CN1174852C - 带纹理的热塑性薄膜及其制造方法 - Google Patents

带纹理的热塑性薄膜及其制造方法 Download PDF

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Abstract

公开一种在聚合物基材表面上生成耐磨、紫外辐射固化的涂层的方法。未固化的涂料基本不含非活性挥发性成分。该方法包括以下步骤：制备一面带纹理、一面为抛光的聚碳酸酯薄膜，在所述薄膜的带纹理表面施涂可固化涂料，并使该涂料层固化，形成光滑表面。该涂层薄膜，由于涂层与基材的折射率彼此匹配，故具有低双折射和高透光率的特点。

Description

带纹理的热塑性薄膜及其制造方法
本申请要求拥有1997年11月14日提交的美国临时专利申请序列号60/065,699的优先权，该文收作本文的参考。
本发明涉及生产有涂层及无涂层热塑性制品的方法，更具体地说，涉及为尤其对于诸如CD-ROM(光驱)卡之类光学介质领域中应用的热塑性基材提供光滑上、下表面的改良法。这些用途要求使用上、下两面均为抛光目双折射率小于25纳米的基材。作为光学介质用途的进一步要求包括耐磨、耐化学性、耐紫外辐射以及透明度。而且，热塑性薄膜必须透光，而不得反射光，方可为光学用途所接受。
聚碳酸酯薄膜通常具有为光学用途可接受的透明度及强度指标，但是缺乏可接受程度的双折射、耐磨、耐化学性、耐紫外辐射及光滑度。例如，无涂层聚碳酸酯薄膜的双折射通常很高，这部分地是由于在薄膜成形期间其上所施加的应力水平所致。该应力在薄膜冷却后便被冻结在其中了。而且，无涂层聚碳酸酯薄膜的耐磨及耐化学性一般均很差。无涂层聚碳酸酯薄膜还容易因受紫外线照射而降解。
可辐射固化的丙烯酸系涂料及其在聚碳酸酯基材上的应用方法是已知的。(例如可参见欧洲专利228,671)。虽然目前己有在聚碳酸酯薄膜上施涂可辐射固化丙烯酸系涂料的传统方法，然而其固化后的涂层对下面聚碳酸酯的粘附力却不尽人意。况且，传统方法未对薄膜的光滑度小心地加以控制，而这一指标对光学用途来说恰恰很关键。正是由于以上种种原因，截止到本发明提出的今日，聚碳酸酯薄膜一直因未能全面达到所要求的粘附力、透明度及光滑度等特性而不适合光学领域应用。
传统的可辐射固化丙烯酸系涂料组合物也存在问题，因为将它们涂布到聚碳酸酯基材上时使用非活性溶剂来降低涂料组合物的粘度。这些非活性挥发性组分随后又必须借助强制热风干燥系统从涂料中驱除，从而使生成的涂层带有不可接受的气泡和表面粗糙度。使用含数量相当多的非活性挥发性组分例如溶剂的涂料组合物，之所以不受欢迎的原因还在于，这些组分会引起对环境和安全的担忧。
光学性能改善的耐磨热塑性薄膜可通过将一种无溶剂可辐射固化涂料组合物施涂到聚合物片材或薄膜上去之后对涂层进行固化来制备。该固化过程可通过让辐射能量从背面穿过基材对准正在涂布的表面照射来完成。有关这种“冷流延技术”的细节，可进一步参见授予Croush的美国专利5,468,542，该文收作本文的参考。尽管可采用美国专利5,468,542中所公开的可辐射固化涂料组合物来达到改善表面特性的目的，但是此种涂层热塑性薄膜仍不适合光学应用，原因在于尚没有致力于匹配好在涂层与基材之间的折射率以避免界面处发生光反射(即获得小的折射率差值)。
总之，传统方法不适于用来生产适合光学介质应用的热塑性薄膜，因为此类方法所生产出的热塑性薄膜不具有可接受水平的双折射、耐磨、耐化学性、耐紫外辐射、光滑度及透明度以及低折射率差值(即涂层与基材之间折射率之差)。具体地说，与模塑并冷却后薄膜中残余应力有关的双折射率必须优选地维持在25纳米以下。再有，薄膜必须两面抛光以避免光散射。而且，若系带涂层的薄膜，则折射率差值必须足够低，以避免界面处发生不可接受的光反射。
将加热的树脂挤出，并让挤出的树脂通过两个抛光的金属辊筒之间的辊隙来生产聚碳酸酯薄膜的方法，在理论上一般也是已知的，该方法，由于会在薄膜中引起高应力值从而加大所述薄膜的双折射，故不适合用来生产低双折射薄膜。
综上所述可见，若能提供适合作光学介质之用的热塑性薄膜则是十分有益的。而若能提供一种制作克服了先有技术固有缺点的此类薄膜的高效方法，则更加理想。
因此，本发明的一个目的是提供一种涂层热塑性薄膜，其上、下表面足够光滑，可避免不可接受的光散射，而且涂层与薄膜之间的折射率差值足够低，可避免界面处发生不可接受的光反射。
本发明的另一目的是提供生产有涂层和无涂层热塑性薄膜的方法，该方法不要求使用可能在薄膜中导致缺陷的形成和引起环境忧虑的溶剂或其他挥发性组分。
本发明的另一个目的是提供制造在涂层与薄膜基材之间具有优良粘附力的涂层薄膜的方法。
本发明的又一个目的是提供制造低双折射涂层薄膜的方法。
本发明的再一个目的是提供低残余应力的一面带纹理、一面为抛光的薄膜基材的方法，该基材经涂布可制成具有两个光滑表面的薄膜。
本发明的进一步目的是提供制造适合光学应用的涂层热塑性薄膜的方法，其中涂层与基材之间具有牢固的粘合力。
用于生产适合光学用途的涂层热塑性制品的本发明方法包括，第一步，将基材热塑性薄膜送过一对辊筒，其中上辊筒包覆着光滑、低摩擦材料，它使基材的表面形成纹理，而下辊筒则为金属的，它将基材下表面抛光。本发明方法的上述第一步生产出一种基材，它具有纹理的上表面和抛光的下表面。低摩擦的上辊筒的摩擦优选地足够低，以便薄膜的上表面有机会“打滑”，致使薄膜中的应力降低到低于假如上辊筒也用金属制作时可能得到的数值。这种应力的降低导致生产出的基材具有较低的双折射。
继而，在基材的上表面施涂一种可固化涂层并进行固化。因化后，可固化涂层在该基材的上表面形成光滑的涂层。该涂层足够光滑，可使照射到该表面上的光束避免发生不可接受的散射。优选的是，选择那些使涂层与基材间具有足够小的折射率差值的基材和可固化涂料组合物，以避免涂层与基材之间界面处发生不可接受的光反射。
图1是包括用于实施本发明方法的流延鼓的设备侧视立面示意图。
本发明涉及生产适合光学应用的涂层热塑性薄膜的方法，其中该薄膜上、下表面均格外光滑，且双折射数值低。该方法包括，首先生产出一种低应力、一面带纹理而另一面抛光的聚碳酸酯薄膜，其中纹理面的85°光泽度，按ASTM D523测定(该标准收作本文参考)，在90％～100％范围内。该未涂布的基材表面的Ra(表面粗糙度)为20-40纳米，优选地采用表面粗糙度(以下称Ra)为0.3～0.8微米的超光滑聚四氟乙烯(以下称“PTFE)TEFLON材料作为上辊筒的包覆层来制造。用以产生薄膜抛光面的下辊筒采用标准镀铬钢辊筒。薄膜基材的纹理面上施涂可固化涂层，使表面粗糙度达到Ra＝3～10纳米。这一概念可应用到其他无定形及结晶热塑性材料，因此不限于聚碳酸酯。用作光学介质，通常要求薄膜要两面抛光且双折射率小于25纳米。其他要求包括耐磨及耐紫外线照射、基材厚度均匀，以及层合以后允许立即对固化制品进行模切。另一项要求是，该基材应具有对水蒸气的阻断作用。就本发明目的而言，较低的折射率差值可产生较好的结果。具体地说，ΔRI(折射率差值)优选地小于0.08，更优选小于0.05。在共同未决的申请序列号09/034,883(收作本文参考)中公开的一种涂料配制物就符合上述标准。
本发明公开一种生产保持优异表面外现的低应力聚碳酸酯薄膜(127～762微米)的新颖加工技术。该技术可生产出双折射率小于25纳米、表面光泽度为92％的薄膜。该方法中所使用的基材优选由聚碳酸酯树脂制成。用于本发明方法的优选聚碳酸酯基材是由诸如LEXAN树脂(通用电气公司出品)之类的热塑性聚碳酸酯材料制作的基材。聚碳酸酯树脂的典型例子在美国专利4,351,920中(收作本文参考有所描述)，系通过芳族二羟基化合物与光气进行反应得到的。其他聚碳酸酯树脂可通过芳族二羟基化合物与诸如二芳基碳酸酯之类的碳酸酯母体进行反应获得。美国专利4,351,920还描述了制备可用作本发明基材的芳族聚碳酸酯树脂的各种制法。一种优选的芳族二羟基化合物是2，2-双(4-羟苯基)丙烷(即双酚A)。术语芳族聚碳酸酯树脂也涵盖由二羟基酚、碳酸酯母体以及诸如对苯二甲酸及间苯二甲酸之类的二元羧酸的反应产物得到的聚酯碳酸酯。任选地，一定量的二元醇也可用作反应物。聚碳酸酯薄膜可采用熟知的方法制取。就典型而言，将熔融热塑性材料流延到一组挤出辊筒表面，随后对材料的两面进行抛光并压制成均一的厚度。优选的是，聚碳酸酯薄膜的厚度为127～508微米。
可紫外辐射固化的涂料组合物一般由包含丙烯酸、甲基丙烯酸及乙烯基不饱和化合物的单体及低聚物，以及其他可100％转化为固体的材料(例如可溶于单体的聚合物及弹性体、无机二氧化硅填料以及颜料等等)组成。该涂料体系一般地包含分子量约100～1000并含有单不饱和部分或二、三或更多个多官能不饱和部分的单体。在本发明的实施方案中，涂料优选地基本上不含(含少于1％)挥发、非活性组分。该涂料组合物优选地为99％～100％(重量)活性组分和固体物质。在更优选的方案中，涂料是99.9％～100％(重量)活性组分及固体物质。在最优选的方案中，涂料是100％(重量)活性组分和固体物质。固体物质可包括非挥发性固体材料，例如聚合物材料和胶体二氧化硅。合适的聚合物材料包括乙酸丁酸纤维素。优选该涂料组合物在受到紫外线辐射之后可100％转化为固体。该组合物还包含足以引发组合物光固化的有效数量的光引发剂。在优选的实施方案中，可固化涂料组合物包含约98％(重量)丙烯酸酯及2％(重量)光引发剂。
优选的丙烯酸系涂料组合物包含相当含量的分子量相对较低的脂族链烷二醇的二丙烯酸酯，它在接触并暴露于高温之后，依靠扩散作用渗透到聚碳酸酯基材表面以下的区域。一种合适的二丙烯酸脂族链烷二醇酯是二丙烯酸1，6-己二醇酯。优选的丙烯酸酯涂料组合物包含，以涂料组合物总重量为基准，5％～60％(重量)二丙烯酸脂族链烷二醇酯。该二丙烯酸脂族二醇酯优选地在其脂族部分包含2～12个碳原子。合适的二丙烯酸脂族二醇酯包括二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丁二醇酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸辛二醇酯、二丙烯酸癸二醇酯。优选的涂料组合物包含约37％(重量)三丙烯酸丙烷三甲醇酯(TMPTA)、约15％(重量)一羟基五丙烯酸二季戊四醇酯(DIPEPA)、37％(重量)二丙烯酸2，6-己二醇酯、约9％(重量)乙酸丁酸纤维素(CAB)以及约2％(重量)光引发剂二乙氧基乙酰苯(DEAP)。优选的充填二氧化硅的丙烯酸类涂料使用如下成分的混合物：22％二丙烯酸1，6-己二醇、22％三丙烯酸丙烷三甲醇酯、35％官能化的胶体二氧化硅、7％(重量)潜在紫外辐射吸收剂(例如D.R.Olson在《实用聚合物科学》28期，1983年，1159页中所描述的Cyasord公司注册的TM5411(BSEX)，一种苯磺酸酯，该文同时收入本文作为参考)以及3％光引发剂，如二乙氧基乙酰苯(DEAP)。合适的官能化胶体二氧化硅公开在Olson等人的美国专利4,455,205；Olson等人的美国专利4,491,508；Chung的美国专利4,478,876以及Chung的美国专利4,486,504等文献中，这些文献全部收入本文作为参考。
光学性能改善的耐磨热塑性组合物，还可通过对己施涂到聚合物片材或薄膜上去的无溶剂可辐射固化涂料组合物进行固化来制备。施涂上去的涂料的固化可以在它与光滑表面接触(冷流延)的同时，让辐射能量从背面穿过基材照射正在涂布的表面来实现。(例如参见美国专利5,455,105)，该文献收入本文作为参考。)“冷流延技术”在授予Crouch的美国专利5,468,542中做了进一步举例说明，访文收入本文作为参考。按这项技术，低应力薄膜的制备过程为：
(步骤1)制备一面带纹理而另一面抛光的聚碳酸酯薄膜，其中纹理面的85°光泽度在90％～100％之间。未涂布基材的Ra(表面粗糙度)为20～40纳米，它是采用超光滑PTFE材料(Ra为0.3～0.8微米)作为上辊筒的包覆层生产出来的。下辊筒采用标准铬抛光材料，其Ra＝0.05微米。
(步骤2)利用可固化涂料层使步骤1的纹理面平滑到Ra＝3～10纳米。
给出下面的实施例仅仅为了向本领域技术人员展示如何来运用本文所讨论的原理。这些实施例不应被用来限制所附权利要求的范围。
实例1：适合涂布到一面抛光而另一面带纹理的薄膜上去的涂料
本实例表明，按如下的涂料配方可获得光学、耐化学及耐磨之间的最佳平衡：1％Irgacure 819光引发剂(苯基双(2，4，6三甲基苯甲酰基))、1％Darocur 1173光引发剂、10％FCS100以及88％RX-0726。涂层表面尽可能光滑，以防止发生激光散射。鉴于反射的激光信号包含来自CD-ROM的声频和视频信息，如发生散射，则信号势必丢失。己通过实验确定，涂层表面光滑度必须为，Rz最大值等于或小于2.0微米。
配制物      激光直径      衍射斑       光滑度       备注
                                       (Rz)
对比例      0.7mm         无           仅有激光，没有试样
1           0.45          有           10微米
2           0.60          无           2微米
3           0.50          有           6微米
4           0.50          有           5微米
接受试验的配制物情况如下：1号配制物＝88％(重量)RX0726、10％FCS100以及2％Lucirin TPO；2号配制物＝88％(重量)RX0726、10％FCS100以及2％Darocur 1173和1％Irgacure 819；3号配制物＝88％(重量)RX0726、10％FCS100以及2％Darocur 1173；4号配制物为88％(重量)RX0726、10％FCS100、1％Lucirin TPO以及1％Darocur 1173。
从上表清楚地看出，2号配制物，由于包含有机化合物、光引发剂及硅氧烷涂料溶液，表现出改善的表面光滑度，因此激光散射较少。虽然LucirinTPO和Darocur 1173可提供足够的本体交联，然而只有联合使用Darocur1173与Irgacure 819的组合，才能既在本体，又在表面达到充分的交联。如果表面交联并不完全，则表面光滑度将会受到损害。然而，本领域技术人员会立即发现，以上实施例的各种变换方案能同样提供改善的效果，而它们应一并属于本发明涵盖的范围之内。
实例2：一面抛光、一面带纹理的薄膜的涂布方法
图1中画出根据本发明方法在聚合物基材表面进行涂料施涂并固化所使用的合适设备。在图1中，可辐射固化涂料10通过可控制的速率流到薄膜表面上被连续涂布上去。
基材卷12由围绕芯轴16的一卷未涂布基材14组成。随着流延鼓18的运转(见下文)，基材14不断退绕。涂料10通过涂布器20滴落到基材14上，从而施涂到基材14的表面上。本领域技术人员清楚地知道，应对涂布系统作出各种调整，以实现将涂料高效地涂布到基材上。涂料10施涂到基材14上可采用众多熟知的卷材涂布方法中任何一种来完成，如喷涂、刷涂、帘流涂布及蘸涂，再如逆辊涂布之类的其他熟知的卷材涂布方法。被施涂在基材上的可辐射固化涂层10的厚度以及固化形成的硬涂层的厚度取决于制品的最终用途及所要求的物理性能，就该非挥发性涂料而言，其涂层厚度为约1.27～约127微米，优选的厚度为约5.08～约25.4微米。
涂料10施涂到基材14上之后，涂布后的基材22被导向夹辊24。用以制作本发明所使用的夹辊24的材质选择并不严格。这类夹辊可采用塑料、金属(即不锈钢和铝)、橡胶及陶瓷之类的材料制作。夹辊24可备有套筒，优选用诸如PTFE(聚甲氟乙烯)或聚丙烯之类的回弹性材料，或者用各种目前可供选用的合成橡胶组分及其共混物中的一种材料来制作。该套筒正好紧套在辊筒表面上，以便为与基材22接触提供光滑、摩擦极小的表面。夹辊24相对于流延鼓18的位置为可调的，这一点下面还将说明，而且可任选地为独立驱动的。
如同图1所示，流延鼓18处于同夹辊24比邻的位置，其中夹辊24与鼓18的外圆周在辊隙26所确定的界面处彼此紧靠，关于这一点下面还将说明。在夹辊24与鼓18界面处的外加压力可通过熟知的方法进行调节，例如借助安装在夹辊24的轴28上的汽缸(未表示)，可有选择地迫使该辊压向鼓18。就典型情况而言，界面处所施加的压力是轻微的，就是说，当没有基材从辊隙26通过时低于89kg/m。当表面载有涂层的基材经辊隙通过时，外加压力可根据各种参数的变化而进行调整，正如下面将要描述的。
流延鼓18围绕中心轴19旋转并优选由导热材料制成，且优选由不锈钢或镀铬钢制成。再者，优选的是，该鼓独立地由外部动力源(未表示)驱动。
流延鼓表面30上可做成各种各样纹理或图案，具体依希望赋予涂料层10及最终形成的硬涂层的纹理或图案而定。例如，若希望硬涂层为高光泽度的，则表面30上可备有高度抛光的镀铬表面。若希望硬涂层的光泽度较低，则表面30的抛光程度可较低，以便赋予涂层粗糙的纹理表面。类似地，在表面30上可雕刻出设计的浮雕图案，以便赋予硬涂层以其镜象图案。固化后的涂层将成为硬涂层，它因而成为流延鼓表面30的永久性镜象。
尽管可采用氮气覆盖来保证涂料组合物的无氧固化，但是优选在不使用此类氮气覆盖条件下实现无氧固化。为了在不使用氮气覆盖条件下尽量减少固化前涂层10中的空气含量，应小心调节能够施加在辊隙26处的压力。辊隙26处所施压力的调节可按照上述方法实现。为了获得一定的涂层厚度，作用在辊隙26处的精确压力数值应根据若干因素来确定，如涂料10的粘度、基材速度、表面30上的设计图案(有的话)细节的复杂程度以及流延鼓的温度。就典型而言，在基材厚度为381微米，其上加有厚度20.3微米、粘度400mPa.s的丙烯酸基涂料层，基材速度为25.4cm/s以及辊筒包覆层硬度计硬度(邵尔A)为30的情况下，在被涂基材上施加的辊隙压力为445kg/m。借此，涂料10在压力作用下进入与基材22和流延鼓的表面30同时接触的状态，从而保证固化期间涂层中基本上不存在自由双原子氧，进而保证涂料层基本上完全固化以及固化的涂层，即硬涂层显现出流延鼓表面30的纹理和/或图案的镜象。多余的涂料在辊隙上方、横跨鼓的整个幅度形成未固化涂料组合物物质的积料31。该积料31保证沿鼓的幅宽都有充足的涂料物质进入并流过辊隙26。
在涂布了涂料层10的基材22通过辊隙26之后，该涂料层可借助紫外辐射能量进行固化。如图1所示，装置32发出的紫外辐射能量射入基材22的表面34，它是载有涂料10的表面36的背面。该辐射能量穿过透明的基材22，并被涂料层10吸收，此间后者在基材22与鼓面30之间被压缩。紫外辐射的优选波长为约290～约405nm。用以产生紫外辐射的灯系统可由若干放电灯组成，如氙、金属卤化物、金属弧光或高、中、低压汞蒸汽放电灯，各自的操作压力可低至数毫米汞柱，直至高达约10个大气压。穿过基材22加在涂料层10上的辐射剂量水平可在约2.0焦耳/平方厘米～约10.0焦耳/平方厘米。一种适用于本发明的典型固化系统是Linde中压汞灯，例如可参见美国专利4,477,529。发光指向基材表面的灯的数目并非关键，但是灯的数目较多，允许以较高的速率处理表面载有涂料层10的基材。就典型而言，两盏灯，每盏产生118瓦/厘米的辐射能量，在生产线的速度为约25.4cm/s的条件下，对于厚度为约12.7微米的丙烯酸基涂层来说是足够了。这样的固化程度应能导致多官能丙烯酸单体的聚合以及该聚合物的交联，形成坚硬、不发粘的涂层。该涂层在离开流延鼓之后可进一步以紫外辐射照射对其进行后固化处理。
在按照本发明方法在基材22上施涂了涂料层并固化之后，生成的产品是带有坚硬涂层的聚碳酸酯薄膜制品38，它被引导绕过导辊40、42及44，最后收集在辊筒46上，后者典型地为独立驱动的并具有将带有坚硬涂层的聚碳酸酯制品38从鼓表面30上剥离下来的能力。
实例3：低双折射、一面抛光、一面带纹理的基材膜的成形
该一面带纹理的聚碳酸酯薄膜(127～762微米)系经由挤塑制成的。熔体被强迫挤入二辊筒之间的辊隙。二辊之间的间隙大小决定了薄膜厚度。就254微米的薄膜而言，厚度的均一性为±5％。生产该薄膜时采用由超光滑、绝缘、PTFE套筒包覆的上辊筒，其表面粗糙度Ra为20-40纳米。下辊筒为高度抛光的镀铬层。此种设备的更完整描述可见诸于共同未决申请序列号09/034,883，该申请内容收入本文作为参考。
在基材膜带有纹理的一面加上涂层，以使该表面变得光滑。在涂层固化期间加热具有使表面进一步退火的倾向，从而降低(内)应力水平。光泽度是沿60°(角)，并在薄膜背面涂黑的条件下测定的。该涂层还改善了耐磨性及耐化学性，同时又起到阻断水蒸气的作用(WVTR)。采用CS10F轮子、500克及100次循环的Taber耐磨试验(ASTM D1044)结果，按雾度改变的百分数计，为5～30。显示出对日用物质(咖啡、Chlorox、番茄酱及茶)的耐化学性(通过在120°F，24小时表面暴露试验测定)。对带丙烯酸涂层的254微米聚碳酸酯薄膜测定得到的WVTR数值为0.5～1.0克水/645平方厘米/24小时。该WVTR测定是在23℃，100％相对湿度下，采用以玻璃杯盖住以保持对条件的控制的湿过滤材料进行的。进而，又将所述薄膜放入水中并在与上面相类似的条件下放置1周时间，结果证明既无失效，也无损坏。一种适合用来加工光学介质用挤出塑料膜的精加工的PTFE辊筒套筒，公开在共同未决申请序列号09/044,890中。

Claims (13)

1.一种生产涂层热塑性薄膜的方法，所述方法包括以下步骤：
(a)让具有上表面和下表面的基材热塑性薄膜通过上辊筒与下辊筒之间的辊隙，其中上辊筒包覆着光滑、低磨擦材料，它使所述基材的上表面上形成纹理，而下辊筒为金属的，它将所述基材的下表面抛光；
(b)在该基材的上表面上施涂可固化涂料组合物，所述涂料组合物包含75重量％以上的溴化的环氧丙烯酸酯与丙烯酸酯单体的混合物，5重量％以下的光引发剂和20重量％以下的硅氧烷，以及
(c)使该涂料组合物固化，从而在基材的上表面上形成光滑的涂层。
2.按照权利要求1的方法，其中所述热塑性树脂基材是芳族聚碳酸酯树脂基材。
3.按照权利要求1的方法，其中包覆着所述上辊筒的所述光滑材料是聚四氟乙烯。
4.按照权利要求3的方法，其中所述上辊筒的Ra值小于0.8微米。
5.按照权利要求1的方法，其中所述下辊筒是镀铬钢辊筒。
6.按照权利要求1的方法，其中上辊筒与热塑性薄膜间的磨擦低到足以使所述上辊筒与所述基材之间出现一定程度的打滑。
7.一种生产具有光滑的上、下表面的热塑性制品的方法，所述方法包括以下步骤：
(a)让具有上表面和下表面的基材热塑性薄膜通过上辊筒与下辊筒之间的辊隙，其中上辊筒包覆着光滑、低磨擦材料，它使所述基材的上表面上形成纹理，而下辊筒为金属的，它将所述基材的下表面抛光；
(b)在所述基材的上表面上涂布可固化涂料组合物，所述涂料组合物包含75重量％以上的溴化的环氧丙烯酸酯与丙烯酸酯单体的混合物，5重量％以下的光引发剂和20重量％以下的硅氧烷；
(c)使该涂料组合物固化，从而制成表面光滑的涂层薄膜，以及
(d)将涂层薄膜裁切成许多所述热塑性制品。
8.按照权利要求7的方法，其中所述基材热塑性薄膜包含固化的芳族聚碳酸酯树脂。
9.按照权利要求7的方法，其中所述光滑、低磨擦材料是聚四氟乙烯。
10.按照权利要求9的方法，其中所述上辊筒的Ra值小于0.8微米。
11.按照权利要求7的方法，其中所述下辊筒是镀铬钢辊筒。
12.按照权利要求7的方法，其中所述涂层薄膜的双折射率小于25纳米。
13.一种涂层薄膜，包含：
(a)热塑性基材，它具有带纹理的上表面和抛光的下表面；以及
(b)在所述基材的上表面上固化的可固化涂层，涂层包含75重量％以上的溴化的环氧丙烯酸酯与丙烯酸酯单体的混合物，5重量％以下的光引发剂和20重量％以下的硅氧烷，其中涂层薄膜的双折射率小于25纳米，并且涂层和热塑性基材之间的Δ折射率小于0.08。
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