CN114182208B - 蒸镀源及蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种蒸镀源及蒸镀设备。所述蒸镀源具有一第一温度区一第二温度区。所述蒸镀源包括：环绕一容器设置的热反射罩，所述热反射罩位于所述第一温度区中；设于所述热反射罩外侧的加热装置。
Description
技术领域
本发明涉及薄膜制造技术领域，特别是一种蒸镀源及蒸镀设备。
背景技术
目前，制备显示器件主流的主要方式是真空加热蒸发镀膜，即在真空腔体内使用蒸镀热容器内的材料，使其在一定温度下升华或者熔融汽化成蒸汽，透过金属掩膜板上的开孔沉积在基板上。
蒸镀材料在真空蒸镀的过程中，蒸镀容器内部若存在较大温度差，在高温部气化的材料会在低温部冷却并再次固化。如果在容器的出料口处材料固化，会导致成膜的均一性性变差，甚至会导致出料口堵孔。
而现有工艺中所使用的蒸镀设备，如果提高其顶部加热丝功率会使蒸镀速率不稳定，进而导致成膜不均匀。并且长期的高温会使加热丝表面形成氧化物，影响其使用寿命及加热的稳定性。同时，现有工艺中还使用人工填料的方式来改善容器顶部产生材料结晶问题，但人工填料的方式在量产过程中会严重影响设备嫁动率及产量。
发明内容
本发明的目的是提供一种蒸镀源及蒸镀设备，以解决现有技术中蒸镀设备的容器出料口处材料容易固化，进而导致的成膜均一性性变差、出料口堵孔等问题，以及蒸镀设备的加热丝使用寿命短、加热的稳定性低等问题。
为实现上述目的，本发明提供一种蒸镀源，所述蒸镀源具有一第一温度区一第二温度区。所述蒸镀源包括一容器、一热反射罩以及一加热装置。所述热反射罩环绕所述容器设置，并位于所述第一温度区中。所述加热装置设于所述热反射罩的外侧。
进一步地，所述热反射罩包括主体部和镂空部。所述主体部对应于所述第一温度区。所述镂空部与所述主体部相连，并对应于所述第二温度区。所述镂空部的热反射面积小于所述主体部的热反射面积。
进一步地，所述热反射罩上具有若干镂空结构，所述镂空结构均匀分布在所述镂空部，并贯穿所述热反射罩。
进一步地，所述加热装置包括隔热罩和加热丝。所述隔热罩具有一容腔，所述容器和所述热反射罩置于所述容腔内。所述加热丝设于所述容腔的侧壁上。
进一步地，所述加热丝在所述第二温度区中的分布密度小于其在所述第一温度区中的分布密度。
进一步地，所述容器具有一出料口，所述出料口设于所述容器的顶部。
进一步地，所述第二温度区中所述容器内的温度小于所述第一温度区中所述容器内的温度。
进一步地，所述热反射罩的材料中含有金属钨。
进一步地，所述加热丝的材料中含有金属钼。
本发明中还提供一种蒸镀设备，所述蒸镀设备包括如上所述的蒸镀源。
本发明的优点是：本发明中的一种蒸镀源及蒸镀设备，通过增加容器顶部加热丝的分布密度，在不需要增加加热功率的情况下防止蒸镀材料在容器的顶部结晶而堵塞出料口，改善蒸镀成膜均一性，并提高蒸镀设备的嫁动时间及产能。同时，通过分区热反射的热反射罩使容器顶部温度高于底部，保证蒸镀材料在升华过程中持续加热。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中蒸镀源的截面结构示意图；
图2为本发明实施例中加热装置的剖面结构示意图；
图3为本发明实施例中热反射罩的立体结构示意图。
图中部件表示如下：
蒸镀源100； 第一温度区101；
第二温度区102； 容器1；
出料口11； 加热装置2；
隔热罩21； 容腔211；
加热丝22； 第一加热丝221；
第二加热丝222； 热反射罩3；
主体部31； 镂空部32；
镂空结构321。
具体实施方式
以下参考说明书附图介绍本发明的优选实施例，证明本发明可以实施，所述发明实施例可以向本领域中的技术人员完整介绍本发明，使其技术内容更加清楚和便于理解。本发明可以通过许多不同形式的发明实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。
在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。附图所示的每一部件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。为了使图示更清晰，附图中有些地方适当夸大了部件的厚度。
此外，以下各发明实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定发明实施例。本发明中所提到的方向用语，例如，“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“内”、“外”、“侧面”等，仅是参考附加图式的方向，因此，使用的方向用语是为了更好、更清楚地说明及理解本发明，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
当某些部件被描述为“在”另一部件“上”时，所述部件可以直接置于所述另一部件上；也可以存在一中间部件，所述部件置于所述中间部件上，且所述中间部件置于另一部件上。当一个部件被描述为“安装至”或“连接至”另一部件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个部件通过一中间部件间接“安装至”、或“连接至”另一个部件。
本发明实施例中提供了一种蒸镀设备，所述蒸镀设备为真空蒸镀设备。所述蒸镀设备中具有一蒸镀源100，蒸镀材料通过所述蒸镀源100加热气化。如图1所示，所述蒸镀源100设有一第一温度区101和一第二温度区102，所述第一温度区101与所述第二温度区102相连。并且，所述第一温度区101位于所述蒸镀源100的顶部，所述第二温度区102位于所述蒸镀源100的底部。如图2所示，所述蒸镀源100包括一容器1、一加热装置2以及一热反射罩3。
所述容器1用于装载蒸镀材料，其为坩埚。所述容器1具有一出料口11，所述出料口11设于所述容器1顶端，并位于所诉第一温度区101远离所述第二温度区102的一侧。当所述蒸镀材料在所述容器1的腔体内气化后，气态的蒸镀材料便从所述出料口11中喷出。所述第一温度区101中所述容器1的腔内温度大于所述第二温度区102中所述容器1的腔内温度。优选的，所述第一温度区101中的容器1腔内温度高于所述第二温度区102中的容器1腔内温度150℃以上。
如图1-图2所示，所述加热装置2包括一隔热罩21以及加热丝22。
所述隔热罩21具有一容腔211，所述容器1置所述容腔211中，并且所述隔热罩21的中心轴与所述容器1的中心中重合。所述隔热罩21将所述容器1与外界隔离，防止所述容器1中的热量流失过快，同时也防止容器1中的高热量损坏外界设备。
所述加热丝22设于所述隔热罩21的容腔211中，并固定在所述容腔211朝向所述容器1的侧壁上。所述加热丝22采用金属钼制备而成，其用于加热所述容器1内的蒸镀材料，使所述蒸镀材料能够快速达到气化温度。
如图2所示，所述加热丝22包括第一加热丝221和第二加热丝222，所述第一加热丝221与所述第二加热丝222之间间隔设置，并通过连接线电连接。所述第一加热丝221的长度小于所述第二加热丝222的长度。所述第一加热丝221设于所述第一温度区101中，而所述第二加热丝222则从所述第一温度区101延伸至所述第二加热区，并且所述第一加热丝221和所述第二加热丝222均平行于所述隔热罩21的中心轴。
在所述第一温度区101中增加第一加热丝221，提高所述加热丝22在所述第一温度区101中的分布密度，使所述加热丝22在所述第二温度区102中的分布密度小于其在所述第一温度区101中的分布密度，从而使所述第二温度区102中的加热温度小于所述第一温度区101中加热温度，促使所述加热丝22在相同的输出功率下保证所述第一温度区101中容器1的腔内温度大于所述第二温度区102中容器1的腔内温度，进而防止蒸镀材料在蒸镀过程不易产生结晶，不易堵塞出料口11，同时还延长了加热丝22使用寿命及其加热的稳定性。
如图1所示，所述热反射罩3也位于所述隔热板的容腔211，并位于所述加热丝22与所述容器1之间。所述热反射罩3由钨金属板呈管状环绕而成，其设于所述容器1外侧。所述钨金属板具有优异的热反射性能以及耐高温能力，能够加大热反射率并提高热反射罩3的使用寿命。
所述热反射罩3具有一主体部31和一镂空部32，如图3所示，所述主体部31设于所述第一温度区101中，其靠近所述第二温度区102的一边向下延伸，形成位于所述第二温度区102中的镂空部32。具体的，所述热反射罩3上设有若干镂空结构321，所述镂空结构321贯穿所述镂空部32，促使所述镂空部32的实际覆盖面积小于所述主体部31的实际覆盖面积，进而使所述镂空部32的热反射面积小于所述主体部31的热反射面积。
所述第一温度区101中的加热丝22所提供的热能在所述热反射罩3主体部31的不断反射下加热所述容器1的顶部，而所述镂空部32的镂空结构321处无法反射热能，从而进一步提高所述第一温度区101中容器1的腔内温度，防止所容器1内气化的蒸镀材料在出料口11附近再度固化结晶而堵塞出料口11。
进一步地，所述容器1底部的直径小于所述容器1顶部的直径，促使所述容器1形成倒圆台形结构，增加所述容器1底部与加热装置2之间的传热距离，促使所述第一温度区101的加热效率大于所述第二温度区102的加热效率，进一步保障所述第一温度区101与所述第二温度区102中的容器1腔内的温度不同。
本发明实施例中所提供的蒸镀源及蒸镀设备，通过增加容器顶部加热丝的分布密度，在不需要增加加热功率的情况下防止蒸镀材料在容器的顶部结晶而堵塞出料口，改善蒸镀成膜均一性。并且，无需人工填料，提高蒸镀设备的嫁动时间及产能。同时，通过分区热反射的热反射罩使容器顶部温度高于底部，保证蒸镀材料在升华过程中持续加热。
虽然在本文中参照了特定的实施方式来描述本发明，但是应该理解的是，这些实施例仅仅是本发明的原理和应用的示例。因此应该理解的是，可以对示例性的实施例进行许多修改，并且可以设计出其他的布置，只要不偏离所附权利要求所限定的本发明的精神和范围。应该理解的是，可以通过不同于原始权利要求所描述的方式来结合不同的从属权利要求和本文中所述的特征。还可以理解的是，结合单独实施例所描述的特征可以使用在其他所述实施例中。
Claims (5)
1.一种蒸镀源，其特征在于，其具有相连的一第一温度区和一第二温度区，所述第一温度区位于所述蒸镀源的顶部，所述第二温度区位于所述蒸镀源的底部；
所述蒸镀源包括：
热反射罩，环绕一容器设置；
加热装置，设于所述热反射罩的外侧；
所述容器具有一出料口，所述出料口设于所述容器顶端并位于所述第一温度区远离所述第二温度区的一侧；所述容器为倒圆台形结构，所述加热装置至所述容器位于所述第一温度区的部分的距离，小于所述加热装置至所述容器位于所述第二温度区的部分的距离；
所述热反射罩包括：
主体部，对应于所述第一温度区；
镂空部，与所述主体部相连，并对应于所述第二温度区；
所述镂空部的热反射面积小于所述主体部的热反射面积；
所述热反射罩上具有若干镂空结构，所述镂空结构均匀分布在所述镂空部，并贯穿所述热反射罩；
所述加热装置包括：
隔热罩，其具有一容腔，所述容器和所述热反射罩置于所述容腔内；
加热丝，设于所述容腔的侧壁上；
所述加热丝在所述第二温度区中的分布密度小于其在所述第一温度区中的分布密度。
2.如权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述第二温度区中所述容器内的温度小于所述第一温度区中所述容器内的温度。
3.如权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述热反射罩的材料中含有金属钨。
4.如权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述加热丝的材料中含有金属钼。
5.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1-4中任意一项所述的蒸镀源。
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Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| CN103726022A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-04-16 | 上海和辉光电有限公司 | 一种有机材料加热蒸镀源 |
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|---|---|---|---|---|
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| CN108754429A (zh) * | 2018-08-28 | 2018-11-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸发源 |
| CN112011760A (zh) * | 2019-05-28 | 2020-12-01 | 佳能特机株式会社 | 加热装置、蒸发源装置、成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法 |
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