CN116371703A - 一种适用于柔性衬底的ito薄膜的制备方法及ito薄膜 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法及ITO薄膜，一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：步骤1，将三氯化铟、四氯化锡放入去离子水中，溶解干燥获得ITO粉体，将ITO粉体、分散剂溶于无水乙醇中制备ITO乙醇浆料；步骤2，将纳米SiO2进行亲油性改性，将改性后的纳米SiO2放入基体溶剂中，与基体溶剂结合制备成膜剂；步骤3，将步骤2得到的成膜剂与步骤1得到的ITO乙醇浆料混合，得到ITO涂料；步骤4，准备衬底，将ITO涂料涂覆在衬底上，固化成膜。本发明通过对氧化铟锡进行纳米改性、纳米SiO2改性处理，使ITO薄膜在低温下结晶，有效避免铟、锡离子的价态变化，使ITO涂料性能稳定，增加ITO薄膜对衬底的粘附性，制得的ITO薄膜不易气泡、脱落，可以实现在低于150℃环境下制备ITO薄膜。
Description
技术领域
本发明涉及ITO薄膜制备技术领域，尤其涉及一种在柔性衬底上制备ITO薄膜的技术。
背景技术
ITO膜由于其优良的导电性、高可见光透过率、高红外区反射率、与玻璃基底结合牢固、抗摩擦划痕、良好的机械强度和化学稳定性、用酸溶液湿法刻蚀工艺容易形成电极图等，被广泛地应用于平板显示器件、热辐射反射镜、微波与射频屏蔽装置、敏感器件和太阳能电池等很多领域。
在现有显示领域中，ITO薄膜作为有机发光的出射面和透明电极，常用在OLED显示器件中，其对ITO膜可见光透过率、表面平整度、导电性等功能参数要求较高，低电阻率的ITO膜可以通过提高沉积薄膜时衬底的温度或高温退火等工艺制得，而对于柔性显示面板，如柔性OLED等器件中，必须在低温下沉积ITO透明电极，在平面面板显示器的发展过程中，透明导电薄膜是显示器面板制程中非常重要的技术项目，其薄膜的物理特性将深深地影响到最终产品显示器的画质。
目前，可以用来制备ITO薄膜的成膜技术很多，如磁控溅射沉积、真空蒸发沉积和溶胶-凝胶(Sol-Gel)法等。其中溶胶-凝胶法是制备高性能颗粒、纤维和薄膜的新型方法，80年代初将溶胶-凝胶法应用于镀ITO膜，将异丙醇铟[In(OC3H7)3]和异丙醇锡[Sn(OC3H74]溶于酒精，超声混合成溶胶，再用旋转法或提拉法镀在玻璃表面，陈化后进行400～500℃的热处理除去有机成分，然后在还原气氛中冷却到200℃以下。此法易于控制薄膜的成分，可以在分子水平控制掺杂，适合掺杂水平要求精确的薄膜，同时可使原材料在分子水平紧密结合，薄膜高度均匀，通过选择溶剂、调整浓度、添加催化剂，可以容易地控制溶胶性质，控制膜厚度，提拉法还可以双面镀膜。
总之，溶胶-凝胶法无需真空设备，工艺简单，适用于大面积且形状复杂的基体，对基体无损伤，对ITO薄膜的大型产业化有非常重要的作用。但是，用溶胶-凝胶法制备光电性具佳的ITO膜受到很多因素的影响，其中包括：掺Sn比例、金属离子浓度、提拉速度、烧制温度等。只有选择合适的掺Sn比例(12％左右)、尽量大的金属离子浓度(约0.64M)、适当的提拉速度、尽可能高的温度才能制备出优良的ITO膜，在用ITO粉体制备ITO浆料的过程中，防止纳米粒子因表面能较高而产生自发团聚的现象，提高ITO浆料的稳定性是亟待解决的问题。
专利文献CN108408763B公开了一种共掺铌、铟的纳米氧化锡粉体的制备及应用方法，本发明涉及纳米粉体材料制备及应用,旨在提供一种共掺铌、铟的纳米氧化锡粉体的制备及应用方法。包括:取五氯化铌、三氯化铟和五水四氯化锡并加至去离子水中,充分溶解后形成均匀的混合溶液；加入络合剂进行金属阳离子的络合反应；以氨水溶液调节溶液pH值为7～12后继续反应形成溶胶；调节旋转蒸发温度后继续反应形成湿凝胶；干燥处理,所获粉体在研磨、过筛后进行烧结处理,获得共掺铌、铟的纳米氧化锡粉体。本发明对氧化锡表面的结构特性进行了有效地改性处理,从而为后续与银基体相复合提供基础,使银基电接触复合材料能在密度、电学、硬度性能方面得到进一步的改进。
专利文献CN 114534990 A公开了一种适用于柔性器件的ITO薄膜及其制备方法，步骤1，以纯乙醇、三氯化铟、四氯化锡、乙酸酐为原料配制锡掺杂氧化铟溶胶；步骤2,将聚酰亚胺基板作为镀膜基板采用浸渍提拉法制备ITO镀膜基板；步骤3，将步骤2得到的ITO镀膜基板置于管式炉中于200～350℃氧气气氛中进行热处理，气压0.05～0.5MPa，流量4～20mL/min，保温时间2～5h；步骤4，制备ITO纳米晶薄膜。能够解决现有ITO薄膜不能在低温下进行双面同时镀制的技术难题，而且该方法能够大面积制膜，适合于产业化量产。然而，在用于如PET等柔性衬底时，为保证衬底性能不受影响，制备过程中，PET基底可以在150℃的环境下短期加热，若长期加热仅能承受120℃的温度环境，寻求更低温度的加热方式，同时又能实现光电性能优良能的ITO薄膜的制备方法是本领域一直在研究探索的问题。
发明内容
一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
步骤1，将三氯化铟、四氯化锡放入去离子水中，溶解干燥获得ITO粉体，将ITO粉体、分散剂溶于无水乙醇中制备ITO乙醇浆料；
步骤2，将纳米SiO2进行亲油性改性，将改性后的纳米SiO2放入基体溶剂中，与基体溶剂结合制备成膜剂；
步骤3，将步骤2得到的成膜剂与步骤1得到的ITO乙醇浆料混合，得到ITO涂料；
步骤4，准备衬底，将ITO涂料涂覆在衬底上，固化成膜。
进一步地，所述步骤1中，三氯化铟、四氯化锡的mol比为1～2：0.1。
进一步地，所述步骤1中，ITO粉体、无水乙醇、分散剂的mol比为1：40：1。
进一步地，所述步骤2中将纳米SiO2进行亲油性改性的具体步骤包括：将纳米SiO2的乙醇分散液和二甲基二氯硅烷按照4：1的比例混合后共沸蒸馏。
进一步地，所述步骤2中所述基体溶剂包括丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇。
进一步地，所述步骤2中所述基体溶剂中丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇的mol比为1：2：4。
进一步地，所述步骤2中所述基体溶剂中纳米SiO2的含量为2％。
进一步地，所述步骤2中的基体溶液包括丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇和增稠剂。
进一步地，所述步骤4中的涂覆方式包括辊涂、浸镀、旋涂、喷雾。
进一步地，所述步骤4中固化的温度不超过150℃。
一种适用于柔性衬底的ITO薄膜，其特征在于，采用本发明技术方案制得的ITO薄膜。
本发明提供的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜及制备方法能实现的有益效果有：
(1)本发明的技术方案可以实现低温制备ITO薄膜，适用于不耐高温的柔性衬底，可以实现在低于150℃环境下制备ITO薄膜。
(2)用改良溶胶-凝胶法制备ITO薄膜，不需要真空设备和靶材，节约成本，可以实现双面镀膜，适合异形衬底镀膜，适用于大规模工业生产。
(3)本发明的技术方案制得的ITO薄膜可见光的透过率在92％以上，红外光反射率在70％左右，具有明显的隔热效果。
(4)通过对氧化铟锡进行纳米改性、纳米SiO2改性处理，使ITO薄膜在低温下结晶，有效避免铟、锡离子的价态变化，使ITO涂料性能稳定，增加ITO薄膜对衬底的粘附性，制得的ITO薄膜不易气泡、脱落。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下边将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中地附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据本发明实施例的内容和附图获得其他附图。
图1是本发明提供的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜制备流程示意图；
具体实施方式
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。须知，下列实施例中未具体注明的工艺设备或装置均采用本领域内的常规设备或装置。此外应理解，本发明中提到的一个或多个方法步骤并不排斥在所述组合步骤前后还可以存在其他方法步骤或在这些明确提到的步骤之间还可以插入其他方法步骤，除非另有说明；还应理解，本发明中提到的一个或多个设备/装置之间的组合连接关系并不排斥在所述组合设备/装置前后还可以存在其他设备/装置或在这些明确提到的两个设备/装置之间还可以插入其他设备/装置，除非另有说明。而且，除非另有说明，各方法步骤的编号仅为鉴别各方法步骤的便利工具，而非为限制各方法步骤的排列次序或限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容的情况下，当亦视为本发明可实施的范畴。
本发明提供了一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法及ITO薄膜，本发明用改良溶胶-凝胶法制备ITO薄膜，溶胶-凝胶法的制备涂层的基本原理使：以金属醇盐或无机盐为前驱体，溶于水或其他有机溶剂中形成均匀的溶液，溶质与溶剂产生水解或醇解反应，反应生成物聚集成其他纳米粒子并形成溶胶，再以溶胶为原料对各种基材进行涂膜处理，溶胶膜经凝胶化及干燥处理后得到干凝胶膜，最后固化成膜。
本发明在溶胶-凝胶法的基础上进行方法改良，克服了传统溶胶-凝胶法在存储过程中因化学反应继续进行而性能不稳定、不易储存的问题。单独使用ITO浆料涂覆的ITO薄膜与衬底的结合力、成膜率并不理想，本发明制备纳米有机复合ITO浆料，对纳米SO2进行改性处理，使其变成表面亲油性，减小其相互间的范德华引力，降低表面自由能，克服了纳米粒子表面因高能而产生的自发团聚现象，将改性后的纳米SO2接枝到丙烯酸酯聚合物上，制备出基体涂料，再将基体涂料与ITO浆料混合，将混合后的ITO涂料，涂覆在衬底上，固化形成ITO薄膜。本发明经过试验研究出优选的成膜物质、成膜剂的用量、涂覆方式等工艺参数，制备出性能稳定、光电性能优良的ITO薄膜。本发明提供的技术方案不需要反复高温烧结、退火，只需涂膜-固化成膜，适用于熔点低的柔性衬底，且制备过程工序简单、节能环保。
在一种优选的实施例中，
如图1所示，制备步骤如下：
步骤S101：制备ITO乙醇浆料
先取三氯化铟、四氯化锡加至去离子水中，充分溶解后形成均匀的混合溶液，对搅拌均匀的混合溶液进行干燥处理，经过研磨、过筛获得ITO粉体。
将ITO粉体、分散剂溶于无水乙醇中(其中ITO粉体、无水乙醇、分散剂按照1：40：1的比例)，进行超声分散，并用盐酸和氨水调节ITO乙醇浆料的PH值，使浆料保持酸性，PH值保持在3-5。
步骤S102：制备成膜剂
本发明采用二甲基二氯硅烷对纳米SiO2进行表面亲油改性，增加其与有机溶剂的相容性，从而能够使ITO粉末在溶剂中实现纳米级分散，再与丙烯酸树脂混合制成基体涂料。
先对纳米SiO2进行亲油性改性，将纳米SiO2的乙醇分散液和二甲基二氯硅烷按照4：1的比例混合，搅拌均匀后进行共沸回流1-2h，得到烷基化的纳米SiO2乙醇分散液，再对纳米SiO2乙醇分散液进行减压蒸馏，浓缩析出固体颗粒制备得到亲油性纳米SO2粉体微粒。
将纳米SiO2粉体微粒，放入基体溶剂中，基体溶剂包括丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇，另外再加入增稠剂调整溶剂的状态，根据亲油性改性原理，按照分子摩尔量，丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇的比例按照1：2：4的比例形成溶剂，加入纳米SiO2，使溶剂中纳米SiO2的含量为2％。
需要说明的是，在一种优选的实施例中，成膜剂的辅料可以选取有机硅涂料、丙烯酸涂料、聚氨酯涂料中的一种。
纳米SiO2的优选含量是经过控制纳米SiO2变量实验得出，平衡了光透过滤率和成膜的情况得出，改性纳米SiO2作为成膜的主要成分，其含量过高可能会降低ITO薄膜的光透过率，改性纳米SiO2过多或过少都会影响薄膜表面的力学参数。
步骤S103：制备ITO涂料
将步骤S102得到的成膜剂与步骤S101得到的ITO乙醇浆料混合，混合方式为将ITO乙醇浆料逐滴滴入成膜剂中，滴加结束后继续搅拌30min-50min，搅拌均匀后依次进行超声分散、球磨分散，得到ITO涂料。
步骤S104：提供衬底。
衬底可以适用于柔性衬底，一般选用聚合物柔性材料，例如选用聚四氟乙烯薄膜、聚酯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚酰亚胺(PI)、定向拉伸聚丙烯塑料(OPP)等。
本发明技术方案主要研究柔性衬底上制备ITO薄膜，柔性衬底对加工环境要求较高、制备工艺相比于非柔性衬底需要考虑的因素更多、成膜难度更大，本发明提供的技术方案适用于柔性衬底上制备ITO薄膜，此技术方案同样适用于非柔性材料衬底。
步骤S105：清洗衬底。
可以根据衬底的油污状况，选择清洗衬底的方式。
在一种优选的实施例中，将衬底放入蒸馏水中浸泡、超声清洗10min-20min，重复2-3次；
放入丙酮溶液中浸泡、超声清洗5-10min；
放入无水乙醇中浸泡、超声清洗5-10min；
用去离子水冲洗、浸泡后超声清洗10min；
需要说明的是，清洗顺序及浸泡时间根据衬底材料及清洁情况调整，清洗衬底的方法不限于以上清洗步骤，可以对以上清洗步骤的任意环节进行组合；
清洗后烘干备用，烘干后放在操作箱内，避免再次污染。
需要说明的是，本发明提供衬底清洗的溶液选择及清洗步骤，具体的衬底清洗方法根据薄膜生长方法和薄膜使用目的而选定本发明提供的清洗步骤是在衬底相对洁净的前提下进行的，针对特定油污等污染物先去除明显污染物，再用本发明提供的清洗方案进行衬底清洗。
步骤S106：在衬底上成膜。
衬底无污染物是保证在衬底上成膜不起泡、不脱落的关键，成膜前需检查衬底的清洁度是否符合要求，再将S103制得的ITO溶剂涂覆在S105所述清洗后的衬底上，进行干燥固化，得到ITO薄膜。
涂覆可选的方式有辊涂、浸镀技术、旋涂技术、喷雾涂层技术等。
在一种优选的实施例中，将待镀衬底放在镀盘上，设置好转速和匀胶时间，将浆料匀速滴在旋转的衬底上，如有必要重复若干次，将镀好ITO湿膜的衬底放在室温下晾干，待溶剂挥发后放入烘干箱，设置烘干温度80-120℃，低温烘干固化成薄，制备出适用于柔性衬底的ITO薄膜。
实施例1
先取三氯化铟、四氯化锡加至足量的去离子水中，其中三氯化铟、四氯化锡的mol比例为10：1，充分溶解后形成均匀的混合溶液，对搅拌均匀的混合溶液进行干燥处理3h，经过研磨、过筛获得ITO粉体。
将5gITO粉体、0.5g分散剂溶于200ml无水乙醇中，进行超声分散30min，PH值调整为4。
取SiO2的乙醇分散液80ml，加入20ml二甲基二氯硅烷，搅拌均匀后进行共沸回流2h，得到烷基化的纳米SiO2乙醇分散液，再对纳米SiO2乙醇分散液进行减压蒸馏，浓缩析出固体颗粒后真空干燥24h，制备得到亲油性纳米SO2粉体微粒。
取25g丙烯酸树脂、50g醋酸丁酯、20g无水乙醇，制成基体溶剂，再将2g纳米SiO2粉体微粒放入基体溶剂中，最后将成膜剂与ITO乙醇浆料混合，混合方式为将ITO乙醇浆料逐滴滴入成膜剂中，滴胶速度为1800r/min，滴加结束后继续搅拌50min，搅拌均匀后依次进行超声分散30min，再进行球磨分散15h，得到ITO涂料。
选用PET衬底，将衬底放入蒸馏水中浸泡、超声清洗10min，重复2次；
放入无水乙醇中浸泡、超声清洗10min，再用去离子水冲洗、浸泡后超声清洗10min；检查衬底的洁净度符合要求后，将ITO溶剂采用旋涂技术涂覆衬底上，将浆料匀速滴在旋转的衬底上，匀胶机参数设置为：滴胶速度1800r/min，滴胶时间20s，匀胶时间20s，重复操作三次后将镀好ITO湿膜的衬底放在室温下晾干，待溶剂挥发后放入烘干箱放在120℃烘干箱中烘干30min，进行固化，得到ITO薄膜。
经测试，该ITO薄膜的电阻率为9*10-4Ωcm，红外光反射率72％，平均可见光透过率为92.1％。
实施例2
先取三氯化铟、四氯化锡加至足量的去离子水中，其中三氯化铟、四氯化锡的mol比例为20：1，充分溶解后形成均匀的混合溶液，对搅拌均匀的混合溶液进行干燥处理3.5h，经过研磨、过筛获得ITO粉体。
将5gITO粉体、0.5g分散剂溶于200ml无水乙醇中，进行超声分散30min，PH值调整为4。
取SiO2的乙醇分散液80ml，加入20ml二甲基二氯硅烷，搅拌均匀后进行共沸回流2h，得到烷基化的纳米SiO2乙醇分散液，再对纳米SiO2乙醇分散液进行减压蒸馏，浓缩析出固体颗粒后真空干燥24h，制备得到亲油性纳米SO2粉体微粒。
取25g丙烯酸树脂、50g醋酸丁酯、20g无水乙醇，制成基体溶剂，再将2g纳米SiO2粉体微粒放入基体溶剂中，最后将成膜剂与ITO乙醇浆料混合，混合方式为将ITO乙醇浆料逐滴滴入成膜剂中，滴胶速度为2000r/min，滴加结束后继续搅拌40min，搅拌均匀后依次进行超声分散30min，再进行球磨分散15h，得到ITO涂料，最后将成膜剂与ITO乙醇浆料混合，将ITO乙醇浆料逐滴滴入成膜剂中，滴加结束后继续搅拌50min，搅拌均匀后依次进行超声分散30min、球磨分散15h，得到ITO涂料。
选用PI衬底，将衬底放入蒸馏水中浸泡、超声清洗10min，重复3次；再放入丙酮溶液中浸泡、超声清洗10min，再放入无水乙醇中浸泡、超声清洗10min，最后用去离子水冲洗、浸泡后超声清洗8min；
检查衬底洁净度后，将ITO溶剂采用辊涂在PI衬底上，放在烘干向内设置温度为150℃，时间30min，进行干燥固化，得到ITO薄膜。
该ITO薄膜的电阻率为8.5*10-4Ωcm，红外光反射率71.4％，平均可见光透过率为92.3％。
为研究改性纳米SiO2含量对薄膜性能的影响，以实施1以为例，设置改性纳米SiO2含量为变量，测量不同纳米SiO2含量的丙烯酸树脂涂膜的附着力及耐水性，将不同纳米SiO2含量的丙烯酸树脂涂膜到基片上，涂膜后的基片烘干固化后经过浸泡、沸水测试，观察涂膜的附着力和耐水性。分别测试纳米含量为0％、1％、2％、3％、4％、5％、6％六组实验，产品记为基片1、基片2、基片3、基片4、基片5、基片6，通过肉眼结合显微镜观察成膜情况、摩擦测试成膜硬度后，将6组基片放入蒸馏水中煮沸20min，观察基片表面薄膜的变化。为了实验严谨性，每组基片设置五组样品，综合观察样品情况。最后得出2％含量纳米SO2的薄膜硬度明显提高，且经过水沸实验后不起泡不脱落，综合透光性、耐摩擦性的影响等，当纳米SiO2含量为2％时，膜层硬度为3H，可见光透过率大于92％。
测试说明
1.测试ITO薄膜的导电性：
在测试ITO薄膜的导电性时，可以用方块电阻表示其导电能力，用本领域技术人员熟知的四探针法测试其电阻率。
2.测试ITO薄膜的透过率：
在测试透明材料的透过率时，通常用透过材料的光通量与入射的光通量之比计量其透过率。
3.测试ITO薄膜的红外光反射率：
在测试ITO薄膜的红外光反射率时，将涂膜后的衬底在红外光谱仪下进行测试。
需要说明的是，为保证实验数据的真实严谨，在各样品取样时，分别选取5个及5个以上不同的测试点，取5组或者5组以上数据的平均值作为此样品的测试结果。
此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此所述的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在下面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。
Claims (11)
1.一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
步骤1，将三氯化铟、四氯化锡放入去离子水中，溶解干燥获得ITO粉体，将ITO粉体、分散剂溶于无水乙醇中制备ITO乙醇浆料；
步骤2，将纳米SiO2进行亲油性改性，将改性后的纳米SiO2放入基体溶剂中，与基体溶剂结合制备成膜剂；
步骤3，将步骤2得到的成膜剂与步骤1得到的ITO乙醇浆料混合，得到ITO涂料；
步骤4，准备衬底，将ITO涂料涂覆在衬底上，固化成膜。
2.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1中，三氯化铟、四氯化锡的mol比为1～2：0.1。
3.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1中，ITO粉体、无水乙醇、分散剂的mol比为1：40：1。
4.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中将纳米SiO2进行亲油性改性的具体步骤包括：将纳米SiO2的乙醇分散液和二甲基二氯硅烷按照4：1的比例混合后共沸蒸馏。
5.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中所述基体溶剂包括丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇。
6.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中所述基体溶剂中丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇的mol比为1：2：4。
7.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中所述基体溶剂中纳米SiO2的含量为2％。
8.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中的基体溶液包括丙烯酸树脂、醋酸丁酯、无水乙醇和增稠剂。
9.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤4中的涂覆方式包括辊涂、浸镀、旋涂、喷雾。
10.根据权利要求1所述的一种适用于柔性衬底的ITO薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤4中固化的温度不超过150℃。
11.一种适用于柔性衬底的ITO薄膜，其特征在于，采用如权利要求1-10任意一项所述的制备方法制备得到。
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Legal Events
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