JP2002236087A - 光学系調整方法、並びにその光学系調整方法を利用した光記録再生装置、顕微鏡装置及び加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 近接場光を利用する光学系の調整を容易かつ
効率的に行うこと。 【解決手段】 光記録再生装置１００は、記録媒体８に
対して近接場光９を照射することにより情報を記録又は
再生するように構成されており、固浸レンズ１０に形成
された微小開口１５より近接場光９を発生させる。この
近接場光９の光強が最大になるように光学系を調整する
ために、固浸レンズ１０の微小開口１５付近で反射する
反射光Ｌ２の光強度を光検出器１１６で検出し、その反
射光Ｌ２の光強度が最小となるように光学系の配置状態
を調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光学素子に形成
された微小開口から近接場光を発生させ、又は微小開口
より近接場光を検出するように構成された光学系を調整
する光学系調整方法、並びにその光学系調整方法を利用
した光記録再生装置、顕微鏡装置及び加工装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、顕微鏡装置のプローブ部分や光
記録再生装置等の光ヘッド部分に光の波長よりも小さな
微小開口を形成すると、その微小開口から近接場光が発
生することが知られている。この近接場光は微小な光ス
ポットを形成するため、この近接場光を利用すれば、高
分解能にあるいは高密度に情報の記録又は検出を行うこ
とができる。

【０００３】従来、微小開口を利用したものとして近接
場光顕微鏡装置のプローブが知られており、微小開口よ
り近接場光を発生させることにより、試料の微細な観察
を行うが可能になっている。ところが、従来の近接場光
利用技術では、発生する近接場光の割合が少ない、すな
わちスループットが低い、という問題があった。これ
は、使用する光の波長に比して微小開口の大きさが小さ
くなればなる程、その微小開口を通過することのできる
エネルギーが減少することに起因するものであった。

【０００４】そのため、高屈折率媒質の端面に微小開口
を形成することが提唱され、高屈折率媒質中の屈折率に
応じて光の波長が縮小されることを利用して、微小開口
部分を通過するエネルギーを増加させて、近接場光成分
の割合を増大させることが行われている。また、微小開
口部分に光を集光させることによって、より一層微小開
口部分を通過するエネルギーが増加し、近接場光成分の
割合がさらに増大することが知られている。

【０００５】高屈折率媒質の端面に集光するために、固
浸レンズ（ＳＩＬ：Solid Immersion Lens）や固浸ミラ
ー（ＳＩＭ：Solid Immersion Mirror）と呼ばれる、高
屈折率物質で構成された光学素子を用いることが検討さ
れている。固浸レンズを用いる場合、外部の集光レンズ
により光を集光させ、その集束光路中に固浸レンズが配
置される。また、固浸ミラーの場合は、固浸ミラー自体
が自己集光機能を有しているため、固浸レンズのように
外部に集光レンズを配置する必要はない。

【０００６】このような固浸レンズ又は固浸ミラーの集
光位置に集光スポットよりも小さな微小開口を設けるこ
とにより、光強度が強く、かつ小さな光スポットの近接
場光を得ることが可能である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、固浸レ
ンズや固浸ミラー等の光学素子の集光位置に対して正確
に微小開口を形成することは非常に困難であり、実際に
は集光位置から多少ずれた位置に微小開口が形成される
ことが多い。このため、固浸レンズや固浸ミラー等の光
学素子から発生する近接場光の光強度が低下することが
問題となる。

【０００８】そこで、固浸レンズや固浸ミラー等の光学
素子の配置位置や光学素子への光の入射角度、光のコリ
メートの度合い等を調整することにより、微小開口位置
に対して適切に光が集光されるように光学系を調整する
ことが必要になる。この調整の際には、光学素子より発
生する近接場光の光強度を測定してその光強度が最大と
なるように光学系を調整することが考えられるが、非伝
搬光である近接場光を測定するためには複雑な構成を必
要とするため容易でなく、また効率も悪くなる。

【０００９】この発明は、上記課題に鑑みてなされたも
のであって、近接場光を利用する光学系の調整を容易か
つ効率的に行うことのできる光学系調整方法を提供する
ことを目的とし、また、その光学系調整方法によって調
整された光学系を有する光記録再生装置、顕微鏡装置及
び加工装置を提供することも目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、光学素子に形成された微
小開口から近接場光を発生させ、又は前記微小開口より
近接場光を検出するように構成された光学系を調整する
光学系調整方法であって、前記光学素子の所定の入射位
置より入射光を入射させ、前記微小開口付近で反射され
て前記入射位置より射出する反射光を検出することによ
って、前記微小開口から発生する前記近接場光、又は前
記微小開口より検出される前記近接場光、の光成分が最
大となるように調整することを特徴としている。

【００１１】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の光学系調整方法において、前記微小開口が、前記入射
光の波長以下の大きさであることを特徴としている。

【００１２】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載の光学系調整方法において、前記反射光の強度を
検出することによって、前記光学系を調整することを特
徴としている。

【００１３】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の光学系調整方法において、前記反射光の強度が極小又
は最小となる位置に、前記光学素子の位置を調整するこ
とを特徴としている。

【００１４】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
のいずれかに記載の光学系調整方法において、前記光学
素子の前記微小開口に誘電体を近接させた状態で、前記
反射光の検出を行うことを特徴としている。

【００１５】請求項６に記載の発明は、請求項５に記載
の光学系調整方法において、前記誘電体が液体であるこ
とを特徴としている。

【００１６】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の光学系調整方法において、前記液体がイマージョンオ
イルであることを特徴としている。

【００１７】請求項８に記載の発明は、請求項６に記載
の光学系調整方法において、前記液体が揮発性のある液
体であることを特徴としている。

【００１８】請求項９に記載の発明は、請求項１乃至請
求項８のいずれかに記載の光学系調整方法において、前
記光学素子が、高屈折率媒質で形成された、固浸レンズ
又は固浸ミラーであることを特徴としている。

【００１９】請求項１０に記載の発明は、近接場光を用
いて、記録媒体に対して情報を記録又は記録媒体に記録
された情報の再生を行う光記録再生装置であって、前記
情報の記録又は前記情報の再生を行うための光学系とし
て、情報の記録又は再生用の光を発生させる光源と、前
記光源からの光を前記近接場光に変換するために微小開
口の形成された光学素子と、前記記録媒体からの反射光
を検出する光検出器と、を備え、当該光学系が、前記光
源と前記光学素子と前記光検出器とを用いて請求項１乃
至請求項９のいずれかに記載の光学系調整方法により調
整されることを特徴としている。

【００２０】請求項１１に記載の発明は、試料からの近
接場光を検出するように構成された顕微鏡装置であっ
て、前記近接場光を検出するための光学系として、照明
された前記試料からの前記近接場光を検出するために微
小開口の形成された光学素子と、前記光学素子を介して
得られる前記試料からの光を検出する光検出器と、を備
え、当該光学系が、前記光学素子と前記光検出器とを用
いて請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の光学系調
整方法により調整されることを特徴としている。

【００２１】請求項１２に記載の発明は、近接場光を用
いて、加工対象物に対して微細加工を施す加工装置であ
って、前記近接場光を発生させるための光学系として、
微細加工用の光を発生させる光源と、前記光源からの光
を前記近接場光に変換するために微小開口の形成された
光学素子と、を備え、当該光学系が、前記光源と前記光
学素子とを用いて請求項１乃至請求項９のいずれかに記
載の光学系調整方法により調整されることを特徴として
いる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照しつつ詳細に説明する。

【００２３】＜１．光記録再生装置＞まず、近接場光を
利用した光記録再生装置について説明する。図１は、こ
の発明の実施の形態である光記録再生装置１００を示す
図である。

【００２４】図１に示すように、光記録再生装置１００
は、近接場光を利用して記録媒体８に対して情報を高密
度に記録したり、又は高密度に記録された情報を検出し
て再生するように構成されており、そのための光学系と
して、レーザ光源１１１とコリメートレンズ１１２とビ
ームスプリッタ１１３と集光レンズ１１４と固浸レンズ
１０とレンズ１１５と光検出器１１６とを備えている。
光記録再生装置１００においては、固浸レンズ１０に対
向して配置される記録媒体８に対して近接場光９を浸み
出させ、その近接場光９で記録媒体８の表面記録層に対
して高密度で情報を記録したり、又は、高密度に記録さ
れた情報の読み出しが行われる。記録媒体８は光記録再
生装置１００に対して取り外し不可能な状態で内蔵され
るものであってもよいし、着脱可能な状態で容易に交換
できるものであってもよい。

【００２５】レーザ光源１１１は半導体レーザ等によっ
て構成され、記録媒体８に対して照射するための所定の
波長のレーザ光Ｌ１を発生させる。レーザ光源１１１か
らのレーザ光Ｌ１はコリメートレンズ１１２によって所
定の光束幅を有する平行光に変換され、ビームスプリッ
タ１１３を通過して集光レンズ１１４に導かれる。集光
レンズ１１４はレーザ光Ｌ１の平行光束に対して集光作
用を与え、その集光作用を受けたレーザ光Ｌ１を固浸レ
ンズ１０に入射させる。

【００２６】固浸レンズ１０は近接場光９を発生させる
光学素子として機能するものである。図２は固浸レンズ
１０を示す図である。図２に示すように、固浸レンズ１
０は、ランタンシリカ系ガラスや鉛シリカ系ガラス等の
高屈折率物質によって略半球状体１１として構成され、
略球面状に形成された球面部１２と略平面状に形成され
た平面部（底面部）１３とを有する。また、固浸レンズ
１０の平面部１３には微小開口形成用の薄膜１４が形成
されている。薄膜１４には微小開口１５が形成される。
この微小開口１５は、レーザ光Ｌ１が固浸レンズ１０の
平面部１３近傍に集光して形成される光スポットの大き
さよりも小さくなるように形成される。これにより、固
浸レンズ１０の底面側からは、集光位置における光スポ
ットよりもさらに微小なスポットの近接場光９を浸み出
させることができる。薄膜１４には、Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｒ
等の金属膜を用いることができ、周知のフォトリソグラ
フィー等の微細加工技術により微小開口１５を形成す
る。

【００２７】レーザ光Ｌ１は集光レンズ１１４により集
光され、固浸レンズ１０の球面部１２の所定の入射位置
から固浸レンズ１０内部側に入射する。固浸レンズ１０
に入射した光は固浸レンズ１０の平面部１３の略中央部
に集光される。固浸レンズ１０は高屈折率媒質で形成さ
れるため、その媒質中の集光される光スポットは、空気
中に形成されるスポットに比べて微小な光スポットとな
る。例えば、固浸レンズ１０を形成する高屈折率媒質の
屈折率にもよるが、固浸レンズ１０の内部に形成される
光スポットの直径をレーザ光Ｌ１の波長の半分以下とな
るように設計することもできる。このため、レーザ光Ｌ
１の波長が４００ｎｍ程度であれば、固浸レンズ１０内
部の平面部１３近傍に形成される光スポット径を２００
ｎｍ程度にまで絞り込むことが可能である。

【００２８】この光スポットにおいて、平面部１３にお
いて全反射する成分により近接場光が生じる。この位置
に微小開口１５が形成されていると、近接場光の一部は
そのまま微小開口１５より下方側に浸み出し、他は伝搬
光に変換されて微小開口１５を透過する。微小開口１５
は光スポットの径よりも小さく形成されるため、近接場
光９のスポット径は固浸レンズ１０の内部に形成される
スポット径よりもさらに小さなものとなる。近接場光９
は非伝搬光であるため、固浸レンズ１０に形成された微
小開口１５の近傍領域（ニアフィールド領域）にのみ存
在する。

【００２９】固浸レンズ１０に入射したレーザ光のう
ち、このように微小開口を透過しなかった光成分は、固
浸レンズ１０の平面１３において反射し、その反射光は
レーザ光Ｌ１の辿ってきた光路を逆方向に進むことにな
る。そして、その反射光は固浸レンズ１０の球面部１２
から固浸レンズ１０の外部へと射出する。

【００３０】図１に戻り、固浸レンズ１０内で反射され
た光Ｌ２は、集光レンズ１１４によって平行光となり、
ビームスプリッタ１１３で反射される。そしてレンズ１
１５で集光されて光検出器１１６へと導かれる。光検出
器１１６はフォトダイオード等によって構成され、反射
光Ｌ２の光強度を検出することが可能である。

【００３１】光記録再生装置１００において、記録媒体
８に情報を記録する際には、レーザ光源１１１を記録す
べきデータに応じてオン・オフ制御して情報記録のため
の近接場光９の発生状態を制御することにより、記録媒
体９に対して微小な記録ピットを高密度に形成する。ま
た、記録媒体８に記録された情報を再生する際には、レ
ーザ光源１１１より情報再生用のレーザ光を発生させて
情報再生のための近接場光９を発生させ、その近接場光
９が記録媒体８の表面記録層に形成された記録ピットに
よって変調を受けた反射光成分を光検出器１１６で検出
することで、高密度に記録された情報の再生を行う。な
お、情報記録時のレーザ光と情報再生時のレーザ光とは
波長又は強度を異なるように構成してもよい。

【００３２】このような光記録再生装置１００を組み立
てる際、近接場光９の光成分の強度が最も大きくなるよ
うにするために、光学系の調整が行われる。光学系の調
整を行う際には、記録媒体８の存在しない状態で、光記
録再生装置１００の光学系の構成を利用して行われる。
すなわち、レーザ光源１１１より固浸レンズ１０に光を
入射させ、固浸レンズ１０からの反射光Ｌ２を光検出器
１１６で検出することによって近接場光９の光成分が最
大となるように光学系を調整する。

【００３３】図３及び図４は、固浸レンズ１０を拡大し
た図である。図３及び図４に示すように、固浸レンズ１
０の微小開口１５から下方側に浸み出す近接場光９の成
分が最大となるためには、光学素子である固浸レンズ１
０をＸＹ平面内で最適な位置に配置する必要がある。

【００３４】例えば、図３の場合、レーザ光Ｌ１が固浸
レンズ１０内に形成する光スポットＳＡのほぼ中心位置
に微小開口１５が位置する。一般に、光スポットＳＡの
強度分布はガウシアン分布等のように中心部で強く、ス
ポット外縁部に向かうにつれて弱くなる。したがって、
図３のように微小開口１５が光スポットＳＡの中心位置
に位置する場合は、微小開口１５から浸み出す近接場光
９の光強度も最も強くなる。つまり、この場合はレーザ
光Ｌ１の光成分が効率よく近接場光９に変換されている
ことになる。

【００３５】これに対し、図４の場合、レーザ光Ｌ１が
固浸レンズ１０内に形成する光スポットＳＡの端部の位
置に微小開口１５が位置する。このように微小開口１５
が光スポットＳＡの中心位置に位置する場合は、微小開
口１５から浸み出す近接場光９の光強度は弱くなる。し
たがって、この場合はレーザ光Ｌ１の光成分が近接場光
９に変換される効率が低下することになる。

【００３６】レーザ光Ｌ１に含まれる光成分のうち、微
小開口１５を透過しなかった光成分は固浸レンズ１０の
微小開口１５近傍の平面部１３で反射され、光検出器１
１６で検出される。このとき、光検出器１１６で検出さ
れる反射光Ｌ２の光強度は、近接場光９の光強度に応じ
て変化する。具体的には、近接場光から伝搬光に変換さ
れる割合が同じである場合において、近接場光９の光強
度が強くなれば、近接場光９から伝搬光に変換され微小
開口１５を透過する光強度が多くなり、それに応じて反
射光Ｌ２の光強度が弱くなり、逆に近接場光９の光強度
が弱くなれば、同様にそれに応じて反射光Ｌ２の光強度
が強くなる。

【００３７】図５は固浸レンズ１０のＸ方向における位
置と光検出器１１６で検出される反射光Ｌ２の光強度と
の関係を示す図である。なお、図５においては、Ｙ方向
についての固浸レンズ１０の位置は近接場光９の光強度
を最大にすることができる位置に配置されているものと
する。

【００３８】図５に示すように、レーザ光Ｌ１の光束位
置を一定の状態に固定し、固浸レンズ１０をＸ方向に沿
って移動させると、光検出器１１６で検出される光強度
が光強度特性Ｋ１（図５の実線）のように変化する。図
３及び図４に示すレーザ光Ｌ１の光スポットＳＡが微小
開口１５の形成されている位置から外れている場合、す
なわちレーザ光Ｌ１の光スポットＳＡと微小開口１５と
が重なる領域を有さない場合（図５における領域Ｒ１）
には、光検出器１１６で検出される反射光Ｌ２の光強度
は一定のレベルとなり、その領域で固浸レンズ１０をＸ
方向に移動させても反射光Ｌ２の光強度は変化しない。
これに対して、レーザ光Ｌ１の光スポットＳＡが微小開
口１５と重複する領域を有する場合（図５における領域
Ｒ２）には、光スポットＳＡの微小開口１５に対する位
置に応じて反射光Ｌ２の光強度が減少する。そして光ス
ポットＳＡのほぼ中心位置に微小開口１５が位置する場
合には、反射光Ｌ２の光強度は最小を示す。図５の場合
は、固浸レンズ１０がＸ方向に沿って位置ＰＸにある場
合に光検出器１１６で検出される光強度が最小になる。

【００３９】このことから、光学素子である固浸レンズ
１０をＸ方向に移動させ、光検出器１１６で検出される
反射光Ｌ２の光強度が極小又は最小になる位置ＰＸを特
定し、その位置が最も近接場光９の光強度が最大になる
位置であるとして特定する。そして、固浸レンズ１０の
Ｘ方向についての位置を位置ＰＸに固定配置する。

【００４０】一方、Ｙ方向についても同様である。Ｙ方
向についても固浸レンズ１０を移動させると、固浸レン
ズ１０と微小開口１５との位置関係に応じて光検出器１
１６で検出される反射光Ｌ２の光強度が変化するため、
その光強度が極小又は最小になる位置を特定し、固浸レ
ンズ１０のＹ方向についての位置をその光強度が極小又
は最小になる位置に固定すれば、近接場光９の光強度が
最大になる。

【００４１】この結果、固浸レンズ１０のＸＹ平面内に
おける位置が、近接場光９の光強度を最大にすることが
できる位置に特定される。

【００４２】上記ではＸＹ平面内での光学系調整につい
て説明したが、ＸＹ平面に垂直な光軸方向についても同
様である。すなわち、固浸レンズ１０の内部においてレ
ーザ光Ｌ１が最小スポットを形成しない位置に微小開口
１５が配置される場合と、最小スポットとなる位置に微
小開口１５が配置される場合とでは、微小開口１５より
発生する近接場光９の光強度が異なる。具体的には、最
小スポットの形成される位置に微小開口１５が配置され
ると、近接場光９の光強度が最大となり、それ以外の場
合には近接場光９の光強度は弱くなる。したがって、光
検出器１１６で検出される反射光Ｌ２の光強度を観測し
つつ、固浸レンズ１０を光軸方向に移動させれば、固浸
レンズ１０から発生する近接場光９の光強度が最大にな
る位置を検出することができ、その位置を固浸レンズ１
０の光軸方向における位置として固定配置する。なお、
固浸レンズ１０の光軸方向の位置が予め定まっている場
合には、集光レンズ１１４を光軸方向に移動させてもよ
い。

【００４３】以上のようにして、光記録再生装置１００
において近接場光９の光強度を最大にするように光学系
の調整が行われる。光記録再生装置１００において光学
系の調整を行う際には、非伝搬光である近接場光９を検
出するのではなく、伝搬光である反射光Ｌ２の光強度を
検出するように構成されているため、容易に光学系の調
整を行うことができる。また、光記録再生装置１００が
具備する光学系の構成をそのまま利用して光学系の調整
が行われるため、光学調整のために特別な構成を用いる
必要がなく、容易かつ効率的に光学系の調整を行うこと
ができる。

【００４４】次に、光学調整をより簡単に行うことにつ
いて説明する。図６は、固浸レンズ１０の微小開口１５
に誘電体４０を近接配置した図である。一般に、微小開
口１５に誘電体を近接させると、微小開口１５から発生
する近接場光９のエネルギーが誘電体側に移動する。こ
のため、微小開口１５を透過するエネルギーが大きくな
り、それに伴って光検出器１１６で検出される反射光Ｌ
２の光強度が弱くなるという現象が生じる。

【００４５】そこで、光記録再生装置１００の光学系の
調整を行う際には、図６に示すように、光学素子である
固浸レンズ１０の微小開口１５に誘電体４０を近接させ
る。この結果、微小開口１５より発生する近接場光９の
光成分が誘電体４０に吸い寄せられ、微小開口１５を透
過する光成分が増加し、反射光Ｌ２の光成分が減少して
光検出器１１６で検出される光強度が低下する。これに
より、図５に示す反射光Ｌ２の光強度特性Ｋ１（実線）
は、光強度特性Ｋ２（二点鎖線）のように変化する。

【００４６】すなわち、図６のように微小開口１５付近
に誘電体４０を近接配置することによって、反射光Ｌ２
の光強度の変化幅は大きくなり、光強度の最小点を示す
位置ＰＸの検出が容易になる。よって、光記録再生装置
１００の光学系を調整する際に、微小開口１５に誘電体
４０を近接配置させた状態とすることで、光学系の調整
をより簡単かつ効率的に行うことが可能になるのであ
る。

【００４７】このような誘電体４０としては、例えばガ
ラスや樹脂等を用いることができる。

【００４８】ところで、誘電体４０として固体を使用す
る場合、固浸レンズ１０の薄膜１４及び微小開口１５を
損傷しないようにするために、誘電体４０と固浸レンズ
１０とが接触することを防止する必要がある。そのた
め、図６に示すように、誘電体４０と固浸レンズ１０と
が一定の間隔Ｄよりも接近しないように制御することが
望まれる。しかし、この間隔Ｄは微小な間隔（例えば数
十ｎｍ程度）となるので、制御が難しく、光学系の調整
のために複雑な構成を別途設けることが必要になる。

【００４９】そこで、誘電体４０を微小開口１５付近に
配置する場合は、固体ではなく、液体を用いることが好
ましい。図７は誘電体４０として液体４１を用いた場合
を示す図である。図７に示すように、液体４１を用いた
場合は、固浸レンズ１０の底面、特に薄膜１４と微小開
口１５とを破損する可能性が低いため、固浸レンズ１０
の底面部分にその液体４１を付着させることもできる。

【００５０】図７のように液体４１を固浸レンズ１０の
微小開口１５付近に付着させても、固体の誘電体４０を
用いた場合（図６参照）と同様の効果を得ることができ
る。つまり、図５に示す反射光Ｌ２の光強度特性Ｋ１
（実線）を光強度特性Ｋ２（二点鎖線）のように変化さ
せて、容易に光学系の調整を行うことが可能になる。

【００５１】このような液体としては、例えばイマージ
ョンオイル等を用いることができ、固浸レンズ１０の底
面部分にイマージョンオイル等を塗るだけで光学系の調
整が容易かつ効率的になる。

【００５２】ところが、光学系の調整のために、イマー
ジョンオイルを固浸レンズ１０の底面部分に塗った場
合、光学系の調整後にそのイマージョンオイルを拭き取
る必要がある。光学系の調整後にイマージョンオイルを
拭き取る場合、その拭き取り作業の際に、位置調整され
た固浸レンズ１０の位置がずれる可能性がある。

【００５３】そこで、液体４１として蒸散性又は揮発性
のある液体を用いれば光学系の調整後に拭き取り作業を
行う必要がなく、さらに容易かつ効率的な光学系の調整
が可能になる。例えば、水や、アルコール、キシレン等
の有機溶媒を用いることができる。ただし、この場合、
固浸レンズ１０に塗られた液体４１が完全に揮発するま
でに要する時間が、光学系の調整を完了するのに必要な
時間よりも長いことが好ましい。

【００５４】以上のように、この実施の形態の光記録再
生装置１００では、製品に使用される光学系を利用して
光学系の調整を行うことが可能であるので、容易かつ効
率的に光学系の調整を行うことができる。また、光学系
の調整の際には、伝搬光である反射光Ｌ２の光強度を検
出することによって行われるので、容易に近接場光９の
光強度が最大になる位置を特定することができ、光学系
の調整が容易である。さらに、上述のように誘電体４０
や液体４１等を用いることによって、光学系の調整がさ
らに容易かつ効率的になる。

【００５５】＜２．固浸ミラーを用いた装置＞上記にお
いては、近接場光を発生させる光学素子として固浸レン
ズ１０を用いた例について説明したが、近接場光を発生
させる光学素子として固浸ミラーを用いてもよい。ここ
では、固浸ミラー２０を用いた光記録再生装置１００ａ
について説明する。

【００５６】図８は固浸ミラー２０の一例を示す図であ
る。固浸ミラー２０は、ランタンシリカ系ガラスや鉛シ
リカ系ガラス等の高屈折率物質によって構成された本体
部２１を有し、本体部２１の上面側である第１面２２は
略平面状に形成され、下面側である第２面２３は回転放
物面状に形成される。第１面２２の中央部には固浸ミラ
ー２０の内部で光を反射させるための反射膜２４が形成
されている。また、第２面２３にも固浸ミラー２０の内
部で光を反射させるための反射膜２５が形成されてお
り、その反射膜２５のほぼ中心位置に微小開口２６が形
成される。反射膜２４，２５はＡｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃ
ｕ，Ｎｉ等の金属材料を用いて周知のスパッタ法等の薄
膜技術によって成膜され、微小開口２６は周知のフォト
リソグラフィー等の微細加工技術により形成される。な
お、微小開口２６を反射膜２５に形成するのではなく、
反射膜２５の中心付近に別の薄膜を形成してその薄膜に
微小開口２６を形成するようにしてもよい。

【００５７】固浸ミラー２０の第１面２２に平行光であ
るレーザ光Ｌ１を図中矢印の方向に入射させると、第１
面２２の反射膜２４が形成されていない周縁部分から固
浸ミラー２０内部に入射する。固浸ミラー２０の内部に
入射した光は回転放物面状の第２面２３に形成された反
射膜２５で反射し、さらに第１面２２に形成された反射
膜２４で反射する。この結果、固浸ミラー２０に入射し
たレーザ光Ｌ１は、第２面２３の略中央部上に集光さ
れ、その光スポットは空気中に形成されるスポットに比
べて微小な光スポットとなる。そして固浸ミラー２０の
第２面２３に形成された微小開口２６からは、微小な光
スポットの近接場光９が下方側に浸み出すこととなる。

【００５８】図９はこのような固浸ミラー２０を用いた
光記録再生装置１００ａを示す図である。なお、図９に
おいては、上述した光記録再生装置１００と同様の構成
部材について同一符号を付しており、ここではその詳細
な説明を省略する。

【００５９】図９に示すように、この光記録再生装置１
００ａも近接場光９を利用して記録媒体８に対して情報
を高密度に記録したり、又は高密度に記録された情報を
検出して再生するように構成されており、そのための光
学系として、レーザ光源１１１とコリメートレンズ１１
２とビームスプリッタ１１３と固浸ミラー２０とレンズ
１１５と光検出器１１６とを備えている。光記録再生装
置１００ａにおいては、固浸ミラー２０が自己集光機能
を有しており、集光レンズを用いることなく自己集光に
よって微小開口２６付近に光スポットを形成することが
でき、それによて微小開口２６から近接場光９を発生さ
せる。そして、固浸ミラー２０に対向して配置される記
録媒体８に対して近接場光９を浸み出させ、その近接場
光９で記録媒体８の表面記録層に対して高密度で情報を
記録したり、又は、高密度に記録された情報を読み出す
ように構成されている。

【００６０】このような光記録再生装置１００ａを組み
立てる際、近接場光９の光成分の強度が最も大きくなる
ようにするために、光学系の調整が行われる。その光学
系の調整を行う際には、上述した内容と同様の手法によ
る光学系の調整手法を適用することができる。

【００６１】すなわち、光記録再生装置１００ａの光学
系の構成を用いて、レーザ光源１１１よりレーザ光Ｌ１
を照射し、そのレーザ光Ｌ１を固浸ミラー２０に入射さ
せることにより、微小開口２６より近接場光９を発生さ
せる。このとき、入射した光のうち、微小開口２６を透
過しなかった光成分は微小開口２６近傍で反射し、レー
ザ光Ｌ１と同一光路を逆方向に進むことになる。その反
射光Ｌ２は光検出器１１６で検出されることになる。そ
して固浸ミラー２０の位置を調整しつつ、反射光Ｌ２の
光強度を測定するようにして、その反射光Ｌ２の光強度
が最小になる位置を特定し、固浸ミラー２０を固定す
る。反射光Ｌ２の光強度が最小であるということは、す
なわち近接場光９の光強度が最大であることを示すた
め、固浸ミラー２０の位置を近接場光９の光強度が最大
となる位置に設定することが可能になる。

【００６２】したがって、光学素子として固浸ミラー２
０を用いる場合であっても、固浸ミラー２０を含む光学
系の調整を容易かつ効率的に行うことが可能になるので
ある。

【００６３】なお、光学系調整の際の詳細な内容は、光
記録再生装置１００の場合と同様である。このため、光
記録再生装置１００ａにおいても固浸ミラー２０の微小
開口２６に誘電体４０を近接させたり（図６参照）、液
体４１を塗布することで（図７参照）、さらに光学系の
調整が容易かつ効率的になることも、上記と同様であ
る。

【００６４】＜３．顕微鏡装置＞次に、近接場光を利用
した顕微鏡装置について説明する。図１０は、この発明
の実施の形態である顕微鏡装置２００を示す図である。
図１０に示すように、顕微鏡装置２００は、テーブル２
０１に載置された試料７に対して照明光Ｌ３を照射し、
試料７において発生する近接場光９を検出することによ
って試料７を高分解能に観測することができるように構
成されており、そのための光学系として、固浸レンズ１
０ａと、集光レンズ２１１と、レンズ２１２と、光検出
器２１３とを備えている。顕微鏡装置２００において
は、固浸レンズ１０ａに対向して配置される試料７に対
してテーブル２０１の下方側より照明光Ｌ３を入射させ
る。それによって試料７の周辺に近接場光９が発生し、
その近接場光９を固浸レンズ１０ａに入射させ、伝搬光
となる検出光Ｌ２を光検出器２１３で検出するように構
成されている。

【００６５】照明光Ｌ３は試料７に対して照射されれば
よいため、試料７の下方側より照明する場合に限られ
ず、試料７の横方向又は上方向から照明光Ｌ３が与えら
れてもよいし、固浸レンズ１０ａから近接場光として試
料７を照明するものであってもよい。

【００６６】固浸レンズ１０ａは上述した光記録再生装
置１００における固浸レンズ１０（図２参照）と同様で
あり、ここではその詳細な構成の説明は省略する。ただ
し、顕微鏡装置２００において固浸レンズ１０ａは微小
開口１５より試料７からの近接場光９を検出するための
光学素子として機能するものである。

【００６７】試料７から発生する近接場光９は固浸レン
ズ１０ａの微小開口１５から固浸レンズ１０ａ内に進入
し、非伝搬光である近接場光９が伝搬光である検出光に
変換される。この検出光は集光レンズ２１１及びレンズ
２１２を介して光検出器２１３に導かれる。光検出器２
１３はフォトダイオードやＣＣＤ撮像素子等によって構
成され、微小な近接場光９から得られる光を検出するこ
とによって、試料７を高精度に分析することが可能にな
る。

【００６８】このような顕微鏡装置２００において、試
料７より発生する近接場光９を効率的に観測するために
は、光学系における微小開口１５（図２参照）の位置を
最適な位置に調整することが必要になる。つまり、微小
開口１５を介して検出される試料７の近接場光９が効率
的に光検出器２１３に導かれるように光学系を調整する
ことが必要になる。

【００６９】そこで、このような顕微鏡装置２００を組
み立てる際、固浸レンズ１０ａで検出できる近接場光９
の光成分の強度が最も大きくなるようにするために、上
述した手法と同様の手法により光学系の調整が行われ
る。しかしながら、顕微鏡装置２００における光学系
は、光の検出機能は備えているものの固浸レンズ１０ａ
に対して光を入射させる機能は有していない。したがっ
て、顕微鏡装置２００における光学系を調整する場合に
は、図１０に示すように、光学系調整用装置として照明
光学系２３０を追加する。

【００７０】照明光学系２３０は、レーザ光源２３１と
コリメートレンズ２３２とビームスプリッタ２３３とを
備えており、ビームスプリッタ２３３が検出光Ｌ２の光
路中に介挿されるように配置される。

【００７１】そして光学系の調整を行う際には、レーザ
光源２３１からレーザ光Ｌ１を射出してコリメートレン
ズ２３２で平行光に変換し、ビームスプリッタ２３３に
導く。ビームスプリッタ２３３はレーザ光源２３１から
のレーザ光Ｌ１を固浸レンズ１０ａの位置する方向に反
射させる。なお、ビームスプリッタ２３３で反射される
レーザ光Ｌ１の光路は検出光Ｌ２の光路と同一の光路を
固浸レンズ１０ａに向かうように照明光学系２３０が配
置される。

【００７２】ビームスプリッタ２３３で反射されたレー
ザ光Ｌ１は、集光レンズ２１１で集光作用を受けて固浸
レンズ１０ａの微小開口１５付近に光スポットを形成す
る。この光スポットが微小開口１５より近接場光を発生
させる一方、近接場光９の発生に寄与しなかった光成分
は固浸レンズ１０ａの底面で反射されて検出光Ｌ２と同
一の光路を辿る反射光となる。この反射光は光検出器２
１３で検出される。

【００７３】このようなことから顕微鏡装置２００にお
ける光学系を調整する際には、試料７の存在しない状態
で、照明光学系２３０を設けることにより、上述した光
学系調整方法と同様の手法によって行うことができる。

【００７４】すなわち、顕微鏡装置２００の光学系の構
成を用いるとともに、さらに照明光学系２３０を配置す
る。そしてレーザ光源２３１よりレーザ光Ｌ１を照射
し、そのレーザ光Ｌ１を固浸レンズ１０ａに入射させる
ことにより、微小開口１５（図２参照）より近接場光９
を発生させる。このとき、微小開口１５を透過しなかっ
た反射光Ｌ２の光強度を光検出器１１６で測定する。そ
して固浸レンズ１０ａの位置を調整しつつ、反射光Ｌ２
の光強度を測定するようにして、その反射光Ｌ２の光強
度が最小になる位置を特定し、固浸レンズ１０ａを固定
する。反射光Ｌ２の光強度が最小になるように固浸レン
ズ１０ａを含む光学系の調整を行うことによって、光学
系が最適な状態に調整されることになる。この結果、顕
微鏡装置２００において試料７からの近接場光９を最も
効率よく観測することができる状態に光学系が調整され
ることになる。

【００７５】その後、光学系調整用に配置された照明光
学系２３０を取り除くことによって顕微鏡装置２００に
おける光学系の調整が終了し、顕微鏡装置２００におい
て試料７からの近接場光９を最大に取り込むことができ
るような状態で光学系の配置状態が固定される。

【００７６】顕微鏡装置２００において光学系の調整を
行う際にも、非伝搬光である近接場光９を検出するので
はなく、伝搬光である反射光Ｌ２の光強度を検出するよ
うに構成されているため、容易に光学系の調整を行うこ
とができる。また、顕微鏡装置２００が具備する光学系
の構成をそのまま利用して光学系の調整が行われるた
め、容易かつ効率的に光学系の調整を行うことができ
る。

【００７７】なお、光学系調整の際の詳細な内容は、光
記録再生装置１００の場合と同様である。このため、顕
微鏡装置２００においても固浸レンズ１０ａの微小開口
１５に誘電体４０を近接させたり（図６参照）、液体４
１を塗布することで（図７参照）、さらに光学系の調整
が容易かつ効率的になることも、上記と同様である。ま
た、試料７からの近接場光９を検出するための光学素子
として固浸レンズ１０ａを用いる場合に限定されるもの
ではなく、上述した固浸ミラー２０（図８参照）を用い
て顕微鏡装置２００を構成しても上述した光学系の調整
手法を適用することができることは勿論である。

【００７８】＜４．加工装置＞次に、近接場光を利用し
た加工装置について説明する。図１１は、この発明の実
施の形態である加工装置３００を示す図である。この加
工装置３００は近接場光を用いて微細加工を行うことが
できる装置であり、例えば半導体を製造する際の露光装
置等として使用される。

【００７９】図１１に示すように、加工装置３００は近
接場光を利用して加工対象物６（半導体装置等）を露光
することによって微細加工を施すように構成されてお
り、そのための光学系として、レーザ光源３１１とコリ
メートレンズ３１２と集光レンズ３１３と固浸レンズ１
０ｂとを備えている。この加工装置３００においては、
レーザ光源３１１からレーザ光Ｌ１を射出させ、コリメ
ートレンズ３１２で平行光に変換した後、集光レンズ３
１３でレーザ光Ｌ１に集光作用を与えて固浸レンズ１０
ｂに入射させる。そして固浸レンズ１０ｂに対向して配
置される加工対象物６に対して微小開口１５より近接場
光９を浸み出させ、その近接場光９で加工対象物６の表
面を露光するように構成されている。

【００８０】固浸レンズ１０ｂは上述した光記録再生装
置１００における固浸レンズ１０（図２参照）と同様で
あり、ここではその詳細な構成の説明は省略する。ま
た、加工装置３００において固浸レンズ１０ｂは近接場
光９を発生させる光学素子として機能するものである。

【００８１】このような加工装置３００において、固浸
レンズ１０ｂより近接場光９を効率的に発生させるため
には、光学系における固浸レンズ１０ｂの微小開口１５
（図２参照）の位置を最適な位置に調整することが必要
になる。つまり、微小開口１５より発生する近接場光９
の光強度が最大になるように光学系を調整することが必
要になる。

【００８２】上記の構成からも明らかなように、加工装
置３００は加工対象物６に対して近接場光９を照射する
ことができればよいため、基本的には光を検出する検出
用光学系を設ける必要がない。このようなことから加工
装置３００における光学系を調整する際には、加工対象
物６の存在しない状態で、図１１に示すように検出用光
学系３３０を設けることにより、これまでに説明した上
述の光学系調整方法と同様の手法によって行うことがで
きる。すなわち、光学系の調整の際には、加工装置３０
０の光学系の構成をそのまま用いるとともに、さらに検
出用光学系３３０を配置して行う。

【００８３】検出用光学系３３０は、ビームスプリッタ
３３１とレンズ３３２と光検出器３３３とを備えてお
り、ビームスプリッタ３３１がレーザ光源３１１からの
レーザ光Ｌ１の光路中に介挿されるように配置される。

【００８４】そして光学系の調整を行う際には、レーザ
光源３１１からレーザ光Ｌ１を射出して固浸レンズ１０
ｂに入射させ、微小開口１５より近接場光９を発生させ
るとともに、光学系調整用に配置された検出用光学系３
３０により固浸レンズ１０ｂからの反射光Ｌ２の光強度
を検出する。

【００８５】すなわち、レーザ光Ｌ１の成分のうち、微
小開口１５を透過しなかった光成分は固浸レンズ１０ｂ
の内部で反射してレーザ光Ｌ１の光路を逆方向に進み、
ビームスプリッタ３３１で反射され、レンズ３３２を介
して光検出器３３３に入射する。これにより、反射光Ｌ
２の光強度を検出することができ、微小開口１５より発
生する近接場光９の強度を推定することができる。

【００８６】このようなことから加工装置３００におけ
る光学系を調整する際には、加工対象物６の存在しない
状態で、検出用光学系３３０を設けることにより、上述
した光学系調整方法と同様の手法によって行うことがで
きる。具体的には、そして固浸レンズ１０ｂの位置を調
整しつつ、反射光Ｌ２の光強度を測定して、その反射光
Ｌ２の光強度が最小になる位置を特定し、固浸レンズ１
０ｂを固定する。反射光Ｌ２の光強度が最小になるよう
に固浸レンズ１０ｂを含む光学系の調整を行うことによ
って、光学系が最適な状態に調整されることになる。

【００８７】その後、光学系調整用に配置された検出用
光学系３３０を取り除くことによって加工装置３００に
おける光学系の調整が終了し、加工装置３００において
発生する近接場光９の光強度が最大となるような状態に
光学系の配置状態が固定される。

【００８８】このように加工装置３００において光学系
の調整を行う際にも、非伝搬光である近接場光９を検出
するのではなく、伝搬光である反射光Ｌ２の光強度を検
出するように構成されているため、容易に光学系の調整
を行うことができる。また、加工装置３００が具備する
光学系の構成をそのまま利用して光学系の調整が行われ
るため、容易かつ効率的に光学系の調整を行うことがで
きる。

【００８９】なお、光学系調整の際の詳細な内容は、光
記録再生装置１００の場合と同様である。このため、加
工装置３００においても固浸レンズ１０ｂの微小開口１
５に誘電体４０を近接させたり（図６参照）、液体４１
を塗布することで（図７参照）、さらに光学系の調整が
容易かつ効率的になることも、上記と同様である。ま
た、近接場光９を発生させるための光学素子として固浸
レンズ１０ｂを用いる場合に限定されるものではなく、
上述した固浸ミラー２０（図８参照）を用いて加工装置
３００を構成しても上述した光学系の調整手法を適用す
ることができることは勿論である。

【００９０】＜５．変形例＞以上、この発明の実施の形
態について説明したが、この発明は上記説明した内容の
ものに限定されるものではない。

【００９１】例えば、上記においては、固浸レンズや固
浸ミラー等の光学素子に対して所定の入射位置より入射
光を入射させ、微小開口付近で反射されて光学素子より
射出する反射光を検出することによって、微小開口から
発生する近接場光、又は微小開口より検出される近接場
光、の光成分が最大となるように調整する光学系調整方
法について説明し、その光学系調整方法が適用される一
例として、光記録再生装置１００，１００ａ、顕微鏡装
置２００及び加工装置３００を挙げたが、上記の光学系
調整方法が適用される装置はこれに限定されるものでは
ないことは勿論である。

【００９２】また、上記の光記録再生装置１００，１０
０ａ、顕微鏡装置２００及び加工装置３００について説
明した各構成も一例であり、上記説明の内容に限定され
るものではなく、構成要素の追加等、種々の変形が行わ
れてもよい。また、光記録再生装置１００，１００ａは
記録媒体８に記録された情報の再生のみを行う情報再生
専用装置として構成されても構わない。

【００９３】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１に記載の
発明によれば、光学素子の所定の入射位置より入射光を
入射させ、微小開口付近で反射される反射光を検出する
ことによって、近接場光の光成分が最大となるように光
学系の調整が行われるため、近接場光を利用する光学系
の調整を容易かつ効率的に行うことができ、その光学系
において近接場光を有効に活用することが可能になる。

【００９４】請求項２に記載の発明によれば、微小開口
が入射光の波長以下の大きさであり、その微小開口から
発生する近接場光、又はその微小開口より検出される近
接場光が最大の状態になるように光学系の調整が行われ
るとともに、その光学系の調整を容易かつ効率的に行う
ことができる。

【００９５】請求項３に記載の発明によれば、反射光の
強度を検出することによって、光学系の調整が行われる
ので、近接場光の強度を検出する場合に比べて光学系の
調整を容易かつ効率的に行うことができる。

【００９６】請求項４に記載の発明によれば、反射光の
強度が極小又は最小となる位置に、光学素子の位置が調
整されるため、近接場光の強度が最大となる位置に光学
系の調整が行われる。

【００９７】請求項５に記載の発明によれば、光学素子
の微小開口に誘電体を近接させた状態で、反射光の検出
が行われるため、近接場光の光成分が最大となるような
光学系の調整をより簡単に行うことができ、近接場光を
利用する光学系の調整をさらに容易かつ効率的に行うこ
とができる。

【００９８】請求項６に記載の発明によれば、誘電体が
液体であるため、光学素子に損傷を与えることを考慮す
る必要がなく、より簡単に光学系の調整を行うことがで
きる。

【００９９】請求項７に記載の発明によれば、液体はイ
マージョンオイルであるため、光学素子に損傷を与える
ことを考慮する必要がなく、光学素子にイマージョンオ
イルを塗るだけで光学系の調整が容易かつ効率的にな
る。

【０１００】請求項８に記載の発明によれば、液体は揮
発性のある液体であるため、液体を拭き取る作業を行う
必要がなく、光学系の調整をさらに容易かつ効率的に行
うことが可能になる。

【０１０１】請求項９に記載の発明によれば、光学素子
が高屈折率媒質で形成された固浸レンズ又は固浸ミラー
であり、固浸レンズ又は固浸ミラーの使用された光学系
を容易かつ効率的に調整することができる。

【０１０２】請求項１０に記載の発明によれば、光記録
再生装置における光学系の調整を容易かつ効率的に行う
ことができる。

【０１０３】請求項１１に記載の発明によれば、顕微鏡
装置における光学系の調整を容易かつ効率的に行うこと
ができる。

【０１０４】請求項１２に記載の発明によれば、加工装
置における光学系の調整を容易かつ効率的に行うことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態である光記録再生装置を
示す図である。

【図２】固浸レンズを示す図である。

【図３】固浸レンズを拡大した図である。

【図４】固浸レンズを拡大した図である。

【図５】固浸レンズのＸ方向における位置と反射光の光
強度との関係を示す図である。

【図６】固浸レンズの微小開口に誘電体を近接配置した
図である。

【図７】誘電体として液体を用いた場合を示す図であ
る。

【図８】固浸ミラーの一例を示す図である。

【図９】固浸ミラーを用いた光記録再生装置を示す図で
ある。

【図１０】この発明の実施の形態である顕微鏡装置を示
す図である。

【図１１】この発明の実施の形態である加工装置を示す
図である。

【符号の説明】

６ 加工対象物 ７ 試料 ８ 記録媒体 ９ 近接場光 １０，１０ａ，１０ｂ 固浸レンズ（光学素子） ２０ 固浸ミラー（光学素子） １５，２６ 微小開口 ４０ 誘電体 ４１ 液体 １００，１００ａ 光記録再生装置 １１１ レーザ光源 １１６ 光検出器 ２００ 顕微鏡装置 ３００ 加工装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/08 Ｇ１１Ｂ 7/08 Ａ 7/135 7/135 Ａ 7/22 7/22 Ｆターム(参考） 2H043 AD03 AD11 AD13 AD23 2H087 KA09 KA13 LA00 NA09 RA00 RA31 5D117 CC07 HH09 KK01 KK04 KK15 KK18 5D119 AA22 AA36 JA42 JC07

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光学素子に形成された微小開口から近接
   場光を発生させ、又は前記微小開口より近接場光を検出
   するように構成された光学系を調整する光学系調整方法
   であって、 前記光学素子の所定の入射位置より入射光を入射させ、
   前記微小開口付近で反射されて前記入射位置より射出す
   る反射光を検出することによって、前記微小開口から発
   生する前記近接場光、又は前記微小開口より検出される
   前記近接場光、の光成分が最大となるように調整するこ
   とを特徴とする光学系調整方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光学系調整方法におい
   て、 前記微小開口は、前記入射光の波長以下の大きさである
   ことを特徴とする光学系調整方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の光学系調整方法
   において、 前記反射光の強度を検出することによって、前記光学系
   を調整することを特徴とする光学系調整方法。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の光学系調整方法におい
   て、 前記反射光の強度が極小又は最小となる位置に、前記光
   学素子の位置を調整することを特徴とする光学系調整方
   法。
5. 【請求項５】 請求項１乃至４のいずれかに記載の光学
   系調整方法において、 前記光学素子の前記微小開口に誘電体を近接させた状態
   で、前記反射光の検出を行うことを特徴とする光学系調
   整方法。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の光学系調整方法におい
   て、 前記誘電体は液体であることを特徴とする光学系調整方
   法。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の光学系調整方法におい
   て、 前記液体はイマージョンオイルであることを特徴とする
   光学系調整方法。
8. 【請求項８】 請求項６に記載の光学系調整方法におい
   て、 前記液体は揮発性のある液体であることを特徴とする光
   学系調整方法。
9. 【請求項９】 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載
   の光学系調整方法において、 前記光学素子は、高屈折率媒質で形成された、固浸レン
   ズ又は固浸ミラーであることを特徴とする光学系調整方
   法。
10. 【請求項１０】 近接場光を用いて、記録媒体に対して
    情報を記録又は記録媒体に記録された情報の再生を行う
    光記録再生装置であって、 前記情報の記録又は前記情報の再生を行うための光学系
    として、 情報の記録又は再生用の光を発生させる光源と、 前記光源からの光を前記近接場光に変換するために微小
    開口の形成された光学素子と、 前記記録媒体からの反射光を検出する光検出器と、を備
    え、 当該光学系が、前記光源と前記光学素子と前記光検出器
    とを用いて請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の光
    学系調整方法により調整されることを特徴とする光記録
    再生装置。
11. 【請求項１１】 試料からの近接場光を検出するように
    構成された顕微鏡装置であって、 前記近接場光を検出するための光学系として、 照明された前記試料からの前記近接場光を検出するため
    に微小開口の形成された光学素子と、 前記光学素子を介して得られる前記試料からの光を検出
    する光検出器と、を備え、 当該光学系が、前記光学素子と前記光検出器とを用いて
    請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の光学系調整方
    法により調整されることを特徴とする顕微鏡装置。
12. 【請求項１２】 近接場光を用いて、加工対象物に対し
    て微細加工を施す加工装置であって、 前記近接場光を発生させるための光学系として、 微細加工用の光を発生させる光源と、 前記光源からの光を前記近接場光に変換するために微小
    開口の形成された光学素子と、を備え、 当該光学系が、前記光源と前記光学素子とを用いて請求
    項１乃至請求項９のいずれかに記載の光学系調整方法に
    より調整されることを特徴とする加工装置。