CN1701367A - 磁光记录介质及其制造方法以及磁光记录介质驱动器 - Google Patents

Abstract

一种磁光盘(11)包含基板(12)。相槽(13)形成在基板(12)的表面上。基于相槽(13)记录RAM信息。底涂层膜(14)、磁记录膜(15)、涂层膜(17)和反射膜(18)覆盖在相槽(13)上。RAM信息记录在相槽(13)上方的磁记录膜(15)中。将基板(12)的第一和第二双折值之间的差设置成等于或者小于37nm。为单向穿过所述基板的光束测量第一双折射值，所述基板保持绕与该光束在所述基板上的投影处的相槽序列相切的切线相对于与该光束垂直的基准平面旋转20度倾斜角α的姿态。为单向穿过所述基板的光束测量第二双折射值，所述基板保持绕在包括垂直于所述相槽序列的方向上的基板表面的平面内延伸的直线相对于所述基准平面旋转20度倾斜角α的姿态。在ROM和RAM信息的读出中可以减小波动。

Description

磁光记录介质及其制造方法以及磁光记录介质驱动器

技术领域

本发明涉及磁光记录介质及磁光记录介质驱动器，该磁光记录介质既可用作由形成在基板上的相槽(phase pit)构成的ROM(只读存储器)又可用作由磁光记录层构成的RAM(随机存取存储器)。具体地说，本发明涉及磁光记录介质和磁光记录介质驱动器，其有助于较好地读出ROM和RAM上的信息。

背景技术

图21示出了根据ISO标准的常规磁光盘的平面图。如图21所示，磁光盘70包含读入区71、读出区72和用户区73。读入区和读出区71、72为包括相槽的ROM区。相槽对应于在聚碳酸酯基板(polycarbonatesubstrate)表面上形成的凹坑。相槽的深度设置为使信息读出时的光强度的调制最大。用户区73对应于读入区和读出区71、72之间的RAM区。允许用户将任何信息记录到RAM区。

图22示出了用户区73的放大图。如图22所示。在作为轨迹导槽的沟槽74之间的岸75上形成用于标题部分(header section)76的相槽78和用户数据部分77。用户数据部分77由插在沟槽74之间的平坦的岸75构成。磁光信号作为信息记录在用户数据部分77中。

在读出磁光信号时，向用户区73施加强度较小的激光束。基于极性克尔效应(polar Kerr effect)，响应于记录层中的磁化，偏振面在激光束中旋转。基于反射束的偏振分量的强度确定信号。由此读出RAM信息。

已经进行了利用磁光盘的上述特征的研究。如日本专利公开No.6-202850所公开的，已经提出了用于同时再现ROM和RAM信息的所谓协同ROM-RAM光盘。图23示出了同时再现ROM和RAM信息的磁光记录介质81的径向的截面图。该磁光记录介质81包含由聚碳酸酯等构成的基板83。在基板83上通过射出成型(injection molding)形成相槽82。电介质薄膜84、磁光记录膜85例如TbFeCo等、电介质膜86、铝反射膜87和作为保护层的紫外固化树脂膜88依次形成在基板83的表面上。

如图23和24所示，ROM信息基于在基板83上形成的相槽PP的序列而固定在磁光记录介质81中。RAM信息OMM基于磁光记录膜中的磁光记录而记录在相槽PP的序列上。图23对应于沿着图24的线23-23截取的截面图。如图24所示，相槽PP起到轨迹导槽的作用。没有形成沟槽74。在同时读出基板同一侧的由相槽PP构成的ROM信息和基于磁光记录的RAM信息时存在很多问题。

完成ROM信息读出所需要的光强度的调制是在RAM信息的再现信号中产生噪声的一个因素。本申请人在2002年1月11日申请的国际PCT申请PCT/JP02/00159中提出了一种方案。将读出ROM信息所得到的光强度调制信号的反馈输入给激光二极管，用于信息的读出。相信这样可以减少光强度调制中的噪声。然而，如果用于ROM信息的光强度调制程度变得更大，则不能充分降低噪声。此外，难以以较高的速度反馈控制激光的强度。

可以减小用于ROM信息的光强度的调制程度，以使来自相槽的噪声最小，从而使上述RAM信号中噪声得到减小。然而，仅当ROM信号的强度变得极小时，才能得到用于RAM信息的足够的再现信号。这种方式阻碍了ROM信息的读出。换句话说，即使调整用于ROM信息的光强度的调制程度，也不能实现ROM和RAM信号的同时读出。

发明内容

因此本发明的目的是提供一种磁光记录介质和磁光记录介质驱动器，其有助于可靠地实现相槽形式的ROM信息和基于磁光记录的RAM信息的同时读出。本发明的目的还在于提供一种磁光记录介质和磁光记录介质驱动器，在ROM和RAM信息的再现信号中能够将波动抑制在预定范围内。

根据本发明，将第一和第二双折射值之间的差、即双折射差设置为等于或者小于47nm，针对穿过所述基板的单向光束，在所述基板保持绕与该光束在所述基板上的投影处的相槽序列相切的切线、相对于与该光束垂直的基准平面旋转20度的姿态时，测量所述第一双折射值；针对穿过所述基板的单向光束，在所述基板绕在包括基板表面的平面内延伸的、与所述相槽序列相垂直的方向上的直线相对于所述基准平面旋转20度的姿态时，测量所述第二双折射值。

当将双折射差设置成等于或者小于47nm时，能够充分抑制从磁记录膜中读出数据时的波动。具体地，优选地将双折射差设置成等于或者小于30nm。例如，基板可以由聚碳酸酯或者非晶聚烯烃构成。

可以将相槽的光深设置在0.06λ和0.14λ之间的范围内，其中λ是用于数据读出的光束波长。通常，基于相槽在磁光记录介质中记录ROM信息。较深的相槽有助于ROM信息的可靠读出。可以基于磁记录膜中的磁化在磁光记录介质中记录RAM信息。较浅的相槽有助于RAM信息的可靠读出。在上述范围内的相槽的光深既有助于RAM信息又有助于ROM信息的可靠读出。具体地，优选地将相槽的光深设置在0.073λ到0.105λ之间的范围内，其中λ是用于数据读出的光束波长。

例如，可以将相槽设置成具有8％至55％范围内的调制程度。在该设置范围内的调制程度有助于将波动减小为等于或者小于15％以及可靠的寻轨。

采用射出成型来形成所述的由聚碳酸酯或者非晶聚烯烃构成的记录介质。可以在等于或者高于90摄氏度的温度下对基板进行退火处理。退火处理用于将基板的双折射差抑制到等于或者小于37nm的水平。具体地，等于或者高于100摄氏度的温度有助于建立等于或者小于32nm的双折射差。在这种情况下，在读出RAM信息时可以将波动抑制到等于或者小于8％的水平。应注意，该温度不应超出130摄氏度。如果温度超过130摄氏度，则基板会翘曲。该翘曲会妨碍RAM信息的可靠读出。在退火处理之后在基板上形成磁性记录膜或者层。

为了使上述记录介质实用化，提供了一种具体的磁光记录介质驱动器。驱动器可以包含发射光束的光源；支持记录介质的轴；设计成将光束引导到记录介质的光学系统，所述光束具有与限定相槽序列的记录轨迹相垂直的偏振面。与所照射的光束具有平行于记录轨迹的偏振面的情况相比，该驱动器能够很好地减小波动。该磁光记录介质驱动器可以进一步包含：第一光检测器，用于检测在从记录介质反射的光束和反射之前的所述光束之间偏振面的旋转；和第二光检测器，检测从记录介质反射的光束强度。利用第一光检测器进行RAM信息的读出。利用第二光检测器进行ROM信息的读出。

附图说明

图1是磁光盘的透视图。

图2是沿着图1的线2-2截取的放大垂直截面图。

图3是用于说明双折射测量方法的示意图。

图4是磁光盘的局部放大透视图，用于说明轨迹节距、相槽的宽度和相槽的最小长度的概念。

图5是在岸记录中采用的常规连续沟槽基板的局部放大垂直截面图。

图6是用于说明双折射测量方法的示意图。

图7是说明在基于磁光盘中磁记录膜磁化的RAM(随机存取存储器)信息的读出中双折射差和波动之间的关系曲线图。

图8是示出了在基于相槽的ROM(只读存储器)信息的读出中双折射差和波动之间关系的曲线图。

图9是示出了对于具有连续岸的基板上磁光信号的再现来说双折射差和波动之间关系的曲线图。

图10是示出了垂直光束的双折射差和RAM波动之间关系的曲线图。

图11是示出了基板的倾斜角和双折射差之间关系的表。

图12是示出了当将波动抑制到等于或者小于10％的水平时基板的倾斜角和双折射差之间关系的曲线图。

图13是示出了对于各个温度的退火处理来说双折射差、RAM波动和基板翘曲的表。

图14是示出了在读出RAM和ROM信息中相槽的光深和波动之间关系的曲线图。

图15是用于说明调制程度的示意图。

图16是示出了在读出RAM和ROM信息中调制程度和波动之间关系的曲线图。

图17是说明磁光盘驱动器结构的示意图。

图18是说明记录轨迹和激光束的偏振面之间关系的局部放大透视图。

图19是表示当采用垂直或者水平偏振来基于磁记录膜中的磁化读取RAM信息时，双折射差和波动之间关系的曲线图。

图20是表示当采用垂直或者水平偏振来基于相槽读取ROM信息时，双折射差和波动之间关系的曲线图。

图21是根据ISO标准的常规磁光盘的平面图。

图22是在常规磁光盘上的用户区的局部放大图。

图23是常规磁光盘用户区处的局部垂直截面图。

图24示出了在用于同时读出ROM和RAM信息的磁光盘上相槽和磁光信号之间的关系。

具体实施方式

图1示出了作为磁光记录介质的示例的磁光盘11。磁光盘11采取协同ROM-RAM磁光盘的形式。磁光盘11的直径例如设定为120mm。

图2示意性地示出了磁光盘11的截面图。磁光盘11包含基板12。基板12由透明材料制成。该材料可以是树脂材料，例如聚碳酸酯、非晶聚烯烃(amorphous polyolefin)等。采用射出成型形成基板12。

基于从模制模具的转移，在基板12的表面上形成相槽13。相槽13对应于在基板12的表面上形成的凹坑。此后将该类型的基板称作“相槽基板”。底涂层膜14、磁记录膜15、辅助磁性膜16、涂层膜17、反射膜18和保护膜19依次形成在基板12的表面上。底涂层膜14、磁记录膜15、辅助磁性膜16、涂层膜17、反射膜18和保护膜19都覆盖在相槽13上。用户数据保存在磁光盘11中的相槽13上的磁记录膜15中。

将第一和第二双折射值之间的差设置为等于或者小于47nm。下文将该差值称作“双折射差”。在本实施例中，通过在基板12上对单向的第一倾斜入射光束进行测量得到第一双折射值。同样，通过在基板12上对单向的第二倾斜入射光束进行测量得到第二双折射值。如图3所示，例如，在基板12保持绕半径线23(该半径线穿过测量用光束21在基板12上的投射点)相对于与该光束21垂直的基准平面22旋转20度倾斜角α的姿态的情况下测量第一双折射值。同样，在该基板12保持绕切线24相对于基准平面22旋转20度倾斜角β的姿态的情况下来测量第二双折射值，切线24与该光束21在基板12上的投射点处的相槽序列或者轨迹线相切。可以采用常规的双折射测量设备测量该第一和第二双折射值。

本发明人制备了厚为1.2mm的相槽基板。如图4所示，该相槽基板包含8-14调制(EFM)的相槽。将相邻的相槽序列之间的轨迹节距Tp设置为1.6μm。相槽的宽度Pw设置为0.40μm。相槽的最小长度设置为0.832μm。采用射出成型形成相槽基板。这里，模具(stamper)被制备为具有不同深度的相槽。由此形成的相槽基板具有不同深度的相槽。如图5所示，本发明人还制备了具有用于连续岸记录的连续沟槽的常规基板。在本文中将这种类型的基板称作“连续沟槽基板”。沟槽的相邻匝(turn)之间的轨迹节距设置在0.9μm。采用相同的材料形成相槽基板和连续沟槽基板。还为相槽基板和连续沟槽基板设置了相同的退火处理的条件。将所形成的基板设置在双折射测量仪器中。如图6所示，以前述方式测量双折射值。采用Orc制造株式会社的ADR-200B作为双折射测量仪器。在测量中激光束的波长被设置为635nm。

接着，基于上述相槽基板和连续沟槽基板形成磁光盘。为作用于相槽基板和连续沟槽基板的退火处理设置各种条件。然后在溅射装置中放置相槽和连续沟槽基板。在溅射装置的腔室中设置等于或者小于5×e^-5[Pa]的真空。在第一腔室中设置Si靶。将相槽基板和连续沟槽基板传送到第一腔室中。将Ar气和N₂气引入到第一腔室中。在第一腔室中实施反应溅射。在基板上形成厚80nm的由SiN膜构成的底涂层膜14。

接着，将相槽基板和连续沟槽基板传送到溅射装置的第二腔室中。在第二腔室中依次形成由Tb₂₂(FeCo₁₂)₇₈膜构成的厚30nm的磁记录膜15和由Gd₁₉(FeCo₂₀)膜构成的厚4nm的辅助磁性膜16。接着相槽基板和连续沟槽基板传送到第一腔室中。在第一腔室中形成由SiN膜构成的厚5nm的涂层膜17和由铝膜构成的厚50nm的反射膜18。然后在反射膜18上形成由紫外线固化树脂涂层构成的保护膜19。以这种方式制备磁光盘。

在记录/再现装置中依次设置磁光盘。在记录/再现装置中基于相槽序列测量ROM波动(jitter)。在记录/再现装置中还基于相槽序列上的磁光记录的再现测量RAM波动。在记录/再现装置中激光束的波长被设置为650nm。数值孔径(NA)被设置为0.55。线速度被设置为4.8[m/s]。采用磁场调制记录在磁光盘上的磁记录膜中建立8-14比调制的预定数据。标记(mark)的最短长度设置为0.832μm。在RAM和ROM信息的波动测量中，将激光的再现功率设置为1.5[mW]。在磁场调制记录中采用具有8.0[mW]激光功率Pw的DC辐射。偏振面设置在垂直于再现过程的激光束的轨迹线的方向上。应注意可以在取代磁场调制记录的光调制记录中实现相同的效果。

图7和图8示出了测量结果。将相槽的光深(optical depth)设置为0.095λ，等于40nm的基本深度。图7示出了磁光再现中的波动和RAM。图8示出了相槽的ROM波动。采用Teijin化学株式会社的Panlite^ST-3000和AD-900TG作为相槽基板的材料。采用射出成型形成相槽基板。在90摄氏度、110摄氏度或者130摄氏度的温度下在相槽基板上实施退火处理。以这种方式制备对于第一和第二倾斜入射光束具有不同的双折射差的六个磁光盘。同样制备六个磁光盘，使其对于连续沟槽基板来说具有不同的双折射差。为这些连续沟槽基板设置相同的材料和条件。图9示出了采用连续沟槽基板的磁光盘的结果。SiN的底涂层膜、TbFeCo构成的磁记录膜、辅助磁性膜、SiN构成的涂层、铝反射膜和保护膜同样地形成在连续沟槽基板上。基于采用岸(land)的轨迹伺服控制将预定数据写入连续沟槽基板上的磁记录膜中。

如图7所示，已经确认，双折射差的增加会引起相槽上的磁光记录的RAM波动的显著增加。通常，对于光盘(CD)来说在错误校正中利用CICR、交叉交错里德所罗门(Cross-Interleaved read-Solomon)码。等于或者小于1×10^-2的错误率确保了对于基本错误校正来说足够的质量。如果将波动设置为等于或者小于15％，则可以实现所述水平错误率。由此在第一和第二倾斜入射光束之间，可以将双折射差设置为等于或者小于47nm。如果考虑增加波动的不确定因素，则应确立等于或者小于10％的波动。具体地说，对于第一和第二倾斜入射光束来说，应将双折射差设置为等于或者小于37nm。如果考虑最大的不确定因素，应将波动设置为等于或者小于8％。具体地说，对于第一和第二倾斜入射光束来说，应将双折射差设置为等于或者小于30nm。在各种不确定的因素下，如果将波动设置为等于或者小于8％，则在数据读出中不会发现错误，从而能够实现足够高的质量。这里，本发明人试图基于物镜的聚焦调整来抑制RAM波动。然而，这仅稍微改善了RAM波动。如图8所示，对于第一和第二倾斜入射光束之间的各种双折射差来说，采用相槽基板的磁光盘可享有恒定的ROM波动。换句话说，第一和第二双折射值之间的较小双折射差能够使RAM波动减小。

图9示出了作为常规的记录方法的岸记录的结果。当双折射差变得较大时，在岸记录中的波动也逐渐增加。但即使双折射差达到50nm，也可以将波动减小到等于或者小于8％的水平。本发明人同样试图基于聚焦调整减小波动，不管双折射差的变化怎样，完全抑制了RAM波动的增加。

图10示出了针对垂直入射在相槽基板上的光束的波动和双折射之间的关系。这里，在针对垂直入射的双折射测量中将倾斜角α、β设置为0度。换句话说，基板保持垂直于激光束24的姿态。这是测量双折射的常规方法。如图10所示，针对垂直入射的双折射和RAM波动之间不存在关联。如图3所示，相槽上的RAM波动与双折射测量中的倾斜方向具有紧密的关系。

图11示出了倾斜角α、β和双折射差之间的关系。倾斜角的增加引起了半径方向和相槽序列的方向之间的双折射差的增加。图12示出了当将波动抑制到等于或者小于10％的水平时基板的倾斜和双折射差之间的关系。应满足下列关系，其中y表示双折射差，X表示基板的倾斜角：

[等式1]

y＝0.082X²+0.324X    …(1)

接着，本发明人以上述方式制备相槽基板。这里，相槽的光深设置为0.095λ，等于40nm的基本深度。采用Panlite^ST-3000聚碳酸酯作为相槽基板的材料。采用射出成型形成相槽基板。如图13所示，实施各种温度的退火处理。退火处理维持30分钟。从图13中可清楚地看出，当将退火处理的温度设置为等于或者高于90摄氏度时，可以将双折射差设置为等于或者小于37nm。可以将波动抑制到等于或者小于10％的水平。当将退火处理的温度设置为等于或者高于100摄氏度时，可以将波动抑制到等于或者小于8％的水平。如果将退火处理的温度设置到等于或者高于140摄氏度，则由于翘曲在基板上不能进行测量。优选将退火处理的温度设置在90摄氏度到130摄氏度之间的范围内。

接着，本发明人以上述方式制备了相槽基板。采用Panlite^ST-3000聚碳酸酯作为相槽基板的材料。对于退火处理而言将温度设置在130摄氏度。如图14所示，改变相槽的光深。从图14中可清楚地看出，如果将相槽的光深设置为等于或者小于0.14λ，则将RAM波动抑制到等于或者小于15％的水平。应注意，如果相槽的光深在0.06λ以下，则不能实现稳定的寻轨(tracking)。不能实现正常的记录/再现。应将相槽的光深设置为等于或者大于0.06λ。如果将光深设置在0.06λ到0.14λ之间的范围内，可以实现稳定的寻轨和等于或者小于15％的波动。此外，如果将光深设置在0.065λ和0.118λ的范围内，则可以将ROM波动和RAM波动都设置为等于或者小于10％。如果将光深设置在0.073λ和0.105λ的范围内，则可以将ROM波动和RAM波动都设置为等于或者小于8％。这里，可以基于制备模具的条件和在基板上实施的深紫外照射来调整相槽的深度。

然后，本发明人以上述方式制备相槽基板。采用Panlite^ST-3000聚碳酸酯作为相槽基板的材料。采用射出成型形成相槽基板。为相槽基板上的相槽设定各种光深。在130摄氏度温度下在各个相槽基板上实施退火处理，时间为30分钟。以上述方式基于相槽基板制备磁光盘。对于所制备的磁光盘测量调制和波动的程度。在测试仪中依次设置磁光盘。基于相槽的寻轨伺服，从相槽中再现ROM信息。激光束的波长被设置为650nm。数值孔径NA被设置为0.55。线速度被设置为4.8[m/s]。采用磁场调整记录在磁光盘上的磁记录膜中形成8-14调制的预定数据。标记的最短长度设定在0.832μm。同样基于具有等于8-14调制的0.832μm的最短标记长度的相槽建立ROM信息。基于相槽序列测量ROM波动。还基于相槽序列上的磁光记录的再现测量RAM波动。在ROM和RAM信息的波动测量中将激光的再现功率设置在1.5[mW]。在磁场调制记录中采用具有8.0[mW]激光功率Pw的DC照射。偏振面设置在垂直于再现过程中激光束轨迹线的方向上。

测量从磁光盘反射的激光束强度，以计算调制程度。如下面详细描述的，对于偏振的垂直平面，在被分割的光检测器处检测激光束的光强度。在加法放大器处将从光检测器输出的电信号相加。以这种方式检测整个激光束的强度。相加之后的电信号输入到示波器中。如图15所示，经过相槽的激光束反射水平(reflected level)降低。另一方面，照射在相槽之间的空间的激光束的反射水平被提高。反射水平之间的差对应于基于相槽的ROM信号的强度。这里，由该空间处的反射水平La和ROM信号的强度Lb之间的比定义调制的程度。具体地说，调制的程度M表示如下：

[等式2]

$M=100\·\frac{\mathrm{Lb}}{\mathrm{La}}....\left(2\right)$

从图16中可清楚地看出，当调制程度变得较高时，减小了ROM波动，同时增加了RAM波动。如果将调制程度设定成等于或者小于55％，则将ROM波动和RAM波动抑制到等于或者小于15％的水平，如果减小相槽的光深以将调制程度减小到8％以下，则不能实现稳定的寻轨。不能实现正常的记录/再现。如果将调制程度设置在8％和55％之间的范围内，则可以获得稳定的寻轨并获得等于或者小于15％的波动。如果将调制程度设定在11％和39％之间的范围内，则将ROM波动和RAM波动都抑制到等于或者小于10％的水平。如果将调制程度设定在14％和34％之间的范围内，则可以将ROM波动和RAM波动抑制到等于或者小于8％的水平。

如上所述，在按如上所述的方式将双折射差设定在第一和第二倾斜入射光束之间的条件下，如果调整光深和调制程度，则对于基本目标ROM和RAM来说可以充分抑制波动。如果双折射差偏离上述范围，则即使调整了光深和调制程度也不能充分减小波动。

采用磁光盘驱动器31在磁光盘11上实施记录/再现操作。如图17所示，该磁光盘驱动器31包含被设计成支撑磁光盘11的轴(spindle)32。轴32起到驱动围绕轴32的纵轴的磁光盘11的作用。

磁光盘驱动器31包含光源或者半导体激光二极管33。该半导体激光二极管33设计成使其发射线性偏振的光束或者激光束34。当磁光盘11安装在柱轴32上时，所谓的光系统35起到将激光束34引导到磁光盘11的作用。

例如，光系统35包含与磁光盘11的表面相对的物镜36。例如，分束器37位于半导体激光二极管33和物镜36之间。来自半导体激光二极管33的激光束34经过分束器37。经过分束器37的激光束34经过物镜36照射到磁光盘11。物镜36起到在磁光盘11的表面上形成微小束点的作用。激光束34经过基板12、底涂层膜14、磁记录膜15、辅助磁性膜16和涂层17，而到达反射膜18。反射膜18反射激光束34。反射的激光束34通过物镜36被引导到分束器37。

双波束渥拉斯顿(wollaston)38与分束器37相对。分束器37起到反射从磁光盘11返回的激光束34的作用。通过分束器37将激光束34引导到双波束渥拉斯顿38。双波束渥拉斯顿38将激光束34分解为与相互垂直的偏振面对应的分量。

分光检测器41放置在双波束渥拉斯顿38的后面。然后在双波束渥拉斯顿38处分解之后在分光检测器41处检测各个偏振面的激光束34。将激光束34转换为各个偏振面的电信号。然后在加法放大器42处对这些偏振面的电信号进行求和。检测整个激光束34强度。以这种方式基于加法放大器42的输出读出ROM信息。在减法放大器43处对电信号执行减法。在从磁光盘11反射的激光束34的偏振面和反射之前的激光束34的偏振面之间检测旋转。以这种方式基于减法放大器43的输出读出RAM信息。

磁头滑动器44与物镜36相对。电磁变换器安装在磁头滑动器44上。电磁变换器可以位于从物镜36指向磁光盘11的激光束34的路径延伸部分上。当照射激光束34时，磁记录膜15的温度升高。电磁变换器起到将用于记录的磁场施加给磁记录膜15的作用。温度的升高允许磁化响应于用于记录的磁场方向而在磁记录膜15中旋转。以这种方式将RAM信息写入到磁记录膜15中。应注意可以采用光调制记录以取代上述磁场调制记录。

如图18所示，使激光束34沿着与限定相槽序列的轨迹线45相垂直的偏振面46照射磁光盘驱动器31。换句话说，在照射在相槽13以及磁记录膜15处的激光束34中形成垂直偏振。垂直偏振的激光束34有助于减小ROM和RAM信息读出中的波动。

本发明人以上述方式制备了六个磁光盘11。本发明人测量各个例子的波动。准备第一和第二激光束。以与上述磁光盘驱动器31相同的方式在照射在磁光盘11上的第一激光束中形成垂直偏振。在第二激光束中与磁光盘11上的记录轨迹平行地设置偏振面。具体地说，在照射在相槽13和磁记录膜15上的第二激光束中形成所谓的水平偏振。如图19所示，可以确定，不管RAM信息读出中基板12的双折射差怎样，基于采用垂直偏振而不是水平偏振可减小波动。如图20所示，在ROM信息的读出中在垂直偏振和水平偏振之间观察到极小的差别。

Claims (13)

1.一种磁光记录介质，包括：

具有包含相槽序列的ROM区的基板；和

覆盖在所述基板的ROM区上的、用于保持RAM信号的磁光记录膜，其中：

至少在ROM区的用户区上将第一和第二双折射值之间的差设置为等于或者小于47nm，针对穿过所述基板的单向光束，在所述基板保持绕与该光束在所述基板上的投影处的相槽序列相切的切线、相对于与该光束垂直的基准平面旋转20度的姿态时，测量所述第一双折射值；针对穿过所述基板的单向光束，在所述基板绕在包括基板表面的平面内延伸的、与所述相槽序列相垂直的方向上的直线相对于所述基准平面旋转20度的姿态时，测量所述第二双折射值。

2.根据权利要求1的磁光记录介质，其中所述差设置为等于或者小于30nm。

3.根据权利要求1的磁光记录介质，其中所述相槽具有在0.06λ至0.14λ范围内的光深，其中λ是用于读出数据的光束波长。

4.根据权利要求1或2的磁光记录介质，其中所述相槽具有在0.073λ至0.105λ范围内的光深，其中λ是用于读出数据的光束波长。

5.根据权利要求1或2的磁光记录介质，其中将所述相槽设置成具有8％至55％范围内的调制程度。

6.根据权利要求1或2的磁光记录介质，其中将所述相槽设置成具有14％至34％范围内的调制程度。

7.根据权利要求1-6任一项所述的磁光记录介质，其中所述基板由聚碳酸酯或者非晶聚烯烃构成。

8.一种磁光介质的制造方法，包括：

通过射出成型形成基板；和

在等于或者高于90摄氏度的温度下对该基板进行退火处理。

9.根据权利要求8所述的方法，其中将所述温度设置为等于或者高于100摄氏度。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中将所述温度设置为等于或者低于130摄氏度。

11.根据权利要求8-10任一项所述的方法，其中在退火处理之后在所述基板上形成磁性层。

12.一种磁光记录介质的驱动器，包括：

发射光束的光源；

支撑记录介质的轴；和

设计为将所述光束引导到所述记录介质的光系统，所述光束具有与限定了相槽序列的记录轨迹相垂直的偏振面。

13.根据权利要求12所述的磁光记录介质的驱动器，还包括：

第一光检测器，检测从所述记录介质反射的光束和反射之前的所述光束之间的偏振面的旋转；和

第二光检测器，检测从所述记录介质反射的光束强度。

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