CN1610843A - 双凸固体浸入式镜头 - Google Patents

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Abstract

本发明揭示一种双凸固体浸入式镜头。与传统平凸固体浸入式镜头具有一平底面不同的是，该揭示的镜头具有一凸底部表面。该底部表面的曲率半径是小于待检物件。此构造可较准确地决定待检特征的位置，且增强浸入式镜头与待检物件间的光耦合。在此揭示的镜头特别适用于检测半导体装置，且特别是覆晶(或晶片等级)封装装置的显微镜。此浸入式镜头也可用于光学记忆媒体的读取或读/写头中。

Description

双凸固体浸入式镜头
技术领域
本发明关于固体浸入式镜头，特别是关于可增加及最佳化光学影像与收集系统的空间解析度与集光效率的固体浸入式镜头。
背景技术
光学空间解析度的定义是指一影像系统能明显地分隔靠近置放的结构的能力。光学解析度对处理诸如光学测量、微影印刷与天文应用中的物件影像的人士而言更形重要。
在一理想世界中，光学影像元件须具有无限尺寸以使最大量的光可聚焦于待检物件及/或由其收集。光的波本质结合光学元件孔径的限制导致了衍射(diffraction)——当光因不连续的散射而与来自其他范围的光学元件传递来的光再结合而产生的光干扰现象。
在现实中，光学影像元件具有有限尺寸，且当光波行经这些元件而后由这些元件的孔径重新结合时即会发生衍射。实际上，光学系统中的空间解析度是受到光学元件有限孔径的像差、视野与其材料性质等而影响。
有许多因素需要了解与补偿以获得一光学系统的最佳效能。理想的光学元件应不受不同波长(颜色)光的影响，因而不因色差而影响解析度与光学效能。这些元件理论上也应不受靠近其轴(傍轴)处的光传输及聚焦，与进一步来自其轴的传输与聚焦。此径向对称元件的变异是称为球面像差。这些像差、其类型及适当补偿与最佳化光学影像系统的方法的回顾，可参考习知的光学教本。
以下将说明一光学元件，以及用以强化与增加对嵌于样本材料内影像物件与结构的高解析度影像处理的解析能力及最小化像差修正的方法。
即使经最佳化设计以适当地处理像差且使极限降至最低的光学系统，也是有限孔径尺寸而导致衍射的系统。因此，在此所针对的是为衍射限制(解析度只为衍射所限者)的光学系统。各种分析式已经导出以定义一光学影像系统中一衍射限制系统的空间解析度。这些方程式与表示式全部关于照射光与该影像系统能力的基本性质，以耦合样本与由其收集光。例如，解析度分析式的一使用方法是定义一光学系统的侧向空间解析能力，以解出能够在一半圆锥θ0(图10a)中聚焦与集光的一镜头的光栅周期T：
(1)T＝αλO/(n*sinθ0)
其中λO是在真空中光的波长，而“n”是该媒体的折射系数(即对于空气，n0＝1，λ＝λO在空气/真空的光波长。对于折射系数为n的一媒体，λ＝λO/n)。正比常数α是由解析度标准所定义，即在常用的雷利(Rayleigh)解析度标准中α＝0.61，或在史巴罗(Sparrow)解析度标准中α＝0.5。关于该镜头数值孔径(Numerical aperture，NA)的光圆锥的最大半角可依据：
(2)NA＝n*sinθ0
因此可得到下列关系式：
(3)T＝αλO/(NA)，
因此，增加空间解析度的努力将集中在增加NA或使用较短波长光中的一。增加NA可通过适当地设计物镜，以增加聚焦于该样本或由其收集的光的立体角锥，而减低波长可通过使用一不同照射光源而获利较短的波长(例如一雷射光源或一经窄滤波的宽频谱光源)。
在该待研究结构是内置于折射系数为n1的材料中的情况下，由于折射，该材料内的半圆锥角(θ1)与在空气中的半圆锥角(θ0)(图10b)的关连如下列表示式：
(4)n0sin(θ0)＝n1sin(θ1)(图10b)
虽然(下凹)的圆锥角按一系数n0/n1减低，波长也将按相同的因子减低。因此NA守恒，而该影像系统的有效解析度维持未变。然而在空气/真空介面处的偏离法线入射(轴)线弯曲导致球面像差与轴慧差(coma)，其终将减低影像的真实感与整体的解析度。
须注意的是在任何影像处理系统中，在检测时使光耦合至样本与由其收集的光最大化的能力，对该影像处理效能是具有关键性。由于在受关注的范围能集中且收集到较多光将可转换成较大的信号(信息)。当受关注范围是内置于一材料中时，由样本折射而入射于关键角(θC＝sin-1(n0/n1))外的材料-空气介面的光将折射回样本内(全内反射)，而未能被收集。
总而言之，影像处理系统与内置物件间的折射系数差别越大，焦点的圆锥角越小且全内反射(由样本损失的光)越高。因此，目标是在减低与补偿镜头聚焦元件(即显微镜物镜)与内置物件间折射系数突然的转变。最好是折射系数能“匹配”。
习知为补偿解析度与集光的减低，介于物镜镜头与样本间的空气间隙是填充折射系数能匹配该材料的一液体，称之为“系数-匹配液体”。在许多为生物研究建构的显微镜中，试件是置于折射系数(~1.5)接近该样本的一覆玻片下。用以在覆玻片与内置试件间“架桥”的系数-匹配液体将尽可能接近地匹配该折射系数。在此系数-匹配设置中的物镜镜头也经最佳化设计以通过该较高系数的液体处理影像。
以液体增强解析度是受限于使用液体的折射系数。硅的折射系数将近3.5，然而系数-匹配液体的折射系数将近1.6。如果移除该镜头与物体间的介面，则光学件的NA可完全利用透明固体材料较高折射系数的优点。以硅为例，其折射系数是将近3.5。如果匹配该材料的折射系数是不可行(例如匹配折射系数的液体的可用性或操作上与实施上的考量)，“匹配”将可以一固体来达成。明显地，一主要的“系数-匹配”候选材料是由与待测物件材质相同的元件建构成。
尽管固体系数匹配与液体系数匹配的目标是类似(增加进入与离开样本的光耦合与收集)，但在整体光学系统的实施与限制上有主要的差别。鉴于液体是柔软且易于填充镜头与物件间的间隙，固体浸入式元件则需经设计以物理上适配与光学上匹配该影像处理系统。由于该平坦的样本-空气介面且目标为耦合最大立体角(不仅是延伸该光线进一步进入空间)，习知固体浸入式光学元件依其本质设计为一平(与样本的介面)与一对称弯曲凸面(远离样本)。此曲面可为一圆柱状(例如美国专利4,625,114号)或一球状(例如美国专利4,634,234号)，且因为其曲率作用为一凸透镜头，因而适切的称法为固体浸入式镜头(SIL)。该SIL极类似许多习知显微镜物镜中的第一(由样本处看)平凸聚焦/收集元件。鉴于液体匹配只是一光耦合机构，固体浸入另具一固定聚焦的特点。
当然可兼用二种浸入式技术，意即使用固体浸入式镜头与系数匹配液体。上述技术的使用是例如揭露于美国专利3,524,694、3,711,186与3,912,378号，以及由Warren J.Smith所著“现代光学工程”(Mcgraw-Hill 1966年出版，第230至236页)。对浸入式镜头更新的研讨可在美国专利5,004,307、5,208,648与5,282,088号中获得。为求适当了解本发明的新颖与优势的特点，特别央请读者审视后三件专利，以及“固体浸入式显微镜”＿(M.Mansfield，史丹佛大学博士论文G.L.报告4949，1992年3月)。
传统技术的固体浸入式镜头是平凸状。意即底部表面(面向物件的表面对)是平的，而面向物镜的顶面是凸面。第1a至1c图显示关于最后引述的三个浸入式镜头。在第1a至1c图中，待影像处理的物件经识示为100。第1a至1c图有关可称为垂直入射半球的习知固体浸入式镜头，其中图1c是一等光程聚焦元件。
图1a中显示浸入式镜头110是一半球形。意即该平凸镜头的平面通过上部半球形表面的径向几何中心，GC。值得注意的是所有进入/离开的光线均垂直于凸面。在美国专利5,004,307号中描述的镜头110进一步研磨成图1a中破折线111所示。此是为装设用，但并不影响该半球状镜头的光学性质，如本发明者的一在其博士论文“固体浸入式显微镜”＿(M.Mansfield，史丹佛大学，1992年3月)中所解说。
另一方面，图1b中所示的镜头120的平面通过该上部表面的径向几何中心(GC)的“上方”。应注意的是，其设计使得其几何中心是位于待处理影像物件内部的焦点处。意即，镜头120是用以处理内置于一透明物件100内部的影像特征。为产生连续的折射系数，建议使用系数匹配材料125。在此设置中，在进入/离开点的光线均垂直于凸面(请注意在美国专利5,208,648号中所示光线是一不为90度的角度，然而，本发明咸信并非如此。例如，可比较5,208,648号专利与上文引述论文中的图式)。
图1c中显示另一改变，其中该平面通过该镜头130的半径几何中心(GC)的“下方”。该平面的位置是取决于下列的折射系数：该镜头、围绕该镜头的材料以及待处理影像的物件。此一浸入式镜头是称的为“等光程”镜头且是涵盖于颁予Davidson的美国专利5,282,088号中，其是转让给本申请案的受让人。在此设置中，光线在进入/离开点并不垂直于该凸面。如同简易光循迹设计中可见，“等光程”的放大功率是比垂直入射半球要强。
在使用中，图1a至图1c中所示的镜头是“耦合”至经影像处理的物件。意即镜头是“耦合”该物件以允许衰减波的连通。换言的，镜头是耦合至该物件以便其捕捉以高于关键角(关键角是内部全反射发生的角)的角度在物件内传播的光线。如在传统技术中所熟知，耦合可通过例如实际上接触经影像处理的物件、置放于非常靠近(至多达200纳米)该物件或使用系数-匹配材料或液体。
传统技术的浸入式镜头遭遇下列困难事项：
首先，由于该底部表面是平坦，将很难正确指出焦点的位置，意即很难特别明确地在物件上指出待影像处理的点。此在影像处理一极小物件时是一重要的课题，例如内建于半导体(即硅或砷化镓)装置的电子电路。
其次，由于该底部表面是平坦，其具有一较大的接触面积。意即如传统技术中所熟知，不使用一系数匹配液体而欲匹配系数的一方法是简单地使该浸入式镜头接触待影像处理的物件。然而，当处理敏感的半导体影像时此接触应被最小化，以避免导致缺损(例如污染与刮痕)。
第三，由于该样本的平面可能并非完全平坦(例如处理半导体的情形)，基本上该镜头平面与该样本表面将只具有三点式接触。因此，很难确保浸入式镜头在整个接触范围内的平面是“平行”且光耦合样本表面。
发明内容
据此，本发明的一目的在提供一种浸入式镜头，其具体实现先前技艺浸入式镜头的优势，同时避免先前技艺浸入式镜头的某些缺点。
本发明的浸入式镜头可具有传统技术浸入式镜头中的任何型式，特别是如第1a至1c图中所示。然而，与传统技术镜头相反的是，本发明的镜头具有一凸起的底部表面。意即，本发明的浸入式镜头是双凸固体浸入式镜头，而非平凸式。
由于本发明的双凸镜头具有一凸起的底部表面，其可准确地决定焦点位置。再者，凸起的底部表面使接触待影像处理物件的点最小化，且避免该三点接触的问题。此外，本发明的镜头通过在样本上使用最小压力而提供额外的耦合。
附图说明
图1a至图1c显示依据传统技术的三种固体浸入式镜头。
图2a与图2b图显示本发明的固体浸入式镜头的第一与第二具体实施例。
图3显示本发明的固体浸入式镜头的第三具体实施例。
图4显示本发明的固体浸入式镜头的第四具体实施例。
图5例示一显微镜纳入依据本发明具体实施例的固体浸入式镜头。
图6显示本发明的固体浸入式镜头的第五具体实施例。
图7例示使用本发明的镜头在光学储存应用上。
图8显示依据本发明一代表性具体实施例使用本发明浸入式镜头及支持板的测试设备的通用构形。
图9显示图8中依据本发明一代表性具体实施例使用的测试设备的相关详图。
图10a至图10b显示一般传统技术的光学系统。
图11是用于依据本发明具体实施例的二固体浸入式镜头中该接触对施加作用力的关系图。图1a至图1c显示依据传统技术的三种固体浸入式镜头。
具体实施方式
图2a中显示本发明双凸浸入式镜头210的第一具体实施例。明确地说该顶部表面212是一径向几何中心位于GC的半球形凸面。底部表面214为凸面，但具有的曲率半径远大于该顶部表面。底部表面214的曲率半径大小是比顶部表面212例如大上约10倍。底部表面214的最低点通过该顶部表面的径向几何中心GC。
使用时，有益的是使该底部表面的最低点接触待影像处理的物件，而该底部表面的周边距其约零点几纳米。然而，使用的镜头210也可距离物件至多约200纳米，其中该间隙可填以空气或是系数匹配材料或液体。在此设置中，而该底部表面的周边与物件的距离比该最低点要再远约零点几纳米。
由于图2a中具体实施例该底部表面214是一凸面，其具有一小且被界定为与物件的“接触点”。请注意即使该镜头未接触该物件，几乎全部在该镜头与物件间传输的幅射能量将通过该镜头凸起底部表面214的最低点，在此并非很严谨地界定为“接触点”。该小且被界定的接触点可用于准确地决定物件上待影像处理的点。另外，其可最小化该镜头与物件间的物理交互作用。
图2b显示图2a的SIL经修改后的具体实施例。值得注意的是，图2b中的SIL具有斜缘215。该斜缘215有助于安装在SIL支持座。依据制造图2b中SIL的一方法，首先产生一半球体。其次该半球体的边缘被切除而形成一斜缘。随后该底部表面依需求轮廓的半径加工以形成轮廓。虽然在此显示的斜面只与图2a的SIL相关，应可容易了解所有在此显示的本发明SIL均可具有此一斜面。
图3中显示本发明浸入式镜头另一具体实施例。在此具体实施例中，底部表面314是以与第2图具体实施例相同方式设计，除了其通过顶部表面312的径向几何中心(GC)“上方”。此设置是特别适用于影像特征是内置于一透明物件中的情形。明确言之，此设置是特别适用于影像特征是由一半导体的背面嵌入该半导体中的情形。此已例示于图3中，其中标记300代表该基材，而标记302代表在基材中的特征。此影像处理设置是特别符合检验与分析“覆晶(flipchips)”。
图4中显示本发明另一具体实施例。在此具体实施例中，底部表面414亦以与第2图具体实施例相同方式设计，除了其通过顶部表面412的径向几何中心(GC)“下方”。此设置也有利于检验内置特征，特别是例如覆晶封装集成电路的样本，其中直接光学接取该电晶体与主动元件可经由硅基材而达成。如上述说明，此设置的一优势是其允许介于顶部表面412与接物镜头(未显示)间的一较大工作距离。
由以上说明应可了解，本发明浸入式镜头的一优势是其提供一小而经界定的“接触点”，以致待影像处理的点可准确地决定。该小且被界定的接触点也可最小化该镜头与物件间的物理交互作用。
该底部表面的曲率半径可远大于该顶部表面的曲率半径。无论如何，该底部表面的曲率半径应小于待检测表面。意即，如果待检测表面是平面(即曲率半径为无限大)，则该底部表面可具有任何小于无限大的曲率半径。另一方面，如果待检测的表面是曲面，则该底部表面的曲率半径应小于待检测表面的曲率半径。此经示范于图4中的破折线415，其例示基材400的一曲面。
为求有利的结果，镜头应“耦合”(直接接触)于物件以撷取衰减表面波。换言的，镜头应耦合于物件以便其撷取在物件以高于关键角传播的光线。耦合可通过SIL与待测物件间的物理接触而达成。然而在某些应用中，当施加一作用力于该SIL上以将其压向待测物件上时，本发明的SIL可提供额外的耦合能力。
例如在浅沟结构的显微检测中，受关注的范围是内置于薄且相当柔软的样本中。特别是在半导体集成电路光学量测中，样本通常薄至约50至150微米。在覆晶封装中，这些样本是被焊接在通到不平坦(起伏状)且须适应该结构的一焊接物阵列上，而不能牺牲该集成电路的电气效能。使用本发明的SIL，可施加最小的力于SIL上以达到增强收集效率。图11显示一双凸SIL与一典型薄(由500~600微米至约120微米)覆晶集成电路样本的需求作用力与接触直径(面积)间的关系图，其中二SIL具有不同表面曲率。对于1毫米接触面积的极小作用力显示出样本柔软的本质。
为求最佳光耦合与影像处理的结果，浸入式镜头的折射系数应与待影像处理的物件匹配。当待测物件为玻璃时适当材料的实例是：首德(Schott)-58玻璃、首德LaKN-22及首德LaSF-9。在硅集成电路应用中，由硅制成的镜头将提供一匹配的系数。
本发明的浸入式镜头业已应用在覆晶的检测中。明确言之，其已经本发明人确定当使用一双凸固体浸入式镜头通过接触一覆晶的背侧且施加一相当小的压力以探测该晶片时，该晶片将稍微弯曲；因此有助于耦合该镜头至晶片。此弯曲业经测试且成功地证明无损于该晶片，或改变其电性及/或动态(时域)特征。明确言之，具有下列尺寸的一双凸镜头已经制成：
-顶面半径：3毫米；
-底部表面半径：~54毫米；
-厚度/高度：2.9毫米；
-折射系数(硅)：3.5。
以一正常非破坏性作用力压向该晶片的顶面或是底部表面的一时可察觉适当的耦合。因此，可证明一具有曲度底部表面的SIL可增强由集成电路收集光的效率。当然，提供的这些尺寸仅是范例而非限制。
图5例示纳入图3中依据本发明一具体实施例的浸入式镜头的显微镜。来自光源540的光束经由镜头535加以准直，而后经过一部份传输镜530。准直后平行的光线于是被物镜525带至焦点而进入物件500内的一点。在进入该物件之前，经聚焦的射线通过浸入式镜头520。浸入式镜头520是耦合至该物件，以致衰减波能量可经由该浸入式镜头向物件与向后传递。
离开物件顶部表面的光随后被浸入式镜头520撷取(capture)。浸入式镜头520是由一高折射系数的(例如与样本相同)材料制成，且是光机械地耦合至该物件。因此.此有效地增加(原先非SIL)物镜525的数值化孔径且可以大于该关键角的角度撷取在物件传播的射线。因此，空间解析度可增加而较小尺寸的特征得以在该物件中被解析。
光线通过浸入式镜头520进入物镜525，而后由镜面530反射朝向侦测器545。侦测器545可为一适当的摄影机(即CCD或光导摄像管阵列)、一窥视镜或兼具二者(使用习知的衍射及/或反射光学方式)。
应了解图5例示的显微镜可使用在此描述的任何本发明的浸入式镜头中。明确言之，图4中经修改的等光距镜头也可用以处理在一物件内的影像。当需要处理在物件表面的影像特征时，可使用图2的镜头。
本发明镜头的一变化示于图6。明确言之，图6中的浸入式镜头具有一凸起的顶部表面612，类似第2至4图中所示的镜头。该浸入式镜头的底部表面经研磨以致其具有一小且界定接触面的曲面618，且围绕后斜面616。使用时，接触曲面618是通过接触该物件或非常靠近该物件(即在至多200纳米内)而耦合至该物件。该后斜面是经设计位于该接触点上约零点几纳米以产生间隙615。该后斜面可为具斜度(如图示)或平的。在此实例中，接触曲面618是凸面且具有的曲率半径较小于顶部表面612。
本发明的SIL的另一应用是光学数据储存系统。在光学数据储存系统(诸如CD、CD-ROM与DVD)中也需求高数值化孔径，其可增强由储存系统读取的数据且允许增加数据密度。此一系统是例示于图7中。明确言之，该记忆体媒体的型式是一基材700与读/写面705，其可包括习知方式的坑与相位转移特性。一具有任何本文描述型式的浸入式镜头720是用以收集由该媒体反射的光线且转送到物镜730。浸入式镜头可坚实地或弹性地耦合至一单一读取或读/写头结构中的物镜。该单一结构是被承载于媒体上方由媒体旋转的气流所产生的一气垫上。图7中该气流是由箭头740所表示。
图8显示依据本发明一代表性具体实施例的测试装置的一般构造，而图9以稍微放大的图式显示相关细节。此测试装置特别利于影像处理，且特别是用于覆晶的切换(动态与定时)与其他测试的分时发光(光的热电子收集)。覆晶800(图9中为900)是装设于承载器810(未显示于图9)以提供电气连接。如图9所示，覆晶900至少包含一透明绝缘基材层903、一第一主动层905(诸如该电晶体的来源/漏极扩散层)与其他装置层907(诸如金属内部连接层)。对于定时测试，该第一主动层905是受关注的一层，而光学系统经调整结构以使该主动层905位于焦点平面。
如图8进一步显示，浸入式镜头820是位于一承载器840内且是由附接件825弹性地支持。在图8的具体实施例中，承载器840包括一具有高度抛光底部表面的滑动面844，其延伸至该浸入式镜头的底部表面稍微上方处。为进一步解说此特征，请参考图9中所示对此特征的一放大图式。明确言之，在图9中该承载器940本身即作为一滑动板。基于此理由，其底部表面是经高度抛光且延伸至该浸入式镜头920底部表面922上方。如第8与9图所示，冷却流道(845、945)是形成于承载器(840、940)内，而流体将经由软管或管线(850、950)供应至该流道。该冷却流体可为用以由该覆晶消散热量的气体或流体。
依据一操作方式，该承载器的一底部表面被引导至接触覆晶的一底部表面，且用以滑置该浸入式镜头于晶片上，以便定位于适当位置供测试。此特征的第一优势是镜头的底部表面与晶片表面是以机构维持固定。此特征的第二优势是可避免浸入式镜头底部表面对晶片的刮痕与磨损。第三优势是该承载器可消散来自受测试装置的热量。
另一方面，由于镜头的底部表面并未接触覆晶的表面，光耦合并非最佳。因此，在一替代性具体实施例中，该SIL的底部表面延伸至承载器底部表面上方。使用此配置，该SIL是“取放”于覆晶上的各位置，且不滑动以避免刮痕。
请回顾图8以进一步解说该测试装置的操作。为在待测装置上移动该浸入式镜头由一点至另一点，承载匣840是连接至一x-y-z台架860上。可预期为了能大幅移动，承载匣840将由该装置提升，移至新位置而后再降低以接触该装置。为能精密校准，该承载匣可被移动以横越装置的表面，或该镜头可被“取放”于一新位置上。应了解可通过将光学镜头附接至一固定结构，而后将该待测装置附接至一x-y-z台架上而达到相同的功能。
本发明另一特征将在此描述。明确言之，如图9所示，一小凹穴是形成于浸入式镜头与待测装置表面909间。如果浸入式镜头的底部表面922与该装置的底部表面909间的距离很小(例如至多到200纳米)，可留下只含有空气的此凹穴。然而，在替代性实施例中，此凹穴中具有系数匹配流体。此可增强测试装置的影像处理能力，且有助于减低承载匣移动时的磨擦。实际上，可预见系数匹配流体将提供于装置表面909上，随后该承载匣将被降至装置上。
在一具体实施例中，镜头之上凸面经涂布以一抗反射材料。由于该镜头的设计使所有光线以90度角进入/离开顶部表面，涂布将十分简单，因为在整个凸面上涂布层的厚度均应相同。
虽然本发明是参考特定具体实施例加以描述，然本发明并不受限于这些具体实施例。明确地说，各种变化与修改可由一般熟习本技艺者实施而不脱离如所附的权利要求中界定的本发明精神与范畴。

Claims (21)

1.一种双凸浸入式镜头，其至少包含：
一顶部凸面，具有一第一曲率半径；及
一底部凸面，具有一第二曲率半径。
2.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述第二曲率半径大于所述第一曲率半径。
3.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述第二曲率半径至少大于所述第一曲率半径10倍。
4.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过该顶部表面的径向几何中心。
5.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的上方。
6.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的下方。
7.如权利要求2所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心。
8.如权利要求2所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的上方。
9.如权利要求2所述的双凸浸入式镜头，其中所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的下方。
10.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述顶部凸面更包含一抗反射涂布层。
11.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中更包含一后斜面围绕所述底部表面。
12.如权利要求1所述的双凸浸入式镜头，其中所述镜头至少包含硅。
13.一种用于检验一物件的显微镜，其至少包含：
一物镜；及
一双凸浸入式镜头，其至少包含一顶部凸面与一底部凸面。
14.如权利要求13所述的显微镜，其中所述浸入式镜头是耦合至所述物件。
15.如权利要求13所述的显微镜，其中所述浸入式镜头的该底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心。
16.如权利要求13所述的显微镜，其中所述浸入式镜头的所述底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的上方。
17.如权利要求13所述的显微镜，其中所述浸入式镜头的该底部表面通过所述顶部表面的径向几何中心的下方。
18.一种浸入式镜头，其至少包含：
一顶部凸面；及
一底部表面，具有一实质上小且经界定的接触点。
19.如权利要求18所述的浸入式镜头，其中所述底部表面更包含一后斜面围绕该接触点。
20.如权利要求19所述的浸入式镜头，其中所述接触点具有的一曲率半径不同于所述顶部表面的曲率半径。
21.如权利要求20所述的浸入式镜头，其中所述接触点具有的一曲率半径至少大于所述顶部表面的10倍。
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