CN1505099A - 基板处理装置以及清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板处理装置以及清洗方法，通过旋转杯以规定的旋转速度旋转，储存在储存槽中的清洗液在离心力的作用下向外侧流动，通过该流动的力，清洗液从孔中向上方喷出而飞散。由于孔是倾斜地形成的，所以清洗液的喷出方向为该倾斜的方向。因此，清洗液能够遍及到盖体上基板外侧附近的区域(符号M所示的虚线右侧的区域)。

Description

基板处理装置以及清洗方法

技术领域

本发明涉及一种在液晶制造工序中液晶显示器(LCD)等中使用的玻璃基板上涂敷例如抗蚀剂并进行显影的基板处理装置以及这种基板处理装置中使用的清洗方法。

背景技术

在LCD的制造工序中，为了在LCD用的玻璃基板上形成铟锡氧化物的薄膜或电极图案，利用了与半导体器件的制造中使用的技术相同的光蚀刻技术。在光蚀刻技术中，将光致抗蚀剂涂敷在玻璃基板上，对其进行曝光，进而进行显影。

在光致抗蚀剂的涂敷处理中，例如将基板收放在旋转的杯内，向基板上供应抗蚀剂，将杯加盖，使杯和基板一体地旋转，从而使抗蚀剂在基板的整个表面上扩散，以形成抗蚀剂膜。

但是，在这种涂敷处理中使用的杯的内部附着因其旋转而在离心力的作用下飞散的抗蚀剂或雾沫状的抗蚀剂。这种附着物在干燥后将成为产生裂纹的原因。为了解决这一问题，现实中是在杯内设置喷出清洗液的喷嘴，向上述附着物上喷出清洗液而将附着物除去(例如，日语公开公报，平成8-255789号公报(图6))。

特别是，提出了在专用的容器内储存清洗液，通过使该容器在杯内旋转，使清洗液从设置在该容器上的孔中飞散，从而对杯进行清洗的方案(例如，日语公开公报，平成5-82435号公报(图2、4、6)。在这些文献中，不是处理玻璃基板，而是处理半导体晶片的装置)。

可是，在专利文献1中所示的装置中，例如在其图6中，虽然设置有用于清洗盖的盖体清洗喷嘴，但旋转吸盘(通过真空而保持基板，并使基板旋转的部件)遮住了从盖体清洗喷嘴喷出的清洗液。因此，在该例中，几乎不能够清洗盖体。在这种盖体的内侧尤其被抗蚀剂污染，必须还要除去这种盖体的污染。

在专利文献1所示的装置中，若将旋转吸盘设计得较小，则能够清洗盖体。但是，从近年来玻璃基板的大型化的观点考虑，减小旋转吸盘则存在安全性等的问题。当考虑到现在的旋转吸盘是以大小与基板的大小大致相同的吸盘为主流，则盖体的清洗愈发困难。

另一方面，在专利文献2所示的涂敷装置中，虽然设置了用于关闭杯上部的开口部的盖，但必须要根据杯的清洗情况而将清洗夹具安装在旋转吸盘上或从其上卸下，工作量增加而烦琐。而且，即使将这种清洗夹具用于专利文献1所示的装置中，也不能够清洗容器的盖。

发明内容

鉴于上述情况，本发明的目的在于提供一种基板处理装置以及清洗方法，能够可靠地清洗用于开闭杯等容器或其他容器的盖，并能够就节省用于该清洗处理的作业工时。

为了到达上述目的，本发明的基板处理装置包括：保持基板可旋转的保持部件；具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的容器；可装卸地设置在上述开口部上，开闭上述容器的盖体；安装在上述容器上，同时设置在上述保持部件周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；使上述容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部。

本发明中，例如在基板上涂敷了涂敷液后，在基板盖在容器中的状态下使容器旋转，使清洗液在离心力的作用下从储存槽朝向盖体飞散。由于该储存槽设置在保持部件的周围，所以不会象现有技术那样保持部件遮住飞散的清洗液，例如使清洗液从盖体的中央部也能够飞散，从而能够清洗盖体。而且，附着在盖体上的清洗液在离心力的作用下向旋转的外侧流动，由于其流动的清洗液到达容器上，所以也能够清洗容器。另外，本发明中，不必象现有技术那样根据容器清洗的情况而装卸清洗夹具，能够节省用于清洗处理的作业工时。

在本发明中，作为清洗液，例如可使用信纳水等，更具体地说，除了甲基一3-甲氧基丙酸盐(MMP，沸点：145°，粘度1.1cps)之外，可使用乳酸乙基(EL，沸点：154°，粘度2.6cps)，乙基-3-乙氧基丙酸盐(EEP，沸点：170°，粘度1.3cps)，丙酮酸乙基(EP，沸点：144°，粘度1.2cps)，丙二醇一甲基醚乙酸盐(PGMEA，沸点：146°，粘度1.3cps)，甲基正戊基甲酮(沸点：152°，粘度1.1cps)，环己酮(ARC的溶剂等)等本领域中公知的清洗液。

而且，在本发明中，「同步」包括保持部件和容器例如一体地旋转的意思，或者例如通过独立的驱动源使各保持部件和容器同步地旋转的意思。

本发明的一实施方式是在该储存槽上与上述盖体对向的一侧上形成喷出储存在上述储存槽中的清洗液的孔。因此，能够可靠地使清洗液朝向盖体飞散。而且，也可以由线状的狭缝取代孔。

在本发明的一实施方式中，上述孔是以上述清洗液的喷出方向与上述容器的旋转的旋转轴方向相比朝向旋转中心一侧的方式形成的。因此，能够可靠地朝向盖体的中央部喷出清洗液。而且，在这种情况下也可以由线状的狭缝取代孔。

在本发明的一实施方式中，还具备向上述储存槽的内部供应上述清洗液的清洗液供应机构。而且，上述清洗液供应机构包括：朝向上述储存槽的内部喷出上述清洗液的喷嘴；使上述喷嘴在上述容器之外的规定位置和上述保持部件的正上方位置之间移动的移动机构。因此，可在每次例如规定个数的基板的涂敷处理结束时自动地供应清洗液进行清洗，作业容易。或者，若在每次一个基板的涂敷处理结束时供应清洗液，则能够始终使容器或盖为没有污染的状态，能够可靠地防止微粒的产生。

在本发明的一实施方式中，还具备多个配列在上述储存槽的内部，在由上述保持部件保持的基板的周围方向上将该储存槽的内部分隔成多个室的分隔部件。因此，能够尽量抑制容器的旋转所产生的、清洗液和储存槽的相对移动，能够增加清洗液的喷出势头和喷出量。

在本发明的一实施方式中，上述多个分隔部件分别具有与上述储存槽面对的侧面；上述侧面的一部分与上述储存槽隔开间隔地配置，另一部分抵接在上述储存槽上。或者，上述多个分隔部件中的至少一个上形成有使上述多个室之间连通的连通口。因此，清洗液不会滞留在各室中，能够使清洗液通过间隔或连通口而遍及到各处。

在本发明的一实施方式中，上述间隔设置在上述储存槽上偏靠上述容器的旋转中心一侧。或者，上述连通口设置在上述分隔部件上偏靠上述容器的旋转中心一侧。因此，在例如通过上述清洗液供应机构使清洗液储存在储存槽内部时，清洗液通过间隔或连通口而遍及到各处，并且，在清洗处理时，通过容器的旋转，清洗液在储存槽的内部因离心力而向外周一侧流动。其结果，清洗液不在多个室中流通地滞留在各室中，能够进行良好的清洗液的喷出。

在本发明的一实施方式中，上述多个分隔部件中的至少一个呈板状，并相对于该多个分隔部件配列的配列方向斜向倾斜地设置。因此，能够使储存槽内部的清洗液与容器的旋转方向相配合地流通，有望良好地喷出清洗液。

本发明的清洗方法是在具有放入和取出基板的开口部、经由该开口部收放基板的容器中，采用清洗液，至少清洗可装卸地安装在上述开口部上的用于开闭上述容器的盖体的清洗方法，包括：向安装在上述容器上、并设置在于上述容器内保持基板的保持部件的周围的至少一部分上的储存上述清洗液的储存槽供应该清洗液的工序；通过使上述容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的工序。

本发明中，例如在基板上涂敷了涂敷液后，向储存槽供应清洗液，然后在盖体被盖在容器中的状态下使容器旋转，通过其离心力而使清洗液从储存槽朝向盖体飞散。由于该储存槽设置在保持部件的周围，所以不会象现有技术那样保持部件遮住飞散的清洗液，可以使清洗液从例如盖体的中央部飞散，能够清洗盖体。

本发明的其他的基板处理装置包括：保持基板可旋转的保持部件；具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的第一容器；可装卸地安装在上述开口部上，开闭上述第一容器的盖体；安装在上述第一容器上，同时设置在上述保持部件的周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；使上述第一容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部；收放上述第一容器的第二容器；具有为了至少清洗上述第一容器的外周部而设置在上述第二容器上的清洗喷嘴的清洗机构。

本发明中，例如在基板上涂敷了涂敷液后，在基板被盖在容器中的状态下使容器旋转，通过该离心力使清洗液从储存槽朝向盖体飞散。由于该储存槽设置在保持部件的周围，所以不会向现有技术那样保持部件遮住飞散的清洗液，可以使清洗液从例如盖体的中央部飞散，能够清洗盖体。而且，在第二容器中设置有用于清洗第一容器的外周部的清洗喷嘴。因此，例如通过旋转驱动部使第一容器旋转，同时从清洗喷嘴喷出清洗液，能够与盖体一起至少清洗第一容器的外周部。

在本发明的一实施方式中，上述清洗机构作为上述清洗喷嘴而具有可清洗上述第一容器的侧壁的外周面的第一喷嘴，以及用于清洗上述第一容器的外侧底面的第二喷嘴。因此，例如通过旋转驱动部使第一容器旋转，同时分别从第一喷嘴、第二喷嘴喷出清洗液，能够清洗第一容器侧壁的外周面和第一容器的外侧底面。

在本发明的一实施方式中，上述清洗机构作为上述清洗喷嘴而具有用于清洗上述第二容器内部的底面的第三喷嘴。因此，通过从第三喷嘴喷出清洗液，能够清洗第二容器内部的底面。

在本发明的一实施方式中，还具备：经由设置在上述储存槽上的供应口，向该储存槽的内部喷出上述清洗液的喷射喷嘴；使上述喷射喷嘴至少在上述第一容器的外部和上述供应口的正上方之间移动的移动机构。因此，例如通过移动机构使喷射喷嘴对位在储存槽的供应口的位置上，能够储存清洗液。

在本发明的一实施方式中，还具备：可清洗上述第一容器的内侧底面的第四喷嘴；用于清洗上述第一容器侧壁的内周面和上面的第五喷嘴；一体地支承上述喷射喷嘴和上述第四喷嘴以及上述第五喷嘴的支承体。因此，即使在使第四喷嘴和第五喷嘴例如分别向第一容器的上方和第一容器的侧壁的上方移动时，也能够利用用于储存清洗液的移动机构。而且，通过在使第四喷嘴和第五喷嘴分别移动到第一容器的上方和第一容器的侧壁的上方的状态下从第四喷嘴和第五喷嘴喷出清洗液，能够清洗第一容器的内侧底面、第一容器侧壁的内周面以及上面。

在本发明的一实施方式中，上述供应口至少形成两个。因此，在例如将清洗液储存在储存槽中时，从一个供应口开始注入，在储存的中途通过旋转驱动部使第一容器旋转，能够从储存槽的其他的供应口注入。因此，由于能够使清洗液从不同的供应口遍及到储存槽内，所以能够缩短清洗液的存入时间。

本发明的其他的基板处理装置包括：保持基板可旋转的保持部件；具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的第一容器；可装卸地安装在上述开口部上，开闭上述第一容器的盖体；安装在上述第一容器上，同时设置在上述保持部件的周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；使上述第一容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部；可在上述第一容器的外部和形成在上述储存槽上的供应口的正上方之间移动地设置的，经由上述供应口向该储存槽的内部喷出上述清洗液的喷射喷嘴；可清洗上述第一容器的内侧底面的底面清洗喷嘴；用于清洗上述第一容器侧壁的内周面和上面的侧壁侧壁清洗喷嘴；一体地支承上述喷射喷嘴和上述底面清洗喷嘴以及上述侧壁清洗喷嘴的支承体。

本发明中，能够通过移动机构使喷射喷嘴移动到储存槽的供应口的正上方而储存清洗液。而且，即使在使底面清洗喷嘴和侧壁清洗喷嘴例如分别向第一容器的上方和第一容器的侧壁的上方移动时，也能够利用相同的移动机构。而且，通过在使底面清洗喷嘴和侧壁清洗喷嘴分别移动到第一容器的上方和第一容器的侧壁的上方的状态下从底面清洗喷嘴和侧壁清洗喷嘴喷出清洗液，能够清洗第一容器的内侧底面，第一容器侧壁的内周面以及上面。

本发明的其他的清洗方法包括下述工序：(a)使喷出清洗液的喷射喷嘴对位在第一供应口上的工序，其中，所述第一供应口形成在安装于第一容器上的储存槽上，所述第一容器经由用于放入和取出基板的开口部而收放基板；(b)在上述工序(a)之后，从上述喷射喷嘴经由上述第一供应口向上述储存槽内喷出清洗液的工序；(c)在上述工序(b)之后，使上述第一容器旋转，使上述喷射喷嘴对位在形成于和储存槽的上述第一供应口不同的部位上的第二供应口上的工序；(d)在上述工序(c)之后，从上述喷射喷嘴经由上述第二供应口向上述储存槽内喷出清洗液的工序；(e)使可清洗上述第一容器的内侧底面的底面清洗喷嘴和用于清洗上述第一容器侧壁的内周面以及上面的侧壁清洗喷嘴一体地移动，进行相对于该第一容器的侧壁对位的工序；(f)一边以第一转速使上述第一容器旋转，一边从上述底面清洗喷嘴和上述侧壁清洗喷嘴喷出上述清洗液的工序；(g)通过使上述第一容器以比第一转速快的第二转速旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向可装卸地设置在上述开口部上的开闭上述第一容器的盖体飞散的工序。

本发明中，从工序(a)到工序(d)中，由于能够使清洗液从第一供应口和与第一供应口不同的第二供应口遍及到储存槽内，所以能够缩短存入时间。而且，在工序(e)中，使底面清洗喷嘴和侧壁清洗喷嘴相对于第一容器一体地对位。因此，由于不需要例如不同的移动机构，所以能够实现低成本化和节省空间。而且，在工序(f)中，由于一边使第一容器以第一转速旋转一边喷出清洗液，所以能够遍及第一容器的全周进行清洗。另外，在工序(g)中，通过使第一容器以比第一转速快的第二转速旋转，能够使储存在储存槽中的清洗液朝向上述盖体飞散而清洗盖体。

在本发明的一实施方式中，还具备：(h)在上述工序(g)之后，通过使上述第一容器以比上述第二转速慢的第三转速旋转，从设置在收放第一容器的第二容器上的清洗喷嘴向上述第一容器的外周部喷出清洗液的工序。因此，例如能够将第一容器的转速抑制在第三转速上，并清洗第一容器的外周部。

在本发明的一实施方式中，还具备：

在上述工序(h)之后，使上述第一容器以比上述第三转速快的第四转速旋转的工序。因此，例如能够使从第一喷嘴喷出的清洗液在第一容器侧壁的外周面上反射，清洗第二容器内部的侧面。

附图说明

图1为表示本发明一实施方式的涂敷显影处理系统的整体结构的俯视图。

图2为图1所示的涂敷显影处理系统的主视图。

图3为图1所示的涂敷显影处理系统的后视图。

图4为一实施方式的抗蚀剂涂敷处理单元的剖视图。

图5为图4所示的抗蚀剂涂敷处理单元的俯视图。

图6为用于说明一实施方式储存槽而表示旋转杯内部的放大剖视图。

图7为储存槽中清洗液的供应口附近的放大俯视图。

图8为用于说明其他实施方式的储存槽的旋转杯和其内部的俯视图。

图9为用于说明其他实施方式的储存槽而表示旋转杯内部的放大剖视图。

图10为用于说明其他实施方式的储存槽而表示旋转杯内部的一部分的俯视图。

图11为图10所示的储存槽的剖视图。

图12为图10所示的分隔部件的立体图。

图13为表示其他实施方式的旋转杯的一部分的剖视图。

图14为其他实施方式的抗蚀剂涂敷处理单元的俯视图。

图15为其他实施方式的清洗液供应机构的俯视图。

图16为表示其他实施方式的清洗液供应方法的流程图。

图17为图16所示的旋转杯清洗时的旋转杯及其固定杯的剖视图。

图18为表示其他实施方式的储存槽的变形例的俯视图。

图19为表示其他实施方式的清洗液供应机构的卡合部的侧视图。

具体实施方式

以下，根据附图对本发明的实施方式加以说明。

图1为表示适用本发明的LCD基板的涂敷显影处理系统的俯视图，图2为其主视图，图3为其后视图。

这种涂敷显影处理系统1包括：放置多个收放玻璃基板G的盒体C的盒体工位2，具备在基板G上实施包括抗蚀剂涂敷和显影的一系列处理的多个处理单元的处理部3，以及在与曝光装置32之间进行基板G的交接的接口部4，盒体工位2和接口部4分别配置在处理部3的两端。

盒体工位2具备在盒体C和处理部3之间进行LCD基板的运送的运送机构10。而且，在盒体工位2上进行盒体C的搬入和搬出。运送机构10具备可在沿着盒体C的配列方向设置的运送路径12上移动的运送臂11，通过该运送臂11在盒体C和处理部3之间进行基板G的运送。

处理部3上设置有在盒体工位2上沿盒体C的配列方向(Y方向)和垂直方向(X方向)延伸设置的主运送部3a，沿着该主运送部3a、并列设置有包含抗蚀剂涂敷处理单元(CT)的各处理单元的上游部3b，以及并列设置有包含显影处理单元(DEV)的各处理单元的下游部3c。

在主运送部3a上设置有向X方向延伸设置的运送路径31，和可沿着该运送路径31移动地构成的、将玻璃基板G向X方向运送的运送梭23。该运送梭23例如通过支承销保持基板G而进行运送。而且，在主运送部3a的接口部4一侧的端部上设置有在处理部3和接口部4之间进行基板G的交接的垂直运送单元7。

在上游部3b，在盒体工位2一侧的端部上设置有在基板G上实施清洗处理的擦洗清洗处理单元(SCR)20，在该擦洗清洗处理单元(SCR)20的上段配设有用于除去基板G上的有机物的激元UV处理单元(e-UV)19。

在擦洗清洗处理单元(SCR)20的旁边，配置有多级叠置了对玻璃基板G进行热处理的单元的热处理系区域24和25，由于在这些热处理系区域24和25之间配置垂直运送单元5，运送臂5a可向Z方向以及水平方向移动，并且可向θ方向转动，所以与两区域24和25上的各热处理系单元对接，进行基板G的运送。另外，上述处理部3的垂直运送单元7也具有与这种垂直运送单元5相同的结构。

如图2所示，在热处理系区域24上，从下至上地顺序叠置有两级在基板G上进行涂敷抗蚀剂前的热处理的烘烤单元(BAKE)，以及通过HMDS气体进行疏水化处理的粘着单元(AD)。另一方面，在热处理系区域25上，从下至上地顺序叠置有两级在基板G上实施冷却处理的冷却单元(COL)，以及粘着单元(AD)。

与热处理系区域25邻接地向X方向延伸设置有抗蚀剂处理区域15。该抗蚀剂处理区域15是一体地设置在基板G上涂敷抗蚀剂的抗蚀剂涂敷处理单元(CT)，通过减压而使上述涂敷的抗蚀剂干燥的减压干燥单元(VD)，以及除去本发明的基板G周缘部上的抗蚀剂的边缘清理器(ER)。在该抗蚀剂处理区域15上设置有从抗蚀剂涂敷处理单元(CT)向边缘处理器(ER)移动的、未图示的辅助臂，通过该辅助臂在抗蚀剂处理区域15内运送基板G。

与抗蚀剂处理区域15邻接地配设有多级构成的热处理系区域26，在该热处理系区域26上三级叠置有在基板G上进行抗蚀剂涂敷后的加热处理的预烘烤单元(PREBAKE)。

在下游部3c，如图3所示，在接口部4一侧的端部上设置有热处理系区域29，在其上从下至上地顺序叠置两级冷却单元(COL)和进行曝光后、显影处理前的加热处理的后曝光烘烤单元(PEBAKE)。

与热处理系区域29邻接地向X方向延伸设置有进行显影处理的显影处理单元(DEV)。在该显影处理单元(DEV)的旁边配置有热处理系区域28和27。这些热处理系区域28和27之间设置有具有与上述垂直运送单元5相同的结构、可与两区域28和27的各热处理系单元对接的垂直运送单元6。而且，在显影处理单元(DEV)的端部上设置有i线处理单元(i-UV)33。

在热处理系区域28上从下至上地顺序叠置两级在基板G上进行显影后的加热处理的后烘烤单元(POBAKE)。另一方面，与热处理系区域27同样，从下至上地顺序叠置两级冷却单元(COL)和后烘烤单元(POBAKE)。

在接口部4，在正面一侧上设置有标识打印以及周边曝光单元(Titler/EE)22，与垂直运送单元7邻接地配置有外延冷却单元(EXECOL)35，而且在背面一侧上设置有缓冲盒体34，在这些标识打印以及周边曝光单元(Titler/EE)22、外延冷却单元(EXECOL)35、以及与缓冲盒体34邻接的曝光装置32之间配置进行基板G的交接的垂直运送单元8。在该垂直运送单元8也具有与上述垂直运送单元5相同的结构。

在以上构成的涂敷显影处理系统1的处理工序中，首先，将盒体C内的基板G运送到处理部3的上游部3b。在上游部3b，在激元UV处理单元(e-UV)19中进行表面改质、有机物的除去处理，然后在擦洗清洗处理单元(SCR)20中，一边将基板G大致水平地运送一边进行清洗处理以及干燥处理。接着，在热处理系区域24的最下级部，通过垂直运送单元的运送臂5a将基板G取出，由该热处理系区域24中的烘烤单元(BAKE)进行加热处理，通过粘着单元(AD)提高玻璃基板G和抗蚀剂膜的紧贴性，进行在基板G上喷雾HMDS气体的处理。之后，进行热处理系区域25的冷却单元(COL)的冷却处理。

接着，基板G从运送臂5a上转交到运送梭23上。而且运送到抗蚀剂涂敷处理单元(CT)，在进行了抗蚀剂的涂敷处理后，由减压干燥处理单元(VD)进行减压干燥处理，由边缘清理器(ER)进行基板周缘的抗蚀剂除去处理。

然后，基板G从运送梭23转交到垂直运送单元7的运送臂上，由热处理系区域26上的预烘烤单元(PREBAKE)进行了热处理后，由热处理系区域29上的冷却单元(COL)进行冷却处理。接着，基板G由外延冷却单元(EXTCOL)35进行冷却处理，同时由曝光装置进行曝光处理。

然后，基板G经由垂直运送单元8和7的运送臂运送到热处理系区域29的后曝光烘烤单元(PEBAKE)，在此进行了热处理后，由冷却单元(COL)进行冷却处理。而且基板G经由垂直运送单元7的运送臂在显影处理单元(DEV)上大致水平地运送基板G，同时进行显影处理、冲洗处理以及干燥处理。

然后，基板G通过垂直运送单元6的运送臂6a从热处理系区域28中的最下级转交，由热处理系区域28或27上的后烘烤单元(POBAKE)进行加热处理，由冷却单元(COL)进行冷却处理。而且，基板G转交到运送机构10上并收放在盒体C中。

图4为表示本发明一实施方式的抗蚀剂涂敷处理单元(CT)的剖视图，图5为其俯视图。

在抗蚀剂涂敷处理单元CT上设置有收放基板G的旋转杯，在该旋转杯50的上部形成有放入和取出基板G的开口部50b。在该开口部50b上装卸自如地盖有盖体37，通过机械手36握住安装在盖体37上的把持部而使其上下移动而装卸盖体。

在旋转杯50的附近配置有抗蚀剂液供应机构41和清洗液供应机构57。

抗蚀剂液供应机构41如图5所示，具有向收放在旋转杯50内的基板G喷出抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴55，该抗蚀剂喷嘴55由保持体38保持其前端。保持体38的另一端连接在马达39上，通过该马达39在水平面内向θ方向转动。抗蚀剂喷嘴55上连接有未图示的管子，从未图示的抗蚀剂收放罐经由该管子向抗蚀剂喷嘴55供应抗蚀剂。

清洗液供应机构57具有向旋转杯50内喷出清洗液的清洗液喷嘴44，该清洗液喷嘴44由水平支承体42支承。作为清洗液，例如可使用信纳水。该水平支承体42连接在马达43上，通过该马达43在水平面内向θ方向转动。从未图示的清洗液收放罐中向清洗液喷嘴44供应清洗液。

在旋转杯50内配置有用于例如真空吸附而保持基板G的旋转吸盘51。该旋转吸盘51安装在旋转轴部件48上，旋转轴部件48连接在具有马达等的驱动部40上，使旋转吸盘51旋转。在旋转轴部件48的下部设置有连接在例如真空泵53上的真空密封部54，在旋转轴部件48的内部形成有未图示的排气通路。因此，可成为旋转吸盘51的真空吸盘。

而且，旋转轴部件48可通过包含在驱动部40内的气压缸等升降，在将盖体37从旋转杯50上卸下的状态下，使旋转吸盘51从旋转杯50的开口部50b出没。因此，如以下所述，在未图示的辅助臂和旋转吸盘51之间进行基板G的交接。旋转吸盘51在图4所示的状态下位于最下的位置，在该位置上抵接在旋转杯50的底部50c上安装的O型环60上。

而且，在旋转轴部件48上安装有转子基座49，该转子基座49固定在向旋转杯50的中央突起地设置的筒体50a上。根据这种结构，通过驱动部40的旋转驱动，旋转轴部件48、转子基座49、旋转杯50、以及盖体37一体地旋转。

参照图6，在旋转杯50的底部50c上，在上述最下的位置上配置的旋转吸盘51的周围配置有储存由上述的清洗液供应机构57供应的清洗液的储存槽52。该储存槽52的结构为能够在由壳体包围的内部52d中储存清洗液。在储存槽52的上表面上形成有用于向该内部52d供应清洗液的供应口52b(参照图5)，以及后述的喷出储存的清洗液的多个孔52a。这些孔52a例如是从旋转杯50的旋转的旋转轴方向朝向旋转中心一侧倾斜地形成的。储存槽52是通过将多个螺钉56拧入设置在内侧上的凹部52c中而固定在旋转杯50的底部50c上。

供应口52b设置在从图5所示的方向观察时、清洗液供应机构57的清洗液喷嘴44的前端部移动的轨迹上。因此，在水平支承体42位于符号M所示的位置，从清洗液喷嘴44喷出的清洗液注入供应口52b。图7为放大了该供应口52b附近的俯视图。供应口52b配置在较孔52a的位置更靠近内侧(旋转杯50的旋转中心一侧)。作为这种配置关系的理由，是为了在后述那样使旋转杯50旋转时，防止从供应口52b喷出清洗液的缘故。即，通过这种配置关系，在使旋转杯50旋转时，储存在内部52d的清洗液在离心力的作用下在该内部52d向外侧流动，所以可仅从配置在供应口52b外侧的多个孔52a喷出清洗液。

在旋转杯50下部的筒体50a上设置有喷出例如氮气的氮气供应喷嘴45。该氮气经由气体管46从氮气供应部47供应。这种氮气的喷出是在例如旋转杯50内的空气由未图示的排气装置排气后，不使旋转杯50内为负压时等进行。

以下，对以上结构的抗蚀剂涂敷处理单元CT的动作加以说明。

在盖体37被机械手36上提的状态下，基板通过未图示的辅助臂运送到旋转杯50的正上方。这样一来，旋转吸盘51经由开口部50b上升到高于旋转杯50上端的位置，从该辅助臂上接受基板。接受了基板的旋转吸盘51经由旋转杯50的开口部50b下降到最下的位置，从而基板G收放在旋转杯50内。此时，抗蚀剂喷嘴55和清洗液喷嘴54在旋转杯50的外侧待机。

然后，抗蚀剂喷嘴55如图5中的虚线所示，移动到基板G的中央，从抗蚀剂喷嘴55向基板G上供应规定量的抗蚀剂液。而且，盖体37盖在旋转杯50上，旋转吸盘51与旋转杯50一起以规定的旋转速度旋转，因此，抗蚀剂在离心力的作用下涂敷在基板的整个表面上。

接着，盖体37再次被机械手36上提，旋转吸盘51上升，保持在旋转吸盘51上的基板由未图示的辅助臂取出。当基板G被取出时，旋转吸盘51下降到最下的位置。

然后，清洗液喷嘴44移动到图5中符号M所示的位置，清洗液注入储存槽52中。当储存了清洗液时，清洗液喷嘴44退避到旋转杯50的外侧，盖体37再次盖在旋转杯50上。这样一来，由于旋转杯50以规定的旋转速度旋转，所以如图6所示，储存在储存槽52中的清洗液21在离心力的作用下向外侧流动，通过该流动的力，清洗液保持原状地从孔52a喷出而飞散。由于孔52a是倾斜地形成的，所以清洗液的喷出方向也为倾斜的方向。因此，在盖体37上清洗液能够遍及到基板G的外侧附近的区域(符号A所示的区域，即虚线右侧的区域)。

在旋转杯50内飞散的抗蚀剂多在A一侧的区域。这是由于抗蚀剂在离心力的作用下在基板上扩散，从基板的外侧飞散的缘故。在作为与A相反一侧的区域的B区域上抗蚀剂的飞散较少。因此，在盖体37上只要能够清洗A侧的区域即可。

虽然要清洗盖体37上A侧的区域取决与储存槽52的宽度(图6中所示的储存槽52左右方向的长度)，孔52a的角度，或者旋转杯50的旋转速度等，但这些参数可适当地变更而进行设计。

如上所述，从孔52a飞散并附着在盖体37上的清洗液在离心力的作用下向盖体的旋转外侧流动。因此，可除去附着在盖体37上的抗蚀剂液而进行清洗。而且，由于附着在盖体37上的清洗液在离心力的作用下原封不动地到达旋转杯50，所以也能够清洗旋转杯50。

在本实施方式中，由于储存槽52设置在旋转吸盘51的周围，所以不会象以往那样旋转吸盘遮住飞散的清洗液，能够除去及清洗附着在盖体37上的抗蚀剂。而且，不必向以往那样要根据杯的清洗情况而安装、拆卸清洗夹具等特别的装置，能够节省用于清洗处理的作业工时。

以下，参照图8对储存槽的其他实施方式加以说明。在这种储存槽62中，与上述的实施方式中所示的储存槽52的不同之处在于喷出清洗液的不是孔而是狭缝62a。该狭缝62a例如图示那样，沿着基板G的各边形成，与储存槽的内部(图6中符号52d所示)贯通。根据这种结构，也能够可靠地清洗盖体37的规定区域，同时不必装卸清洗夹具等特别的装置，能够节省清洗处理的作业工时。

图9为其他实施方式的旋转杯内部的放大剖视图。

在该图所示的例子中，喷出清洗液的孔72a是在储存槽72的上表面上沿着垂直方向形成的。而且，在该孔72a上安装有喷出清洗液21的喷嘴72b，该喷嘴72b是其前端部相对于旋转杯50的旋转轴方向朝向旋转中心一侧安装的。因此，能够朝向旋转中心一侧喷出清洗液，并能够清洗盖体37的规定区域。

以下，参照图11和图12对储存槽的其他实施方式加以说明。如图10和图11所示，本实施方式的储存槽82的内部设置有多个分隔部件89。这些分隔部件89配列在基板G的周围方向上，从而将储存槽82的内部划分成多个室83。如图10和图12所示，各分隔部件89呈板状，相对于分隔部件89的配列方向(在本例中为基板G的周围方向)斜向倾斜(在图1中以角度θ表示)地设置。

如图12所示，该分隔部件89是其侧面89a和89b中的上侧面89a抵接在储存槽82的内部上表面82e(参照图11)上。另一方面，横侧面89b和储存槽82的内部侧面82g不抵接，设置有间隙85(参照图11)。该间隙85是为了使清洗液在储存槽82的内部整体流动而设置的，使多个室83相互连通。

另外，本实施方式的储存槽82上喷出清洗液的孔82a的设置个数多于上述各实施方式。

如上所述，通过设置分隔部件89，在例如通过清洗液供应机构57(参照图5)使清洗液储存在储存槽82内部时，使清洗液通过间隙85而遍及全体。在清洗处理时，由于使旋转杯50旋转，清洗液在离心力的作用下向外周一侧流动，所以清洗液不会在多个室83中流通地滞留在由分隔部件89隔开的各室83中。因此，能够尽力抑制因旋转杯50的旋转而产生的、清洗液和储存槽82的相对移动。即，储存在储存槽82内部的清洗液虽然具有在惯性的作用下相对于旋转的储存槽82保持静止的性质，但在本实施方式中，能够避免这种问题，清洗液的喷出势头、喷出量增大，进行良好的清洗液的喷出。

而且，由于分隔部件89是相对于其配列方向斜向倾斜地配置的，所以能够使储存槽82内部的清洗液与旋转杯50的旋转方向相配合地流通。因此，有望更加良好地喷出清洗液。

本发明并不仅限于以上说明的实施方式，可进行种种变更。

例如，孔52a的数量不必一定是多个，也可以是一个。而且，也可以使图8中四个狭缝中的一个狭缝62a为多个长孔。

而且，在抗蚀剂涂敷处理单元CT中抗蚀剂的涂敷方法并不仅限于上述的实施方式，也可以是一边使喷嘴在基板G上移动一边喷出抗蚀剂的所谓扫描涂敷。

而且，也可以不设置图11中的间隙85，而代之以在分隔部件89上穿设使清洗液流通的连通口。

另外，在上述的实施方式中，虽然举出了以液晶显示器件用的玻璃基板作为基板的例子，但只要是在旋转杯上设置有盖体的装置，则在半导体晶片基板上也能够适用本发明。

图13为表示其他实施方式的抗蚀剂涂敷处理单元的旋转杯162的一部分的剖视图。另外，在本实施方式中，对于与上述的实施方式相同的结构部件赋予相同的附图标记，省略其说明，以不同之处为中心进行说明。

固定杯161是为了收放旋转杯162，在后述那样清洗时将在内部流动的气流和清洗液的液流分开而设置的。

固定杯161制成在上端部具有开口，在外周部上具有气流控制部180的大致筒状。气流控制部180例如是具有朝向外侧而向下方倾斜的内壁180a，以成为内壁180a的下端的高度A折返、并朝向内侧向下方倾斜的内壁180b，以及进一步折返、朝向内侧向上方倾斜的内壁180c的结构。

在气流控制部180的上部外表面上固定有喷嘴插入部185，喷嘴插入部185上设置有用于喷出清洗液的作为第一喷嘴的清洗喷嘴203。清洗喷嘴203经由清洗液供应管连接在用于收放清洗液的收放罐220上。在清洗时，清洗液供应到清洗喷嘴203上，清洗旋转杯162的外壁162b等。另外，也可以取代设置清洗用的清洗喷嘴203，而在喷嘴插入部185上形成清洗用的喷嘴插入用的孔，将其他的喷嘴插入孔中，喷出清洗液而进行清洗。

在喷嘴插入部185的上表面上埋设有例如V型密封件102。在喷嘴插入部185上，经由V型密封件102装卸自如地配置有具有内壁186的圆盘状的固定杯盖186。固定杯盖186配置成内壁186b位于大致与内壁180a相同的面上。

固定杯盖186的上壁186a上，在大致中央部上形成有导入外部气体的导入口182。另外，关于形成在固定杯盖186上的导入口的数量或形状，例如可以形成两个大小为导入口182的面积的一半的导入口。

圆盘状的盖体137是从固定杯盖186的上壁186a起隔开第一间隔h1配置的(以下，将第一间隔h1的间隙简称为「第一流路」)。旋转杯162的上部周缘是相对于内壁180a隔开比第一间隔h1窄的第二间隔h2配置的(以下，将第二间隔h2的间隙简称为「第二流路」)。旋转杯162的外壁162b设置成与内壁180a对向、同时随着朝向下方而与内壁180a的间隔扩大。在内壁180c的上部，大致水平朝外地突出设置有作为环状的突出部件的保护部件197。

高度A是位于旋转杯162的外侧底面162a的高度B之下地构成的。另外，高度A也可以是例如位于旋转杯162的最低面的水平高度之下地构成的。

在固定杯161的底面上，例如朝向下方突出地设置有四个用于将从导入口182导入固定杯162内的气体排出的排气管183a。排气管183连接在未图示的排气通道上。

在旋转杯162的侧周壁下部形成有通过旋转杯162的形状可向固定杯161的内壁180a一侧排出抗蚀剂液的排出孔104。

在气流控制部180的底部上，例如朝向下方地突出设置有四个废液管181，废液管181具有将从排出孔104排出的抗蚀剂液向下方排出的废液口181d。废液管181d连接在未图示的废液通道上。

固定杯161在较废液口181d位于内侧、排气口183a的外侧上具有废液管194，废液管194上形成有将抗蚀剂废液排出的废液口194a。废液口194a的直径设定得小于废液口181d的直径。

在固定杯161的内底面161d上固定有圆盘状的隔壁192。在隔壁192的外周部上，沿着固定杯161的内底面161d的形状地形成有台阶，隔壁192的外周缘部沿着内壁180c的倾斜向斜下方折曲。固定杯161的内底面161b和旋转杯162的外侧底面162a之间的空间通过隔壁192而上下大致均等隔开，在排气口183a和旋转杯162的底面之间例如配置有形成了12个贯通孔196的整流板195。整流板195配置成整流板195的贯通孔196和排气口183a在上下方向上不重合地错开。

固定杯161的底面上，在废液管181和废液管194之间，在圆周上贯通有作为第二喷嘴的清洗喷嘴205和作为第三喷嘴的清洗喷嘴206。清洗喷嘴205、清洗喷嘴206分别经由清洗液供应管连接在用于收放清洗液的收放罐220上。

清洗喷嘴205用于清洗旋转杯162的外侧底面162a。清洗喷嘴205的前端部贯穿隔壁192而朝向旋转杯162的外侧底面162a突出。因此，清洗液从清洗喷嘴205直接喷出到外侧底面162a上，能够清洗外侧底面162a。

清洗喷嘴206用于清洗气流控制部180的内壁180c。清洗喷嘴206的前端部位于隔壁192的下方，在该前端部的侧面上形成有用于喷出清洗液的未图示的喷出口。因此，从清洗喷嘴206喷出的清洗液喷出到内壁180c上。从而能够从清洗喷嘴206喷出清洗液而清洗内壁180c。

储存槽52内壁的材质例如可采用铝等金属。因此，与采用合成树脂制等的情况相比，由于能够防止旋转产生的变形，所以能够稳定地供应清洗液。

由清洗喷嘴203，清洗喷嘴205，清洗喷嘴206，以及收放罐220等构成清洗机构。

图14为抗蚀剂涂敷处理单元(CT)的俯视图。如图14所示，与供应口52b夹着旋转杯162的中心地在储存槽52上形成有供应口152b。

清洗液供应机构157经由有作为支承体的水平支承体142支承的、作为喷射喷嘴的清洗液喷嘴44。在水平支承体142上支承有作为第五喷嘴的侧壁清洗喷嘴201a。清洗液喷嘴44的结构为在马达43的驱动下能够绕马达43的轴至少在旋转杯162的外部和供应口52b的正上方(位置P1)之间转动。因此，在清洗液喷嘴44位于位置P1、即位于供应口52b的正上方位置时，能够从清洗液喷嘴44向供应口52b内喷出清洗液。

在相同的马达43的驱动下，能够使清洗液喷嘴44与侧壁清洗喷嘴201a和后述的底面清洗喷嘴一体地向位置P2移动。当清洗液喷嘴44位于位置P2时，侧壁清洗喷嘴201a的开口端201b位于旋转杯162侧壁的内面侧的上方。

图15为本实施方式的清洗液供应机构157的俯视图。如图15所示，通过水平支承体142，支承有清洗液喷嘴44和作为第四喷嘴的底面清洗喷嘴201。在底面清洗喷嘴201的前端部上形成有使清洗液向下方喷出的狭缝201c，底面清洗喷嘴201的长度方向的大致中央上连接有侧壁清洗喷嘴201a。侧壁清洗喷嘴201a用于清洗旋转杯162。侧壁清洗喷嘴201a是前端的开口端201b例如朝向马达43一侧弯曲的。底面清洗喷嘴201和清洗液喷嘴44经由用于切换清洗液的供应的切换阀221连接在收放清洗液的收放罐222上。

因此，供应到底面清洗喷嘴201内的清洗液在侧壁清洗喷嘴201a和底面清洗喷嘴201的分流点V处分别分流成侧壁清洗喷嘴201a侧和狭缝201c侧，从开口端201b、狭缝201c喷出。而且，清洗液喷嘴44、底面清洗喷嘴201以及侧壁清洗喷嘴201a可通过马达43而一体地移动。因此，由于不需要不同的移动机构，所以结构简单，能够实现低成本化以及省空间化。

另外，在本实施方式中，表示了在水平支承体142的长度方向的大致中央上固定有侧壁清洗喷嘴201a的例子。但是，例如也可以为了向马达43一侧偏靠地连接侧壁清洗喷嘴201a而加长狭缝201c的长度。这样一来，能够在广阔的区域上供应清洗液，有效地进行清洗。

以下，参照图13对在基板上涂敷抗蚀剂时的旋转杯162的作用加以说明。

旋转杯162旋转时，流入固定杯161内的气体从导入口182流入第一流路。流入第一流路中的气体沿着固定杯盖186的内壁186b(倾斜面)流入第二流路。由于第二流路的间隔h2设定得小于第一流路的间隔h1，所以第二流路中的流速大于第一流路中的流速。

在第二流路中被加速了的气体沿着内壁180a、内壁180b、内壁180c的倾斜面流动。即，在气流控制部180内，气体成为箭头C方向的涡流。

在气流控制部180内产生的抗蚀剂雾沫通过保护部件197而抑制向排气口183a一侧流入，通过废液管181向下方流出。

沿着箭头C的方向流动的涡流中流入隔壁192的底面一侧的气体例如通过整流板195的贯通孔196而流速均匀化，并从排气口183a排气。

以下，参照图16所示的流程图对本实施方式的旋转杯162以及固定杯161的清洗顺序加以说明。

如图17所示，使旋转吸盘151上升而待机。驱动图14所示的马达43，使清洗液喷嘴44对位在位置P1。对位之后，从清洗液喷嘴44向供应口52b内喷出清洗液，清洗液储存在储存槽52内(步骤(S1))。

然后，使图14所示的旋转杯162旋转180度(S2)。因此，供应口152b对位在清洗液喷嘴44的正下方。

接着，与步骤(S1)同样地从清洗液喷嘴44向供应口152b内喷出清洗液，清洗液储存在储存槽52内(S3)。因此，由于能够使清洗液从供应口52b、152b进到储存槽52内，所以能够缩短存入的时间。

如图14所示，驱动马达43，使清洗液喷嘴44对位(扫描)到位置P2。然后，使清洗液从开口端201b、狭缝201c、清洗喷嘴203、以及清洗喷嘴205喷出。此时，使旋转杯162以例如第一转速的5rpm旋转(S4)。即，通过一边使旋转杯162旋转，一边使清洗液从各喷嘴喷出，进行各部位的清洗。具体地说，如图17所示，清洗液从开口端201b向旋转杯162的侧壁的内周面162n和上端面162t喷出。而且，清洗液从狭缝201c向旋转杯162的内侧底面162c喷出。而且，清洗液从清洗喷嘴203向外壁162b上喷出。进而清洗液从清洗喷嘴205向旋转杯162的外侧底面162a上喷出。从而进行各面的清洗。

然后，使清洗液喷嘴44在固定杯161的外部待机，关闭盖体13(S5)。

接着，与上述的实施方式同样地向旋转杯162的内壁喷出例如氮气(S6)。

然后，使旋转杯162以例如第二转速的700rpm旋转(S7)。因此，通过例如一边使旋转杯162旋转，一边从储存槽52喷出清洗液，能够清洗液盖体137下面的周缘部137a。通过喷出氮气，能够将清洗液从排出孔104向旋转杯162之外排出。以下，持续氮气的喷出直到清洗结束。

接着，使旋转杯162例如以第三转速的100rpm旋转，同时使清洗液从清洗喷嘴205、清洗喷嘴206、以及清洗喷嘴203喷出(S8)。因此，抑制旋转杯162的转速，能够清洗残留在旋转杯162的外侧底面162ca、固定杯161的内壁180c以及旋转杯162的外壁162b上的污垢。

这样一来，首先，在步骤4中除去附着在旋转杯162上的抗蚀剂等污垢。而且，在步骤8中除去在步骤7中清洗盖体137时附着在旋转杯162或固定杯161上的污垢，通过这种缜密的清洗处理，能够可靠地在防止微粒的发生等。

然后，将旋转杯162的转速上升到例如第四转速的300rpm，同时从清洗喷嘴203向外壁162b喷出清洗液(S9)。因此，从清洗喷嘴203喷出的清洗液通过旋转杯162的旋转而在外壁162b上被反射，可由反射的清洗液清洗内壁180a。

另外，在本实施方式中，表示了在步骤(S6)之后进行步骤(S7)的例子。但是，这两个步骤的顺序并不仅限于此，例如，也可以是在步骤6中开始喷出氮气的几乎同时或之后开始步骤7中的旋转杯162的旋转。

如图18所示，例如，也可以是储存槽52的形状变形成储存槽52的角部从旋转杯162的侧壁向旋转杯162的中心一侧偏离，并且形成多于这些角部的孔52a。这样一来，即使清洗时从孔52a喷出的清洗液在离心力的作用下向外侧飞散，也能够可靠地清洗图13所示的盖体137的底面周缘部137a。而且，通过增加孔52的数量，能够使更多的清洗液飞散到底面周缘部137a上，从而有效地进行清洗。另外，也可以取代使储存槽52变形，而代之以使储存槽52上的孔52a的位置位于旋转杯162的中心一侧，可获得同样的效果。

另外，在上述实施方式中，表示了储存槽52的供应口52b、152b形成在储存槽52的边上大致中央处的例子。但是，供应口52b、152b的位置并不仅限于此，例如，也可以在储存槽52上离心力最大的各角部附近形成。这样一来，例如，通过使将清洗液储存在储存槽52后的旋转杯162旋转，可有效地利用离心力，使清洗液在储存槽52内分散。

而且，在上述实施方式中，表示了储存槽52内壁的材质例如为铝的例子。但是，储存槽52的内壁并不仅限于此，例如，也可以在内壁上实施氟覆盖。这样一来，能够使清洗液的润滑性更好，进一步缩短清洗液存入的时间。而且，也容易使清洗液飞散。

另外，在上述实施方式中，表示了使清洗液喷嘴44对位在供应口52b而喷出清洗液的例子。但是，例如也可以如图19所示，在储存槽52上形成直径大于供应口52b的卡合槽52f，在清洗液喷嘴44的前端部上设置卡合在卡合槽52f中的例如橡胶制的卡合部44f。而且，在图16所示的步骤1或步骤3中向储存槽52喷出清洗液时，例如使水平支承体142下降，使卡合部44f卡合在卡合槽52f中。这样一来，例如在清洗液储存时，可防止清洗液从储存槽52向外泄漏，同时提高喷出速度，从而能够以更短的时间储存清洗液。

通过以上的说明，根据本发明，能够可靠地清洗用于开闭杯等容器或其他容器的盖体，能够节省用于该清洗处理的作业工时。因此，能够防止在盖体上产生微粒。

Claims (24)

1.一种基板处理装置，其特征是，包括：

保持基板可旋转的保持部件；

具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的容器；

可装卸地设置在上述开口部上，开闭上述容器的盖体；

安装在上述容器上，同时设置在上述保持部件周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；

使上述容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征是，在上述储存槽上与上述盖体对向的一侧上形成有喷出储存在上述储存槽中的清洗液的孔。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征是，上述孔是以上述清洗液的喷出方向与上述容器的旋转的旋转轴方向相比朝向旋转中心一侧的方式形成的。

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征是，在上述储存槽上与上述盖体对向的一侧上形成有喷出储存在上述储存槽中的清洗液的狭缝。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征是，上述狭缝是以上述清洗液的喷出方向与上述容器的旋转的旋转轴方向相比朝向旋转中心一侧的方式形成的。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征是，还具备向上述储存槽的内部供应上述清洗液的清洗液供应机构。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征是，上述清洗液供应机构包括：

朝向上述储存槽的内部喷出上述清洗液的喷嘴；

使上述喷嘴在上述容器之外的规定位置和上述保持部件的正上方位置之间移动的移动机构。

8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征是，还具备多个配列在上述储存槽的内部，在由上述保持部件保持的基板的周围方向上将该储存槽的内部分隔成多个室的分隔部件。

9.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征是，

上述多个分隔部件分别具有与上述储存槽面对的侧面；

上述侧面的一部分与上述储存槽隔开间隔地配置，另一部分抵接在上述储存槽上。

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征是，上述间隔设置在上述储存槽上偏靠上述容器的旋转中心一侧。

11.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征是，上述多个分隔部件中的至少一个上形成有使上述多个室之间连通的连通口。

12.如权利要求11所述的基板处理装置，其特征是，上述连通口设置在上述分隔部件上偏靠上述容器的旋转中心一侧。

13.如权利要求8所述的基板处理装置，其特征是，上述多个分隔部件中的至少一个呈板状，并相对于该多个分隔部件配列的配列方向斜向倾斜地设置。

14.一种清洗方法，是在具有放入和取出基板的开口部、经由该开口部收放基板的容器中，采用清洗液，至少清洗可装卸地安装在上述开口部上的用于开闭上述容器的盖体的清洗方法，其特征是，包括：

向安装在上述容器上、并设置在于上述容器内保持基板的保持部件的周围的至少一部分上的储存上述清洗液的储存槽供应该清洗液的工序；

通过使上述容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的工序。

15.一种基板处理装置，其特征是，包括：

保持基板可旋转的保持部件；

具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的第一容器；

可装卸地安装在上述开口部上，开闭上述第一容器的盖体；

安装在上述第一容器上，同时设置在上述保持部件的周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；

使上述第一容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部；

收放上述第一容器的第二容器；

具有为了至少清洗上述第一容器的外周部而设置在上述第二容器上的清洗喷嘴的清洗机构。

16.如权利要求15所述的基板处理装置，其特征是，上述清洗机构作为上述清洗喷嘴而具有可清洗上述第一容器的侧壁的外周面的第一喷嘴，以及用于清洗上述第一容器的外侧底面的第二喷嘴。

17.如权利要求15所述的基板处理装置，其特征是，上述清洗机构作为上述清洗喷嘴而具有用于清洗上述第二容器内部的底面的第三喷嘴。

18.如权利要求15所述的基板处理装置，其特征是，还具备：

经由设置在上述储存槽上的供应口，向该储存槽的内部喷出上述清洗液的喷射喷嘴；

使上述喷射喷嘴至少在上述第一容器的外部和上述供应口的正上方之间移动的移动机构。

19.如权利要求18所述的基板处理装置，其特征是，还具备：

可清洗上述第一容器的内侧底面的第四喷嘴；

用于清洗上述第一容器侧壁的内周面和上面的第五喷嘴；

一体地支承上述喷射喷嘴和上述第四喷嘴以及上述第五喷嘴的支承体。

20.如权利要求18所述的基板处理装置，其特征是，上述供应口至少形成两个。

21.一种基板处理装置，其特征是，包括：

保持基板可旋转的保持部件；

具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的第一容器；

可装卸地安装在上述开口部上，开闭上述第一容器的盖体；

安装在上述第一容器上，同时设置在上述保持部件的周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液的储存槽；

使上述第一容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部；

可在上述第一容器的外部和形成在上述储存槽上的供应口的正上方之间移动地设置的，经由上述供应口向该储存槽的内部喷出上述清洗液的喷射喷嘴；

可清洗上述第一容器的内侧底面的底面清洗喷嘴；

用于清洗上述第一容器侧壁的内周面和上面的侧壁清洗喷嘴；

一体地支承上述喷射喷嘴和上述底面清洗喷嘴以及上述侧壁清洗喷嘴的支承体。

22.一种清洗方法，其特征是，包括下述工序：

(a)使喷出清洗液的喷射喷嘴对位在第一供应口上的工序，其中，所述第一供应口形成在安装于第一容器上的储存槽上，所述第一容器经由用于放入和取出基板的开口部而收放基板；

(b)在上述工序(a)之后，从上述喷射喷嘴经由上述第一供应口向上述储存槽内喷出清洗液的工序；

(c)在上述工序(b)之后，使上述第一容器旋转，使上述喷射喷嘴对位在形成于和储存槽的上述第一供应口不同的部位上的第二供应口上的工序；

(d)在上述工序(c)之后，从上述喷射喷嘴经由上述第二供应口向上述储存槽内喷出清洗液的工序；

(e)使可清洗上述第一容器的内侧底面的底面清洗喷嘴和用于清洗上述第一容器侧壁的内周面以及上面的侧壁清洗喷嘴一体地移动，进行相对于该第一容器的侧壁对位的工序；

(f)一边以第一转速使上述第一容器旋转，一边从上述底面清洗喷嘴和上述侧壁清洗喷嘴喷出上述清洗液的工序；

(g)通过使上述第一容器以比第一转速快的第二转速旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向可装卸地设置在上述开口部上的开闭上述第一容器的盖体飞散的工序。

23.如权利要求22所述的清洗方法，其特征是，还具备：

(h)在上述工序(g)之后，通过使上述第一容器以比上述第二转速慢的第三转速旋转，从设置在收放第一容器的第二容器上的清洗喷嘴向上述第一容器的外周部喷出清洗液的工序。

24.如权利要求23所述的清洗方法，其特征是，还具备：

在上述工序(h)之后，使上述第一容器以比上述第三转速快的第四转速旋转的工序。

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