후의 점착제층을 약 O.1g 취하고 이것을 칭량하여 점착제층의 중량부 W₁(g)을 구했다. 이어서 상기 점착제층을 미공성 테트라플루오로에틸렌막으로 싸서(싼 후의 막 중량을 W₂(g)로 함), 아세트산 약 50 ml에 약 25℃ 하에서 2일간 침지한 후, 가용분을 추출 제거했다. 이어서 상기 점착제층을 아세트산 에틸중에서 취득, 110℃에서 1시간 건조후의 중량 W₃(g)을 측정했다. 이들 측정치로부터 하기의 식에 따라 점착제층의 겔분율(중량%)을 구했다. 또한, 도공후, 실온에서 일주일 보존한 후의 겔분율을 측정했다.

겔분율(중량%)=(W₃-W₂/W₁)×1OO.

본 발명의 점착제 조성물은, 이상과 같은 (메트)아크릴계 중합체를 베이스 중합체로 하는 것이다.

본 발명에서 점착제층에는 임의 성분으로서, 상기 성분 이외에 추가로 페놀 수지, 터펜-페놀 수지, 터펜 수지, 자일렌 수지, 로진, 수첨 로진 등 각종 점착부여제, 탄산칼슘, 카본블랙 등의 무기충전제, 윤활제, 노화방지제, 착색제, 안료 등의 분체, 계면활성제, 가소제, 소포제, 광안정제, 요변제, 자외선흡수제, 저분자량 중합체, 표면윤활제, 레벨링제, 산화방지제, 중합금지제, 내열안정제, 내가수분해안정제 등의 안정제, 금속분, 입자상, 박상물 등을 적절히 사용할 수 있다. 이들 임의 성분은 1종을 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 사용할 수도 있다.

본 발명에 사용되는 점착제층의 두께는, 건조후의 두께가 2μm 내지 500μm가 바람직하고, 5μm 내지 100μm가 보다 바람직하다. 2μm보다 작게 되면 광학 부재에 대한 점착력이 불충분하게 되고, 500μm를 초과하면 점착력이 포화하여, 경제적이지 않고, 점착제가 밀려 나오거나, 응집파괴의 원인으로도 되어 박리하기 어렵게 된다.

본 발명의 점착제층은 이러한 점착제 조성물을 함유하는 점착제층을 박리 처리한 실리콘 박리 라이너상에 형성하여 이루어지는 것이다. 그 때, 점착제층의 형성은, 점착제 조성물 용액의 도포후에 용매를 휘산시켜 하는 것이 일반적이지만, 점착제 조성물 용액으로부터 용매를 휘산시켜 얻은 점착제층을 박리 처리 기재 등에 전사함으로써 형성하는 것도 가능하다. 또한, 리버스 코터나 그라비어 코터 등의 롤 코터, 커튼 코터, 립 코터, 다이 코터, 롤 브러쉬, 스프레이 코팅, 에어 나이프 코팅법 등에 의해서 점착제 조성물을 도포하고 점착제층을 형성할 수도 있다. 또한, 예컨대 도포후에 점착제층의 성분 이행의 조정이나 가교 반응의 조정 등을 목적으로 양생을 하더라도 좋다. 또한, 점착제 조성물을 박리 처리한 실리콘 박리 라이너상에 도포할 때는, 박리 처리 기재상에 균일하게 도포할 수 있도록 상기 조성물중에 중합 용제 이외의 1종 이상의 용제를 새롭게 가하더라도 좋다. 박리 처리한 박리 라이너로서는, 예컨대 PET 필름에 실리콘계 박리 처리를 한 실리콘 박리 라이너 등을 들 수 있다.

본 발명의 점착 시이트류는 상기 점착제층의 두께가 통상 2 내지 500μm, 바람직하게는 5 내지 100μm 정도가 되도록 형성된 실리콘 박리 라이너를 이용하여, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름이나 종이, 부직포 등의 다공질 재료 등으로 이루어지는 각종 지지체의 한 면 또는 양면에 형성하여, 시이트상이나 테이프상 등의 형태로 한 것이다.

점착 시이트류를 구성하는 지지체는 내열성 및 내용제성을 가지면서 가도성(可塗性)을 갖는 수지 필름인 것이 바람직하다. 지지체가 가도성을 갖는 것에 의해, 리버스 코터나 그라비어 코터 등의 롤 코터, 커튼 코터, 립 코터, 다이 코터, 롤 브러쉬, 스프레이 코팅, 에어 나이프 코팅법 등에 의해서 점착제 조성물을 도포할 수 있고, 롤 형상으로 권취할 수 있다.

지지체인 지지 필름을 형성하는 수지로서는, 시이트상이나 필름상으로 형성할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않고, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리-1-부텐, 폴리-4-메틸-1-펜텐, 에틸렌·프로필렌 공중합체, 에틸렌·1-부텐 공중합체, 에틸렌·아세트산 바이닐 공중합체, 에틸렌·에틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌·바이닐알코올 공중합체 등의 폴리올레핀 필름, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스터 필름, 폴리아크릴레이트 필름, 폴리스타이렌 필름, 나일론 6, 나일론 6,6, 부분 방향족 폴리아마이드 등의 폴리아마이드 필름, 폴리염화바이닐 필름, 폴리염화바이닐리덴 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리플루오로에틸렌 등의 함불소 수지, 폴리이미드, 나일론, 셀룰로스 등을 들 수 있다.

한편, 점착제층과 지지 필름 사이의 밀착성을 향상시키기 위해 지지 필름의 표면에 코로나 처리 등을 할 수도 있다. 또한, 지지 필름에는 배면 처리를 할 수 도 있다.

상기 필름의 두께는, 통상 5 내지 200μm, 바람직하게는 10 내지 100μm 정도이다.

본 발명의 광학 부재용 점착제층의 제조 방법은, 상기 점착제 조성물을 박리 처리한 실리콘 박리 라이너상에 도포하고, 건조시키고, 상기 과산화물의 가열 분해 처리하는 공정을 포함한다. 해당 공정은 상기한 바와 같다.

본 발명의 광학 부재는 상기 제조 방법에 의해 형성된 점착제층을 편광판 등의 광학 부재의 한 면 또는 양면에 점착제층을 형성한 것이다.

표면에 점착제층이 노출하는 경우는 실용에 제공될 때까지 박리 처리한 시이트 등으로 적절히 보호된다.

광학 부재로서는, 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치의 형성에 사용되는 것이 사용되며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 예컨대, 광학 부재로서는 편광판을 들 수 있다. 편광판은 편광자의 한 면 또는 양면에 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다.

편광자는 특별히 제한되지 않고, 각종의 것을 사용할 수 있다. 편광자로서는, 예컨대, 폴리바이닐 알코올계 필름, 부분 포말화 폴리바이닐 알코올계 필름, 에틸렌·아세트산바이닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에 요오드나 2색성 염료등의 2색성 물질을 흡착시켜 1축 연신한 것, 폴리바이닐 알코올의 탈수처리물이나 폴리염화바이닐의 탈염산처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 폴리바이닐 알코올계 필름과 요오드 등의 2색성 물질 로 이루어지는 편광자가 적합하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 5 내지 80μm정도이다.

폴리바이닐 알코올계 필름을 요오드로 염색하여 1축 연신한 편광자는, 예컨대 폴리바이닐 알코올을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하여, 원래 길이의 3 내지 7배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산 아연, 염화 아연 등을 포함하고 있을 수도 있는 요오드화 칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 염색 전에 폴리바이닐 알코올계 필름을 물에 침지하여 수세할 수도 있다. 폴리바이닐 알코올계 필름을 수세함으로써 폴리바이닐 알코올계 필름 표면의 오염이나 블록킹 방지제를 세정할 수 있는 외에, 폴리바이닐 알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 얼룩 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시할 수도 있고, 염색하면서 연신할 수도 있고, 또한 연신하고 나서 요오드로 염색할 수도 있다. 붕산이나 요오드화 칼륨 등의 수용액 중이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.

상기 편광자의 한 면 또는 양면에 설치되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로서는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예컨대, 폴리에틸렌 테레프탈레이트나 폴리에틸렌 나프탈레이트 등의 폴리에스터계 중합체, 다이아세틸 셀룰로스나 트라이아세틸 셀룰로스 등의 셀룰로스계 중합체, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 중합체, 폴리스타이렌이나 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체(AS 수지) 등의 스타이렌계 중합체, 폴리카보네이트계 중합체 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 사이클로계 내지는 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체와 같은 폴리올레핀계 중합체, 염화바이닐계 중합체, 나일론이나 방향족 폴리아마이드 등의 아마이드계 중합체, 이미드계 중합체, 설폰계 중합체, 폴리에터설폰계 중합체, 폴리에터에터케톤계 중합체, 폴리페닐렌설파이드계 중합체, 바이닐 알코올계 중합체, 염화바이닐리덴계 중합체, 바이닐부티랄계 중합체, 알릴레이트계 중합체, 폴리옥시메틸렌계 중합체, 에폭시계 중합체, 또는 상기 중합체의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 중합체의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름은 아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열 경화형 또는 자외선 경화형 수지의 경화층으로서 형성할 수도 있다.

또한, 일본 특허공개 제 2001-343529 호 공보(WO01/37007)에 기재된 중합체 필름, 예컨대 (A) 측쇄에 치환 및/또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, (B) 측쇄에 치환 및/또는 비치환 페닐 및 나이트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 들 수 있다. 구체예로서는 아이소부틸렌과 N-메틸말레이미드로 이루어진 교대 공중합체와 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체를 함유하는 수지 조성물의 필름을 들 수 있다. 필름은 수지 조성물의 혼합 압출품 등으로 이루어진 필름을 사용할 수 있다.

보호 필름의 두께는 적당히 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박층성 등의 면에서 1 내지 500㎛ 정도이다. 특히 1 내지 300㎛가 바람직하고, 5 내지 200㎛가 보다 바람직하다.

또한, 보호 필름은 가능한 한 채색이 없는 것이 바람직하다. 따라서, Rth=[(nx＋ny)/2-nz]·d(단, nx 및 ny는 필름 평면내의 주 굴절률, nz는 필름 두께 방향의 굴절률, d는 필름 두께이다)로 표시되는 필름 두께 방향의 위상차값이 -90nm 내지 ＋75nm인 보호 필름이 바람직하게 사용된다. 이러한 두께 방향의 위상차값(Rth)이 -90nm 내지 ＋75nm인 것을 사용함으로써 보호 필름에 기인하는 편광판의 착색(광학적인 착색)을 거의 해소할 수 있다. 두께 방향 위상차값(Rth)은 더욱 바람직하게는 -80nm 내지 ＋60nm, 특히 -70nm 내지 ＋45nm가 바람직하다.

보호 필름으로서는 편광 특성이나 내구성 등의 면에서 트라이아세틸셀룰로스 등의 셀룰로스계 중합체가 바람직하다. 특히 트라이아세틸셀룰로스 필름이 적합하다. 또한, 편광자의 양측에 보호 필름을 설치하는 경우, 그 표리에서 동일 중합체 재료로 이루어진 보호 필름을 사용할 수도 있고, 상이한 중합체 재료 등으로 이루어진 보호 필름을 사용할 수도 있다. 상기 편광자와 보호 필름은 보통 수계 점착제 등을 통해 밀착되어 있다. 수계 접착제로서는, 아이소사이아네이트계 접착제, 폴리바이닐 알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 바이닐계 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스터 등을 예시할 수 있다.

상기 투명 보호 필름의 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코팅층이나 반사 방지 처리, 고착(sticking) 방지나, 확산 내지 눈부심 방지(antiglare)를 목적으로 한 처리를 실시한 것일 수도 있다.

하드 코팅 처리는 편광판 표면의 흠집 방지 등을 목적으로 실시되는 것으로, 예컨대 아크릴계, 실리콘계 등의 적당한 자외선 경화형 수지에 의한 경도나 미끄럼 특성 등이 우수한 경화 피막을 투명 보호 필름의 표면에 부가하는 방식 등으로 형 성할 수 있다. 반사 방지 처리는 편광판 표면에서의 외광의 반사 방지를 목적으로 실시되는 것으로, 종래에 준한 반사 방지막 등의 형성에 의해 달성할 수 있다. 또한, 고착 방지 처리는 인접층과의 밀착 방지를 목적으로 실시된다.

또한, 눈부심 방지 처리는 편광판의 표면에서 외광이 반사되어 편광판 투과광의 시인을 저해하는 것의 방지 등을 목적으로 실시되는 것으로, 예컨대 샌드 블라스트 방식이나 엠보싱 가공 방식에 의한 조면화 방식이나 투명 미립자의 배합 방식 등의 적당한 방식으로 투명 보호 필름의 표면에 미세 요철 구조를 부여함으로써 형성할 수 있다. 상기 표면 미세 요철 구조의 형성에 함유시키는 미립자로서는, 예컨대 평균 입경이 0.5 내지 50㎛인 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 산화 주석, 산화 인듐, 산화 카드뮴, 산화 안티몬 등으로 이루어진, 전도성일 수도 있는 무기계 미립자, 가교 또는 미가교된 중합체 등으로 이루어진 유기계 미립자 등의 투명 미립자가 사용된다. 표면 미세 요철 구조를 형성하는 경우, 미립자의 사용량은 표면 미세 요철 구조를 형성하는 투명 수지 100중량부에 대하여 일반적으로 2 내지 50중량부 정도이며, 5 내지 25중량부가 바람직하다. 눈부심 방지층은 편광판 투과광을 확산하여 시각 등을 확대하기 위한 확산층(시각 확대 기능 등)을 겸하는 것일 수도 있다.

또한, 상기 반사 방지층, 고착 방지층, 확산층이나 눈부심 방지층 등은 투명 보호 필름 그 자체에 설치될 수 있지만 그 외에 별도 광학층으로서 투명 보호 필름과는 별개의 것으로서 설치될 수도 있다.

또한, 본 발명의 광학 부재로서는, 예컨대 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2이나 1/4 등의 파장판을 포함함), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 표시 장치 등의 형성에 사용될 수 있는 광학층이 되는 것을 들 수 있다. 이들은 단독으로 본 발명의 광학 부재로서 사용할 수 있을 뿐더러 상기 편광판에 실용시에는 적층하여 1층 또는 2층 이상 사용할 수 있다.

특히, 편광판에 추가로 반사판 또는 반투과 반사판이 적층되어 이루어진 반사형 편광판 또는 반투과형 편광판, 편광판에 추가로 위상차판이 적층되어 이루어진 타원 편광판 또는 원 편광판, 편광판에 추가로 시각 보상 필름이 적층되어 이루어진 광시야각 편광판, 또는 편광판에 추가로 휘도 향상 필름이 적층되어 이루어진 편광판이 바람직하다.

반사형 편광판은 편광판에 반사층을 설치한 것으로, 시인측(표시측)으로부터의 입사광을 반사시켜 표시하는 유형의 액정 표시 장치 등을 형성하기 위한 것이며, 백라이트 등의 광원의 내장을 생략할 수 있어 액정 표시 장치의 박형화를 도모하기 용이하다는 등의 이점을 갖는다. 반사형 편광판의 형성은 필요에 따라 투명 보호층 등을 통해 편광판의 한 면에 금속 등으로 이루어진 반사층을 부설하는 방식 등의 적당한 방식으로 실시할 수 있다.

반사형 편광판의 구체예로서는, 필요에 따라 매트 처리한 투명 보호 필름의 한 면에, 알루미늄 등의 반사성 금속으로 이루어진 호일이나 증착막을 부설하여 반사층을 형성한 것 등을 들 수 있다. 또한 상기 투명 보호 필름에 미립자를 함유시켜 표면 미세 요철 구조로 하고, 그 위에 미세 요철 구조의 반사층을 갖는 것 등도 들 수 있다. 상기한 미세 요철 구조의 반사층은 입사광을 난반사에 의해 확산시켜 지향성이나 번쩍번쩍하는 외관을 방지하여, 명암의 불균일을 억제할 수 있는 이점 등을 갖는다. 또한 미립자 함유 투명 보호 필름은 입사광 및 그 반사광이 이것을 투과할 때에 확산되어 명암 불균일을 보다 억제할 수 있는 이점 등도 가지고 있다. 투명 보호 필름의 표면 미세 요철 구조를 반영시킨 미세 요철 구조의 반사층의 형성은 예컨대 진공 증착 방식, 이온 플레이팅 방식, 스퍼터링 방식 등의 증착 방식이나 도금 방식 등의 적당한 방식으로 금속을 투명 보호층의 표면에 직접 부설하는 방법 등에 의해 실시할 수 있다.

반사판은 상기 편광판의 투명 보호 필름에 직접 부여하는 방식 대신에, 그 투명 필름에 준한 적당한 필름에 반사층을 설치하여 이루어진 반사 시이트 등으로 하여 사용할 수도 있다. 또한, 반사층은 보통 금속으로 이루어지기 때문에, 그 반사면이 투명 보호 필름이나 편광판 등으로 피복된 상태의 사용 형태가, 산화에 의한 반사율의 저하 방지, 나아가서는 초기 반사율의 장기 지속 측면이나 보호층의 별도 부설의 회피 측면 등에서 바람직하다.

또한, 반투과형 편광판은 상기에 있어서 반사층에서 빛을 반사하면서 투과하는 하프 미러(half mirror) 등의 반투과형의 반사층으로 함으로써 얻을 수 있다. 반투과형 편광판은 보통 액정 셀의 뒤쪽에 설치되고, 액정 표시 장치 등을 비교적 밝은 분위기에서 사용하는 경우에는 시인측(표시측)으로부터의 입사광을 반사시켜 화상을 표시하고, 비교적 어두운 분위기에서는 반투과형 편광판의 뒤쪽에 내장되어 있는 백라이트 등의 내장 광원을 사용하여 화상을 표시하는 유형의 액정 표시 장치 등을 형성할 수 있다. 즉, 반투과형 편광판은 밝은 분위기하에서는 백라이트 등의 광원 사용의 에너지를 절약할 수 있고, 비교적 어두운 분위기하에서도 내장 광원을 이용하여 사용할 수 있는 유형의 액정 표시 장치 등의 형성에 유용하다.

편광판에 추가로 위상차판이 적층되어 이루어진 타원 편광판 또는 원 편광판에 대하여 설명한다. 직선 편광을 타원 편광 또는 원 편광으로 바꾸거나, 타원 편광 또는 원 편광을 직선 편광으로 바꾸거나, 혹은 직선 편광의 편광 방향을 바꾸는 경우에 위상차판 등이 사용된다. 특히, 직선 편광을 원 편광으로 바꾸거나, 원 편광을 직선 편광으로 바꾸는 위상차판으로서는, 소위 1/4 파장판(λ/4판이라고도 함)이 사용된다. 1/2 파장판(λ/2판이라고도 함)은 보통 직선 편광의 편광 방향을 바꾸는 경우에 사용된다.

타원 편광판은 수퍼 트위스트 네마틱(STN)형 액정 표시 장치의 액정층의 복굴절에 의해 발생한 착색(청색 또는 황색)을 보상(방지)하여 상기 착색이 없는 흑백표시하는 경우 등에 유효하게 사용된다. 또한, 3차원의 굴절률을 제어한 것은 액정 표시 장치의 화면을 경사 방향에서 보았을 때에 발생하는 착색도 보상(방지)할 수 있어 바람직하다. 원 편광판은, 예컨대 화상이 컬러 표시가 되는 반사형 액정 표시 장치의 화상의 색조를 조정하는 경우 등에 유효하게 사용되며, 또한 반사 방지의 기능도 갖는다.

위상차판으로서는 고분자 소재를 1축 또는 2축 연신 처리하여 이루어진 복굴절성 필름, 액정 중합체의 배향 필름, 액정 중합체의 배향층을 필름으로 지지한 것 등을 들 수 있다. 위상차판의 두께도 특별히 제한되지 않지만, 20 내지 150㎛ 정도가 일반적이다.

고분자 소재로서는, 예컨대 폴리바이닐 알코올, 폴리바이닐부티랄, 폴리메틸바이닐에터, 폴리하이드록시에틸아크릴레이트, 하이드록시에틸셀룰로스, 하이드록시프로필셀룰로스, 메틸셀룰로스, 폴리카보네이트, 폴리알릴레이트, 폴리설폰, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리에터설폰, 폴리페닐렌설파이드, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리알릴설폰, 폴리바이닐 알코올, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리염화바이닐, 셀룰로스계 중합체, 노보넨계 수지, 또는 이들의 2원계, 3원계의 각종 공중합체, 그래프트 공중합체, 블렌드물 등을 들 수 있다. 이들 고분자 소재는 연신 등에 의해 배향물(연신 필름)이 된다.

액정성 중합체로서는, 예컨대 액정 배향성을 부여하는 공액성의 직선형 원자단(메소겐)이 중합체의 주쇄나 측쇄에 도입된 주쇄형이나 측쇄형의 각종의 것 등을 들 수 있다. 주쇄형의 액정성 중합체의 구체예로서는, 굴곡성을 부여하는 스페이서부에서 메소겐기를 결합한 구조의, 예컨대 네마틱 배향성의 폴리에스터계 액정성 중합체, 디스코틱 중합체나 콜레스테릭 중합체 등을 들 수 있다. 측쇄형의 액정성 중합체의 구체예로서는, 폴리실록세인, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트 또는 폴리말로네이트를 주쇄 골격으로 하고, 측쇄로서 공액성의 원자단으로 이루어진 스페이서부를 통해 네마틱 배향 부여성의 파라 치환 환상 화합물 단위로 이루어진 메소겐부를 갖는 것 등을 들 수 있다. 이들 액정성 중합체는, 예컨대 유리판 위에 형성한 폴리이미드나 폴리바이닐 알코올 등의 박막의 표면을 러빙 처리한 것, 산화 규소를 경사 방향 증착한 것 등의 배향 처리면 상에 액정성 중합체 용액을 전개하여 열처리함으로써 실시된다.

위상차판은, 예컨대 각종 파장판이나 액정층의 복굴절에 의한 착색이나 시각등의 보상을 목적으로 한 것 등의 사용 목적에 따른 적당한 위상차를 갖는 것일 수도 있고, 2종 이상의 위상차판을 적층하여 위상차 등의 광학 특성을 제어한 것 등일 수도 있다.

또한, 상기 타원 편광판이나 반사형 타원 편광판은 편광판 또는 반사형 편광판과 위상차판을 적당한 조합으로 적층한 것이다. 이러한 타원 편광판 등은 (반사형) 편광판과 위상차판의 조합이 되도록 이들을 액정 표시 장치의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층함으로써도 형성할 수 있지만, 상기와 같이 미리 타원 편광판 등의 광학 부재로 한 것은 품질의 안정성이나 적층 작업성 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 효율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.

시각 보상 필름은 액정 표시 장치의 화면을, 화면에 수직이 아닌 약간 경사진 방향에서 본 경우라도 화상이 비교적 선명하게 보이도록 시야각을 넓히기 위한 필름이다. 이러한 시각 보상 위상차판으로서는, 예컨대 위상차판, 액정 중합체 등의 배향 필름이나 투명 기재 상에 액정 중합체 등의 배향층을 지지한 것 등으로 이루어진다. 통상적인 위상차판은 그 면 방향으로 1축으로 연신된 복굴절을 갖는 중합체 필름이 사용되는데 반해, 시각 보상 필름으로서 사용되는 위상차판에는 면 방향으로 2축으로 연신된 복굴절을 갖는 중합체 필름, 또는 면 방향으로 1축으로 연신되고 두께 방향으로도 연신된 두께 방향의 굴절률을 제어한 복굴절을 갖는 중합체나 경사 배향 필름과 같은 2방향 연신 필름 등이 사용된다. 경사 배향 필름으로서는, 예컨대 중합체 필름에 열수축 필름을 접착하여 가열에 의한 그 수축력의 작 용하에 중합체 필름을 연신 처리 또는/및 수축 처리한 것, 또는 액정 중합체를 경사 배향시킨 것 등을 들 수 있다. 위상차판의 소재 원료 중합체는 상기 위상차판에서 설명한 중합체와 동일한 것이 사용되며, 액정 셀에 의한 위상차에 기초한 시인각의 변화에 따른 착색 등의 방지나 양호한 시인성의 시야각의 확대 등을 목적으로 한 적당한 것을 사용할 수 있다.

또한, 양호한 시인성의 넓은 시야각을 달성하는 점 등에서 액정 중합체의 배향층, 특히 디스코틱 액정 중합체의 경사 배향층으로 이루어진 광학적 이방성층을 트라이아세틸셀룰로스 필름으로 지지한 광학 보상 위상차판을 바람직하게 사용할 수 있다.

편광판과 휘도 향상 필름을 접합한 편광판은 보통 액정 셀의 뒷면에 설치되어 사용된다. 휘도 향상 필름은 액정 표시 장치 등의 백라이트나 뒤쪽으로부터의 반사 등에 의해 자연광이 입사하면 소정 편광축의 직선 편광 또는 소정 방향의 원 편광을 반사하고, 다른 빛은 투과하는 특성을 나타내는 것으로, 휘도 향상 필름을 편광판과 적층한 편광판은 백라이트 등의 광원으로부터의 빛을 입사시켜 소정 편광 상태의 투과광을 얻는 동시에, 상기 소정 편광 상태 이외의 빛은 투과하지 않고 반사된다. 이 휘도 향상 필름면에서 반사한 빛을 추가로 그 뒤쪽에 설치된 반사층 등을 통해 반전시켜 휘도 향상 필름에 재입사시키고, 그 일부 또는 전부를 소정 편광 상태의 빛으로서 투과시켜서 휘도 향상 필름을 투과하는 빛의 증량을 도모하는 동시에, 편광자에 흡수시키기 어려운 편광을 공급하여 액정 표시 화상 표시 등에 이용할 수 있는 광량의 증대를 도모함으로써 휘도를 향상시킬 수 있는 것이다. 즉 , 휘도 향상 필름을 사용하지 않고 백라이트 등으로 액정 셀의 뒷편에서 편광자를 통해 빛을 입사한 경우에는, 편광자의 편광축에 일치되지 않는 편광 방향을 갖는 빛은 대부분 편광자에 흡수되어 버려, 편광자를 투과하지 않게 된다. 즉, 사용한 편광자의 특성에 따라서도 다르지만, 약 50%의 빛이 편광자에 흡수되어 버리고, 그 만큼 액정 화상 표시 등에 이용할 수 있는 광량이 감소하여 화상이 어두워진다. 휘도 향상 필름은 편광자에 흡수되는 편광 방향을 갖는 빛을 편광자에 입사시키지 않고 휘도 향상 필름으로 일단 반사시키고, 추가로 그 뒤쪽에 설치된 반사층 등을 통해 반전시켜 휘도 향상 필름에 재입사시키는 것을 반복하여, 이 양자간에 반사, 반전하고 있는 빛의 편광 방향이 편광자를 통과할 수 있는 편광 방향이 된 편광만을, 휘도 향상 필름은 투과시켜서 편광자에 공급하기 때문에, 백라이트 등의 빛을 효율적으로 액정 표시 장치의 화상의 표시에 사용할 수 있어, 화면을 밝게 할 수 있다.

휘도 향상 필름과 상기 반사층 등의 사이에 확산판을 설치할 수도 있다. 휘도 향상 필름에 의해 반사한 편광 상태의 빛은 상기 반사층 등을 향하는데, 설치된 확산판은 통과하는 빛을 균일하게 확산시키는 동시에 편광 상태를 해소시켜 비편광 상태가 된다. 즉, 확산판은 편광을 원래의 자연광 상태로 되돌린다. 이 비편광 상태, 즉 자연광 상태의 빛이 반사층 등을 향하여, 반사층 등을 통해 반사되고, 다시 확산판을 통과하여 휘도 향상 필름에 재입사하는 것을 반복한다. 이와 같이 휘도 향상 필름과 상기 반사층 등의 사이에 편광을 원래의 자연광 상태로 되돌리는 확산판을 설치함으로써 표시 화면의 밝기를 유지하면서, 동시에 표시 화면의 밝기 의 불균일을 적게 하여 균일하고 밝은 화면을 제공할 수 있다. 이러한 확산판을 설치함으로써, 첫 회의 입사광은 반사의 반복 회수가 알맞게 증가하여, 확산판의 확산 기능과 맞물려 균일한 밝은 표시 화면을 제공할 수 있었던 것으로 생각된다.

상기 휘도 향상 필름으로서는, 예컨대 유전체의 다층 박막이나 굴절률 이방성이 상이한 박막 필름의 다층 적층체와 같이 소정 편광축의 직선 편광을 투과하고 다른 빛은 반사하는 특성을 나타내는 것, 콜레스테릭 액정 중합체의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 필름 기재상에 지지한 것과 같이 좌회절 또는 우회절 중 어느 한쪽의 원 편광을 반사시키고 다른 빛은 투과시키는 특성을 나타내는 것 등의 적당한 것을 이용할 수 있다.

따라서, 상기한 소정 편광축의 직선 편광을 투과시키는 유형의 휘도 향상 필름에서는 그 투과광을 그대로 편광판에 편광축을 일치시켜 입사시킴으로써, 편광판에 의한 흡수 손실을 억제하면서 효율적으로 투과시킬 수 있다. 한편, 콜레스테릭액정층과 같이 원 편광을 투하하는 유형의 휘도 향상 필름에서는 그대로 편광자에 입사시킬 수도 있지만, 흡수 손실을 억제하는 점에서 그 원 편광을, 위상차판을 통해 직선 편광화하여 편광판에 입사시키는 것이 바람직하다. 또한, 그 위상차판으로서 1/4 파장판을 이용함으로써 원 편광을 직선 편광으로 변환할 수 있다.

가시광 역역 등의 넓은 파장 범위에서 1/4 파장판으로서 기능하는 위상차판은 예컨대 파장 550nm의 담색광에 대하여 1/4 파장판으로서 기능하는 위상차층과 다른 위상차 특성을 나타내는 위상차층, 예컨대 1/2 파장판으로서 기능하는 위상차층을 중첩하는 방식 등에 의해 얻을 수 있다. 따라서, 편광판과 휘도 향상 필름 사이에 배치하는 위상차판은 1층 또는 2층 이상의 위상차층으로 이루어진 것일 수 있다.

한편, 콜레스테릭 액정층에 대해서도 반사 파장이 상이한 것의 조합으로 하여 2층 또는 3층 이상 중첩한 배치 구조로 함으로써, 가시광 영역 등의 넓은 파장 범위에서 원 편광을 반사하는 것을 얻을 수 있고, 이에 기초하여 넓은 파장 범위의 투과 원 편광을 얻을 수 있다.

또한, 편광판은 상기 편광 분리형 편광판과 같이, 편광판과 2층 또는 3층 이상의 광학층을 적층한 것으로 이루어져 있을 수도 있다. 따라서, 상기 반사형 편광판이나 반투과형 편광판과 위상차판을 조합한 반사형 타원 편광판이나 반투과형 타원 편광판 등일 수도 있다.

편광판에 상기 광학층을 적층한 광학 부재는 액정 표시 장치 등의 제조 과정에서 순차적으로 별개로 적층하는 방식으로도 형성할 수 있지만, 미리 적층하여 광학 부재로 한 것은 품질의 안정성이나 조립 작업 등이 우수하여 액정 표시 장치 등의 제조 공정을 향상시킬 수 있는 이점이 있다. 적층에는 점착제층 등의 적절한 접착 수단을 이용할 수 있다. 상기한 편광판과 다른 광학층의 접착시에는 이들 광학축은 목적으로 하는 위상차 특성 등에 따라 적당한 배치 각도로 할 수 있다.

한편, 본 발명의 점착형 광학 부재의 광학 부재나 점착제층 등의 각 층에는 예컨대 살리실산 에스터계 화합물이나 벤조페놀계 화합물, 벤조트라이아졸계 화합물이나 사이아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물 등의 자외선 흡수제로 처리하는 방식 등의 방식에 의해 자외선 흡수능을 갖게 한 것 등일 수도 있다.

본 발명의 점착형 광학 부재는 액정 표시 장치 등의 각종 화상 표시 장치의 형성 등에 바람직하게 사용할 수 있다. 액정 표시 장치의 형성은 종래에 준하여 실시할 수 있다. 즉, 액정 표시 장치는 일반적으로 액정 셀과 점착형 광학 부재, 및 필요에 따라 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 내장시키는 것 등에 의해 형성되지만, 본 발명에 있어서는 본 발명에 의한 광학 부재를 사용하는 점을 제외하고 특별히 한정은 없으며, 종래에 준할 수 있다. 액정 셀에 대해서도 예컨대 TN형이나 STN형, π형 등의 임의의 유형의 것을 사용할 수 있다.

액정 셀의 한 쪽 또는 양쪽에 점착형 광학 부재를 배치한 액정 표시 장치나, 조명 시스템에 백라이트 또는 반사판을 이용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다. 이 경우, 본 발명에 의한 광학 부재는 액정 셀의 한 쪽 또는 양쪽에 설치할 수 있다. 양쪽에 광학 부재를 설치하는 경우, 이들은 동일한 것일 수도 있고 상이한 것일 수도 있다. 또한, 액정 표시 장치의 형성에 있어서는, 예컨대 확산판, 눈부심 방지층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시이트, 광 확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1층 또는 2층 이상 배치할 수 있다.

이어서, 유기 전기발광 장치(유기 EL 표시 장치)에 대하여 설명한다. 일반적으로, 유기 EL 표시 장치는 투명 기판 상에 투명 전극, 유기 발광층 및 금속 전극을 순차적으로 적층하여 발광체(유기 전기발광 발광체)를 형성하고 있다. 여기서, 유기 발광층은 다양한 유기 박막의 적층체로, 예컨대 트라이페닐아민 유도체 등으로 이루어진 정공 주입층과 안트라센 등의 형광성의 유기 고체로 이루어진 발 광층의 적층체, 혹은 이러한 발광층과 페릴렌 유도체 등으로 이루어진 전자 주입층의 적층체, 또한 혹은 이들 정공 주입층, 발광층 및 전자 주입층의 적층체 등, 다양한 조합을 갖는 구성이 알려져 있다.

유기 EL 표시 장치는 투명 전극과 금속 전극에 전압을 인가함으로써, 유기 발광층에 정공과 전자가 주입되고, 이들 정공과 전자의 재결합에 의해 발생하는 에너지가 형광 물질을 여기시키고, 여기된 형광 물질이 기저 상태로 되돌아갈 때에 빛을 방사하는 원리로 발광한다. 도중의 재결합이라는 메커니즘은 일반적인 다이오드와 동일하고, 이로부터도 예상할 수 있는 바와 같이 전류와 발광 강도는 인가 전압에 대하여 정류성을 수반하는 강한 비선형성을 나타낸다.

유기 EL 표시 장치에 있어서는, 유기 발광층에서의 발광을 취출하기 위해, 적어도 한쪽의 전극이 투명해야 하기 때문에, 보통 산화 인듐 주석(ITO) 등의 투명 전도체로 형성한 투명 전극을 양극으로 사용하고 있다. 한편, 전자 주입을 용이하게 하여 발광 효율을 올리기 위해서는 음극에 일함수가 작은 물질을 사용하는 것이 중요하여, 보통 Mg-Ag, Al-Li 등의 금속 전극을 사용하고 있다.

이러한 구성의 유기 EL 표시 장치에 있어서, 유기 발광층은 두께 10nm 정도로 매우 얇은 막으로 형성되어 있다. 이 때문에, 유기 발광층도 투명 전극과 마찬가지로 빛을 거의 완전히 투과한다. 그 결과, 비발광시에 투명 기판의 표면으로부터 입사하고, 투명 전극과 유기 발광층을 투과하여 금속 전극에서 반사된 빛이 다시 투명 기판의 표면측으로 나가기 때문에, 외부에서 시인했을 때 유기 EL 표시 장치의 표시면이 경면과 같이 보인다.

전압의 인가에 의해 발광하는 유기 발광층의 표면측에 투명 전극을 구비하면서 유기 발광층의 이면측에 금속 전극을 구비하여 이루어진 유기 전기발광 발광체를 포함하는 유기 EL 표시 장치에 있어서, 투명 전극의 표면측에 편광판을 설치하면서 이들 투명 전극과 편광판 사이에 위상차판을 설치할 수 있다.

위상차판 및 편광판은 외부로부터 입사하여 금속 전극에서 반사되어 온 빛을 편광하는 작용을 갖기 때문에, 그 편광 작용에 의해 금속 전극의 경면을 외부에서 시인시키지 않는 효과가 있다. 특히, 위상차판을 1/4 파장판으로 구성하면서 편광판과 위상차판과의 편광 방향이 이루는 각을 π/4로 조정하면 금속 전극의 경면을 완전히 차폐할 수 있다.

즉, 이 유기 EL 표시 장치에 입사되는 외부광은 편광판에 의해 직선 편광 성분만이 투과한다. 이 직선 편광은 위상차판에 의해 일반적으로 타원 편광이 되는데, 특히 위상차판이 1/4 파장판이고 게다가 편광판과 위상차판의 편광 방향이 이루는 각이 π/4일 때에는 원 편광이 된다.

이 원 편광은 투명 기판, 투명 전극 및 유기 박막을 투과하고, 금속 전극에서 반사되어 다시 유기 박막, 투명 전극 및 투명 기판을 투과하고, 위상차판에서 다시 직선 편광이 된다. 그리고, 이 직선 편광은 편광판의 편광 방향과 직교하고 있기 때문에 편광판을 투과할 수 없다. 그 결과, 금속 전극의 경면을 완전히 차폐할 수 있다.

<실시예>

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것이 아니다. 또한, 실시예 등에서의 평가 항목은 하기와같이 하여 측정을 했다. 한편, 각 예중의 %는 모두 중량 기준이다.

<아크릴계 중합체의 중량평균 분자량의 측정>

제작한 중합체의 중량평균 분자량은 GPC(겔 투과 크로마토그래피)에 의해 측정했다.

장치: 도소사 제품, HLC-8120 GPC

컬럼:

샘플 컬럼; 도소사제, G7000 H_XL+ GMH_XL+ GMH_XL

유량: 0.8 ml/분

주입량: 100μl

컬럼 온도: 40℃

용리액: THF

주입 시료 농도: 0.1중량%

검출기: 시차굴절계

한편, 중량평균 분자량은 폴리스타이렌 환산에 의해 산출했다.

<과산화물 분해량의 측정>

열분해 처리후의 과산화물 분해량은 HPLC(고속 액체 크로마토그래피)에 의해 측정했다.

분해 처리 전후의 점착제 조성물을 각각 약 0.2 g씩 취득, 아세트산 에틸 10 ml에 침지하여, 진동기로 25℃하에 120 rpm에서 3시간 진동 추출한 후, 실온에서 3일간 정치했다. 이어서, 아세토나이트릴 10 ml를 가하고, 25℃하에 120 rpm에서 30분 진동시키고 멤브레인 필터(0.45 μm)에 의해 여과하여 수득된 추출액 약 10μl를 HPLC에 주입하여 분석하여, 분해 처리 전후의 과산화물량의 감소를 과산화물 분해량으로 했다.

장치: 도소사 제품, HPL CCPM/UV8000

컬럼:

샘플 컬럼; MACHEREY-NAGEL사제, NUCLEOSIL 7C18(4.6 mmφ×250 mm)

유량: 1.Oml/분

컬럼 압력: 41 kg/cm²

컬럼 온도: 40℃

용리액: 물/아세토나이트릴= 30/70

주입량: 10μl

주입 시료 농도: 0.01중량%

검출기: UV 검출기(230 nm)

<박리 라이너의 박리력 측정>

제작한 폭 50 mm, 길이 100 mm의 크기로 절단한 박리 라이너 부착 광학 부재를, 만능인장시험기로 박리 속도 300 mm/분(박리 각도 180°)으로 박리했을 때의 박리 라이너의 박리력을 측정했다. 측정은 23℃×50% RH의 환경하에서 실시했다. 박리력이 0.1 N/50 mm 미만인 경우, 박리력이 지나치게 작기 때문에 타발 등의 제조 공정에서 박리 라이너가 들떠버리는 등의 문제가 일어나기 쉽다. 한편, 0.4 N/50 mm보다 큰 경우, 박리력이 지나치게 커지기 때문에 실제 사용시에 박리 라이너의 박리가 곤란하게 되는 문제가 일어나기 쉽다.

<내구성의 평가>

제작한 광학 부재(12인치 크기)를 무알칼리 유리판(코닝사 제품, 상품명 코닝 1737, 250×350 mm, 두께: 0.7 mm)에 부착하고, 50℃, 0.5 MPa의 압력에서 30분간 오토클레이브 처리를 했다. 그 후, 60℃×90% RH에서 500시간 저장한 다음 실온으로 되돌려, 평가용 샘플을 수득했다. 이 처리후의 유리판에의 부착 상태를 확인하여, 이하의 기준으로 평가했다.

광학 부재의 들뜸이나 박리가 생기지 않았다: 0

광학 부재의 들뜸이나 박리가 생겼다 : ×

실시예 1

부틸아크릴레이트 95중량부, 아크릴산 3.0중량부, 2-하이드록시에틸아크릴레이트 0.10중량부, 및 2,2-아조비스아이소부티로나이트릴 0.050중량부와 아세트산에틸 200중량부를, 질소 도입관, 냉각관을 갖춘 4구 플라스크에 투입하고 충분히 질소 치환한 후, 질소 기류하에서 교반하면서 55℃에서 20시간 중합 반응을 수행하여 중량평균 분자량 157만의 고분자량 아크릴계 중합체 A의 용액을 수득했다.

상기 아크릴계 중합체 A의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기: 130.0℃) 0.15중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프 로필트라이메톡시실레인 0.080중량부, 가교제로서 트라이메틸올프로판의 톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물로 이루어지는 아이소사이아네이트계 가교제(콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄사 제품) 0.60중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조했다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해 처리를 하고, 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 69%이고, 과산화물의 분해량은 점착제조성물 1 g에 대하여 7.56μmol이었다.

실시예 2

실시예 1에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.30중량부를 사용한 것 이외는 실시예 1과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제작했다. 한편, 점착제층의 겔분은 82%이고 과산화물의 분해량은 점착제조성물 1 g에 대하여 11.74μmol이었다.

실시예 3

실시예 1에 있어서, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘)) 대신에 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRN38(축합반응형 실리콘))을 사용한 것 이외는 실시예 1과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제작했다. 한편, 점착제층의 겔분은 70%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 7.50μmol이었다.

실시예 4

아이소옥틸아크릴레이트 100중량부, 2-하이드록시부틸아크릴레이트 1.0중량부, 및 2,2-아조비스아이소부티로나이트릴 0.10중량부와 아세트산 에틸 200중량부를, 질소 도입관, 냉각관을 갖춘 4구 플라스크에 투입하고 충분히 질소치환한 후, 질소기류하에서 교반하면서 55℃에서 20시간 중합 반응을 수행하여 중량평균 분자량 175만의 고분자량 아크릴계 중합체 B의 용액을 수득했다.

상기 아크릴계 중합체 B의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기: 130.0℃) 0.15중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인 0.10중량부, 가교제로서 트라이메틸올프로판의 톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물로 이루어진 아이소사이아네이트계 가교제(콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄사 제품) 0.10중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조했다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해 처리하고, 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 79%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 8.0μmol이었다.

실시예 5

실시예 4에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.30중량부를 사용한 것 이외는 실시예 4와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제작했다. 한편, 점착제층의 겔분은 83%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 12.0μmol이었다.

실시예 6

2-에틸헥실아크릴레이트 70중량부, 부틸아크릴레이트 29중량부, 아크릴산 1.0중량부, 및 2,2-아조비스아이소부티로나이트릴 0.050중량부와 아세트산 에틸 200중량부를 질소 도입관, 냉각관을 갖춘 4구 플라스크에 투입하고 충분히 질소 치환한 후, 질소 기류하에서 교반하면서 55℃에서 20시간 중합 반응을 수행하여 중량평균 분자량 146만의 고분자량 아크릴계 중합체 C의 용액을 수득했다.

상기 아크릴계 중합체 C의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기: 130.0℃) 0.15중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인 0.10중량부, 가교제로서 트라이메틸올프로판의 톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물로 이루어진 아이소사이아네이트계 가교제(콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄사 제품) 0.60중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조했다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고, 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해 처리하고 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 61%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 9.0μmol이었다.

실시예 7

실시예 6에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.30중량부를 사용한 것 이외는 실시예 6과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제작했다. 한편, 점착제층의 겔분은 74%이고 과산화물의 분해량은 점착제조성물 1 g에 대하여 13.0μmol이었다.

실시예 8

2-에틸헥실아크릴레이트 70중량부, 부틸아크릴레이트 30중량부, 아크릴산 1.0중량부, 및 3-아크릴옥시프로필트라이에톡시실레인 0.070중량부를 반응성 유화제 아쿠알론 HS-10(다이이치(第一)공업제약사 제품) 2.0중량부를 첨가한 물 25중량부에 가하고 호모 믹서에 의해 유화시켜 유화물을 수득했다. 다음으로 질소 도입관, 냉각관을 갖춘 4구 플라스크에 투입하고 1시간 질소 치환한 후, 물 30중량부 및 개시제 VA-057(와코쥰야쿠사(和光純藥社) 제품) 0.10중량부를 가하고, 이어서 59℃하에서 반응계내를 유지하면서, 상기 유화물을 4.5시간에 걸쳐 적하하여 중합 반응을 수행했다. 반응 종료후, 암모니아를 가하여 pH 8로 조정하여 에멀션형의 아크릴계 중합체 D의 용액을 수득했다.

상기 아크릴계 중합체 D의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 다이벤조일퍼옥사이드(1분간반감기: 130.0℃) 0.15중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인 0.10중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조했 다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고, 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해 처리하고, 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 72%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 12.4μmol이었다.

실시예 9

상기 아크릴계 중합체 A의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 다이(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시다이카보네이트(1분간반감기 온도: 92.1℃) 0.15중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인 0.080중량부, 가교제로서 트라이메틸올프로판의 톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물로 이루어진 아이소사이아네이트계 가교제(콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄사 제품) 0.60중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 조제했다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고, 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해처리하고, 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 81%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 8.0μmol이었다.

실시예 10

상기 아크릴계 중합체 A의 용액(고형분) 100중량부에 대하여 1,1-다이(t-헥실퍼옥시)사이클로헥산(1분간반감기 온도: 149.2℃) 0.30중량부, 실레인 커플링제로서 3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인 0.075중량부, 가교제로서 트라이메틸올프로판의 톨릴렌다이아이소사이아네이트 부가물로 이루어진 아이소사이아네이트계 가교제(콜로네이트 L, 닛폰폴리우레탄사 제품) 0.60중량부를 균일하게 혼합하여 점착제 조성물을 제조했다.

상기 점착제 조성물을 실리콘 박리 처리한 두께 38μm의 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름(미쓰비시폴리에스터사 제품, MRF38(부가반응형 실리콘))에 점착제층의 건조 두께가 25μm가 되도록 도포하고, 150℃에서 2분간 건조 및 과산화물 분해 처리하고, 편광 필름에 전사하여 본 발명의 점착제 부착 광학 부재로 했다. 한편, 점착제층의 겔분은 72%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 5.0μmol이었다.

비교예 1

실시예 1에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드를 가하지 않은 것 이외는 실시예 1과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 62%였다.

비교예 2

실시예 1에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.60중량부를 사용한 것 이외는 실시예 1과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 88%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 22.2μmol이었다.

비교예 3

실시예 3에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드를 가하지 않은 것 이외는 실시예 3과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 59%이었다.

비교예 4

실시예 4에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드를 가하지 않은 것 이외는 실시예 4와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 75%이었다.

비교예 5

실시예 4에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.60중량부를 사용한 것 이외는 실시예 4와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 79%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 24.0μmol이었다.

비교예 6

실시예 5에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드를 가하지 않은 것 이외는 실시예 5와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 60%이었다.

비교예 7

실시예 5에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.30중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.60중량부를 사용한 것 이외는 실시예 5와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 78%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 21.0μmol이었다.

비교예 8

실시예 8에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드를 가하지 않은 것 이외는 실시예 8과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 63%이었다.

비교예 9

실시예 8에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 다이벤조일퍼옥사이드 0.60중량부를 사용한 것 이외는 실시예 8과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 78%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 23.1 μmol이었다.

비교예 10

실시예 2에 있어서, 실레인 커플링제를 가하지 않은 것 이외는 실시예 2와 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 82%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 11.74 μmol이었다.

비교예 11

실시예 8에 있어서, 실레인 커플링제를 가하지 않은 것 이외는 실시예 8과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 78%이고 과산화물의 분해량은 점착제 조성물 1 g에 대하여 12.4 μmol이었다.

비교예 12

실시예 1에 있어서, 다이벤조일퍼옥사이드 0.15중량부 대신에 2,2'-아조비스아이소부티로나이트릴(와코쥰야쿠사 제품, 아조계 개시제) 0.30중량부를 사용한 것 이외는 실시예 8과 같이 하여 점착제 부착 광학 부재를 제조했다. 한편, 점착제층의 겔분은 72%이었다.

상기 방법에 따라서 제조된 점착제 부착 광학 부재의 상기의 평가를 했다. 수득된 결과를 표 1에 나타낸다.

한편, 표 1에 있어서 화합물종(과산화물 및 아조계 화합물)은 이하와 같다.

a) 과산화물 P:

다이벤조일 퍼옥사이드

b) 과산화물 Q:

다이(4-t-부틸사이클로헥실)퍼옥시다이카보네이트

c) 과산화물 R:

1,1-다이(t-헥실퍼옥시)사이클로헥산

d)아조계 화합물 S:

2,2'-아조비스아이소부티로나이트릴

상기 표 1의 결과로부터, 본 발명의 제조 방법에 따라서, 실리콘 박리 라이너상에 점착제층을 형성하는 공정이 박리 라이너상에서 과산화물을 분해시키는 공정을 포함하는 경우(실시예 1 내지 10), 전체 실시예에서 내구성이 우수하고, 실리콘 박리 라이너의 박리력을 용이하게 적절한 박리력으로 조정한 광학 부재용 점착제층 및 그것을 이용한 점착제 부착 광학 부재를 얻을 수 있었다(도 1 참조).

이것에 대하여, 박리 라이너상에서 과산화물을 분해시키는 공정을 포함하지 않은 경우(비교예 1,3 내지 4,6,8,12)에는, 내구성은 우수하지만, 어느 것이나 박리 라이너의 박리력이 0.1 N/50 mm보다 작게 되어 접착력이 불충분했다. 또한, 과산화물 분해량이 20μmol보다 많은 경우(비교예 2,5,7,9)에는 내구성은 우수하지만 어느 것이나 박리 라이너의 박리력이 0.4 N/50 mm보다 크게 되어 박리력이 지나치게 커지게 되었다. 한편, 실레인 커플링제를 포함하지 않는 경우(비교예 10 내지 11)에는 적절한 박리력을 갖지만, 어느 것에서도 내구성이 나쁘다는 결과였다.

따라서, 본 발명의 점착제층의 제조 방법에 의해, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층 및 그것을 이용한 점착제 부착 광학 부재를 얻는다는 것이 확인되었다.

본 발명에 따르면, 내구성이 우수하고 적절한 박리력을 갖는 광학 부재용 점착제층을 제조할 수 있고, 이를 사용하여 점착제 부착 광학 부재, 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

Claims

실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정, 및 상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정을 포함하는 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 점착제조성물 1 g에 대하여 상기 과산화물 1 내지 20μmol을 가열 분해시키는 것을 특징으로 하는 실리콘 박리 라이너의 박리력 조정 방법.
실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정을 포함하는 점착제층의 제조 방법으로서, 실리콘 박리 라이너의 박리력을 조정하는 공정을 포함하는 실리콘 박리 라이너 부착 점착제층의 제조 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 점착제 조성물이 단량체 성분 100중량부중 (메트)아크릴산 알킬 에스터 80중량부 이상을 갖는 (메트)아크릴계 중합체를 베이스 중합체로서 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층의 제조 방법.
제 3 항에 있어서,

상기 점착제 조성물이 점착제 조성물 100중량부중 실레인 커플링제 O.01 내지 1중량부를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제층의 제조 방법.
실리콘 박리 라이너의 박리 처리면에 베이스 중합체 및 과산화물을 함유하는 점착제 조성물의 층을 설치하는 공정을 포함하는 실리콘 박리 라이너 부착 점착 시이트류의 제조 방법에 있어서,

상기 과산화물의 일부 또는 전부를 가열 분해시키는 공정에 의해 실리콘 박리 라이너의 박리력이 0.1 내지 0.4 N/50 mm의 범위가 되도록 조정하는 실리콘 박리 라이너 부착 점착 시이트류의 제조 방법.
제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 광학 부재용 점착제층.
제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 광학 부재용 점착제층을 갖는 광학 부재용 점착 시이트류.
제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 광학 부재용 점착제층을 광학 부재의 한 면 또는 양면에 형성하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착제 부착 광학 부재.
제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조된 광학 부재용 점착제층을 광학 부재의 한 면 또는 양면에 형성하여 이루어진 점착제 부착 광학 부재를 하나 이상 사용하는 화상 표시 장치.