CN116121711A - 一种辅助蒸镀装置和蒸镀坩埚 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种辅助蒸镀装置和蒸镀装置，用于蒸镀坩埚中，所述辅助蒸镀装置包括：容纳结构，所述容纳结构包括底壁及其连接的侧壁；盖板，所述盖板与所述容纳结构的底壁、侧壁围成容纳空间；所述底壁和所述盖板均为网格结构；多个挡板，设置在所述容纳空间中，所述多个挡板将所述容纳空间分隔成多个容纳子空间。

Description

一种辅助蒸镀装置和蒸镀坩埚

技术领域

本公开涉及热蒸镀技术，具体涉及一种辅助蒸镀装置和蒸镀坩埚。

背景技术

近年来，随着人们对更高品质显示产品的追求，OLED(Organic Light-EmittingDiode)作为一种新型的平板显示技术逐渐受到更多的关注，由于具有宽视角、主动发光、亮度高、分辨率高、响应速度快、能耗低、工作温度范围宽以及可柔性化显示等优点，OLED成为最具潜力的替代LCD液晶显示的新兴技术。目前，普遍采用有机材料蒸镀的方式生产OLED显示产品。

发明内容

本公开提供一种辅助蒸镀装置，用于蒸镀坩埚中，所述辅助蒸镀装置包括：

容纳结构，所述容纳结构包括底壁及其连接的侧壁；

盖板，所述盖板与所述容纳结构的底壁、侧壁围成容纳空间；所述底壁和所述盖板均为网格结构；

多个挡板，设置在所述容纳空间中，所述多个挡板将所述容纳空间分隔成多个容纳子空间。

在一些实施例中，所述多个挡板包括多个第一挡板和多个第二挡板，多个所述第一挡板和多个所述第二挡板交叉设置。

在一些实施例中，所述挡板的高度与所述容纳空间的高度的比值在80％～100％之间。

在一些实施例中，所述辅助蒸镀装置还包括第一支撑结构，所述第一支撑结构包括相对设置的第一连接件和第二连接件以及连接在二者之间的多个支撑柱；

其中，所述过滤器位于所述第一连接件上。

在一些实施例中，所述辅助蒸镀装置还包括：卡箍，所述卡箍环绕所述盖板，且与所述盖板卡合。

在一些实施例中，所述卡箍为具有缺口的开环结构，所述缺口两端设置有压覆件，所述压覆件的至少一部分覆盖在所述盖板上。

在一些实施例中，所述辅助蒸镀装置，还包括第二支撑结构，所述第二支撑结构为带状，且所述第二支撑结构的两端交叠，以围成直径可调的环形结构。

在一些实施例中，所述第二支撑结构的两端分别设置有第一勾部和第二勾部，所述第一勾部的至少部分朝向靠近所述容纳结构的方向延伸，所述第二勾部朝向所述环形结构的中部延伸。

在一些实施例中，所述侧壁上设置有凸耳，所述盖板的边缘设置有与所述凸耳配合的缺口。

本公开还提供一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，以及设置在所述坩埚本体内的辅助蒸镀装置，所述辅助蒸镀装置为以上实施例中所述的辅助蒸镀装置。

附图说明

附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：

图1为本公开实施例中提供的一种辅助蒸镀装置的结构示意图。

图2为图1中的辅助蒸镀装置的侧视图和剖视图。

图3为图1中的挡板的结构示意图。

图4为图1中的第一支撑结构的结构示意图。

图5为图1中的卡箍的结构示意图。

图6为本公开实施例中提供的另一种辅助蒸镀装置的结构示意图。

图7为图6中的第二支撑结构的结构示意图。

图8为图5中的盖板的结构示意图。

图9为图5中的容纳结构的结构示意图。

图10为本公开实施例中提供的一种夹具的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本公开的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本公开，并不用于限制本公开。

本公开实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

目前，普遍采用有机材料蒸镀的方式生产OLED显示产品。现今的OLED蒸镀装置的蒸发源主要分为点蒸发源和线性蒸发源。在蒸发源装置中用于OLED蒸镀的有机材料主要有两种：一种是熔融型有机材料，其受热后先融为液态再升温为气态，最后冷却于基板上形成有机膜层；另一种是升华型有机材料，其直接由固态升华为气态再冷却于基板上形成有机膜层。

其中，蒸镀，是真空蒸镀的简称，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基板表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。

现有的蒸发源装置：盛放有机材料或者金属材料的蒸镀坩埚，以及用于加热坩埚的加热器。蒸镀坩埚包括坩埚本体，通过加热器对坩埚进行加热，可以实现坩埚本体内的有机材料或者金属材料受热蒸发，进而产生粒子附着在基板上冷却形成有机镀膜。

其中，在蒸镀过程中，金属材料容易产生大量灰烬喷射出蒸镀坩埚并污染基板，对显示产品造成可视性不良。为了防止这一问题，在一些实施例中，蒸镀坩埚还包括设置在坩埚本体内的辅助蒸镀装置，辅助蒸镀装置包括支撑结构和容纳结构，该支撑结构用于将容纳结构支撑在坩埚里。容纳结构包括底壁及其连接的侧壁，另外，盖板与容纳结构的底壁和侧壁围成容纳空间，底壁和盖板均为网格结构。其中，容纳结构用于容纳物理、化学性质稳定的无机材料，不但可以用来遮挡上述灰烬，从而防止金属材料产生的金属颗粒污染基板，而且可以遮挡从基板上掉落的金属颗粒，避免污染坩埚内的材料，还可以用来防止蒸镀金属材料沸腾过程中喷溅基板，以及稳定坩埚内蒸汽压，从而提高蒸镀速率的稳定性。

但是，蒸镀过程中，蒸镀坩埚容易发生晃动，从而导致容纳结构中的无机材料发生倾斜，聚集在容纳空间中的一侧，进而导致蒸镀速率稳定性较差。

本公开提供了一种用于蒸镀坩埚中的辅助蒸镀装置，通过以下实施例进行解释说明。

图1为本公开实施例中提供的一种辅助蒸镀装置的结构示意图，图2为图1中的辅助蒸镀装置的侧视图和剖视图，如图1和图2中的(a)和(b)所示，该辅助蒸镀装置包括：容纳结构1、盖板3、以及多个挡板2。其中，容纳结构1包括底壁100及其连接的侧壁101。盖板3位于挡板2远离底壁100的一侧，盖板3与容纳结构1的底壁100、侧壁101围成容纳空间。其中，底壁100和盖板3均为网格结构。多个挡板2设置在容纳空间中，且多个挡板2将容纳空间分隔成多个容纳子空间。

本公开实施例中，在容纳结构1和盖板3之间增加了挡板2，且在挡板2将容纳空间分隔成的多个容纳子空间里填充无机材料，相对于将无机材料直接填充至容纳空间中，可以避免因坩埚晃动造成的容纳空间内填充的无机材料倾斜的问题，从而起到提高蒸镀速率的稳定性的作用。

在一些实施例中，盖板3的边缘可以大致呈圆形，且盖板3为网格结构。其中网格结构中的网孔可以为圆形或其他形状，本实施例中以网格结构中的网孔均为圆形结构为例进行解释说明。其中，网孔的直径可以小于无机材料的颗粒直径，例如，网孔的直径范围在0.95mm至1.05mm之间。例如，网孔的直径范围为0.95mm、1mm，或者1.05mm。网格结构的厚度为0.8mm。

图3为图1中的多个挡板的结构示意图，如图3所示，在一些实施例中，多个挡板2包括多个第一挡板201和多个第二挡板202。其中，多个第一挡板201和多个第二挡板202交叉设置。例如，第一挡板201与第二挡板202垂直。

在一个示例中，每个容纳子空间的容积可以大致相同，从而进一步提高蒸镀速率的稳定性。例如，相邻两个第一挡板201之间的间距可以与相邻两个第二挡板202之间的间距大致相同。

如图3所示，在一些实施例中，挡板2的高度与容纳结构1的高度的比值在80％～100％之间，从而尽可能地将不同的容纳子空间中的无机材料隔离开，从而防止辅助蒸镀装置在过滤的过程中出现倾斜而导致容纳结构1中的无机材料发生倾斜并溅射出来，进而防止镀膜基板受到溅射出来的颗粒的污染。例如，挡板2的高度与容纳结构1的高度的比值为80％、90％、95％，或者100％。

在一些实施例中，如图1所示，蒸镀装置还包括第一支撑结构4，第一支撑结构4用于放置于坩埚本体内，以支撑容纳结构1。在相关技术中，第一支撑结构一般采用具有弹性的开环结构，但是这样的话，当加热器加热坩埚时，设置在坩埚里的第一支撑结构受热容易失去弹性且支撑不稳，从而使得辅助蒸镀装置整体发生倾斜，进而导致基板镀膜不均匀，以及颗粒污染镀膜基板等问题。

图4为本公开实施例中的第一支撑结构的结构示意图，如图4所示，第一支撑结构4包括相对设置的第一连接件401和第二连接件403以及连接在二者之间的多个支撑柱402。其中，支撑柱的数量在3～9个之间，例如，支撑柱的数量可以为3个、6个、8个，或者9个。

支撑结构4用于支撑容纳结构1，且容纳结构1位于支撑结构4的第一连接件401上。

在一个实施例中，第一连接件401和第二连接件402均可以为圆环结构，且第一连接件401的外径可以大于或等于第二连接件420的外径。即，第一支撑结构4呈圆柱或圆台型。

例如，第一连接件401的外径的范围在29.5mm至30.5mm之间，例如，第一连接件401的外径为29.5mm、30mm，或者30.5mm。第二连接件420的外径的范围在0.8mm至1.0mm之间，例如，第二连接件402的外径为0.8mm、0.9mm，或者1mm。支撑柱的高度为150mm，倾斜角在1°～5°之间。其中，第一连接件401的圆环宽度在1.5mm至2mm之间，第二连接件402的圆环宽度在0.8mm～1.0mm之间。

需要说明的是，以上仅为第一支撑结构4的尺寸的示例性说明，在实际生产中，可以根据具体工艺需求确定第一支撑结构的高度和其他尺寸。

图5为图1中的卡箍的结构示意图，如图5所示，在本公开实施例中，辅助蒸镀装置还包括卡箍5，其中，卡箍5环绕盖板3，并且与盖板3卡合。需要说明的是，卡箍5为带缺口的环状结构，且卡箍5通过环状结构的内环与盖板卡合。卡箍5的外环直径在31.5mm至32.5mm之间，例如卡箍5的外环直径为31.5mm、32mm，或者32.5mm。

在一些示例中，卡箍5的宽度(内环与外环之间的距离)可以等于或约等于盖板与坩埚本体的半径差，从而可以使卡箍5卡合在容纳结构2与坩埚本体之间的间隙中，从而避免辅助蒸镀装置在过滤过程中出现晃动，同时还消除了辅助蒸镀装置和坩埚埚身之间的间隙，进而避免间隙造成的颗粒污染问题。

如图5所示，在本公开实施例中，卡箍5为具有缺口的开环结构501，且缺口两端设置有压覆件502。其中，压覆件502的至少一部分覆盖在盖板上，用于压紧并将盖板3紧紧的固定在容纳结构1上，从而防止有机颗粒从盖板与坩埚之间或者容纳结构与坩埚本体之间飞溅出来，进而避免颗粒污染镀膜基板。

图6为本公开实施例中提供的另一种辅助蒸镀装置的结构示意图，图7为图6中的第二支撑结构的结构示意图，如图6和图7所示，本公开还提供了另外一种辅助蒸镀装置，该辅助蒸镀装置包括：容纳结构1、盖板3、以及多个挡板2。其中，容纳结构1包括底壁100及其连接的侧壁101。盖板3位于挡板2远离底壁100的一侧，盖板3与容纳结构1的底壁100、侧壁101围成容纳空间。其中，底壁100和盖板3均为网格结构。多个挡板2设置在容纳空间中，且多个挡板2将容纳空间分隔成多个容纳子空间。

该辅助蒸镀装置与图1实施例中的辅助蒸镀装置相比，区别在于，该辅助蒸镀装置包括第二支撑结构6。如图5和图6所述，该第二支撑结构6为带状，且其两端交叠围成直径可调的环形结构。其中，第二支撑结构6采用直径可调的环形结构，有利于使得第二支撑结构6与坩埚本体紧密贴合，从而消除容纳结构1与坩埚本体之间的间隙，进而防止第二支撑结构6在坩埚本体中发生晃动，并避免镀膜基板出现颗粒污染。

在本公开实施例中，第二支撑结构6相对于图1实施例中的第一支撑结构4，不仅具有常规的支撑功能，还具有图1实施例中卡箍3的遮挡颗粒物的功能。因此，该辅助蒸镀装置中通过设置第二支撑结构6，从而可以达到简化辅助蒸镀装置的结构以及节约成本的目的。

本实施例中，挡板2设置在容纳结构1中，且挡板2的高度小于等于凸耳1010到容纳结构1的底壁100的距离。其中，挡板2放置于容纳空间1内，且挡板2的高度范围在9.5mm至10.5mm之间。例如，在本实施例中，挡板2的高度可以为9.5mm、10mm，或者10.5mm。

如图6和7所示，第二支撑结构6的两端分别设置有第一勾部601和第二勾部602。其中，第一勾部601的至少部分朝向靠近容纳结构1的方向延伸，例如，第一勾部601可以为弯折结构，其一部分朝向靠近容纳结构1的方向延伸，另一部分朝向环形结构的中部延伸。第二勾部602朝向环形结构的中部延伸。第一勾部601和第二勾部602的设置，可以防止第二支撑结构6的直径过大。

图8为图6中的盖板的结构示意图，图9为图6中的容纳结构的结构示意图，如图8和图9所示，容纳结构1的侧壁101上设置有凸耳1010，且盖板3的边缘设置有与凸耳1010配合的缺口300。其中，凸耳1010的数量可以为多个，多个凸耳1010沿容纳结构1的周向均匀分布。

在一些实施例中，盖板3上设置有多个缺口300搭配容纳结构1的侧壁上设置的相应数量的凸耳1010，可以使盖板3与容纳结构1固定的更加紧密，从而避免容纳结构中填充的无机材料在受热过程中飞溅出来，进而污染镀膜基板。

需要说明的是，对于图1中所示的辅助蒸镀结构，其容纳结构1的侧壁上也可以设置凸耳1010，盖板3上设置相应的缺口300。当然，也可以不设置上述凸耳1010和缺口300。

在进行蒸镀时，第二支撑结构6的直径固定后，将内置挡板2的容纳结构1放置在第二支撑结构6上，并向容纳结构1中填加无机材料，待无机材料添加完成后将盖板3安装固定于容纳结构1内。其中，容纳结构1中的无机材料的填充量由实际生产需求决定。

其中，当容纳结构1中的无机材料的填充量小于等于容纳结构1的容积的75％时，在容纳结构1中设置挡板2，可以明显地改善有机材料在容纳结构1中发生倾斜的问题，进而避免坩埚蒸镀速率不稳的问题。

图10为本公开实施例中提供的一种夹具的结构示意图，如图10所示，在一些实施例中，可以利用夹具7来对辅助蒸镀装置进行取放，该夹具7包括两个铰接的夹持件，每个夹持件包括：手持部700和夹持部701。例如，夹持部701为弯折结构，每个夹持部701的端部设置有第一卡槽7010和第二卡槽7011，两个夹持部701的第一卡槽7010相对设置，用于对挡板2、盖板3、卡箍5进行夹持和取放。两个夹持部701的第二卡槽7011背向设置，用于对第一支撑结构4和第二支撑结构6进行夹持和取放。

另外，夹具7还可以包括弹性件7000，弹性件7000的一端与其中一个手持部700连接。在手持部700未受力时，弹性件7000的弹性支撑作用可以使两个夹持部701相靠近。

本公开还提供一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，以及设置在坩埚本体内的辅助蒸镀装置，辅助蒸镀装置为以上实施例中的辅助蒸镀装置。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种辅助蒸镀装置，用于蒸镀坩埚中，其特征在于，所述辅助蒸镀装置包括：

容纳结构，所述容纳结构包括底壁及其连接的侧壁；

盖板，所述盖板与所述容纳结构的底壁、侧壁围成容纳空间；所述底壁和所述盖板均为网格结构；

多个挡板，设置在所述容纳空间中，所述多个挡板将所述容纳空间分隔成多个容纳子空间。

2.根据权利要求1所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，所述多个挡板包括多个第一挡板和多个第二挡板，多个所述第一挡板和多个所述第二挡板交叉设置。

3.根据权利要求1所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，所述挡板的高度与所述容纳空间的高度的比值在80％～100％之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，还包括第一支撑结构，所述第一支撑结构包括相对设置的第一连接件和第二连接件以及连接在二者之间的多个支撑柱；

其中，所述容纳结构位于所述第一连接件上。

5.根据权利要求4所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，还包括：卡箍，所述卡箍环绕所述盖板，且与所述盖板卡合。

6.根据权利要求5所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，所述卡箍为具有缺口的开环结构，所述缺口两端设置有压覆件，所述压覆件的至少一部分覆盖在所述盖板上。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，还包括第二支撑结构，所述第二支撑结构为带状，且所述第二支撑结构的两端交叠，以围成直径可调的环形结构。

8.根据权利要求7所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，所述第二支撑结构的两端分别设置有第一勾部和第二勾部，所述第一勾部的至少部分朝向靠近所述容纳结构的方向延伸，所述第二勾部朝向所述环形结构的中部延伸。

9.根据权利要求8所述的辅助蒸镀装置，其特征在于，所述侧壁上设置有凸耳，所述盖板的边缘设置有与所述凸耳配合的缺口。

10.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括坩埚本体，以及设置在所述坩埚本体内的辅助蒸镀装置，所述辅助蒸镀装置为权利要求1至9中任意一项所述的辅助蒸镀装置。

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