JP2610463B2 - 艷消しフィルムの製造方法 - Google Patents

艷消しフィルムの製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はノングレア性及び耐擦傷性に優れた艶消しフ
ィルムの製造方法に関し、特にあらかじめ微細な凹凸が
形成された成形面を用いて、それを電離放射線硬化型塗
膜に転写することにより表面に微細な凹凸を有する艶消
しフィルムを製造する方法に関する。
[従来の技術] 近年パソコンやワードプロセッサー等のOA機器の普及
に伴い、事務作業中CRTを見る時間が長くなった。とこ
ろでCRTの前面に反射光があると画面が見づらいので、
この反射光を防止するためにCRT前面にノングレア(防
眩)性を付与することが行われている。
ノングレア性を付与する手段として、従来シリカ微粒
子等の艶消し剤を含有する塗料を塗布する艶消しコーテ
ィング法が行われている。しかしこの方法により得られ
る塗膜は内部に艶消し剤による光散乱があるため、鮮明
さに欠けるという問題がある。また表面の凹凸形状が一
定せず、光散乱率、光線透過率が一定しないという問題
もある。
このため、ノングレア性を有するとともに所定の凹凸
パターンを有する表面層を形成する方法として、あらか
じめ微小な凹凸が形成された鋳型成形面と合成樹脂基材
との間に耐擦傷性皮膜形成原料を介在させた状態で該原
料を紫外線の照射により重合硬化させ、次いで、該耐擦
傷性皮膜を合成樹脂基材と一体として鋳型成形面から剥
離することを特徴とする方法が提案された(特開昭61−
76328号)。この方法においては合成樹脂基材は厚さ0.2
〜20mmと比較的厚い板状品であり、ノングレア層は分子
中に2個以上のアクリロイルオキシ基又はメタクリロイ
ルオキシ基を有する化合物又はその化合物を50重量%以
上含有する重合性組成物から形成される。具体的にはト
リメチロールプロパントリアクリレート70重量部と、1,
6−ヘキサンジオールジアクリレート30重量部とベンゾ
インエチルエーテル3重量部とからなる皮膜形成原料
(実施例1)等を用い、紫外線により重合硬化させて
る。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記方法においてはトリメチロールプ
ロパントリアクリレート等の多官能モノマーを主体とす
る塗料により表面凹凸層を形成しているので、基材とし
て比較的厚い板状品を使用し、かつ塗膜の厚さも実際は
比較的厚い(例えば実施例1では約8μm)。そこで、
この方法を用いて薄い支持フィルムに比較的薄くノング
レア層となる塗膜を形成しようとすると、塗料が低粘度
であるため塗膜厚みの制御が困難である上、支持フィル
ムに塗布しても流動する欠点があり、得られるノングレ
ア層がフレキシブルではないために良好なノングレア層
が得られないという問題があることがわかった。
従って本発明の目的はノングレア性及び耐擦傷性に優
れた比較的薄い艶消しフィルムを製造する方法を提供す
ることである。
[問題点を解決するための手段] 上記問題点に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は支持フ
ィルム上に電離放射線硬化型樹脂を主体とする塗料によ
り塗膜を形成することにより、良好なノングレア性及び
耐擦傷性を有するとともに十分に薄い艶消しフィルムを
得ることができることを発見し、本発明に想到した。
すなわち、本発明の方法は支持フィルムに電離放射線
硬化型樹脂を主体とする塗膜を設け、あらかじめ平均表
面粗さが0.15〜0.5μmの微細な艶消し凹凸が形成され
た成形ロール表面に前記支持フィルムの塗膜面を押圧す
るとともに、支持体フィルム裏面より電離放射線を照射
し、もって前記塗膜を硬化させることにより前記微細な
凹凸を前記塗膜面に転写し、しかる後艶消し凹凸を転写
された硬化塗膜を前記支持体フィルムと共に前記成形ロ
ール表面から剥離して艶消しフィルムを製造する方法で
あって、前記塗膜が100重量部のウレタンアクリレート
オリゴマーと10〜1000重量部のジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレートとを含有し、前記支持フィルムの厚
さが6〜250μmであり、前記塗膜の厚さが2〜20μm
であることを特徴とする。
以下本発明の方法を詳細に説明する。
上記支持フィルムとしては、ポリエステルフィルム、
ポリエチレンフィルム、ポリプルピレンフィルム、ポリ
塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、ポリスチ
レンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム
等を用いることができるが、ポリエステルフィルム、ポ
リカーボネートフィルム及びポリ塩化ビニルフィルムが
好ましい。
本発明においては支持フィルムとしては6〜250μm
程度の比較的薄いものを使用する。特に支持フィルムの
厚さを50〜188μm程度とする場合に良好な効果が得ら
れる。
ノングレア層を形成するための電離放射線硬化型樹脂
としては不飽和ポリエステル、ポリエーテルアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ス
ピロアセタールアクリレート、ポリブタジエン樹脂、ポ
リチオールポリエン樹脂等を用いることができる。これ
らの樹脂は骨格中にラジカル重合性二重結合を有し、電
離放射線の照射により架橋する。
上記樹脂だけで電離放射線硬化型塗料とすることがで
きるが、硬化速度及び、硬度の向上のために、トリメチ
ロールプロパンアクリレート、ペンタエリスリトールア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト等の3官能モノマー、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジアクリレート等の2官能モノマー、更にはジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の4官能以
上の多官能モノマーを併用することができる。
電離放射線硬化型塗料中の上記樹脂成分と上記多官能
モノマー成分との割合は、前者を100重量部としたとき
に後者は10重量部以上、1000重量部以下である。多官能
モノマーの割合が1000重量部を超えると粘度が極度に低
下し、良好なノングレア層用塗膜が得られない。好まし
い多官能モノマーの割合は500重量部以下である。
なお電離放射線として紫外線を用いるときは、光重合
開始材としてアセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラ
ーケトン、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベン
ゾインベンゾエート、α−アシロキシムエステル、テト
ラメチルチウラムモノサルファイドもしくはチオキサン
ノン類等を使用し、増感剤としてn−ブチルアミン、ト
リエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等を使用
するのが好ましい。
本発明において電離放射線硬化型塗膜の厚さは1〜20
μmである。1μmより薄いと耐擦傷性が不十分であ
り、また20μmを超えると硬化により艶消しフィルムに
カール等の歪が生じやすくなる。特に好ましい厚さは2
〜5μmである。
上記電離放射線硬化型塗膜の形成は以下の通り行う。
まず上記樹脂及び多官能モノマーに必要に応じ溶剤を
添加して塗料を作製する。使用し得る溶剤としては、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、メチルセル
ソルブ、エチルセルソルブ等のアルコール類、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル類、メチルエチルケトン、アセ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等
の芳香属炭化水素類等、又はこれらの混合溶剤がある。
塗布方法としてはブレードコーティング法、グラビア
コーティング法、ロッドコーティング法、ナイフコーテ
ィング法、リバースロールコーティング法、オフセット
グラビアコーティング法等が使用できるが、塗布厚さの
精度及び塗布表面の平滑性に優れたグラビアコーティン
グ法、リバースロールコーティング法、オフセットグラ
ビアコーティング法が好ましい。
なお、塗布に先立って、支持フィルムにコロナ処理も
しくはプライマー処理を行なって、接着力を向上させる
こともできる。
電離放射線硬化型塗膜を有するフィルムの塗膜面に、
あらかじめ微細な凹凸が形成された成形面を押圧し、密
着させる。このような成形面はガラス、ステンレススチ
ールやアルミニウム等の金属、ポリエチレンテレフタレ
ート等の合成樹脂等により形成することができる。成形
面の凹凸は平均表面粗さが0.15〜0.5μm程度、最大表
面粗さが1.0μm以下程度であるのが好ましい。
成形面への塗膜の押圧により塗膜表面は成形面の微細
な凹凸にならうが、これを確実にするために必要に応じ
て加熱してもよい。ただし多官能モノマーの含有により
塗膜に十分塑性がある場合には加熱は必要でない。成形
面の微細な凹凸に塗膜が密着した状態で、フィルムの裏
側から電離放射線を照射する。
電離放射線硬化型塗膜の硬化に用いる電離放射線とし
ては紫外線又は電子線を用いる。電子線としては、コッ
クロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、
絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型高周波型
等の各種電子線加速器から放出された50〜1000keV、好
ましくは100〜300keVの範囲のエネルギーを有する電子
線を用いることができ、また紫外線としては超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、クセノ
ンアーク、メタルハライドランプ等の光源を用いた紫外
線源から発するものを用いることができる。
特に電子線照射の場合、架橋密度が高いので、薄い塗
膜により耐擦傷性に優れたノングレア層(艶消し層)を
得ることができる。
〔作用〕
本発明の方法においては、塗膜の主成分を電離放射線
硬化型樹脂とし、必要に応じて多官能モノマーを添加し
た組成としているので、非常に薄くしても十分な耐擦傷
性と柔軟性とを有するノングレア層(艶消し層)を得る
ことができる。この理由は、塗布が安定して行えるほ
か、電離放射線硬化型樹脂が元来有する柔軟性が影響を
与えるためであると考えられる。
〔実 施 例〕
第1図は支持フィルム1に電離放射線硬化型塗膜2を
形成したフィルムAを示す。第2図に示すように、フィ
ルムをあらかじめ微細な凹凸を有する成形ロール3に押
圧、密着させ、その状態で電離放射線源4より電離放射
線Rを照射する。これにより塗膜2は硬化し、成形ロー
ル3の微細な凹凸が硬化塗膜の表面に転写される。次に
ロール5によりフィルムを成形ロール3から剥離するこ
とにより、第3図に示す表面に微細な凹凸を有する艶消
しフィルムBが得られる。
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1 厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
(帝人(株)製、HP−7)支持フィルムとして使用し、
この上に、下記組成の電子線硬化型樹脂塗料をロールコ
ート法により40m/分の速度で6μmの厚さに塗布した。
塗料配合: 次にコートしたフィルムを第1図に示す成形ロール
(銅エッチング、表面Crメッキのエンボス版)にかけ、
スキャニング方式の電子線照射機(加速電圧175kV、ビ
ーム電流36mA)により10Mradの電子線を照射し、塗膜を
硬化させた。
このようにして得られた艶消しフィルムは均一なノン
グレア性を有し、スチールウール#0000で軽くこすって
も傷がつかず、優れた耐擦傷性を有していた。
〔発明の効果〕
以上の通り、本発明の方法により電離放射線硬化型樹
脂を主体とする塗膜を微細な凹凸を有する成形面に押圧
密着させた状態で電離放射線を照射することにより、塗
膜表面に微細な凹凸を転写することができる。そのた
め、表面硬度が高く耐擦傷性を有するとともに有効なノ
ングレア性を有し、かつ薄い艶消しフィルムを得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は電離放射線硬化型塗膜を有するフィルムを示す
断面図であり、第2図は本発明の一実施例により艶消し
フィルムを製造する方法を示す概略図であり、第3図は
本発明の方法により得られた艶消しフィルムを示す断面
図である。 1……支持フィルム 2……電離放射線硬化型塗膜 3……成形ロール 4……電離放射線源 5……ロール A……塗布フィルム B……艶消しフィルム R……電離放射線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 3/30 B32B 3/30 C08J 7/00 302 C08J 7/00 302 // B32B 33/00 B32B 33/00 B29L 7:00 9:00

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】支持フィルムに電離放射線硬化型樹脂を主
    体とする塗膜を設け、あらかじめ平均表面粗さが0.15〜
    0.5μmの微細な艶消し凹凸が形成された成形ロール表
    面に前記支持フィルムの塗膜面を押圧するとともに、支
    持体フィルム裏面より電離放射線を照射し、もって前記
    塗膜を硬化させることにより前記微細な凹凸を前記塗膜
    面に転写し、しかる後艶消し凹凸を転写された硬化塗膜
    を前記支持体フィルムと共に前記成形ロール表面から剥
    離して艶消しフィルムを製造する方法において、前記塗
    膜が100重量部のウレタンアクリレートオリゴマーと10
    〜1000重量部のジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
    ートとを含有し、前記支持フィルムの厚さが6〜250μ
    mであり、前記塗膜の厚さが2〜20μmであることを特
    徴とする方法。
  2. 【請求項2】特許請求の範囲第1項に記載の方法におい
    て、前記電離放射線が紫外線又は電子線であることを特
    徴とする方法。
  3. 【請求項3】特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の
    方法において、前記支持フィルムの厚さが50〜188μm
    であることを特徴とする方法。
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