CN109023255A - 一种蒸镀装置及蒸镀系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及蒸镀技术领域，公开了一种蒸镀装置及蒸镀系统，其中，蒸镀装置，包括：蒸发源本体和位于蒸发源本体内的坩埚，在蒸发源本体内、且低于所述坩埚底面的区域设有用于容纳蒸镀材料的容纳空间。上述蒸镀装置，在需要降温取出坩埚时，降温过程中，附在蒸发源本体内壁和坩埚外壁之间的材料会在重力作用下流动至容纳空间内；待降至材料的熔点温度后，材料会在容纳空间内凝固，不会在坩埚底壁与蒸发源本体底壁之间形成粘接面，从而可以避免坩埚与蒸发源本体之间产生粘黏现象。因此，该蒸镀装置在取出坩埚的过程中，无需外力撞击等辅助操作，从而不会对蒸镀装置造成不良影响，且可以降低更换材料的难度，提高材料更换效率和周期性保养的可靠性。

Description

一种蒸镀装置及蒸镀系统

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种蒸镀装置及蒸镀系统。

背景技术

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管，简称OLED)制作过程中，通常采用蒸镀工艺在玻璃基板上根据需求沉积不同的有机材料，以形成有机发光器件。随着市场对OLED产品的尺寸需求越来越大，目前多采用线型蒸发源来制备OLED功能层。

现有的线型蒸发源主要包括蒸发源本体和位于其内部的坩埚，在蒸镀过程中，需要将有机材料填于坩埚中，由于蒸发源本体较为笨重且多与加热装置相连，移动较为困难，所以一般先将材料填入坩埚中，再将坩埚送入蒸发源本体中进行蒸镀。由于每次蒸镀工艺的后期无法保持蒸镀云的均匀性，进而，在有机材料用至一定程度后需降温取出坩埚、以更换新的坩埚并填充新的有机材料。然而，在降温过程中，气态的有机材料随着温度降低不会全部回到坩埚内，部分会凝固在坩埚底部与蒸发源本体的间隙中以形成有机材料粘结面。此时，为了取出内坩埚，一般需要使用撞击等外力破坏有机材料粘结面，从而容易造成坩埚以及蒸发源本体损伤、蒸发源线路松脱、蒸发源位置少量偏移等情况，大大降低了有机材料的更换效率和周期性保养(PM)的可靠性。

发明内容

本发明公开了一种蒸镀装置及蒸镀系统，目的是提高蒸镀装置的材料更换效率，避免在更换材料过程中对装置产生不良影响。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种蒸镀装置，包括蒸发源本体和位于所述蒸发源本体内的坩埚，其中，在所述蒸发源本体内、且低于所述坩埚底面的区域设有用于容纳蒸镀材料的容纳空间。

上述蒸镀装置，在需要降温取出坩埚时，降温过程中，蒸发源本体内的材料蒸汽会先冷凝进入液态，并大部分回落至内坩埚中，而小部分附在蒸发源本体内壁和坩埚外壁之间的材料液滴，也会在重力作用下流动至容纳空间内；待降至材料的熔点温度后，材料会在容纳空间内凝固，不会在坩埚底壁与蒸发源本体底壁之间形成粘接面，从而可以避免坩埚与蒸发源本体之间产生粘黏现象。因此，该蒸镀装置在取出坩埚的过程中，无需外力撞击等辅助操作，从而不会对蒸镀装置造成不良影响，且可以降低更换材料的难度，提高材料更换效率和周期性保养的可靠性。

一种可选的实施例中，所述容纳空间为沿所述坩埚底部边缘设置的环形空间。

一种可选的实施例中，所述容纳空间为所述蒸发源本体的底部开设的槽结构所围成的空间。

一种可选的实施例中，所述槽结构的截面呈L型。

一种可选的实施例中，所述蒸镀装置还包括设置于所述蒸发源本体的底壁和所述坩埚底壁之间的垫块，所述容纳空间为所述蒸发源本体和所述垫块之间围成的空间。

一种可选的实施例中，所述垫块的截面呈倒凸型。

一种可选的实施例中，所述坩埚底部设有凸台，所述容纳空间为所述蒸发源本体和所述坩埚底部之间围成的空间。

一种可选的实施例中，所述蒸镀装置为线性蒸镀装置。

一种可选的实施例中，所述蒸发源本体的长度为0.5m-1.5m，宽度为50mm-100mm，高度为50mm-100mm；所述容纳空间的宽度为5mm-10mm，高度为2mm-3mm。

一种蒸镀系统，包括如上述任一技术方案所述的蒸镀装置。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种蒸镀装置在蒸镀过程中的剖面结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种蒸镀装置在蒸镀后期停止加热后的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种蒸镀装置在温度将至材料熔点后的剖面结构示意图；

图4为本发明另一实施例提供的一种蒸镀装置在温度将至材料熔点后的剖面结构示意图；

图5为本发明再一实施例提供的一种蒸镀装置在温度将至材料熔点后的剖面结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种蒸镀装置的立体结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1至图5所示，本发明实施例提供了一种蒸镀装置，包括蒸发源本体1和位于蒸发源本体1内的坩埚2，其中，在蒸发源本体1内、且低于坩埚2底面的区域设有用于容纳蒸镀材料4的容纳空间3。

上述蒸镀装置，在需要降温取出坩埚2时，如图2所示，降温过程中，蒸发源本体1内的材料蒸汽41会先冷凝进入液态，并大部分回落至内坩埚2中，而小部分附在蒸发源本体1内壁和坩埚2外壁之间的材料液滴42，也会在重力作用下流动至容纳空间3内；如图3至图5所示，待降至材料4的熔点温度后，材料4会在容纳空间3内凝固，不会在坩埚2底壁与蒸发源本体1底壁之间形成粘接面，从而可以避免坩埚2与蒸发源本体1之间产生粘黏现象。因此，该蒸镀装置在取出坩埚2的过程中，无需外力撞击等辅助操作，从而不会对蒸镀装置造成不良影响，且可以降低更换材料4的难度，提高材料4更换效率和周期性保养的可靠性。

一种具体的实施例中，容纳空间3可以为沿坩埚2底部边缘设置的环形空间；进而，蒸发源本体1内壁和坩埚2外壁之间的材料液滴向下流动可以直接到达容纳空间3内，不会滞留在其他区域。

如图1至图3所示，一种具体的实施例中，容纳空间3可以为蒸发源本体1的底部开设的槽结构11所围成的空间。

可选的，该槽结构11的截面呈L型，即该槽结构11包括垂直延伸部111和水平延伸部112两部分，具体的，垂直延伸部111与蒸发源本体1侧壁和坩埚2侧壁对齐连通，水平延伸部112向坩埚2底部中心延伸，该槽结构11所形成的容纳空间3容量较大，可以将坩埚2外的液化材料4完全容纳，避免材料4液面到达坩埚2底部导致粘黏。

如图4所示，另一种具体的实施例中，本发明实施例提供的蒸镀装置还可以包括设置于蒸发源本体1的底壁和坩埚2底壁之间的垫块5，容纳空间3可以为蒸发源本体1和垫块5之间所围成的空间。

可选的，垫块5的截面呈倒凸型；进而，蒸发源本体1和垫块5之间所围成的容纳空间3的截面即呈L型，该容纳空间3容量较大，可以将坩埚2外的液化材料4完全容纳，避免材料4液面到达坩埚2底部导致粘黏。

如图5所示，再一种具体的实施例中，坩埚2底部可以设有凸台21结构，容纳空间3可以为蒸发源本体1和坩埚2底部之间所围成的空间。此时，材料4液化后流至容纳空间3中，仅会与底部凸台21接触，而不会与整个坩埚2的底部接触，从而，即使在凸台21底部与蒸发源本体1底壁之间形成粘接层，由于面积较小，也比较容易将其破坏从而将坩埚2取出。

如图6所示，在上述各实施例的基础上，一种具体的实施例中，蒸镀装置为线性蒸镀装置；具体的，蒸发源本体1和内部坩埚2均呈长方形，蒸发源本体1为封闭结构，坩埚2为一上部完全开放的长方形槽，用于容纳有机材料4。

可选的，蒸发源本体1的一侧短边设有可拆卸的盖板，为开放式设置，进而，可以从该侧将坩埚2取出或者送入蒸发源本体1中。

一种具体的实施例中，蒸发源本体1的长度可以为0.5m-1.5m，宽度可以为50mm-100mm，高度可以为50mm-100mm；坩埚2的长度可以为0.4m-1.4m，宽度可以为45mm-95mm，高度可以为45mm-95mm。

进一步的，容纳空间3的宽度可以为5mm-10mm，高度可以为2mm-3mm。

可选的，蒸发源本体1和坩埚2的材料4可以为钛合金。

如图1至图6所示，一种具体的实施例中，蒸发源本体1的上部设有一连串的喷嘴6，用于使有机材料4在加热后以气态样貌喷出。可选的，喷嘴6开孔的直径可以为5mm-8mm，高度可以为5mm-10mm。

进一步的，本发明实施例提供的蒸镀装置还包括加热装置7；可选的，该加热装置可以为电热丝71，且直径不低于3mm，优选材料为镍铬电热合金。具体的，加热装置7附着在蒸发源本体1上，用于对有机材料4进行间接加热。

下面，结合图1至图3，对本发明实施例提供的蒸镀装置的工艺流程进行举例说明：在蒸镀工艺开始前，将一定量的有机材料4填入坩埚2中，将填好料的坩埚2从蒸发源本体1的短边侧送入蒸发源本体1内，再安装上短边侧盖板使蒸发源本体1为一封闭整体。在蒸发源本体1处于高真空状态下时，通过加热装置对蒸发源本体1加温，使达到蒸镀工艺目标温度，有机材料4从喷嘴6中蒸发出来，如图1所示，待蒸发速度稳定后就可进行基板的成膜作业；在蒸镀工艺后期，由于有机材料4消耗不均匀，为保持蒸发速率的稳定，蒸发源本体1部分区域需要提高温度但不能超过有机材料4裂解温度，故最终在有机材料4仍有剩余的情况下，需要降温取出内坩埚2以回收剩余材料4并填充新材料。降温时，如图2所示，蒸发源本体1内的材料蒸汽41会先冷凝进入液态，大部分回落至内坩埚2中，但有部分附在蒸发源本体1与坩埚2之间的壁体上，并因重力作用向下流动至容纳空间3内；如图3所示，待降至材料4熔点温度后，材料4会在容纳空间3内凝固，不会在内坩埚2下部与蒸发源本体1之间形成粘接层，从而避免了坩埚2下部与蒸发源本体1之间产生粘黏现象。然后，在打开蒸发源本体1短边侧的盖板，取出内坩埚2之后，可通过直接清除或高真空下高温烘烤，来清理容纳空间3内的材料4。上述更换有机材料4的过程难度较低，且不会对蒸镀装置造成不良影响，可以提高周期性保养的可靠性。

另外，本发明实施例还提供了一种蒸镀系统，该蒸镀系统包括上述任一实施例中的蒸镀装置。该蒸镀系统更换蒸镀材料的过程难度较低，效率较高，且不会对蒸镀装置造成不良影响，可以提高周期性保养的可靠性。

显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括蒸发源本体和位于所述蒸发源本体内的坩埚，其中，在所述蒸发源本体内、且低于所述坩埚底面的区域设有用于容纳蒸镀材料的容纳空间。

2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述容纳空间为沿所述坩埚底部边缘设置的环形空间。

3.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述容纳空间为所述蒸发源本体的底部开设的槽结构所围成的空间。

4.如权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述槽结构的截面呈L型。

5.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括设置于所述蒸发源本体的底壁和所述坩埚的底壁之间的垫块，所述容纳空间为所述蒸发源本体和所述垫块之间围成的空间。

6.如权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，所述垫块的截面呈倒凸型。

7.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述坩埚底部设有凸台，所述容纳空间为所述蒸发源本体和所述坩埚底部之间围成的空间。

8.如权利要求1-7任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置为线性蒸镀装置。

9.如权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸发源本体的长度为0.5m-1.5m，宽度为50mm-100mm，高度为50mm-100mm；所述容纳空间的宽度为5mm-10mm，高度为2mm-3mm。

10.一种蒸镀系统，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的蒸镀装置。