CN115570910A - 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 - Google Patents
转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115570910A CN115570910A CN202211367048.7A CN202211367048A CN115570910A CN 115570910 A CN115570910 A CN 115570910A CN 202211367048 A CN202211367048 A CN 202211367048A CN 115570910 A CN115570910 A CN 115570910A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- transfer
- refractive index
- transfer sheet
- low refractive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 389
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 596
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 228
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 156
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 88
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 87
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 71
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 64
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 189
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 139
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 109
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 104
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 30
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 29
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 15
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 121
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 56
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 52
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 48
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 43
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 43
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 41
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 37
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 36
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 26
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 23
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 22
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 22
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 21
- 239000002519 antifouling agent Substances 0.000 description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 20
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 17
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 15
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 14
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 13
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 13
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 13
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 13
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 11
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 11
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 10
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 8
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 8
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 8
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 8
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 8
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 8
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 7
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 7
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 6
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N cycloheximide Chemical compound C1[C@@H](C)C[C@H](C)C(=O)[C@@H]1[C@H](O)CC1CC(=O)NC(=O)C1 YPHMISFOHDHNIV-FSZOTQKASA-N 0.000 description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 IHCCLXNEEPMSIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 5
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4,6-triamine;urea Chemical compound NC(N)=O.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JZLWSRCQCPAUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102220475986 Keratin, type I cytoskeletal 10_Y26F_mutation Human genes 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000026 X-ray photoelectron spectrum Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 2
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran;1h-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1.C1=CC=C2OC=CC2=C1 KPAPHODVWOVUJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical class OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N Bisphenol F Natural products C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000345998 Calamus manan Species 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101000749364 Rattus norvegicus V-type proton ATPase subunit e 1 Proteins 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O Chemical compound [N+](#[C-])N1C(=O)NC=2NC(=O)NC2C1=O VYGUBTIWNBFFMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000000089 atomic force micrograph Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical class C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N decyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC KQAHMVLQCSALSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 210000004905 finger nail Anatomy 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000008269 hand cream Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003902 lesion Effects 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 210000000282 nail Anatomy 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- 239000004006 olive oil Substances 0.000 description 1
- 235000008390 olive oil Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011242 organic-inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 235000012950 rattan cane Nutrition 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(6-trimethoxysilylhexyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCC[Si](OC)(OC)OC GFKCWAROGHMSTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical group O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/16—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like
- B44C1/165—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like for decalcomanias; sheet material therefor
- B44C1/17—Dry transfer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
- B32B37/025—Transfer laminating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/06—Interconnection of layers permitting easy separation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/16—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like
- B44C1/165—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like for decalcomanias; sheet material therefor
- B44C1/17—Dry transfer
- B44C1/1708—Decalcomanias provided with a layer being specially adapted to facilitate their release from a temporary carrier
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/16—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like
- B44C1/165—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like for decalcomanias; sheet material therefor
- B44C1/17—Dry transfer
- B44C1/1712—Decalcomanias applied under heat and pressure, e.g. provided with a heat activable adhesive
- B44C1/1725—Decalcomanias applied under heat and pressure, e.g. provided with a heat activable adhesive using an intermediate support
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/02—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of crystals, e.g. rock-salt, semi-conductors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
- G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
- B32B37/14—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers
- B32B37/24—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by the properties of the layers with at least one layer not being coherent before laminating, e.g. made up from granular material sprinkled onto a substrate
- B32B2037/243—Coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
- B32B2457/202—LCD, i.e. liquid crystal displays
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C1/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects
- B44C1/16—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like
- B44C1/165—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing decorative surface effects for applying transfer pictures or the like for decalcomanias; sheet material therefor
- B44C1/17—Dry transfer
- B44C1/1712—Decalcomanias applied under heat and pressure, e.g. provided with a heat activable adhesive
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133308—Support structures for LCD panels, e.g. frames or bezels
- G02F1/133331—Cover glasses
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Decoration By Transfer Pictures (AREA)
Abstract
本发明提供转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体。在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
Description
本申请是分案申请，其原申请的申请号为202080031143.2，申请日为2020年3月27日，发明名称为“转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体”。
技术领域
本发明涉及转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体的制造方法及成型体、使用了该成型体的前面板以及图像显示装置。
背景技术
存在要求对任意的被粘物的表面赋予防反射性和防污性等规定功能的情况。在这样的情况下，例如进行嵌件成型。
嵌件成型是指如下的手段：将在支撑体上具有功能层的功能性薄膜配置于注塑成型的模具内，使注塑树脂向支撑体侧流入，使功能性薄膜的支撑体侧与作为被粘物的注塑树脂一体化从而得到成型体。
但是，在嵌件成型的情况下，由于在被粘物与功能层之间存在膜厚比较厚的支撑体，因此存在如成型体整体的厚度增加或被粘物的手感受损的问题。
另一方面，还采用了如下的手段：通过喷雾等在被粘物的表面直接涂布功能性涂料，由此对被粘物的表面赋予规定功能。通过该手段能够消除上述问题。但是，在直接涂布于被粘物的表面的情况下，存在因涂布不均而在功能上产生不均的问题。特别是在被粘物的表面具有凹凸形状的情况下，涂布不均的问题容易变得显著。
此外，作为嵌件成型和直接涂布以外的手段，提出了使用转印片通过转印在被粘物上形成功能层的手段(专利文献1～4)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2014-130298号公报
专利文献2：日本特开2009-072954号公报
专利文献3：日本特开2009-056674号公报
专利文献4：日本特开2008-151930号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，在使用专利文献1～4所公开的转印片将功能层转印到被粘物上的情况下，与嵌件成型、直接涂布的情况相比，频繁地发生了不能充分地发挥所转印的功能层的功能的事例。
本发明的目的在于提供一种能够对被粘物赋予充分的功能的转印片的制造方法以及转印片。此外，本发明的目的在于提供一种由转印层赋予了充分的功能的成型体、该成型体的制造方法、使用该成型体的前面板以及图像显示装置。
用于解决课题的手段
解决上述课题的本发明提供以下的方案[1]～[6]。
[1]一种转印片的制造方法，其中，
在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：
工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及
工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
[2]根据上述[1]的转印片的制造方法，其中，
在该转印片的制造方法中，还进行下述的工序(3)，
工序(3)：从所述转印片A剥离所述脱模基材1，得到在所述脱模基材2上具有所述转印层的转印片B。
[3]一种成型体的制造方法，其中，
在该成型体的制造方法中，依次进行下述的工序(4)～工序(5)：
工序(4)，得到将上述[2]的转印片B的所述转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体C；以及
工序(5)，从所述层叠体C剥离所述脱模基材2，得到在被粘物上具有转印层的成型体。
[4]一种转印片A，其中，所述转印片是依次具有脱模基材1、转印层和脱模基材2而成的，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
[5]一种转印片B，其中，所述转印片是在脱模基材2上具有转印层而成的，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
[6]一种成型体，该成型体是在被粘物上具有转印层而成的，所述转印层具有至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于与所述被粘物相反的一侧而成的。
发明效果
根据本发明的转印片的制造方法，可以简单地制造能够对被粘物赋予充分的功能的转印片。此外，根据本发明的转印片，能够对被粘物赋予充分的功能。
此外，根据本发明的成型体的制造方法，可以简单地制造由转印层赋予了充分的功能的成型体。此外，根据本发明的成型体、使用了该成型体的前面板以及图像显示装置，能够使具有转印层的成型体等的功能充分。
附图说明
图1是示出本发明的脱模片A的半成品的一个实施方式的剖视图。
图2是示出本发明的脱模片A的一个实施方式的剖视图。
图3是示出本发明的脱模片B的一个实施方式的剖视图。
图4是示出本发明的成型体的制造方法的各工序的一个实施方式的剖视图。
图5是示出以往的转印片的一例的剖视图和使用该转印片的成型体的制造方法的一例的剖视图。
图6是中空颗粒和非中空颗粒均匀地分散的低折射率层的一例的截面照片。
图7是中空颗粒和非中空颗粒未均匀地分散的低折射率层的一例的截面照片。
具体实施方式
[转印片的制造方法]
在本发明的转印片的制造方法中，依次进行下述(1)～(2)的工序。
(1)在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及
(2)在所述转印层上层叠脱模基材2而得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成、且所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1的转印片A。
图1是示出工序(1)结束的阶段的层叠体的一个实施方式的剖视图。图1的层叠体在脱模基材1(10)上具有转印层30。
图2是示出经过工序(1)和工序(2)而得到的转印片A(100)的一个实施方式的剖视图。图2的转印片A(100)在脱模基材1(10)上具有转印层30和脱模基材2(20)。
在图1和图2中，转印层30包含两个功能层(功能层1(31)和功能层2(32))。此外，在图1和图2中，功能层2(32)的渐变表示功能层2(32)的功能性成分的偏在程度(颜色越浓，功能性成分的密度越高)。
<工序(1)>
工序1是在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液而形成包含至少一个功能层的转印层的工序。
关于在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液的手段，可举出凹印涂布、模涂和棒涂等通用涂布手段。在转印层具有两个以上的功能层的情况下，可以依次形成功能层，也可以通过可同时涂布多层的涂布设备同时形成。
此外，优选的是，在涂布转印层形成用涂布液之后，根据需要进行干燥和/或照射紫外线而使溶剂挥发或使树脂组成物固化。
<<脱模基材1>>
脱模基材1只要能够与转印层剥离即可，能够在没有特别限制的情况下使用，优选使用塑料膜。
作为用作脱模基材1的塑料膜，可举出由聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系树脂、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚乙烯醇、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物等乙烯基系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯系树脂、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸系树脂、聚苯乙烯等苯乙烯系树脂、尼龙6或尼龙66等聚酰胺系树脂、三乙酰纤维素等纤维素系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰亚胺系树脂中的一种或两种以上形成的塑料膜。
关于脱模基材1，从使与转印层的剥离性良好的观点以及使剥离强度2大于剥离强度1的观点出发，优选的是，其表面通过氟系脱模剂和硅酮系脱模剂等脱模剂被进行了脱模处理。
此外，从上述的2个观点出发，脱模基材1的表面形状优选为大致平滑。具体而言，脱模基材1的形成转印层的一侧的表面的、在截止值为0.25mm时的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra优选为0.04μm以下。关于脱模基材1的Ra，例如制作在切割为100mm×100mm的脱模基材1的不层叠转印层的一侧的面上隔着透明粘合剂(日立化成工业公司制造，商品名为“DA-1000”)贴合有黑色丙烯酸板(KURARAY制，商品名为“Comoglass 502K”)而成的评价用样品，并将该样品置于水平面上，能够在下述测量条件下测量。
<Ra的测量条件>
·基准长度(粗糙度曲线的截止值λc)：0.25mm
·评价长度(基准长度(截止值λc)×5)：1.25mm
·触针的进给速度：0.1mm/s
·纵向倍率：100000倍
·横向倍率：50倍
·滑动：不采用(与测量面无接触)
·截止滤波器种类：高斯滤波器
·JIS模式：JIS1994
此外，从抑制剥离静电的观点出发，脱模基材1也可以具有防静电层。
虽然没有特别限定，但从操作性的观点出发，脱模基材1的厚度优选为10～500μm，更优选为20～400μm，进一步优选为30～300μm。此外，从转印片A整体变得柔软从而使操作性更良好的观点出发，脱模基材1的厚度的上限值更优选为90μm以下，最优选为45μm以下。
另外，在设脱模基材1的厚度为T1、脱模基材2的厚度为T2的情况下，从剥离脱模基材1之后的操作性的观点出发，T2/T1优选超过1.00，更优选为1.10以上，进一步优选为1.20以上。此外，从抑制转印片的卷曲的观点出发，T2/T1优选为2.00以下，更优选为1.80以下，进一步优选为1.60以下。
<<转印层>>
转印层是转印在被粘物上的层，具有对被粘物赋予规定功能的作用。
转印层包含至少一个功能层。转印层中包含的功能层的数量可以仅为1层，也可以如图1～2那样为2层，进而可以为3层以上。
作为功能层，可举出硬涂层、低折射率层、高折射率层、防眩层、防污层、应力缓和层、防静电层、阻气层、紫外线吸收层、着色层、特定波长吸收层、防雾层和透明导电层等。
此外，功能层也可以是将上述功能的两种以上复合而成的层。即，在本说明书中，硬涂层、低折射率层、高折射率层、防眩层、防污层、应力缓和层、防静电层、阻气层、紫外线吸收层、着色层、特定波长吸收层、防雾层和透明导电层等各功能层的记述不仅是指具有单独功能的功能层，还是指具有复合功能的功能层。例如，硬涂层包含防污性硬涂层、防眩性硬涂层和高折射率硬涂层等。此外，防污层包含防眩性防污层和低折射率防污层等。
转印层除了具有功能层以外，也可以具有粘接剂层、锚固层等不对被粘物赋予特殊功能的其他层。
粘接剂层具有配置在功能层之间来提高功能层的层间粘接性或位于剥离基材2的最远侧而提高转印层与被粘物的粘接性的作用。粘接剂层可以由包含显示出粘接性的通用的树脂成分等的粘接剂层形成用涂布液形成。
另外，在功能层具有粘接性而使得功能层与被粘物的密接性良好、或者使用用于使转印层与被粘物密接的双面粘接片的情况下，也可以在剥离基材2的最远侧不设置粘接剂层。
粘接剂层可以是压敏粘接剂层(所谓的粘合剂层)，也可以是具有热封性的粘接剂层。
此外，在将粘接剂层配置在距剥离基材2最远的位置(与剥离基材1相接的位置)的情况下，粘接剂层优选为具有热封性的粘接剂层。由于具有热封性的粘接剂层在常温下几乎不具有粘性感，因此能够在从转印片A剥离了脱模基材1而成的转印片B的状态下卷取成卷状，能够使操作性良好。此外，通过使该粘接剂层具有热封性，能够容易使剥离强度2大于剥离强度1。
粘接剂层的厚度优选为0.5～50μm，更优选为1～30μm，进一步优选为2～20μm。
锚固层具有如下功能等：例如通过在比功能层更靠剥离基材1的一侧(比功能层距剥离基材2更远的一侧)形成锚固层，由此保护功能层免受在进行后述的模内成型时的注塑树脂的热影响。
锚固层优选包含固化性树脂组成物的固化物。
作为固化性树脂组成物，可举出热固化性树脂组成物、电离放射线固化性树脂组成物。树脂组成物可以为一种，也可以混合多种。
锚固层的电离放射线固化性树脂组成物的实施方式与后述的硬涂层的电离放射线固化性树脂组成物的实施方式相同。
锚固层的热固化性树脂组成物是至少包含热固化性树脂的组成物，是通过加热来固化的树脂组成物。作为热固化性树脂，可举出丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、尿素三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、硅酮树脂等。在热固化性树脂组合物中，根据需要在这些固化性树脂中添加固化剂。
锚固层的厚度优选为0.1～6μm，更优选为0.5～5μm。
作为转印层中包含的功能层的具体例，可举出下述(1)～(9)。另外，在下述(1)～(9)中，“/”表示各功能层的界面，右侧表示脱模基材2侧。此外，在下述(1)～(9)中，防污层、硬涂层、高折射率层、低折射率层和防眩层也可以是具有其他功能的复合功能层。例如，(1)的防污层、(5)的防眩层、(6)的防眩层优选具有硬涂性。
(1)防污层
(2)硬涂层/防污层
(3)硬涂层/高折射率层/防污性低折射率层
(4)高折射率硬涂层/防污性低折射率层
(5)防眩层
(6)防眩层/低折射率层
(7)硬涂层/防眩层
(8)硬涂层/防眩层/防污性低折射率层
(9)防眩层/硬涂层/防污性低折射率层
以下，对作为功能层的代表例的硬涂层、低折射率层、高折射率层、防眩层和防污层具体地进行说明。
―硬涂层―
从耐磨性的观点出发，作为功能层的一例的硬涂层优选包含热固化性树脂组成物或电离放射线固化性树脂组成物等固化性树脂组成物的固化物，更优选包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物。树脂组成物可以为一种，也可以混合多种。
热固化性树脂组成物是至少包含热固化性树脂的组成物，是通过加热来固化的树脂组成物。作为热固化性树脂，可举出丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、酚醛树脂、尿素三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、硅酮树脂等。在热固化性树脂组合物中，根据需要在这些固化性树脂中添加固化剂。
电离放射线固化性树脂组成物是包含具有电离放射线固化性官能团的化合物(以下，也称作“电离放射线固化性化合物”)的组成物。作为电离放射线固化性官能团，可举出(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯属不饱和键基团、以及环氧基、氧杂环丁基等。作为电离放射线固化性化合物，优选为具有烯属不饱和键基团的化合物，更优选为具有2个以上的烯属不饱和键基团的化合物，其中进一步优选为具有2个以上的烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物。作为具有2个以上的烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以使用单体和低聚物中的任意一种。
另外，电离放射线是指具有电磁波或带电粒子束中的、能够使分子聚合或交联的能量量子的射线，通常使用紫外线(UV)或电子束(EB)，但除此之外，也可以使用X射线、γ射线等电磁波、α射线、离子射线等带电粒子束。
在本说明书中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸是指丙烯酸或甲基丙烯酸，(甲基)丙烯酰基是指丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
从耐磨性的观点出发，硬涂层的厚度优选为0.1μm以上，更优选为0.5μm以上，进一步优选为1.0μm以上，更进一步优选为2.0μm以上。此外，从容易抑制转印时在转印层产生裂纹的观点出发，硬涂层的厚度优选为100μm以下，更优选为50μm以下，更优选为30μm以下，更优选为20μm以下，更优选为15μm以下，更优选10μm以下。
―低折射率层―
作为功能层的一例的低折射率层具有提高被粘物的防反射性的作用。在转印层具有两个以上的功能层的情况下，低折射率层优选形成于距脱模基材1最远的一侧。此外，低折射率层优选具有防污性。即，低折射率层优选为防污性低折射率层。
另外，通过在比低折射率层更靠脱模基材1的一侧与低折射率层相邻地形成后述的高折射率层，由此能够进一步提高防反射性。
低折射率层的折射率优选为1.10～1.48，更优选为1.20～1.45，更优选为1.26～1.40，更优选为1.28～1.38，更优选为1.30～1.32。另外，在本说明书中，低折射率层和高折射率等的折射率表示波长为589.3nm时的折射率。
此外，低折射率层的厚度优选为80～120nm，更优选为85～110nm，更优选为90～105nm。此外，低折射率层的厚度优选大于中空颗粒等低折射率颗粒的平均粒径。
作为形成低折射率层的方法，可以大致分为湿法和干法。作为湿法，可举出使用金属醇盐等通过溶胶凝胶法来形成的方法、涂布如氟树脂那样的低折射率的树脂来形成的方法、涂布使树脂组合物中含有低折射率颗粒而成的低折射率层形成用涂布液来形成的方法。作为干法，可举出通过物理气相沉积法或化学气相沉积法形成低折射率层的方法，作为材料，例如可举出SiO2、SiOx(x＝1～2)、MgF2等。
湿法在生产效率、抑制倾斜反射色相和耐化学品性方面优于干法。在本发明中，对于湿法，从密接性、耐水性、耐磨性和低折射率化的观点出发，优选通过使粘合剂树脂组成物含有低折射率颗粒而成的低折射率层形成用涂布液来形成。作为该粘合剂树脂组成物，例如可以使用在硬涂层中例示的固化性树脂组成物，但优选使用后述的固化性树脂组成物。
低折射率层通常位于将转印层转印到被粘物上而成的成型体的最表面。因此，低折射率层要求良好的耐磨性。关于低折射率层的耐磨性，表面形状越平滑，越具有良好的倾向。
在以往的转印方法中，低折射率层的表面形状为大致平滑。其理由被认为是因为：在以往的转印方法中，在低折射率层的与脱模基材相接的界面附近存在实质上不存在低折射率颗粒的树脂覆膜，在转印后，该树脂覆膜位于成型体的最表面，并且该树脂覆膜的表面反映出脱模基材的表面形状而为平滑。
另一方面，在使用了本发明的转印片A的情况下，成型体的最表面的低折射率层的表面容易产生由低折射率颗粒引起的微小的凹凸。此外，近年来，为了使低折射率层的折射率降低，作为低折射率颗粒，使用粒径大的中空颗粒。本发明人发现了如下课题：即使在用仅附着有细微的固体物(例如砂砾)的物体或仅附着有油分的物体对这样的低折射率层的表面进行擦拭也无法看到损伤的情况下，在用附着有固体物和油分这两者的物体进行擦拭的情况下，会产生损伤(以下，有时将该课题称为“油尘耐性”)。用附着有固体物和油分的物体进行擦拭的动作例如相当于使用者用附着有化妆品和食品等所包含的油分和大气中所包含的砂砾的手指操作触摸面板式图像显示装置的动作。
本发明人等进行了研究，其结果发现，上述损伤主要是由于低折射率层中包含的中空颗粒部分缺失或中空颗粒脱落而产生的。作为该原因，考虑了这样的原因：由在低折射率层的表面上形成的中空颗粒所引起的凹凸较大。即，若用附着有固体物和油分的手指擦拭低折射率层表面，则在油分成为粘结剂而使固体物附着于手指的状态下，手指在低折射率层表面上移动。此时，可以想到，容易产生固体物的一部分(例如砂砾的尖锐部位)进入低折射率层表面的凹部的现象、以及进入凹部的固体物与手指一起穿过凹部并越过凸部(中空颗粒)的现象，此时会对凸部(中空颗粒)施加较大的力，因此中空颗粒会损伤或脱落。此外，可以想到，位于凹部的树脂自身也因固体物的擦拭而损伤，从而中空颗粒因树脂的损伤而更容易脱落。
本发明人等进行了深入研究，发现：为了赋予油尘耐性，并用中空颗粒和非中空颗粒作为低折射率颗粒并且使中空颗粒和非中空颗粒均匀地分散是有效的。图6示出中空颗粒和非中空颗粒均匀分散的低折射率层的截面照片，图7示出中空颗粒和非中空颗粒未均匀地分散的低折射率层的截面照片。图6和图7的截面照片是使用日立高新技术公司制的电子显微H-7650在发射电流为10μA、加速电压为100keV、灯丝电压为20V的条件下观察而取得的。
为了使低折射率层的折射率降低并且使油尘耐性良好，低折射率颗粒优选包含中空颗粒和非中空颗粒。
中空颗粒和非中空颗粒的材质可以是二氧化硅和氟化镁等无机化合物和有机化合物中的任意，但从低折射率化和强度的观点出发，优选是二氧化硅。以下，以中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒为中心进行说明。
中空二氧化硅颗粒是指如下的颗粒：该颗粒具有由二氧化硅构成的外壳层，被该外壳层包围的颗粒内部为空穴，该空穴内部含有空气。中空二氧化硅颗粒是通过含有空气而使折射率与二氧化硅原来的折射率相比而与气体的占有率成比例地降低的颗粒。非中空二氧化硅颗粒是并非如中空二氧化硅颗粒那样的内部没有成为空穴的颗粒。非中空二氧化硅颗粒例如是实心的二氧化硅颗粒。
中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒的形状没有特别限定，也可以是正球状、旋转椭圆体状以及能够近似于球体的多面体形状等大致球状等。其中，若考虑耐磨性，则优选为正球状、旋转椭圆体状或大致球状。
由于中空二氧化硅颗粒在内部含有空气，因此起到了使低折射率层整体的折射率降低的作用。通过使用提高了空气的比率的粒径大的中空二氧化硅颗粒，能够使低折射率层的折射率进一步降低。另一方面，中空二氧化硅颗粒有机械强度劣化的倾向。特别是在使用提高了空气的比率的粒径大的中空二氧化硅颗粒的情况下，存在容易导致低折射率层的耐磨性降低的倾向。
非中空二氧化硅颗粒通过分散于粘合剂树脂中而发挥出提高低折射率层的耐磨性的作用。
为了使粘合剂树脂中以高浓度含有中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒并且使颗粒在树脂内沿膜厚方向均匀地分散，优选以中空二氧化硅颗粒之间接近、进而非中空颗粒进入中空二氧化硅颗粒之间的方式设定中空二氧化硅颗粒的平均粒径和非中空二氧化硅颗粒的平均粒径。具体而言，非中空二氧化硅颗粒的平均粒径与中空二氧化硅颗粒的平均粒径之比(非中空二氧化硅颗粒的平均粒径/中空二氧化硅颗粒的平均粒径)优选为0.29以下，更优选为0.20以下。此外，该平均粒径之比优选为0.05以上。若考虑到光学特性和机械强度，则中空二氧化硅颗粒的平均粒径优选为50nm以上且100nm以下，更优选为60nm以上且80nm以下。此外，若在防止非中空二氧化硅颗粒的凝聚的同时考虑分散性，则非中空二氧化硅颗粒的平均粒径优选为5nm以上且20nm以下，更优选为10nm以上且15nm以下。
中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒的表面优选被硅烷偶联剂包覆。更优选使用具有(甲基)丙烯酰基或环氧基的硅烷偶联剂。
通过对二氧化硅颗粒实施基于硅烷偶联剂的表面处理，二氧化硅颗粒与粘合剂树脂的亲和性得到提高，不易产生二氧化硅颗粒的凝聚。因此，二氧化硅颗粒的分散容易变得均匀。
作为硅烷偶联剂，可举出3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基-亚丁基)丙胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、三-(三甲氧基甲硅烷基丙基)异氰脲酸酯、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、1,6-双(三甲氧基甲硅烷基)己烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷和乙烯基三乙氧基硅烷等。特别优选使用选自3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷和3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷中的一种以上。
中空二氧化硅颗粒的含量越多，粘合剂树脂中的中空二氧化硅颗粒的填充率越高，低折射率层的折射率越降低。因此，中空二氧化硅颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂来说优选为100质量份以上，更优选为150质量份以上。
另一方面，若中空二氧化硅颗粒相对于粘合剂树脂的含量过多，则从粘合剂树脂露出的中空二氧化硅颗粒增加，而且使颗粒之间结合的粘合剂树脂变少。因此，存在中空二氧化硅颗粒容易损伤或脱落、从而低折射率层的耐磨性等机械强度降低的倾向。另外，若中空二氧化硅颗粒的含量过多，则存在转印适应性受损的倾向。因此，中空二氧化硅颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂来说优选为400质量份以下，更优选为300质量份以下。
若非中空二氧化硅颗粒的含量较少，则即使在低折射率层的表面存在非中空二氧化硅颗粒，有时也不会对硬度上升造成影响。此外，若大量含有非中空二氧化硅颗粒，则能够减小由粘合剂树脂的聚合引起的收缩不均的影响，减小树脂固化后在低折射率层表面产生的凹凸。通过减小低折射率层表面的凹凸，能够使耐油尘性和防污性良好，在这一点上是优选的。因此，非中空二氧化硅颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂来说优选为90质量份以上，更优选为100质量份以上。
另一方面，若非中空二氧化硅颗粒的含量过多，则非中空二氧化硅容易凝聚，产生粘合剂树脂的收缩不均，从而表面的凹凸变大。此外，若非中空二氧化硅颗粒的含量过多，则存在转印适应性受损的倾向。因此，非中空二氧化硅颗粒的含量相对于100质量份的粘合剂树脂来说优选为200质量份以下，更优选为150质量份以下。
通过以上述比例使粘合剂树脂中含有中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒，能够提高低折射率层的阻隔性。推测这是因为，通过以高填充率均匀地分散有二氧化硅颗粒，气体等的透过受到阻碍。
此外，防晒和护手霜等各种化妆品中有时含有挥发性低的低分子聚合物。通过使低折射率层的阻隔性良好，能够抑制低分子聚合物渗透到低折射率层的涂膜内部，从而能够抑制因低分子聚合物长期残留于涂膜所引起的不良情况(例如外观异常)。
低折射率层的粘合剂树脂优选包含电离放射线固化性树脂组成物的固化物。此外，作为电离放射线固化性树脂组成物中包含的电离放射线固化性化合物，具有烯属不饱和键基团的化合物是优选的。其中，具有(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸酯系化合物更优选。
以下，将具有4个以上的烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物称作“多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物”。此外，将具有2～3个烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物称作“低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物”。
作为(甲基)丙烯酸酯系化合物，可以使用单体和低聚物中的任意一种。特别是从抑制固化时的收缩不均而容易使低折射率层表面的凹凸形状平滑化的观点出发，电离放射线固化性化合物进一步优选包含低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。通过使低折射率层表面的凹凸形状平滑化，能够使耐油尘性和防污性良好，在这一点上是优选的。使用低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物在使转印层的转印适应性良好的方面上也是优选的。
电离放射线固化性化合物中的低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物的比例优选为60质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上，更进一步优选为95质量％以上，最优选为100质量％。
此外，从抑制上述固化时的收缩不均而容易使低折射率层表面的凹凸形状平滑化的观点出发，低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物优选为具有2个烯属不饱和键基团的2官能(甲基)丙烯酸酯系化合物。
作为(甲基)丙烯酸酯系化合物中的、2官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，可举出异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A四乙氧基二丙烯酸酯、双酚A四丙氧基二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯等。
作为3官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，例如可举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸改性三(甲基)丙烯酸酯等。
作为4官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，例如可举出季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。
这些(甲基)丙烯酸酯系化合物也可以如后述那样进行了改性。
此外，作为(甲基)丙烯酸酯系低聚物，可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯等丙烯酸酯系聚合物等。
氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯例如是通过多元醇及有机二异氰酸酯与羟基(甲基)丙烯酸酯的反应而得到的。
此外，优选的环氧(甲基)丙烯酸酯是使3官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等与(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯、使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等、多元酸与(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯、以及使2官能以上的芳香族环氧树脂、脂环族环氧树脂、脂肪族环氧树脂等、苯酚类与(甲基)丙烯酸反应而得到的(甲基)丙烯酸酯。
此外，从抑制由交联引起的收缩不均而提高表面的平滑性的观点出发，上述(甲基)丙烯酸酯系化合物也可以对分子骨架的一部分进行改性。通过使低折射率层表面的凹凸形状平滑化，能够使耐油尘性和防污性良好，在这一点上是优选的。例如，可以使用利用环氧乙烷、环氧丙烷、己内酯、异氰脲酸、烷基、环状烷基、芳香族、双酚等进行了改性的(甲基)丙烯酸酯系化合物。特别是从提高与低折射率颗粒(其中的二氧化硅颗粒)的亲和性而抑制低折射率颗粒的凝聚的观点出发，上述(甲基)丙烯酸酯系化合物优选用环氧乙烷、环氧丙烷等环氧烷进行了改性。电离放射线固化性化合物中的环氧烷改性的(甲基)丙烯酸酯系化合物的比例优选为60质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为90质量％以上，更进一步优选为95质量％以上，最优选为100质量％。此外，环氧烷改性的(甲基)丙烯酸酯系化合物优选为低官能(甲基)丙烯酸酯系化合物，更优选为具有2个烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物。
作为具有经环氧烷改性而成的2个烯键式不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物，可举出双酚F环氧烷改性二(甲基)丙烯酸酯、双酚A环氧烷改性二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸环氧烷改性二(甲基)丙烯酸酯和聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯，其中优选聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯。聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯中包含的烷撑二醇的平均重复单元优选为3～5。此外、聚烷撑二醇二(甲基)丙烯酸酯中包含的烷撑二醇优选为乙二醇和/或聚乙二醇。
作为具有经环氧烷改性而成的3个烯属不饱和键基团的(甲基)丙烯酸酯系化合物，可举出三羟甲基丙烷环氧烷改性三(甲基)丙烯酸酯和异氰脲酸环氧烷改性三(甲基)丙烯酸酯。
上述电离放射线固化性树脂可以单独使用一种，或者可以组合使用两种以上。
(低折射率层表面区域的元素分析)
优选的是，低折射率层包含粘合剂树脂和二氧化硅颗粒，通过X射线光电子能谱法对低折射率层的表面区域进行分析而得到的、归属于所述二氧化硅颗粒的Si元素的比率为10.0原子％以上且18.0原子％以下，并且将所述Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率为180原子％以上且500原子％以下。
在该结构中，低折射率层更优选为防污性低折射率层。此外，在该结构中，二氧化硅颗粒优选包含中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒。
若通过X射线光电子能谱法(以下，简称作“XPS”)对低折射率层的表面进行分析，则至少检测到C元素、O元素和Si元素。Si元素来自二氧化硅颗粒(无机成分)和硅烷偶联剂或流平剂等有机成分。C元素来自粘合剂树脂、二氧化硅颗粒的表面处理剂(硅烷偶联剂)、添加物。但是，若考虑低折射率层内的含量，则C元素可视为实质上来自粘合剂树脂。
在通过XPS分析出的低折射率层的表面区域中，归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率为10.0原子％以上且18.0原子％以下，并且将该Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率显示为180原子％以上且500原子％以下。另外，在本说明书中，“表面区域”是指基于X射线光电子能谱法的检测区域的范围内，表示低折射率层中的从脱模基材2侧的面至10nm深度为止的区域(低折射率层中的从与被粘物相反侧的面至10nm深度为止的区域)。
“将Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率”可以通过“C/Si×100(％)”计算。以下，有时将“将Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率”简称作“C/Si”。此外，本说明书中正在研究的Si是指归属于二氧化硅颗粒的无机的Si元素，因此即使在没有特别记载的情况下，Si是指无机Si元素。
低折射率层的表面区域中的上述C/Si反映出低折射率层的厚度方向上的非中空二氧化硅颗粒和中空二氧化硅颗粒的分布状态。
在二氧化硅颗粒偏向于低折射率层的与表面相反的一侧的情况下，表面区域中的归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率低，C元素的比率相对变高。即使在二氧化硅颗粒埋没在粘合剂树脂中而几乎不存在于低折射率层表面的情况下，也为相同的倾向。另一方面，在二氧化硅颗粒(特别是中空二氧化硅颗粒)未被粘合剂树脂包覆而露出于低折射率层表面的情况、或者粘合剂树脂的包覆非常薄而成为接近露出的状态的情况下，归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率变高，C元素的比率相对变低。
低折射率层的表面区域中的归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率反映出该表面区域中的非中空二氧化硅颗粒和中空二氧化硅颗粒的存在状况。
即使大量存在于低折射率层的表面区域，但由于中空二氧化硅为空穴，因此对归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率的上升也没有大的贡献，但在非中空二氧化硅大量存在于该表面区域的情况下，归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率变高。通过在低折射率层的表面区域以充分的量存在二氧化硅颗粒，在低折射率层的表面区域中归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率满足10.0原子％以上。特别是，通过使归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率为13.0原子％以上，由此，非中空二氧化硅颗粒以高浓度存在于表面侧，耐磨性提高，因此优选。另一方面，在归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率超过18.0原子％的情况下，不仅非中空二氧化硅而且中空二氧化硅颗粒也大量存在于表面区域，成为二氧化硅颗粒在表面露出的状态或接近露出的状态，因此如后述那样存在耐磨性降低的倾向。
此外，通过在低折射率层的表面区域以充分的量存在二氧化硅颗粒，C/Si满足500原子％以下。若C/Si超过500原子％，则二氧化硅颗粒埋没于粘合剂树脂，在表面区域中，粘合剂树脂变得过多，存在耐磨性降低的倾向。另一方面，若C/Si小于180原子％，则存在于表面的二氧化硅颗粒的量变多，特别是未被粘合剂树脂包覆的中空二氧化硅颗粒、或者粘合剂树脂的包覆非常薄的中空二氧化硅颗粒成为露出于表面的状态或接近露出的状态，由此存在耐磨性降低的倾向。当考虑耐磨性和充分的包覆性时，C/Si优选为200原子％以上，更优选为250原子％以上。此外，C/Si优选为400原子％以下，更优选为350原子％以下。
通过将低折射率层的表面区域中的C元素的比率和Si元素的比率设为上述范围，能够成为用适当量的粘合剂树脂包覆中空二氧化硅颗粒并且使充分量的非中空二氧化硅颗粒存在于中空二氧化硅颗粒的间隙中的状态。由此，能够使低折射率层表面更平滑，并且为低反射率，容易使高耐磨性等表面耐性良好。
另外，即使低折射率层形成用涂布液不含氟系流平剂等含氟化合物，有时也会在形成后的低折射率层的表面检测到氟。例如，能够想到这样的情况：与低折射率层相邻的其他功能层含有氟系流平剂，并且该其他功能层的流平剂转移至低折射率层表面。
在本实施方式中，只要在不阻碍本发明效果的范围内即可，也可以通过XPS检测到F元素，但优选通过XPS没有检测到F元素。即，低折射率层的表面区域优选实质上不含氟原子。含氟化合物自身存在比较柔软的倾向，因此通过使低折射率层的表面区域实质上不含氟原子，能够容易使耐磨性良好。
即使与低折射率层相邻的其他功能层含有氟系流平剂，也能够通过使低折射率层显示上述的元素比率并且相对于粘合剂树脂以高浓度包含二氧化硅颗粒来抑制其他功能层的含氟化合物的扩散，从而容易成为在低折射率层的表面区域实质上不含F原子的状态。
另外，在本说明书中，“实质上不含氟原子”是指表面区域的F元素的比率为0.5原子％以下、更优选为0.1原子％以下。
低折射率层的表面区域为上述的元素比率，这在能够赋予高阻气性(水蒸气透过率、氧气透过率)的方面上也是优选的。
为了实现上述元素比率，低折射率层优选均匀地分散有中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒。本说明书中的“均匀地分散”不仅表示中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒在低折射率层的表面区域均匀地分散，而且还表示进行剖视观察时在低折射率层的厚度方向上也均匀地分散。即，在低折射率层的厚度方向上进行XPS分析的情况下，归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率以及C/Si优选在厚度方向的不同部位满足上述范围。例如，在将低折射率层的厚度三等分、并从透明基材侧依次定义为第一区域、第二区域和第三区域时，对于第一区域内的任意部位和第二区域内的任意部位，归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率以及C/Si也优选满足上述范围。
图6示出中空颗粒和非中空颗粒均匀分散的低折射率层的截面照片，图7示出中空颗粒和非中空颗粒未均匀地分散的低折射率层的截面照片。
中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒均匀地分散而成的低折射率层的表面也在容易使防污性良好的方面上是优选的。
(流平剂)
从防污性和表面平滑性的观点出发，在低折射率层中优选含有流平剂。这些流平剂优选为具有(甲基)丙烯酰基等反应性基团且能够与粘合剂树脂反应的流平剂。
流平剂可举出氟系和硅酮系，但优选硅酮系。通过含有硅酮系流平剂，能够使低折射率层表面更平滑。进而，与氟系相比，硅酮系能够容易使低折射率层表面的滑动性和防污性(指纹擦拭性、相对于纯水及十六烷的大的接触角)良好。此外，与氟系相比，硅酮系在不易损害低折射率层的硬度的方面是优选的。
流平剂的含量相对于100质量份的粘合剂树脂来说优选为1～25质量份，更优选为2～20质量份，进一步优选为5～18质量份。
通过使流平剂的含量为1质量份以上，能够容易赋予防污性等各种性能。此外，通过使流平剂的含量为25质量份以下，能够抑制耐磨性的降低。
为了得到优异的表面耐性，低折射率层优选为平滑的表面。最大高度粗糙度Rz为110nm以下即可，优选为100nm以下，进一步优选为90nm以下。此外，若为更平滑的表面，则可获得更优异的表面耐性，因此Rz优选为70nm以下，更优选为60nm以下，更优选为55nm以下。
此外，Rz/Ra(Ra为算术平均粗糙度)优选为22.0以下，更优选为18.0以下，更优选为16.0以下，更优选为12.0以下，更优选为10.0以下，更优选为9.0以下。
在本说明书中，Ra和Rz是将扫描探针显微镜SPM-9600升级试剂盒操作说明书(SPM-9600 2016年2月、P.194-195)中记载的二维粗糙度参数的粗糙度扩展为三维而得到的值。Ra和Rz如下进行定义。
(算术平均粗糙度Ra)
从粗糙度曲线中在其平均线的方向上仅抽取基准长度(L)的量，将该抽取部分的平均线的方向取为X轴、并将纵倍率的方向取为Y轴，在用y＝f(x)表示粗糙度曲线时，通过下式求出。
[式1]
(最大高度粗糙度Rz)
其是从粗糙度曲线中在其平均线的方向上抽取基准长度的量并在粗糙度曲线的纵向倍率的方向上测量该抽取部分的山顶线与谷底线的间隔所得到的值。
Rz小意味着微小区域中的由中空二氧化硅颗粒引起的凸部小。此外，Rz/Ra小意味着：微小区域中的由二氧化硅颗粒引起的凹凸为均匀，不具有相对于凹凸的平均标高差而突出的凹凸。另外，Ra的数值没有特别限定，但优选为15nm以下，更优选为12nm以下，进一步优选为10nm以下，更进一步优选为6.5nm以下。
通过使低折射率层中的低折射率颗粒均匀地分散或抑制低折射率层的收缩不均，由此容易满足上述的Rz和Rz/Ra的范围。此外，通过使低折射率层显示出上述的元素比，则容易满足上述Rz和Rz/Ra的范围。
根据低折射率层的加工条件，低折射率层的表面的Rz有时增大至90～110nm左右。此时，在Rz/Ra为上述范围的情况下，容易得到优选的表面耐性。
通过使低折射率层表面的Rz和Rz/Ra在上述范围内，可减小固体物越过低折射率层表面的凸部(由存在于表面附近的中空二氧化硅颗粒引起)时的阻力。因此，可以想到，即使用伴有油分的砂砾一边施加载荷一边擦拭，固体物也会在低折射率层表面上平滑地移动。此外，认为凹部的硬度本身也得到了提高。其结果是，可以推测出，中空二氧化硅颗粒的破损、脱落被防止，也防止了粘合剂树脂自身的损伤。
此外，通过使Rz和Rz/Ra为上述范围，能够容易使防污性也良好。
另一方面，在低折射率层表面的Rz和Rz/Ra过小的情况下，有时会在制造过程中产生粘连。因此，Rz优选为30nm以上，更优选为70nm以上。此外，Rz/Ra优选为3.0以上，更优选为5.0以上。
在本说明书中，关于Rz和Ra等表面粗糙度、反射率Y值等光学特性、元素比率等各种参数，只要没有特别说明，则是指16个部位的测量值的排除掉最小值和最大值后的14个部位的测量值的平均值。
在本说明书中，关于上述16个测量部位，优选的是，将距测量样品的外缘0.5cm的区域作为空白，关于比该空白靠内侧的区域，引出对纵向和横向进行5等分的线，将此时的交点的16个部位作为测量的中心。例如，在测量样品为四边形的情况下，优选将距四边形的外缘0.5cm的区域作为空白，将比该空白靠内侧的区域在纵向和横向上进行5等分，将通过5等分所得到的虚线的交点的16个部位作为中心进行测量，利用其平均值计算参数。另外，在测量样品为圆形、椭圆形、三角形、五边形等除四边形以外的形状的情况下，优选描绘与这些形状内切的四边形，并针对该四边形通过上述方法进行16个部位的测量。
此外，关于表面粗糙度等各种参数，只要没有特别说明，则是在温度为23℃±5℃、相对湿度为40～65％的条件下测量出的值。此外，只要没有特别说明，则是在开始各测量前，将对象样品在上述气氛中暴露30分钟以上后进行测量和评价。
低折射率层能够通过涂布低折射率层形成涂布液并使其干燥来形成，其中，所述低折射率层形成涂布液是将构成低折射率层的各成分溶解或分散而成的。通常，为了调节粘度或使各成分能够溶解或分散，在该涂布液中使用溶剂。
溶剂例如可以例示酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等)、醚类(二氧六环、四氢呋喃等)、脂肪族烃类(己烷等)、脂环式烃类(环己烷等)、芳香族烃类(甲苯、二甲苯等)、卤化碳类(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、醇类(丁醇、环己醇等)、溶纤剂类(甲基溶纤剂、乙基溶纤剂等)、乙酸溶纤剂类、亚砜类(二甲基亚砜等)、二醇醚类(1-甲氧基-2-丙基乙酸酯等)、酰胺类(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺等)等，也可以是它们的混合物。
在溶剂的挥发过快的情况下，在低折射率层形成用涂布液干燥时，溶剂剧烈对流。因此，即使涂布液中的二氧化硅颗粒为均匀分散的状态，也容易因干燥时的溶剂的剧烈对流而导致均匀分散的状态遭到破坏。因此，作为溶剂，优选包含蒸发速度慢的溶剂。具体而言，优选包含相对蒸发速度(将正乙酸丁酯的蒸发速度设为100时的相对蒸发速度)为70以下的溶剂，更优选包含相对蒸发速度为30～60的溶剂。此外，相对蒸发速度为70以下的溶剂优选为全部溶剂的10～50质量％，更优选为20～40质量％。
若列举蒸发速度较慢的溶剂的相对蒸发速度的例子，则异丁醇为64、1-丁醇为47、1-甲氧基-2-丙基乙酸酯为44、乙基溶纤剂为38、环己酮为32。
另外，溶剂的剩余成分(蒸发速度慢的溶剂以外的溶剂)优选为树脂的溶解性优异的成分。此外，溶剂的剩余成分优选是相对蒸发速度为100以上的成分。
此外，为了抑制干燥时的溶剂的对流而使二氧化硅颗粒的分散性良好，形成低折射率层时的干燥温度优选尽可能低。干燥温度可以考虑溶剂的种类、二氧化硅颗粒的分散性、生产速度等而适当设定。
如上所述，关于溶剂，对相对蒸发速度和干燥温度进行控制在还有助于低折射率层的表面的平滑化这一点上是优选的。
―高折射率层―
作为功能层的一例的高折射率层的折射率优选为1.53～1.85，更优选为1.54～1.80，更优选为1.55～1.75，更优选为1.56～1.70。
此外，高折射率层的厚度优选为200nm以下，更优选为50～180nm，进一步优选为70～150nm。另外，在设为高折射率硬涂层的情况下，优选以硬涂层的厚度为基准。
高折射率层例如能够由包含粘合剂树脂组成物和高折射率颗粒的高折射率层形成用涂布液形成。作为该粘合剂树脂组成物，例如可以使用在硬涂层中例示的固化性树脂组成物。
作为高折射率颗粒，可举出五氧化锑(1.79)、氧化锌(1.90)、氧化钛(2.3～2.7)、氧化铈(1.95)、锡掺杂氧化铟(1.95～2.00)、锑掺杂氧化锡(1.75～1.85)、氧化钇(1.87)和氧化锆(2.10)等。
高折射率颗粒的平均粒径优选为2nm以上，更优选为5nm以上，进一步优选为10nm以上。此外，从抑制白化和透明性的观点出发，高折射率颗粒的平均粒径优选为200nm以下，更优选为100nm以下，更优选为80nm以下，更优选为60nm以下，更优选为30nm以下。高折射率颗粒的平均粒径越小，透明性越好，特别是通过设为60nm以下，能够使透明性非常好。
高折射率颗粒和低折射率颗粒的平均粒径能够通过以下的(y1)～(y3)的作业来计算。
(y1)通过TEM或STEM拍摄高折射率层或低折射率层的截面。TEM或STEM的加速电压优选为10kv～30kV，倍率优选为5万～30万倍。
(y2)从观察图像中提取任意的10个颗粒，计算各个颗粒的粒径。粒径是作为在用任意的平行的2条直线夹着颗粒的截面时该2条直线间的距离变为最大这样的2条直线的组合中的直线间距离来测量出的。在颗粒凝聚的情况下，将所凝聚的颗粒视为一个颗粒进行测量。
(Y3)在相同样品的另一画面的观察图像中进行5次相同的操作，将由合计50个的粒径的数值平均所得到的值设为高折射率颗粒或低折射率颗粒的平均粒径。
-防眩层-
作为功能层的一例的防眩层具有提高被粘物的防眩性的作用。
防眩层例如可以由包含粘合剂树脂组成物和颗粒的防眩层形成用涂布液形成。此外，也可以通过利用树脂组合物的相分离来形成，或者使利用了这样的相分离的树脂组合物中含有颗粒来形成。作为该粘合剂树脂组成物，例如可以使用在硬涂层中例示的固化性树脂组成物。
颗粒可以使用有机颗粒和无机颗粒中的任意一种。作为有机颗粒，可举出由聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸-苯乙烯共聚物、三聚氰胺树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯胍胺-三聚氰胺-甲醛缩合物、硅酮、氟类树脂和聚酯系树脂等构成的颗粒。作为无机颗粒，可举出由二氧化硅、氧化铝、锑、氧化锆和二氧化钛等构成的颗粒。
防眩层中的颗粒的平均粒径根据防眩层的厚度而不同，因此不能一概而论，优选为1.0～10.0μm，更优选为2.0～8.0μm，进一步优选为3.0～6.0μm。
防眩层的颗粒的平均粒径可以通过以下的(z1)～(z3)的作业来计算。
(z1)利用光学显微镜拍摄防眩层截面的透射观察图像。倍率优选为500～2000倍。
(z2)从观察图像中提取任意的10个颗粒，计算各个颗粒的粒径。粒径是作为在用任意的平行的2条直线夹着颗粒的截面时该2条直线间的距离变为最大这样的2条直线的组合中的直线间距离来而测量出的。
(z3)在相同样品的另一画面的观察图像中进行5次相同的操作，将由合计50个的粒径的数值平均所得到的值设为防眩层中的颗粒的平均粒径。
防眩层中的颗粒的含量根据目标防眩性的程度而不同，因此不能一概而论，但相对于100质量份的树脂成分，优选为1～100质量份，更优选为5～50质量份，进一步优选为10～30质量份。
另外，为了赋予抗静电性或控制折射率或调整由固化性树脂组合物的固化所引起的防眩层的收缩，防眩层可以含有平均粒径小于500nm的微粒。
防眩层的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1.0μm以上，进一步优选为2.0μm以上。此外，防眩层的厚度优选为50μm以下，更优选为30μm以上，更优选为20μm以下，更优选为15μm以下，更优选为10μm以下。
-防污层-
作为功能层的一例的防污层具有提高被粘物的防污性的作用。在转印层具有两个以上的功能层的情况下，防污层优选形成于距脱模基材1最远的一侧。
防污层例如可以由包含粘合剂树脂组成物和防污剂的防污层形成用涂布液形成。作为该粘合剂树脂组成物，例如可以使用在硬涂层中例示的固化性树脂组成物。
作为防污剂，可举出氟系树脂、硅酮系树脂和氟-硅酮共聚树脂等。
为了抑制从防污层的渗出，防污剂优选具有能够与粘合剂树脂组合物反应的反应性基团。换言之，在防污层中，防污剂优选固定于粘合剂树脂组合物。
此外，从抑制从防污层渗出的观点出发，能够自交联的防污剂也是优选的。换言之，在防污层中，防污剂优选自交联。
防污层中的防污剂的含量优选为防污层的总固体成分的5～30质量％，更优选为7～20质量％。
防污层的厚度没有特别限定。例如，在采用防污性硬涂层的情况下，优选以硬涂层的厚度为基准。此外，在采用防污性低折射率层的情况下，优选以低折射率层的厚度为基准。
防污层的防污性的程度根据所要求的防污性而不同，因此不能一概而论，但纯水的接触角优选为80度以上，更优选为85度以上，进一步优选为90度以上。
若防污层的纯水的接触角变得过大，则存在防污层中的防污剂的含量相对增加从而防污层的物理特性(耐磨性等)降低的情况。因此，防污层的纯水的接触角优选为120度以下，更优选为110度以下，进一步优选为100度以下，更进一步优选为95度以下。
在低折射率层等其他功能层具有防污性的情况下，纯水的接触角也优选为上述范围。
在本说明书中，接触角通过θ/2法来测量。
-距脱模基材2最远的一侧的层-
在被粘物为玻璃的情况下，构成转印层的层中的、距脱模基材2最远的一侧的层优选包含这样的树脂：该树脂具有从羧基和甲氧基中选择的一种以上的官能团。通过使该层包含具有选自羧基和甲氧基中的一种以上的官能团的树脂，能够容易使与玻璃的密接性良好。
具有选自羧基和甲氧基中的一种以上的官能团的树脂在该层的全部树脂成分中所占的比例优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，更进一步优选为95质量％以上，最优选为100质量％。
<工序(2)>
工序(2)是如下工序：将脱模基材2层叠于在工序(1)中形成的转印层上，得到依次具有脱模基材1、转印层和脱模基材2而成的、脱模基材2与转印层的剥离强度2大于脱模基材1与转印层的剥离强度1的转印片A。
在工序(2)中，在转印层上层叠脱模基材2的手段没有特别限定。例如，能够通过干式层压在转印层上层叠脱模基材2。
在脱模基材2具有粘接剂层的情况下，能够利用该粘接剂层的粘接力来在转印层上干式层压脱模基材2。此外，在构成转印层的功能层中的、距脱模基材1最远的位置的功能层在工序(2)的时刻具有粘性的情况下，能够利用该功能层的粘性来在转印层上干式层压脱模基材2。
在转印片A所包含的2张脱模基材中，虽然脱模基材1在转印前剥离而在转印时没有残留，但是脱模基材2在转印时残留。为了使得在转印前仅能够剥离脱模基材1，在工序(2)中，需要使脱模基材2与转印层的剥离强度2大于脱模基材1与转印层的剥离强度1。
另外，如比较例4-1所示，如果通过产生切口等而赋予剥离的起点，并且从两面压住转印片，则即使是“剥离强度2＜剥离强度1”的关系，也可以首先剥离脱模基材1。但是，在“剥离强度2＜剥离强度1”的关系的情况下，转印工序显著复杂化，并且在转印时对转印层施加负荷而会损害转印层的功能，因此不优选。
从在转印前仅容易剥离脱模基材1的观点出发，剥离强度2与剥离强度1之差(剥离强度2-剥离强度1)优选为15mN/25mm以上，更优选为40mN/25mm以上，进一步优选为100mN/25mm以上。另外，若该差多大，则有时在转印后难以剥离脱模基材2，因此该差优选为450mN/25mm以下，更优选为350mN/25mm以下，进一步优选为300mN/25mm以下，更进一步优选为200mN/25mm以下。
从抑制脱模基材1的脱落的观点出发，剥离强度1优选为10mN/25mm以上，更优选为20mN/25mm以上，进一步优选为40mN/25mm以上，更进一步优选为50mN/25mm以上。此外，从容易产生与剥离强度2之差的观点出发，剥离强度1优选为90mN/25mm以下，更优选为70mN/25mm以下。
从容易产生与剥离强度1之差的观点出发，剥离强度2优选为100mN/25mm以上，更优选为120mN/25mm以上，进一步优选为140mN/25mm以上。此外，从在剥离脱模基材2时抑制脱模基材2侧的粘接剂层和转印层发生凝聚破坏的观点出发，剥离强度2优选为600mN/25mm以下，更优选为500mN/25mm以下，进一步优选为400mN/25mm以下，更进一步优选为300mN/25mm以下。
在本说明书中，剥离强度能够依据JIS Z0237：2009的180度剥离试验来测量。另外，测量剥离强度的气氛优选设为23℃、湿度40～65％。此外，在测量剥离强度之前，优选使样品在上述气氛中适应30分钟。对于1个样品实施3次测量，将其平均值设为剥离强度。
<<脱模基材2>>
脱模基材2只要能够与转印层剥离即可，能够在没有特别限制的情况下使用，优选使用塑料膜。
作为用作脱模基材2的塑料膜，可以使用与在脱模基材1的塑料膜中例示的塑料膜相同的塑料膜。
关于脱模基材2的转印层侧的表面，优选的是，截止值为0.25mm时的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra优选为0.04μm以下。脱模基材2的Ra能够通过与脱模基材1的Ra相同的方法来测量。
另外，虽然脱模基材1在转印前剥离而在转印时没有残留，但脱模基材2在转印时残留。因此，关于脱模基材2，优选的是，相对于被粘物的形状追随性良好。具体而言，脱模基材2的通过依照JIS K7127：1999的拉伸特性试验所得到的断裂时的伸长率优选为70％以上，更优选为80％以上。另外，在脱模基材2容易伸长的情况下，在转印层上层叠脱模基材2后，在脱模基材2上产生欲收缩的力，从而脱模基材1容易从转印层剥离。因此，在使用容易伸长的基材作为脱模基材2的情况下，优选增大剥离强度1(优选为40mN/25mm以上，更优选为50mN/25mm以上)。
从使剥离强度2大于剥离强度1并且能够与转印层剥离的观点出发，脱模基材2优选在表面具有粘接力弱的粘接剂层。
脱模基材2的表面的粘接剂层中包含的粘接剂优选使用使剥离强度2成为上述范围这样的粘接力弱的粘接剂。
从抑制剥离静电的观点出发，脱模基材2优选具有防静电层。
虽然脱模基材2的厚度没有特别限定，但是从剥离脱模基材1后的操作性和对被粘物的形状追随性的观点出发，优选为5～100μm，更优选为10～80μm，进一步优选为20～70μm。此外，由于转印片B整体变得柔软，容易用于向3D形态的转印等，因此上限值更优选为60μm以下，最优选为45μm以下。
以下，说明通过本发明的转印片的制造方法得到的转印片A的效果。
转印片A如下述那样使用。
首先，在转印之前，从转印片A剥离脱模基材1，得到图3所示的转印片B(200)。然后，如图4的(a)所示，在得到使转印片B的转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体C(400)后，如图4的(b)所示，从层叠体C剥离脱模基材2，得到将转印层转印到被粘物上而成的成型体800。
图4的(b)的功能层1(31)和功能层2(32)在厚度方向上的朝向与图1的转印层的功能层1(31)和功能层2(32)在厚度方向上的朝向相同。换言之，图4的(b)的功能层1(31)及功能层2(32)的厚度方向的上侧与图1的功能层1(31)及功能层2(32)的厚度方向的上侧为相同的方向。
在任意的基材上形成有功能层的情况下，也存在功能在功能层的厚度方向上大致均匀的情况，但多数情况下，功能在功能层的厚度方向上偏在。换言之，在功能层的表面侧和功能层的基材侧，很多情况下功能不同。而且，通常的功能性涂料被设计成在功能层的表面侧充分地发挥功能。因此，图4的(b)的功能层1(31)及功能层2(32)的厚度方向的上侧与图1的功能层1(31)及功能层2(32)的厚度方向的上侧为相同的方向意味着图4的(b)的成型体的功能层容易发挥充分的功能。例如，图1和图4的(b)的功能层2(32)均是功能性成分偏向于表面侧(图1和图4的(b)的上侧)(功能层2(32)的颜色越深，表示功能性成分的密度越高、功能性成分越偏在)，并且功能层2(32)能够发挥充分的功能的功能层。
另一方面，以往的转印片例如由如图5的(a)那样的截面结构形成。图5的(a)的以往的转印片在脱模基材13上具有转印层30，转印层30从脱模基材侧起具有功能层2(32)和功能层1(31)。
并且，关于以往的转印片，在如图5的(b)那样得到将转印片的转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体后，如图5的(c)那样从层叠体剥离脱模基材13，得到将转印层转印到被粘物上而成的成型体800。
图5的(c)的功能层1(31)及功能层2(32)在厚度方向上的朝向与图5的(a)的转印层的功能层1(31)及功能层2(32)在厚度方向上的朝向不同。换言之，图5的(c)的功能层1(31)及功能层2(32)在厚度方向的上侧相当于图5(a)的功能层1(31)及功能层2(32)在厚度方向的下侧。
这样，在基于以往的转印片的转印中，形成在脱模性基材上的功能层的厚度方向与转印到被粘物上的功能层的厚度方向会反转，因此，功能层难以发挥充分的功能。例如，图5的(c)的成型体800的功能层2(32)的功能性成分偏向于与表面相反的一侧(图5的(c)的下侧)，因此功能层2(32)无法发挥充分的功能。
如上所述，根据通过本发明的转印片的制造方法而得到的转印片A，能够对成型体赋予充分的功能。
另外，上述功能的偏在在功能层为防眩层或防污层的情况下很显著。因此，本发明的转印片的制造方法在如下方面是优选的：在功能层的至少一个为防眩层或防污层的情况下，更容易发挥效果。特别是，功能层的至少一个优选为防污性低折射率层。
另一方面，在以往的转印片的结构的情况下，即使包含防眩层和防污层作为转印层，也由于下述理由而无法对被粘物赋予充分的防眩性和防污性。
首先，在以往的转印片包含防眩层作为转印层的情况下，转印到被粘物上的防眩层的表面形状具有与脱模片的表面形状大致互补的形状。而且，为了使与转印层的脱模性良好，脱模片的表面形状通常被平滑化，因此转印到被粘物上的防眩层的表面形状不具有凹凸形状，而无法赋予充分的防眩性。例如，在使图5的(a)的功能层2(32)为防眩层、功能层1(31)为粘接剂层的情况下，图5的(c)的功能层2(32、防眩层)的表面形状成为与脱模基材13的表面形状互补的形状，难以赋予基于表面凹凸的防眩性。
此外，在基材上形成含有防污剂的防污层的情况下，防污剂具有聚集于表面能低的空气界面的倾向。例如，在图5的(a)的功能层2(32)为防污层、功能层1(31)为粘接剂层的情况下，图5的(c)的功能层2(32、防污层)的表面侧的功能性成分(防污剂)的比例低而无法赋予充分的防污性。
<工序(3)>
本发明的转印片的制造方法优选进一步进行下述(3)的工序。
(3)从所述转印片A剥离所述脱模基材1而得到在所述脱模基材2上具有所述转印层的转印片B的工序。
在工序(3)中，从在工序(2)中得到的转印片A剥离脱模基材1。
脱模基材1还具有在裁切或输送转印片时保护转印层的作用，但却是在转印时不需要的材料。因此，如工序(3)所示，脱模基材1优选在转印之前剥离。
[成型体的制造方法]
在本发明的成型体的制造方法中，依次进行下述(4)～(5)的工序。
(4)得到将转印片B的所述转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体C的工序。
(5)从所述层叠体C剥离所述脱模基材2而得到在被粘物上具有转印层的成型体的工序。
工序(4)是得到将转印片B的转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体C(400)的工序(图4的(a))。
在工序(4)中，将转印片B的转印层侧的面与被粘物密接的手段没有特别限定。例如在构成转印层的层中的、位于距剥离基材2最远的部位的层显示出粘接性(优选为热敏粘接性)的情况下，能够利用该层的粘接性来将转印层与被粘物密接。此外，在模内成型的情况下，能够通过使用与转印层的密接性高的树脂作为注塑树脂(≈被粘物)，来将转印层与被粘物密接。此外，也可以借助双面粘接片将转印层与被粘物密接。
<被粘物>
被粘物的材质没有特别限定，可举出选自玻璃和陶瓷等无机物以及树脂中的一种或它们的混合物等。
在进行模内成型的情况下，作为被粘物，优选使用可注塑成型的热塑性树脂或热固性树脂，其中更优选为热塑性树脂。
作为热塑性树脂，可举出聚苯乙烯系树脂、聚烯烃系树脂、ABS树脂(包含耐热ABS树脂)、AS树脂、AN树脂、聚苯醚系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚缩醛系树脂、丙烯酸系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯系树脂、聚砜系树脂和聚苯硫醚系树脂等。
此外，被粘物的形状也没有特别限定，可以为平板状，也可以具有三维形状。此外，被粘物的厚度也没有特别限定。
此外，被粘物可以是预先成型的被粘物，也可以是如模内成型那样在工序(4)的过程中成型的被粘物。
工序(5)是从层叠体C(400)剥离脱模基材2(20)而得到在被粘物300上具有转印层30的成型体的工序(图4的(b))。
在工序(4)和(5)中，能够使用公知的转印法。
例如可举出如下方法等：(i)制作使转印片B的转印层侧的面与预先成型的被粘物密接而成的层叠体C并从层叠体C剥离脱模基材2的方法；(ii)制作使转印片B的转印层侧的面与平板状的被粘物密接而成的层叠体C并从层叠体C剥离脱模基材2的方法；(iii)制作在对被粘物进行注塑成型时使其与转印片B的转印层侧的面一体化(密接)而成的层叠体C并从层叠体C剥离脱模基材2的方法[模内成型(注塑成型同时转印装饰法)]。
作为模内成型的一个实施方式，可举出具有下述(a)～(d)的工序的模内成型。
(a)将转印片B的转印层侧的面朝向模内成型用模具的内侧配置的工序
(b)向上述模内成型用模具内注塑注入树脂的工序
(c)得到使上述转印片B的转印层侧的面与上述树脂一体化(密接)而成的层叠体C的工序
(d)在将层叠体C从模具取出后从层叠体C剥离脱模基材2的工序
[转印片A]
本发明的转印片A依次具有脱模基材1、转印层和脱模基材2，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
本发明的转印片A的脱模基材1和脱模基材2、以及剥离强度1和剥离强度2的实施方式与在上述的本发明的转印片的制造方法中使用的脱模基材1和脱模基材2、以及剥离强度1和剥离强度2的实施方式相同。例如，剥离强度2与剥离强度1之差(剥离强度2-剥离强度1)优选为15mN/25mm以上，更优选为40mN/25mm以上，进一步优选为100mN/25mm以上。此外，该差优选为450mN/25mm以下，更优选为350mN/25mm以下，进一步优选为300mN/25mm以下，更进一步优选为200mN/25mm以下。
此外，本发明的转印片A的转印层的实施方式与上述的本发明的转印片的制造方法的转印层的实施方式相同，以下，对功能的偏在进一步进行说明。
本发明的转印片A的转印层包含至少一个功能层，功能层的至少一个功能层是功能偏向于脱模基材2侧而成的。通过使转印层中包含的至少一个功能层的功能偏向于脱模基材2侧，剥离脱模基材1而得到转印片B并将该转印片B的转印层转印到被粘物上所得到的成型体能够充分地发挥出功能偏向于脱模基材2侧的功能层的功能。在功能层为单层的情况下，只要在该单层内使功能偏向于脱模基材2侧即可。另外，优选的是，在转印层内具有两层以上的功能层的情况下，优选的是，距脱模基材2最近的一侧的功能层的功能偏在。
如上所述，在以往的转印片中，难以使得充分地发挥防眩层和防污层的功能。因此，本发明的转印片A在如下方面是恰当的：在功能偏向于脱模基材2侧而成的功能层为防眩层或防污层的情况下，更容易发挥效果。特别是，功能层的至少一个优选为防污性低折射率层。
功能层中的功能的偏在能够通过功能性成分的浓度和截面形状等来评价。
例如，关于功能性成分的浓度，将与脱模基材2的界面的功能层中包含的功能性成分的浓度(X2)和与脱模基材2相反的一侧的面(与脱模基材1的界面)的功能层中包含的功能性成分的浓度(X1)进行对比，能够评价功能的偏在。此时，例如，可以将X2/X1为10以上(优选X2/X1为20以上，更优选X2/X1为50以上)作为功能发生了偏在的基准。更具体而言，在功能层为防污层、发挥防污性的功能性成分为氟成分的情况下，通过X射线光电子能谱法(XPS)对与脱模基材2的界面的功能层的氟原子的比例和与脱模基材1的界面的功能层的氟原子的比例进行定量分析，由此能够确认到功能(防污性)发生了偏在。
此外，以转印层的配方相同为前提，通过对利用本发明的成型体的制造方法得到的成型体(例如，利用图4的工序得到的成型体)与利用以往的成型体的制造方法得到的成型体(例如，利用图5的工序得到的成型体)的物性进行比较，也能够评价功能性成分的偏在。关于要比较的物性，例如可举出水接触角、铅笔硬度、反射率等。
此外，关于截面形状，例如使用扫描型透射电子显微镜(STEM)对沿垂直方向切断功能层而得到的截面进行拍摄，将脱模基材2侧的功能层的表面的棱线的长度(L2)和与脱模基材2相反的一侧(脱模基材1侧)的功能层的表面的棱线的长度(L1)进行对比，从而能够评价功能的偏在。例如，在功能层为防眩层的情况下，可以说，棱线较长的一方的功能层的表面被凹凸化，充分地发挥了功能(防眩性)，因此可以将L2比L1长作为功能(防眩性)发生偏在的基准。L2/L1根据要赋予的防眩性的强度而不同，因此不能一概而论，但优选为1.001以上，更优选为1.002以上。另外，在L2侧的平均倾斜角为3度、L1侧的平均倾斜角为0度的情况下，L2/L1为1.00137，在L2侧的平均倾斜角为5度、L1侧的平均倾斜角为0度的情况下，L2/L1为1.00382。
另外，在功能层中的、最靠脱模基材2侧的功能层为防眩层的情况下，功能(防眩性)的偏在也能够通过测量转印到被粘物后的防眩层的表面形状来确认。具体而言，如果防眩层表面的截止值0.25mm处的JIS B0601：1994的算术平均粗糙度Ra为0.05μm以上，则可以说防眩层的功能发生了偏在。此外，如果脱模基材2残留，且其转印层侧的Ra为可测量的状态，则可以说，脱模基材2的Ra＜防眩层表面的Ra的关系成立，防眩层的功能偏在。
关于防眩层，可举出通过颗粒赋予表面凹凸的类型和通过树脂的相分离赋予表面凹凸的类型，但在本实施方式中，无论哪种类型都能够容易地使L2/L1位于上述范围。
转印片A可以是切割为规定大小的单片状的形态，也可以是将长条片卷绕成卷状的卷状形态。此外，单张的大小没有特别限定，但最大直径为2～500英寸左右。“最大直径”是指连结转印片A的任意2点时的最大长度。例如，在转印片A为长方形的情况下，该区域的对角线为最大直径。此外，在转印片A为圆形的情况下，直径为最大直径。
卷状的宽度和长度没有特别限定，但一般而言，宽度为200～3000mm，长度为100～5000m左右。能够对应于被粘物的大小将卷状形态的转印片A切割为单片状来使用。在进行切割时，优选将物性不稳定的卷端部排除掉。
此外，单片的形状也没有特别限定，例如可以是多边形(三角形、四边形、五边形等)、圆形，也可以是随机的不规则形状。
[转印片B]
本发明的转印片B是在脱模基材2上具有转印层而成的，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
如上所述，在以往的转印片中，难以使得充分地发挥防眩层和防污层的功能。因此，本发明的转印片B在如下方面是优选的：在功能偏向于脱模基材2侧而成的功能层为防眩层或防污层的情况下，更容易发挥效果。特别是，功能层的至少一个优选为防污性低折射率层。
本发明的转印片B能够通过剥离上述的本发明的转印片A的脱模基材1来得到。
[成型体]
本发明的成型体是在被粘物上具有转印层而成的，所述转印层具有至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于与所述被粘物相反的一侧而成的。
构成本发明的成型体的被粘物的实施方式与在上述的本发明的成型体的制造方法中使用的被粘物的实施方式相同。例如，作为被粘物，可举出选自玻璃、陶瓷和树脂中的一种或它们的混合物。
本发明的成型体在如下方面是优选的：在被粘物为玻璃的情况下，容易赋予玻璃的高级感和质感。在功能偏向于与被粘物相反的一侧而成的功能层为低折射率层的情况下，能够更容易发挥该效果。此外，通过满足下述条件中的任意一个：(a)该低折射率层的Si元素比率以及C/Si为上述范围；以及(b)该低折射率层显示出防污性、且纯水接触角为上述范围，由此，能够进一步容易发挥该效果，通过满足上述(a)和(b)双方，能够更容易发挥该效果。近年来，图像显示装置由于大型化、边框(bezel)的狭窄设计、3D形状化(特别是在车载用途中3D形状化不断发展)等，玻璃的高级感和质感受到重视，因此本发明的成型体是有用的。
此外，构成本发明的成型体的转印层的实施方式与在上述的本发明的转印片的制造方法中使用的转印层的实施方式相同。
此外，构成本发明的成型体的转印层具有至少一个功能层，功能层的至少一个功能层是功能偏向于与被粘物相反的一侧而成的。关于功能的偏在，如在本发明的转印片A中说明的那样。例如，功能偏向于与被粘物相反的一侧而成的功能层优选为防眩层、防污层或防污性低折射率层。此外，优选的是，防污性低折射率层包含粘合剂树脂和二氧化硅颗粒，通过X射线光电子能谱法对防污性低折射率层的表面区域进行分析而得到的、归属于所述二氧化硅颗粒的Si元素的比率为10.0原子％以上且18.0原子％以下，并且，将所述Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率为180原子％以上且500原子％以下。
如上所述，使用以往的转印片而制作成的成型体难以通过转印层中包含的防眩层和防污层充分地发挥防眩性和防污性的功能。因此，本发明的成型体在如下方面是优选的：在功能偏向于与被粘物相反的一侧而成的功能层为防眩层或防污层的情况下，更容易发挥效果。特别是，功能层的至少一个优选为防污性低折射率层。
在本发明的成型体中，从被粘物与转印层的密接性的观点触发，构成转印层的层中的、最靠被粘物侧的层优选为粘接剂层。该粘接剂层的实施方式与在上述的本发明的转印片的制造方法中例示的粘接剂层的实施方式相同。
此外，在本发明的成型体中，优选的是，被粘物为玻璃，构成转印层的层中的、最靠被粘物侧的层包含这样的树脂：该树脂具有从羧基和甲氧基中选择的一种以上的官能团。通过设为该结构，能够容易地使作为被粘物的玻璃与转印层的密接性良好。
具有从羧基和甲氧基中选择的一种以上的官能团的树脂在最靠被粘物侧的层的全部树脂成分中所占的比例优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上，更进一步优选为95质量％以上，最优选为100质量％。
此外，在被粘物的材质为丙烯酸系树脂的情况下，构成转印层的层中的、最靠被粘物侧的层优选包含丙烯酸系树脂。此外，在被粘物的材质为选自改性聚苯醚、聚碳酸酯系树脂和苯乙烯系树脂中的任意一种的情况下，构成转印层的层中的、最靠被粘物侧的层优选包含选自丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂和聚酯系树脂中的一种以上。此外，在被粘物的材质为聚丙烯树脂的情况下，构成转印层的层中的、最靠被粘物侧的层优选包含选自氯化聚烯烃树脂、氯化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物树脂、环化橡胶和苯并呋喃茚树脂中的一种以上。
在转印到被粘物上的转印层包含低折射率层的情况下，从成型体的具有低折射率层的一侧以5度的光入射角测量出的视觉反射率Y值优选为2.0％以下，更优选为1.0％以下，更优选为0.5％以下，更优选为0.2％以下。
在本说明书中，视觉反射率Y值是指CIE 1931标准表色系的视觉反射率Y值。视觉反射率Y值可以使用分光光度计(例如岛津制作所公司制，商品名为“UV-2450”)来计算。此外，在被粘物具有透光性的情况下，优选的是，制作在被粘物的背面隔着粘合剂层贴合遮光性的黑色板而得到的样品，并测量该样品的视觉反射率Y值。
[图像显示装置用的前面板]
本发明的图像显示装置用的前面板由上述的本发明的成型体构成。
本发明的前面板优选以转印层侧的面朝向图像显示装置的前表面的方式使用。
前面板优选为切割成规定大小的单张状的形态。单张的大小没有特别限定，但最大直径为2～500英寸左右。“最大直径”是指连结前面板的任意2点时的最大长度。例如，在前面板为长方形的情况下，该区域的对角线为最大直径。此外，在前面板为圆形的情况下，直径为最大直径。
单片的形状没有特别限定，例如可以是多边形(三角形、四边形、五边形等)、圆形，也可以是随机的不规则形状。
[图像显示装置]
本发明的图像显示装置是在显示元件上具有前面板而成的图像显示装置，其中，所述前面板是上述的本发明的成型体。
作为显示元件，可举出液晶显示元件、EL显示元件(有机EL显示元件、无机EL显示元件)、等离子体显示元件等，进而可列举出微LED显示元件等LED显示元件。这些显示元件也可以在显示元件的内部具有触摸面板功能。
作为液晶显示元件的液晶的显示方式，可举出IPS方式、VA方式、多畴方式、OCB方式、STN方式、TSTN方式等。在显示元件为液晶显示元件的情况下，需要背光。背光配置于液晶显示元件的、与具有成成型体的一侧相反的一侧。
图像显示装置也可以是带触摸面板的图像显示装置。
前面板优选以转印层侧的面朝向与显示元件相反的一侧的方式配置。
图像显示装置的大小没有特别限定，但最大直径为2～500英寸左右。“最大直径”是指连结图像显示装置的任意2点时的最大长度。例如，在图像显示装置为长方形的情况下，该区域的对角线为最大直径。此外，在图像显示装置为圆形的情况下，直径为最大直径。
图像显示装置的形状没有特别限定，例如可以是多边形(三角形、四边形、五边形等)、圆形，也可以是随机的不规则形状。
实施例
以下，列举实施例和比较例，具体地说明本发明。另外，本发明不限于实施例中记载的方式。
1.与功能的偏在相关的评价、测量
针对在实施例1-1～1-3和比较例1-1～1-3中得到的成型体，进行了以下的测量和评价。将结果示于表1。另外，在以下的测量和评价中使用的成型体的大小仅是一例，并不限定于此。
此外，关于各测量和评价时的气氛，将温度设为23℃±5℃，将湿度设为40～65％。此外，在开始各测量和评价前，将成型体在上述气氛中暴露30分钟以上后进行测量和评价。
1-1.防污性(水接触角)
制作在10×10cm的钠玻璃上贴合双面胶带(751B、寺冈制作所制)而成的带双面胶带的玻璃板。剥离实施例1-1～1-3的转印片A的脱模基材1而制作出转印片B，并得到将转印片B的粘接剂层侧的面贴合于玻璃板的附着有双面胶带的面上而成的10×10cm的层叠体。从该层叠体剥离脱模基材2，使用接触角计(DM-300、协和界面科学制)来在转印层的表面(防污性低折射率层的表面)滴加1.0μL的纯水，按照θ/2法测量滴加10秒后的静态接触角。测量3次，将其平均值作为实施例1-1～1-3的水接触角。将结果示于表1。
此外，得到将比较例1-1～1-3的转印片的粘接剂层侧的面贴合于玻璃板的附着有双面胶带的面上而成的层叠体。从该层叠体剥离脱模基材，使用接触角计(DM-300、协和界面科学制)来在转印层的表面(防污性低折射率层的表面)滴加1.0μL的纯水，按照θ/2法测量滴加10秒后的静态接触角。测量3次，将其平均值作为比较例1-1～1-3的水接触角。将结果示于表1。
1-2.防污性(油性印记(magic)书写性和擦除性)
在平坦的工作台上放置A4白衬纸，在该衬纸上以在上述1-1中制作出的10×10cm的层叠体的防污性低折射率层面朝上的方式用修补胶带(3M公司制、商品名“810-3-18”)固定4个边。接着，在防污性低折射率层表面上，在黑油性印记(商品名“ハイマッキー”、ゼブラ公司制、型号MO-150-MC)的粗体字一侧，以2cm间隔书写3条宽度为5mm以上、长度为5cm的线后进行擦除，按照下述基准评价书写性和擦除性。进而，作为书写性和擦除性的综合评价，按照下述基准评价防污性。将防污性的评价结果示于表1。
<书写性>
从书写起经过30秒后，目视观察3条线是否弹开。将3条线中的2条以上弹开的情况评价为印记弹开的情况。此外，将无法维持线的线形状而变形、或者线宽或长度收缩的情况视为印记弹开的情况。
<擦除性>
从目视评价书写性起经过10秒后，用抹布(waste)(商品名“Chimwipe”、日本制纸Crecia公司制、型号：S-200)擦拭3条线，评价在擦拭后至看不到印记的黑色油墨为止的次数。
<<防污性>>
A：印记弹开，能够以1次擦拭次数擦拭掉。
B：印记无弹开，但能够以2～5次擦拭次数擦拭掉。
C：印记未弹开，即使5次也无法擦拭掉。
2.转印片和成型体的制作
[实施例1-1]
在表面被进行脱模处理而成的厚度为38μm、尺寸为200mm×600mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(脱模基材1)上涂布下述配方的粘接剂层(具有热封性的粘接剂层)形成用涂布液1并进行干燥(100℃、60秒)，形成厚度2μm的粘接剂层。
接着，在粘接剂层上涂布下述配方的硬涂层形成用涂布液1并进行干燥(70℃、30秒)而形成涂膜后，从硬涂层侧照射紫外线而使电离放射线固化性组合物固化，形成厚度为5μm的硬涂层。
接着，在硬涂层上涂布下述配方的防污性低折射率层形成用涂布液1并进行干燥(50℃、60秒)和紫外线照射，形成厚度为100nm、折射率为1.30的防污性低折射率层。
接着，准备在厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上具有压敏粘接剂层而成的脱模基材2(San-A.Ken公司制、商品名“SAT TS1050TRL”)，在防污性低折射率层上贴合该脱模基材2的粘接剂层侧的面，得到实施例1-1的转印片A。实施例1-1的转印片A依次具有脱模基材1、粘接剂层、硬涂层、防污性低折射率层和脱模基材2。
此外，将所得到的转印片A的脱模基材1剥离，得到实施例1-1的转印片B。由于能够使脱模基材2残留地从转印片A剥离脱模基材1，因此转印片A显示出剥离强度2大于剥离强度1。
接着，使转印片B的粘接剂层侧的面与被粘物(聚碳酸酯树脂板(住友电木公司制、商品名“ECK 100UU”、厚度2mm))重叠，使用辊式热印字机(大赛公司制、商品名“RH-300”)在辊温度为220～240℃、辊速度为20mm/s的条件下，从转印片的脱模基材侧进行加热转印。
接着，剥离转印片B的脱模基材2，得到实施例1-1的成型体。实施例1-1的成型体依次具有被粘物、粘接剂层、硬涂层和防污性低折射率层。
<粘接剂层形成用涂布液1>
·丙烯酸树脂23.0质量份
(三菱Chemical公司制、商品名“マイテックUC026”、有效成分：40质量％，甲基乙基酮溶剂)
·甲基乙基酮74.0质量份
<硬涂层形成用涂布液1>
·光聚合引发剂0.5质量份
(BASF公司制、商品名“Omnirad 184”)
·反应性丙烯酸类聚合物30.0质量份
(有效成分：35质量％、甲基乙基酮/2,6-二-叔丁基-4-甲酚混合溶剂)
·多官能聚氨酯丙烯酸酯树脂5质量份
(DIC公司制、商品名：LUXYDIRERS-543、有效成分：80质量％、甲苯溶剂)
·二氧化锆9.0质量份
(有效成分：70质量％、甲基乙基酮溶剂、平均粒径11nm)
·流平剂0.2质量份
(DIC公司制、商品名“Megafac F-560”、有效成分：20质量％)
·稀释溶剂55.3质量份
(甲基异丁基酮和甲基乙基酮的2：8混合溶剂)
<防污性低折射率层形成用涂布液A>
·光聚合引发剂0.1质量份
(IGM Resins公司制、商品名“Omnirad 127”)
·紫外线固化性树脂1.1质量份
(3～4官能的烷氧基化季戊四醇丙烯酸酯、新中村化学工业公司制、商品名“NKESTER ATM-4PL”)
·中空二氧化硅6.3质量份(有效成分：1.3质量份)
(平均粒径60nm)
·实心二氧化硅0.9质量份(有效成分：0.3质量份)
(平均粒径12nm)
·氟系防污剂0.1质量份(有效成分：0.005质量份)
(DIC公司制、商品名“Megafac F-568”)
·稀释溶剂91.5质量份
(甲基异丁基酮和丙二醇单甲基醚乙酸酯的9：1混合溶剂)
[实施例1-2]
在实施例1-1的防污性低折射率层形成涂布液A中，制备将“0.1质量份的氟系防污剂(DIC公司制，商品名“Megafac F-568”)”变更为“0.005质量份的硅酮系防污剂(BYK-Chemie Japan公司制，商品名“BYK-UV3510”，有效成分：100质量％)与0.095质量份的甲基异丁基酮的混合物”而成的防污性低折射率层形成涂布液B，并使用该涂布液B，除此以外，都与实施例1-1同样地得到实施例1-2的转印片A、转印片B和成型体。
[实施例1-3]
在实施例1-1的防污性低折射率层形成涂布液A中，制备将“0.1质量份的氟系防污剂(DIC公司制、商品名“Megafac F-568”)”中的0.05质量份变更为“0.0025质量份的硅酮系防污剂(BYK-Chemie Japan公司制、商品名“BYK-UV3510”、有效成分：100质量％)和0.0475质量份的甲基异丁基酮的混合物”而成的防污性低折射率层形成涂布液C，并使用该涂布液C，除此以外，都与实施例1-1同样地得到实施例1-3的转印片A、转印片B和成型体。
[比较例1-1]
在表面被脱模处理而成的厚度为100μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(脱模基材、尺寸200mm×600mm)上涂布上述配方的防污性低折射率层形成用涂布液A，进行干燥(50℃、60秒)和紫外线照射，形成厚度为100nm、折射率为1.30的防污性低折射率层。
接着，在防污性低折射率层上涂布上述配方的硬涂层形成用涂布液1并进行干燥(70℃、30秒)而形成涂膜，然后，从硬涂层侧照射紫外线而使电离放射线固化性组成物固化，形成厚度为5μm的硬涂层。
接着，在硬涂层上涂布下述配方的锚固层形成用涂布液1，在100℃下进行1分钟干燥和固化，形成厚度为2μm的锚固层。
接着，在锚固层上涂布上述配方的粘接剂层(具有热封性的粘接剂层)形成用涂布液1，在100℃下进行1分钟干燥和固化，形成厚度为2μm的粘接剂层，得到比较例1-1的转印片。比较例1-1的转印片依次具有脱模基材、防污性低折射率层、硬涂层、锚固层和粘接剂层。
接着，使转印片的粘接剂层侧的面与被粘物(聚碳酸酯树脂板(住友电木公司制、商品名“ECK 100UU”、厚度2mm))重叠，使用辊式热印字机(大赛公司制、商品名“RH-300”)在辊温度为220～240℃、辊速度为20mm/s的条件下从转印片的脱模基材侧进行加热转印。
接着，剥离转印片的脱模基材，得到比较例1-1的成型体。比较例1-1的成型体依次具有被粘物、粘接剂层、锚固层、硬涂层和防污性低折射率层。
<锚固层形成用涂布液1>
·异氰酸酯系树脂7.5质量份
(有效成分：40％、乙酸乙酯溶剂)
·聚酯系树脂46.2质量份
(有效成分：26％、甲苯/乙酸乙酯/甲乙酮混合溶剂)
·稀释溶剂46.3质量份
(乙酸乙酯和甲苯的4：6混合溶剂)
[比较例1-2]
在比较例1-1的防污性低折射率层形成涂布液A中，制备将“0.1质量份的氟系防污剂(DIC公司制，商品名“Megafac F-568”)”变更为“0.005质量份的硅酮系防污剂(BYK-Chemie Japan公司制、商品名“BYK-UV3510”、有效成分：100质量％)和0.095质量份的甲基异丁基酮的混合物”而成的防污性低折射率层形成涂布液B，并使用该涂布液B，除此以外，都与比较例1-1同样地得到比较例1-2的转印片和成型体。
[比较例1-3]
在比较例1-1的防污性低折射率层形成涂布液A中，制备将“0.1质量份的氟系防污剂(DIC公司制，商品名“Megafac F-568”)”中的0.05质量份变更为“0.0025质量份的硅酮系防污剂(BYK-Chemie Japan公司制、商品名“BYK-UV3510”、有效成分：100质量％)和0.0475质量份的甲基异丁基酮的混合物”而成的防污性低折射率层形成涂布液C，并使用该涂布液C，除此以外，都与比较例1-1同样地得到比较例1-3的转印片和成型体。
[表1]
由表1的结果可以确认到，对于实施例1-1～1-3的成型体来说，水接触角高，防污性良好。此外，实施例1-1～1-3的成型体与比较例1-1～1-3的成型体在功能层的配方上相同，因此表1的结果证实了：在实施例1-1～1-3的成型体的功能层(防污性低折射率层)中，作为功能性成分的防污剂的成分偏向于与被粘物相反的一侧。
3.防污性低折射率层的油尘耐性等的对比
3-1.转印片和成型体的制作
[实施例2-1]
将实施例1-1的防污性低折射率层形成涂布液A变更为下述配方的防污性低折射率层形成涂布液D，将干燥条件变更为60℃且1分钟，除此以外都与实施例1-1同样地得到实施例2-1的转印片A、转印片B和成型体。另外，实施例2-1的低折射率层的折射率为1.33。
<防污性低折射率层形成用涂布液D>
·光聚合引发剂0.02质量份
(IGM Resins公司制、商品名“Omnirad 127”)
·紫外线固化性树脂0.6质量份
(聚乙二醇(n≈4)二丙烯酸酯，东亚合成公司制、商品名“M-240”)
·中空二氧化硅6.2质量份(有效成分：1.2质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为75nm的中空二氧化硅。有效成分为20质量％的分散液)
·实心二氧化硅1.8质量份(有效成分：0.7质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为12.5nm的实心二氧化硅。有效成分为40质量％的分散液)
·硅酮系流平剂0.08质量份
(信越化学公司制、商品名“KP-420”)
·稀释溶剂91.3质量份
(甲基异丁基酮和乙酸1-甲氧基-2-丙酯的68：32混合溶剂)
[实施例2-2]
除将防污性低折射率层形成用涂布液D中的“紫外线固化性树脂，0.6质量份”变更为“下述的紫外线固化性树脂a和紫外线固化性树脂b的80：20混合物，0.6质量份”以外，都与实施例2-1同样地得到实施例2-2的转印片A、转印片B和成型体。另外，实施例2-1的低折射率层的折射率为1.33。
·紫外线固化性树脂a(聚乙二醇(n≈4)二丙烯酸酯、东亚合成公司制、商品名“M-240”)
·紫外线固化性树脂b(季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、日本化药公司制、商品名“KAYARAD PET-30”)
3-2.表面粗糙度
制作将在3-1中制作出的实施例2-1和2-2的成型体切割为5cm×5cm而成的样品。使用岛津制作所制的原子力显微镜(Atomic Force Microscope；AFM)SPM-9600，在软件：SPM管理器中的On-Line(测量)模式时，测量上述样品的成型体的形状。以下示出测量条件。然后，使用Off-Line(分析)模式，实施倾斜校正处理，得到将0nm的高度设为黑色、100nm以上的高度设为白色的情况下的灰度图像。另外，将在测量范围内最低的地点设为“高度0nm”。对得到的AFM图像进行分析，得到各样品的Rz(最大高度粗糙度)和Ra(算术平均粗糙度)。对各样品评价14个部位的Rz和Rz/Ra的平均值。将结果示于表2。
<AFM测量条件>
测量模式：相位
扫描范围：5μm×5μm
扫描速度：0.8～1Hz
像素数：512×512
使用的悬臂：纳米世界公司制NCHR(共振频率：320kHz、弹簧常数42N/m)
<AFM分析条件>
倾斜校正：线配合
3-3.耐油尘试验
制作将实施例1-1～1-3、2-1～2-2的成型体切割为5cm×5cm而成的样品。制备出将AC灰尘(ISO12103-1、A2(Fine))和橄榄油(CAS No.8001-25-0)以1/1(重量比)混合而成的试验液。
将抹布(AS ONE(株)公司制，商品名“アズプレアププレアII”)折叠并重叠8片，用橡皮圈将其牢固地安装在棒状的金属部件(棒状端部面的形状为1cm×1cm的正方形)的前端。使棒状的金属部件的安装有抹布的一侧浸渍于上述试验液，对于抹布，使端部面无遗漏地含有5g上述试验液，得到擦拭用的棒状金属部件。
将上述样品以防污性低折射率层成为上表面的方式贴合于试验台。在上述擦拭用的棒状金属部件上安装配重，使该棒状金属部件的抹布侧与防污性低折射率层表面接触，在移动速度为100mm/秒、1次往复下的移动距离为200mm(单程移动距离为100mm)的情况下使配重往复10次。抹布与低折射率层的接触面积为与棒状的金属部件的端部面的面积大致相等的大约1cm2。另外，试验环境只要没有特别说明，则设为23℃±1℃的温度、50％±5％的相对湿度。
然后，从样品的防污性低折射率层侧，在荧光灯下(Panasonic(株)制3波长荧光灯、型号：FHF32EX-N-H、样品上的照度为800～1200Lx、观察距离为30cm)、以及在LED照明下(ジェントス(株)制LED灯、型号：TX-850Re、样品上的照度为4000～6000Lx、观察距离为30cm)用肉眼观察，评价损伤的数量。将载荷设为配重的重量，用在试验后未观察到损伤(为0个)时的每单位面积的最大载荷(g/cm2)表示油尘耐性。分别以n＝2进行试验，将其平均值作为各实施例的油尘耐性。将结果示于表2。
3-4.防污性(指纹擦拭性)
制作将实施例1-1～1-3、2-1～2-2的成型体切割为5cm×5cm而成的样品。将指肚按压于样品的防污性低折射率层表面，使指纹附着。然后，使用无纺布(旭化成公司制、商品名：ベンコットン)来擦拭所附着的指纹，评价直至看不到指纹的痕迹为止的次数。
将在3次之前的擦拭中看不到指纹的情况设为“A”，将在4～7次的擦拭中看不到指纹的情况设为“B”，将即使擦拭7次也能看到指纹的情况设为“C”。
将结果示于表2。
[表2]
对实施例1-1～1-3和实施例2-1～2-2进行对比，实施例2-1～2-2的油尘耐性良好。认为其理由在于：在实施例2-1～2-2的低折射率层中，中空二氧化硅和实心二氧化硅在低折射率层中如图6那样均匀地分散，低折射率层的表面形状没有变得粗糙，另一方面，在实施例1-1～1-3的低折射率层中，中空二氧化硅和实心二氧化硅在低折射率层中如图7那样没有均匀地分散，低折射率层的表面形状粗糙。
4.与剥离强度相关的评价、测量
对在下述的实施例3-1～3-5和比较例3-1中得到的转印片进行以下的测量和评价。将结果示于表3。另外，将各测量和评价时的气氛设为23℃±5℃的温度、40～65％的湿度。
4-1.剥离强度
依据JIS Z0237：2009的180度剥离试验，关于在实施例3-1～3-5和比较例3-1中得到的脱模片A，测量了脱模基材1与转印层的剥离强度1以及脱模基材2与转印层的剥离强度2。关于实施例3-1～3-5和比较例3-1，测量3次剥离强度1和2，将其平均值设为实施例3-1～3-5和比较例3-1的剥离强度1和2。样品条件和测量条件如下述那样设定。
<用于测量剥离强度1的样品条件>
制作在脱模基材1上形成转印层而成的层叠体(在该层叠体的转印层上层叠有脱模基材2的层叠体相当于转印片A)，将该层叠体切割为宽度25mm×长度150mm的尺寸。制作如下这样的带双面胶带的基材：其是将切割为150mm的长度的强粘合力的双面胶带(751B、寺冈制作所制)贴合于金属尺(直尺Silver TSU-30N、トラスコ中山制。以下使用相同的材料)上而成的。使带双面胶带的基材的双面胶带侧的面与切割后的层叠体的转印层侧的面相对并以2kg/cm2的载荷进行贴合。将脱模基材1从端部剥离10～20mm，将由此形成的部件作为实施例3-1～3-5和比较例3-1的剥离强度1的测量用样品。
<用于测量剥离强度2的样品条件1(实施例3-1～3-5)>
以转印片A的脱模基材2侧为上侧的方式在平坦的桌子上放置24小时(放置时的气氛为温度23℃±5℃、湿度40～65％)。接着，在从转印片A剥离脱模基材1后，切割为宽度25mm×长度150mm的尺寸。使所述带双面胶带的基材的双面胶带侧的面与切割后的转印片的转印层侧的面相对并以2kg/cm2的载荷进行贴合。将脱模基材2从端部剥离10～20mm，将由此形成的部件作为实施例3-1～3-5的剥离强度2的测量用样品。
<用于测量剥离强度2的样品条件2(比较例3-1)>
以转印片A的脱模基材2侧为上侧的方式在平坦的桌子上放置24小时(放置时的气氛为温度23℃±5℃、湿度40～65％)。接着，将转印片A切割为宽度25mm×长度150mm的尺寸。使所述带双面胶带的基材的双面胶带侧的面与切割后的转印片A的脱模基材1侧的面相对并以2kg/cm2的载荷进行贴合。将脱模基材2从端部剥离10～20mm，将由此形成的部件作为比较例3-1的剥离强度2的测量用样品。
<测量条件>
以如下方式进行设置：使用Tensilon万能试验机(RTC-1310A、Orientec公司制)，将制作出的测量用样品的被粘物(金属尺)固定在附属于Tensilon万能试验机的一个夹持用夹具等上，在另一个夹持用夹具上固定脱模基材1或2的剥离后的端部，并在脱模基材1或2的长度方向上拉伸。然后，在剥离速度为300mm/分钟、室温为23℃的条件下将转印片向剥离角180°方向拉伸70mm，测量剥离所需的载荷。将移动距离为10mm～30mm的平均载荷作为测量1次时的剥离力，将进行3次测量而得到的平均值设为剥离力。
4-2.脱模基材1的剥离性
以转印片A的脱模基材1侧为上侧的方式在平坦的桌子上放置24小时(放置时的气氛为温度23℃±5℃、湿度40～65％)。接着，将转印片A切割为宽度25mm×长度150mm的尺寸。制作这样的层叠体：其是使所述带双面胶带的基材的双面胶带侧的面与切割后的转印片A的脱模基材2侧的面相对并以2kg/cm2的载荷进行贴合而得到的。按照下述的基准评价了该层叠体的脱模基材1的剥离性。
AA：通过简单的作业，能够使脱模基材1比脱模基材2先稳定地剥离，在脱模基材2与转印层的界面也不会产生局部的浮起。
A：如果慎重地进行作业，则能够使脱模基材1比脱模基材2先剥离，在脱模基材2与转印层的界面也不会产生局部的浮起。
B：如果慎重地进行作业，则虽然能够使脱模基材1比脱模基材2先剥离，但有时在脱模基材2与转印层的界面产生局部的浮起。
C：即使慎重地仅欲剥离脱模基材1，脱模基材2也会先剥离。
5.脱模基材的准备
作为在实施例3-1～3-5和比较例3-1中使用的脱模基材1和2，准备了下述的基材i～vii。基材i为具有脱模层的塑料膜，基材ii～vii为在塑料膜上具有粘接力弱的压敏粘接剂层的基材。
基材i：藤森工业公司制的商品名“FILMBYNA(注册商标)”、型号：38E-NSD、基材厚度38μm
基材ii：SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトMS24”、基材厚度40μm
基材iii：SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトY06F”、基材厚度60μm
基材iv：SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトY26F”、基材厚度60μm
基材v：SunA.Kaken公司制的商品名“SAT2038T-JSL”、基材厚度60μm
基材vi：东丽薄膜加工公司制的商品名“R304A”、基材厚度40μm
基材vii：SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトSAT 1050TRL”、基材厚度50μm
6.转印片的制作
[实施例3-1]
在脱模基材1(上述基材i)上涂布上述粘接剂层形成用涂布液1并进行干燥，形成厚度为2μm的粘接剂层。接着，在粘接剂层上涂布上述硬涂层形成用涂布液1并进行干燥(70℃、30秒)而形成涂膜，然后，从硬涂层侧照射紫外线而使电离放射线固化性组成物固化，形成厚度为5μm的硬涂层。接着，在硬涂层上层叠脱模基材2(上述基材ii)，得到实施例3-1的转印片A。实施例3-1的转印片A依次具有脱模基材1、粘接剂层、硬涂层和脱模基材2。
[实施例3-2～3-5]、[比较例3-1]
除了将脱模基材2变更为表3中记载的基材以外，与实施例3-1同样地得到实施例3-2～3-5和比较例3-1的转印片A。
[表3]
如表3所示，可确认到如下情况：剥离强度2大于剥离强度1的实施例3-1～3-5的转印片A能够保留剥离基材2并剥离剥离基材1，从而得到转印片B。而且，以转印该转印片B的转印层所得到的成型体的被粘物为基准的功能层的厚度方向上的朝向与以转印片A的脱模基材1为基准的功能层的厚度方向上的朝向相同。因此，实施例3-1～3-5的转印片A能够对被粘物充分地赋予功能偏向于表面侧的功能层的功能。
另外，虽然表中没有记载，但是，对于将脱模基材1变更为与基材i不同的基材而成的实施例3-1～3-5的变形例，进行了试验。其结果是，确认到如下情况：若剥离强度2-剥离强度1为100mN/25mm以上，则脱模基材1的剥离性的评价为AA，若剥离强度2-剥离强度1为40mN/25mm以上，则脱模基材1的剥离性的评价为A，若剥离强度2-剥离强度1为15mN/25mm以上，则脱模基材1的剥离性的评价为B。
7.防污性低折射率层的性能对比
7-1.转印片和成型体的制作
[实施例4-1]
在脱模基材1(上述基材i(藤森工业公司制的商品名为“FILMBYNA(注册商标)”、型号：38E-NSD))上涂布上述粘接剂层形成用涂布液1并进行干燥，形成厚度为2μm的粘接剂层。接着，在粘接剂层上涂布上述硬涂层形成用涂布液1并进行干燥(70℃、30秒)而形成涂膜，然后，从硬涂层侧照射紫外线而使电离放射线固化性组成物固化，形成厚度为5μm的硬涂层。接着，在硬涂层上涂布上述防污性低折射率层形成用涂布液D并进行干燥(50℃、60秒)和紫外线照射，形成厚度为100nm、折射率为1.33的防污性低折射率层。接着，在防污性低折射率层上层叠脱模基材2(上述基材ii、SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトMS24”)而得到实施例4-1的转印片A。实施例4-1的转印片A依次具有脱模基材1、粘接剂层、硬涂层、防污性低折射率层和脱模基材2。
接着，将所得到的转印片A的脱模基材1剥离，得到实施例4-1的转印片B。
接着，将转印片B的粘接剂层侧的面与被粘物(聚碳酸酯树脂板(住友电木公司制、商品名“ECK 100UU”、厚度2mm))重叠，使用辊式热印字机(大赛公司制、商品名“RH-300”)在辊温度为220～240℃、辊速度为20mm/s的条件下，从转印片的脱模基材2侧进行加热转印。
接着，剥离转印片B的脱模基材2，得到实施例4-1的成型体。实施例4-1的成型体依次具有被粘物、粘接剂层、硬涂层和防污性低折射率层。
[实施例4-2]
除将防污性低折射率层形成用涂布液D变更为下述的防污性低折射率层形成用涂布液E以外，都与实施例4-1同样地得到实施例4-2的转印片A、转印片B和成型体。
<防污性低折射率层形成用涂布液E>
·光聚合引发剂0.02质量份
(IGM Resins公司制、商品名“Omnirad 127”)
·紫外线固化性树脂0.6质量份
(聚乙二醇(n≈4)二丙烯酸酯，东亚合成公司制、商品名“M-240”)
·中空二氧化硅6.2质量份(有效成分：1.2质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为75nm的中空二氧化硅。有效成分为20质量％的分散液)
·实心二氧化硅1.8质量份(有效成分：0.7质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为12.5nm的实心二氧化硅。有效成分为40质量％的分散液)
·氟系流平剂0.08质量份
(信越化学公司制、商品名“X-71-1203M”)
·稀释溶剂91.3质量份
(甲基异丁基酮和乙酸1-甲氧基-2-丙酯的68：32混合溶剂)
[实施例4-3]
除将防污性低折射率层形成用涂布液D变更为下述的防污性低折射率层形成用涂布液F以外，都与实施例4-1同样地得到实施例4-3的转印片A、转印片B和成型体。
<防污性低折射率层形成用涂布液F>
·光聚合引发剂0.02质量份
(IGM Resins公司制、商品名“Omnirad 127”)
·紫外线固化性树脂a 0.3质量份
(季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、日本化药株式会社制、商品名“KAYARAD PET―30”)
·紫外线固化性树脂b 0.3质量份
(二季戊四醇(六/五)丙烯酸酯、日本化药株式会社制、商品名“KAYARAD DPHA”)
·中空二氧化硅6.2质量份(有效成分：1.2质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为75nm的中空二氧化硅。有效成分为20质量％的分散液)
·实心二氧化硅1.8质量份(有效成分：0.7质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为12.5nm的实心二氧化硅。有效成分为40质量％的分散液)
·氟系流平剂0.08质量份
(信越化学公司制、商品名“X-71-1203M”)
·稀释溶剂91.3质量份
(甲基异丁基酮和乙酸1-甲氧基-2-丙酯的68：32混合溶剂)
[实施例4-4]
除将防污性低折射率层形成用涂布液D变更为下述的防污性低折射率层形成用涂布液G以外，都与实施例4-1同样地得到实施例4-4的转印片A、转印片B和成型体。
<防污性低折射率层形成用涂布液G>
·光聚合引发剂0.02质量份
(IGM Resins公司制、商品名“Omnirad 127”)
·紫外线固化性树脂a 0.3质量份
(季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、日本化药株式会社制、商品名“KAYARAD PET―30”)
·紫外线固化性树脂b 0.3质量份
(二季戊四醇(六/五)丙烯酸酯、日本化药株式会社制、商品名“KAYARAD DPHA”)
·中空二氧化硅6.2质量份(有效成分：1.2质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为75nm的中空二氧化硅。有效成分为20质量％的分散液)
·实心二氧化硅1.8质量份(有效成分：0.7质量份)
(用具有甲基丙烯酰基的硅烷偶联剂进行表面处理而成的平均粒径为12.5nm的实心二氧化硅。有效成分为40质量％的分散液)
·硅酮系流平剂0.08质量份
(信越化学公司制、商品名“KP-420”)
·稀释溶剂91.3质量份
(甲基异丁基酮和乙酸1-甲氧基-2-丙酯的68：32混合溶剂)
[实施例4-5]
除将硬涂层形成用涂布液1变更为下述的硬涂层形成用涂布液2以外，都与实施例4-1同样地得到实施例4-5的转印片A、转印片B和成型体。
<硬涂层形成用涂布液2>
·紫外线固化性化合物23.7质量份
(多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯、DIC公司制、商品名：LUXYDIRERS-543)
·紫外线固化性化合物18.5质量份
(多官能氨基甲酸酯丙烯酸酯、DIC公司制、商品名：LUXYDIREKS-796)
·紫外线吸收剂0.74质量份
(羟基苯基三嗪系、BASF Japan株式会社制、商品名：Tinuvin477)
·紫外线固化性化合物1.85质量份
(丙烯酸树脂、荒川化学公司制、商品名DSR-1)
·光聚合引发剂0.84质量份
(IGM Resins B.V.社、商品名“Omnirad 184”)
·丙烯酸树脂颗粒5.17质量份
(平均粒径2.0μm)
·丙烯酸树脂颗粒0.72质量份
(气相二氧化硅、平均粒径200nm)
·硅酮系流平剂0.27质量份
(Momentive Performance Materials公司制、商品名：TSF4460)
·稀释溶剂48.3质量份
(甲苯/IPA＝60/40的混合液)
[比较例4-1]
除将剥离基材2变更为上述基材vii(SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトSAT1050TRL”)以外，都与实施例4-1同样地得到比较例4-1的转印片A、转印片B和成型体。
另外，在比较例4-1的转印片A中，由于剥离强度2小于剥离强度1，因此在通常的方法中，无法使脱模基材1比脱模基材2先剥离。因此，在比较例4-1中，在转印片A的脱模基材1侧形成切口，形成脱模基材1的剥离起始点，并且一边以使剥离基材2不剥离的方式从两侧按压转印片A，一边逐渐剥离脱模基材1，得到转印片B。
[比较例4-2]
在脱模基材1(上述基材i)上涂布上述防污性低折射率层形成用涂布液D并进行干燥(50℃、60秒)和紫外线照射，形成厚度为100nm、折射率为1.33的防污性低折射率层。接着，在防污性低折射率层上涂布上述硬涂层形成用涂布液1并进行干燥(70℃、30秒)而形成涂膜，然后，从硬涂层侧照射紫外线而使电离放射线固化性组成物固化，形成厚度为5μm的硬涂层。接着，在硬涂层上涂布上述粘接剂层形成用涂布液1并进行干燥，形成厚度为2μm的粘接剂层，得到比较例4-2的转印片。比较例4-2的转印片依次具有脱模基材1、防污性低折射率层、硬涂层和粘接剂层。
接着，将转印片的粘接剂层侧的面与被粘物(聚碳酸酯树脂板(住友电木公司制、商品名“ECK 100UU”、厚度2mm))重叠，使用辊式热印字机(大赛公司制、商品名“RH-300”)在辊温度为220～240℃、辊速度为20mm/s的条件下，从转印片的脱模基材1侧进行加热转印。
接着，剥离转印片的脱模基材1，得到比较例4-2的成型体。比较例4-2的成型体依次具有被粘物、粘接剂层、硬涂层和防污性低折射率层。
[参考例4-1]
除将剥离基材2变更为上述基材iv(SunA.Kaken公司制的商品名“サニテクトY26F”)以外，都与实施例4-1同样地得到参考例4-1的转印片A、转印片B和成型体。
7-2.测量和评价
关于实施例4-1～4-5、比较例4-1～4-2、参考例4-1的成型体等，进行下述的测量和评价。关于各测量和评价时的气氛，只要没有特别说明，则温度为23℃±5℃、湿度为40～65％。此外，只要没有特别说明，在开始各测量和评价前，将成型体等在上述气氛中暴露30分钟以上后进行测量和评价。将结果示于表4。
(1)XPS分析
从实施例的成型体切出测量用片。使用X射线光电子能谱分析装置，在以下记载的条件下测量了各测量用片的低折射率层表面的C1s轨道、O1s轨道、Si2p轨道和F1s轨道的X射线光电子能谱。对各X射线光电子能谱进行峰分离，求出C元素、O元素、F元素和Si元素的比率。此外，从Si2p轨道的X射线光电子能谱将无机成分(二氧化硅)与有机成分(硅酮)进行峰分离，求出归属于二氧化硅颗粒(中空二氧化硅颗粒和非中空二氧化硅颗粒)的Si元素的比率(表中的“无机Si”)。对各样品在14个部位进行测量，进而以样品数n＝2进行分析。将其平均值作为各实施例和比较例的元素比率。此外，根据得到的元素比率，计算出将上述求出的归属于二氧化硅颗粒的Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率(C/Si)。另外，在表1和表2中，将O元素等、来自无机成分的除了Si元素(无机Si元素)、C元素和F元素以外的元素作为“其它元素”，并标记该元素比率的合计。
<测量>
装置：Kratos制AXIS-NOVA
X射线源：AlKα
X射线输出：150W
发射电流：10mA
加速电压：15kV
测量区域：300×700μm
(2)表面粗糙度
制作将实施例的成型体切割为5cm×5cm而得到的测量用样品。使用该测量用样品，通过与上述3-2相同的方法测量Rz(最大高度粗糙度)和Ra(算术平均粗糙度)。
(3)反射率(视觉反射率Y值)
制作在实施例、比较例和参考例的成型体的被粘物侧隔着厚度为25μm的透明粘合剂层(PANAC公司制、商品名：PANACLEAN PD-S1)贴合有黑色板(KURARAY公司制、商品名：コモグラス(Comoglass)DFA2CG 502K(黑)系，厚度2mm)而成的样品(5cm×5cm)。
在将与样品的低折射率层表面垂直的方向设为0度时，从5度的方向将光入射到样品，基于该入射光的正反射光来测量样品的反射率(视觉反射率Y值)。
关于反射率，求出如下的表示视觉反射率的值来作为反射率，其中，该值是使用分光反射率测量器(岛津制作所公司制、商品名：UV-2450)在视角为2度、C光源、波长范围为380～780nm的条件下进行测量、然后通过换算为人的眼睛所感觉到的明亮度的软件(装置内置UVPC颜色测量Version3.12)所计算出的。
将视觉反射率Y值为0.2％以下的情况设为“AA”，将0.4％以下的情况设为“A”，将超过0.4％且在0.7％以下的情况设为“B”，将超过0.7％且在2.0％以下的情况设为“B-”。
(4)水接触角
在实施例、比较例和参考例的成型体的表面(防污性低折射率层的表面)滴加1.0μL纯水，按照θ/2法测量滴加10秒后的静态接触角。测量3次，将其平均值设为水接触角。测量装置使用协和界面科学公司的接触角计(产品编号“DM-300”)。
(5)防污性1(油性印记书写性和擦除性)
在平坦的工作台上放置A4白衬纸，在该衬纸上，以在上述7-1中将成型体切割为10×10cm所得到的样品的防污性低折射率层面朝上的方式用修补胶带(3M公司制、商品名“810-3-18”)固定4个边。接着，在防污性低折射率层表面上，在黑油性印记(商品名“ハイマッキー”、ゼブラ公司制、型号MO-150-MC)的粗体字一侧，以2cm间隔书写3条宽度为5mm以上、长度为5cm的线后进行擦除，按照下述基准评价书写性和擦除性。进而，作为书写性和擦除性的综合评价，按照下述基准评价防污性。
<书写性>
从书写起经过30秒后，目视观察3条线是否弹开。将3条线中的、2条以上弹开的情况评价为印记弹开的情况。此外，将无法维持线的线形状而变形、或者线宽或长度收缩的情况视为印记弹开的情况。
<擦除性>
从目视评价书写性起经过10秒后，用抹布(waste)(商品名“Chimwipe”、日本制纸Crecia公司制、型号：S-200)擦拭3条线，评价在擦拭后至看不到印记的黑色油墨为止的次数。
<<防污性>>
AA：印记弹开，能够以1次擦拭次数擦拭掉。
A：印记无弹开，但能够以2～3次擦拭次数擦拭掉。
B：印记无弹开，但能够以4～5次擦拭次数擦拭掉。
C：印记未弹开，即使5次也无法擦拭掉。
(6)防污性2(指纹擦拭性)
制作将实施例、比较例和参考例的成型体切割为5cm×5cm而成的样品。使用该测量用样品，通过与上述3-4相同的方法和评价基准来评价指纹擦拭性。另外，以下示出评价基准。
A：在3次之前的擦拭中看不到指纹的情况。
B：在4～7次的擦拭中看不到指纹的情况。
C：即使擦拭7次也能看到指纹的情况。
(7)耐油尘试验
制作将实施例、比较例和参考例的成型体切割为5cm×5cm而成的样品。使用该测量用样品，通过与上述3-3相同的方法评价油尘耐性。
(8)剥离强度
通过与上述4-1相同的方法，测量实施例、比较例和参考例的转印片的剥离强度1。
此外，通过与上述4-1相同的方法，测量实施例4-1～4-5、比较例4-1和参考例4-1的转印片的剥离强度2。其中，实施例4-1～4-5和参考例4-1通过上述4-1的“用于测量剥离强度2的样品条件1”的方法制作样品，比较例4-1通过上述4-1的“用于测量剥离强度2的样品条件2”的方法制作样品。
(9)转印性
按照下述的基准评价由实施例、比较例和参考例的转印片制作成型体时的作业性。
A：剥离脱模基材时的作业性良好，转印的作业性良好。
C1：在通常的作业中，难以使脱模基材1比脱模基材2先从转印片A剥离，转印的作业性差。
C2：在将转印片B贴合于被粘物后，剥离脱模基材2时的剥离力过强，转印的操作性差。
[表4]
由表4能够确认到如下情况：实施例4-1～4-5的成型体能够良好地发挥防污性低折射率层的功能。尤其能够确认到如下情况：防污性低折射率层的Si元素比率和C/Si为上述范围的实施例4-1、4-2和4-5的成型体的油尘耐性良好。特别是，关于实施例4-1的成型体，其油尘耐性在比荧光灯更严格的评价光源即LED下也非常优异，并且实施例4-1的成型体具有基于干式制法的防反射层程度的耐磨性。
(10-1)玻璃的质感的评价用样品的制作
将实施例4-1～4-4的转印片B的粘接剂层侧的面与被粘物(平冈特殊玻璃制作公司的钠玻璃(厚1.8mm、10cm见方))重叠，使用辊式热印字机(大赛公司制造、商品名“RH-300”)在辊温度为220～240℃、辊速度为20mm/s的条件下从转印片B的脱模基材2侧进行加热转印。
接着，剥离转印片B的脱模基材2，得到实施例4-1～4-4的被粘物为玻璃的成型体。这些成型体依次具有被粘物(玻璃)、粘接剂层、硬涂层和防污性低折射率层。
此外，得到在被粘物(平冈特殊玻璃制作公司的钠玻璃(厚1.8mm、10cm见方))上贴合市售的带光学粘贴的防反射膜(PANAC公司、商品名：PANACLEAN DSG-17/PD-C3)而成的、比较例4-3的被粘物为玻璃的成型体。比较例4-3的成型体依次具有被粘物(玻璃)、粘接剂层(厚度25μm)、基材(厚度40μm的三乙酰纤维素膜)、硬涂层和防反射层。比较例4-3的成型体的反射率Y值为0.4％以下的评价A级别。
(10-2)玻璃的质感的评价
对于在10-1中制作出的成型体，实施“在成型体表面上用指肚轻轻地来回滑动5次的行为”和“用指甲轻轻地敲击成型体表面并确认声音的行为”，来评价触感和滑动性。具体而言，将上述钠玻璃作为标准样品来评价成型体的触感和滑动性是否接近标准样品。
与比较例4-3的被粘物为玻璃的成型体相比，实施例4-1～4-4的被粘物为玻璃的成型体更接近玻璃的质感。
在实施例4-1～4-4的被粘物为玻璃的成型体中，由指甲产生的声音与4个样品均没有差别，但在通过指肚进行的滑动中，实施例4-2和4-3比实施例4-1和4-4更良好。此外，实施例4-2和4-3的反射Y值为0.2％以下，特别优异。
标号说明
10：脱模基材1；
13：脱模基材；
20：脱模基材2；
30：转印层；
31：功能层1；
32：功能层2；
100：转印片A；
200：转印片B；
300：被粘物；
400：层叠体C；
600：以往的转印片；
800：成型体。
Claims (16)
1.一种转印片的制造方法，其中，
在该转印片的制造方法中，依次进行下述的工序(1)～工序(2)：
工序(1)，在脱模基材1上涂布转印层形成用涂布液，形成包含至少一个功能层的转印层；以及
工序(2)，在所述转印层上层叠脱模基材2，得到依次具有所述脱模基材1、所述转印层和所述脱模基材2而成的转印片A，在该转印片A中，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1。
2.根据权利要求1所述的转印片的制造方法，其中，
所述功能层中的至少一个功能层为防眩层、防污层或防污性低折射率层。
3.根据权利要求1或2所述的转印片的制造方法，其中，
在该转印片的制造方法中，还进行下述的工序(3)，
工序(3)：从所述转印片A剥离所述脱模基材1，得到在所述脱模基材2上具有所述转印层的转印片B。
4.一种成型体的制造方法，其中，
在该成型体的制造方法中，依次进行下述的工序(4)～工序(5)：
工序(4)，得到将权利要求3所述的转印片B的所述转印层侧的面与被粘物密接而成的层叠体C；以及
工序(5)，从所述层叠体C剥离所述脱模基材2，得到在被粘物上具有转印层的成型体。
5.一种转印片A，其中，
所述转印片是依次具有脱模基材1、转印层和脱模基材2而成的，所述脱模基材2与所述转印层的剥离强度2大于所述脱模基材1与所述转印层的剥离强度1，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
6.根据权利要求5所述的转印片A，其中，
所述剥离强度2与所述剥离强度1之差为15mN/25mm以上且450mN/25mm以下。
7.根据权利要求5或6所述的转印片A，其中，
功能偏向于所述脱模基材2侧而成的功能层为防眩层、防污层或防污性低折射率层。
8.一种转印片B，其中，
所述转印片是在脱模基材2上具有转印层而成的，所述转印层包含至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于所述脱模基材2侧而成的。
9.根据权利要求8所述的转印片B，其中，
功能偏向于所述脱模基材2侧而成的功能层为防眩层、防污层或防污性低折射率层。
10.一种成型体，其中，
该成型体是在被粘物上具有转印层而成的，所述转印层具有至少一个功能层，所述功能层中的至少一个功能层是功能偏向于与所述被粘物相反的一侧而成的。
11.根据权利要求10所述的成型体，其中，
功能偏向于与所述被粘物相反的一侧而成的功能层为防眩层、防污层或防污性低折射率层。
12.根据权利要求10所述的成型体，其中，
功能偏向于与所述被粘物相反的一侧而成的功能层为防污性低折射率层，所述防污性低折射率层包含粘合剂树脂和二氧化硅颗粒，通过X射线光电子能谱法对所述防污性低折射率层的表面区域进行分析所得到的归属于所述二氧化硅颗粒的Si元素的比率为10.0原子％以上且18.0原子％以下，并且，将所述Si元素的比率换算为100原子％时的C元素的比率为180原子％以上且500原子％以下。
13.根据权利要求10～12中的任意一项所述的成型体，其中，
所述被粘物是从玻璃、陶瓷和树脂中选择的一种或它们的混合物。
14.根据权利要求10～13中的任意一项所述的成型体，其中，
所述被粘物为玻璃，构成所述转印层的层中的最靠被粘物侧的层包含具有从羧基和甲氧基中选择的一种以上的官能团的树脂。
15.一种图像显示装置用的前面板，其中，
该图像显示装置用的前面板由权利要求10～14中的任意一项所述的成型体构成。
16.一种图像显示装置，其在显示元件上具有前面板，其中，
所述前面板是权利要求10～14中的任意一项所述的成型体。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019-067720 | 2019-03-29 | ||
| JP2019067720 | 2019-03-29 | ||
| PCT/JP2020/013996 WO2020203759A1 (ja) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 転写シート及びその製造方法、並びに、該転写シートを用いた成形体の製造方法及び成形体、並びに、該成形体を用いた前面板及び画像表示装置 |
| CN202080031143.2A CN113784850B (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202080031143.2A Division CN113784850B (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115570910A true CN115570910A (zh) | 2023-01-06 |
Family
ID=72669092
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211367048.7A Pending CN115570910A (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 |
| CN202080031143.2A Active CN113784850B (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202080031143.2A Active CN113784850B (zh) | 2019-03-29 | 2020-03-27 | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220184937A1 (zh) |
| EP (1) | EP3950374A4 (zh) |
| JP (1) | JPWO2020203759A1 (zh) |
| KR (1) | KR20210148221A (zh) |
| CN (2) | CN115570910A (zh) |
| TW (2) | TW202333962A (zh) |
| WO (1) | WO2020203759A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7309298B2 (ja) * | 2021-03-30 | 2023-07-18 | Ｎｉｓｓｈａ株式会社 | 転写シート、加飾成形品及び加飾成形品の製造方法 |
| WO2023095836A1 (ja) * | 2021-11-24 | 2023-06-01 | 大日本印刷株式会社 | 加飾シート、加飾成形品の製造方法、離型部材付き転写シート、離型部材付き加飾シート、転写シート前駆体、加飾シート前駆体、転写シートの製造方法、加飾シートの製造方法、および加飾物品の製造方法 |
| JP7274129B1 (ja) * | 2022-02-03 | 2023-05-16 | 大日本印刷株式会社 | 転写フィルム、並びに撥水・撥油性外装材及びその製造方法 |
| TWI813272B (zh) * | 2022-04-29 | 2023-08-21 | 南亞塑膠工業股份有限公司 | 保護膜結構與印刷電路板的製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102205755A (zh) * | 2010-01-19 | 2011-10-05 | 日本写真印刷株式会社 | 转印片及其制造方法 |
| CN102729680A (zh) * | 2011-03-30 | 2012-10-17 | Dic株式会社 | 热转印用膜和装饰成型品 |
| CN105142925A (zh) * | 2013-04-26 | 2015-12-09 | 富士胶片株式会社 | 转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置 |
| CN107360718A (zh) * | 2015-11-04 | 2017-11-17 | 株式会社Lg化学 | 抗反射膜及其制造方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002082205A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 反射防止フィルムおよびそれを用いた光学機能フィルムおよび表示装置 |
| JP2003177241A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-27 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 光学用積層体、粘着剤転写テープ、および光学用積層体の製造法 |
| JP2006163082A (ja) * | 2004-12-08 | 2006-06-22 | Nippon Paper Chemicals Co Ltd | 光学部材及びその製造方法、並びに液晶表示装置 |
| JP2008162260A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-07-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム構造 |
| JP2008151930A (ja) | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Nof Corp | 転写用反射防止フィルム並びにそれを用いた転写物及び表示装置 |
| JP2009056674A (ja) | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Kaneka Corp | 転写用反射防止フィルム |
| JP2009072954A (ja) | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Toppan Printing Co Ltd | 転写用防眩性シート |
| WO2009133697A1 (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-05 | 日本写真印刷株式会社 | 部分マットハードコート転写シート及びその製造方法 |
| EP2487032A4 (en) * | 2009-10-09 | 2014-04-09 | Mitsubishi Rayon Co | TRANSFER FILM, RESIN LAMINATE, PROCESS FOR PRODUCING TRANSFER FILM, AND PROCESS FOR PRODUCING RESIN LAMINATE |
| JP2011149010A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-08-04 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 防汚硬化膜、転写フィルム、転写フィルムの製造方法、樹脂積層体及び樹脂積層体の製造方法 |
| FR2968241B1 (fr) * | 2010-12-02 | 2012-12-21 | Corso Magenta | Procede de fabrication d'un article permettant l'apposition d'un film |
| TWI515271B (zh) * | 2011-01-14 | 2016-01-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Anti-reflection film, anti-reflection film manufacturing method, polarizing plate and image display device |
| JP2012207166A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Mitsubishi Plastics Inc | 基材レス両面粘着シート |
| CN103765249B (zh) * | 2011-05-16 | 2015-11-25 | 大日本印刷株式会社 | 防反射膜的制造方法、防反射膜、偏振板及图像显示装置 |
| JP2014130298A (ja) | 2012-12-30 | 2014-07-10 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 転写媒体、偏光板、および画像表示装置 |
| EP3216602B1 (en) * | 2014-11-05 | 2022-01-12 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet and hard coat body using same |
| JP7124279B2 (ja) * | 2017-09-11 | 2022-08-24 | 大日本印刷株式会社 | 転写シート及び化粧板の製造方法 |
-
2020
- 2020-03-27 JP JP2021511992A patent/JPWO2020203759A1/ja active Pending
- 2020-03-27 KR KR1020217034742A patent/KR20210148221A/ko unknown
- 2020-03-27 CN CN202211367048.7A patent/CN115570910A/zh active Pending
- 2020-03-27 WO PCT/JP2020/013996 patent/WO2020203759A1/ja unknown
- 2020-03-27 US US17/599,418 patent/US20220184937A1/en active Pending
- 2020-03-27 CN CN202080031143.2A patent/CN113784850B/zh active Active
- 2020-03-27 EP EP20781979.8A patent/EP3950374A4/en active Pending
- 2020-03-27 TW TW112118735A patent/TW202333962A/zh unknown
- 2020-03-27 TW TW109110624A patent/TWI828895B/zh active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102205755A (zh) * | 2010-01-19 | 2011-10-05 | 日本写真印刷株式会社 | 转印片及其制造方法 |
| CN102729680A (zh) * | 2011-03-30 | 2012-10-17 | Dic株式会社 | 热转印用膜和装饰成型品 |
| CN105142925A (zh) * | 2013-04-26 | 2015-12-09 | 富士胶片株式会社 | 转印材料、带有转印层的基材及触摸屏、它们的制造方法、及信息显示装置 |
| CN107360718A (zh) * | 2015-11-04 | 2017-11-17 | 株式会社Lg化学 | 抗反射膜及其制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2020203759A1 (ja) | 2020-10-08 |
| TW202103981A (zh) | 2021-02-01 |
| CN113784850B (zh) | 2022-11-25 |
| TW202333962A (zh) | 2023-09-01 |
| TWI828895B (zh) | 2024-01-11 |
| JPWO2020203759A1 (zh) | 2020-10-08 |
| CN113784850A (zh) | 2021-12-10 |
| KR20210148221A (ko) | 2021-12-07 |
| EP3950374A4 (en) | 2022-12-28 |
| EP3950374A1 (en) | 2022-02-09 |
| US20220184937A1 (en) | 2022-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113784850B (zh) | 转印片及其制造方法、使用了该转印片的成型体 | |
| JP5556926B2 (ja) | 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置 | |
| US10185058B2 (en) | Protection film suitable for illuminated display devices | |
| JP4116045B2 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム | |
| CN101162275B (zh) | 高精细显示器用的表面材以及具备此表面材的高精细显示器与高精细触摸屏 | |
| CN113272136A (zh) | 防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品 | |
| JP2007234424A (ja) | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル | |
| JP2007058162A (ja) | ディスプレイ用表面材及びそれを備えたディスプレイ | |
| WO2007000856A1 (ja) | 防眩性ハードコートフィルム | |
| JPWO2008038714A1 (ja) | 光学機能フィルム | |
| KR20200103803A (ko) | 광학 적층체, 편광판, 디스플레이 패널 및 화상 표시 장치 | |
| JP2013022843A (ja) | 透明導電性フィルムおよびタッチパネル | |
| KR101271284B1 (ko) | 표시 화면용 기능 필름 및 그 제조법 | |
| JP2014178922A (ja) | タッチパネル用積層体およびタッチパネル用積層体の製造方法 | |
| WO2019087963A1 (ja) | 粘着層付ハードコートフィルム、画像表示装置 | |
| TWI787634B (zh) | 觸控面板筆用書寫片、觸控面板、觸控面板系統及顯示裝置，以及觸控面板筆用書寫片之揀選方法 | |
| CN114667465A (zh) | 光学膜、偏光板、图像显示装置以及光学膜的选定方法 | |
| KR20210107798A (ko) | 반사 방지 필름 및 그 제조 방법 | |
| JP2008156648A (ja) | 透明ハードコート層、透明ハードコート材、およびディスプレイ装置 | |
| JP5753750B2 (ja) | 積層フィルムおよびハードコートフィルム | |
| JP2014235233A (ja) | 防眩性反射防止フィルム | |
| TW202415731A (zh) | 抗反射構件、與具備其之偏光板、影像顯示裝置及抗反射性物品 | |
| JP2022050403A (ja) | 成形体及びそれを用いた表示装置 | |
| CN115803194A (zh) | 带防污层的光学薄膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |