CN115536557A - 一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 - Google Patents
一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115536557A CN115536557A CN202211205331.XA CN202211205331A CN115536557A CN 115536557 A CN115536557 A CN 115536557A CN 202211205331 A CN202211205331 A CN 202211205331A CN 115536557 A CN115536557 A CN 115536557A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- compound
- photoacid generator
- reaction
- mixed solution
- preparation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 42
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 26
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 8
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-diisopropylethylamine Substances CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 4
- NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N ethyl (e)-3-[3-amino-2-cyano-1-[(e)-3-ethoxy-3-oxoprop-1-enyl]sulfanyl-3-oxoprop-1-enyl]sulfanylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\SC(=C(C#N)C(N)=O)S\C=C\C(=O)OCC NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N 0.000 claims description 4
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 claims description 4
- CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N oxalyl chloride Chemical compound ClC(=O)C(Cl)=O CTSLXHKWHWQRSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 9
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 abstract description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 6
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(4-chlorophenyl)-2-(4-methylphenyl)sulfonylbutane-1,4-dione Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)C(C(=O)C=1C=CC(Cl)=CC=1)CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 HTSGKJQDMSTCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MIBQYWIOHFTKHD-UHFFFAOYSA-N adamantane-1-carbonyl chloride Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(C(=O)Cl)C3 MIBQYWIOHFTKHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 3
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 3
- JBEPFZCYCKRHTN-UHFFFAOYSA-N C(=O)O.C12CC3CC(CC(C1)C3)C2 Chemical compound C(=O)O.C12CC3CC(CC(C1)C3)C2 JBEPFZCYCKRHTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- -1 sulfonium salt compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000001263 acyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- CLYOOVNORYNXMD-UHFFFAOYSA-N methyl adamantane-1-carboxylate Chemical compound C1C(C2)CC3CC2CC1(C(=O)OC)C3 CLYOOVNORYNXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000013341 scale-up Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/02—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof
- C07C303/22—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C381/00—Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
- C07C381/12—Sulfonium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/56—Ring systems containing bridged rings
- C07C2603/58—Ring systems containing bridged rings containing three rings
- C07C2603/70—Ring systems containing bridged rings containing three rings containing only six-membered rings
- C07C2603/74—Adamantanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
技术领域
本发明涉及光刻胶技术领域,特别是涉及一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法。
背景技术
光致产酸剂是化学放大胶的主要成分,是一种光敏感的化合物,在光照下分解产生酸(H+)。在曝光后烘烤(PEB)过程中,这些酸会作为催化剂使得聚合物上悬挂的酸不稳定基团脱落,并产生新的酸,悬挂基团的脱落改变了聚合物的极性。
目前常用的光致产酸剂是硫鎓盐化合物,其制备通常需先生成一种钠盐中间体,再由离子交换反应生成硫鎓盐化合物光致产酸剂。但是钠离子在后处理过程中很难去除,进而降低光刻胶的性能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制备中不需要钠盐中间体的光致产酸剂的制备方法及其中间体的制备方法。
第一方面,本发明提供一种光致产酸剂中间体的制备方法,包含如下酯化反应合成路线:
其中,R1为氢或C1~C6烷基,R2为化学键或C1~C6亚烷基,X为卤族元素,A为有机碱;
优选地,所述合成路线中X为氯原子;
其中,所述有机碱A选自三乙胺、N,N-二异丙基乙胺和吡啶中至少一种;
所述酯化反应合成路线操作步骤为:
a1)在惰性气体保护下,将化合物Ⅴ-1溶于有机溶剂B中,加入有机碱A制备成混合溶液Y-1;
a2)在惰性气体保护下,将化合物Ⅳ-1溶于有机溶剂B,制备成混合溶液Y-2;
a3)在0~15℃温度下,将混合溶液Y-2滴加到混合溶液Y-1中,经酯化反应,得到反应液Z。
优选地,所述的式Ⅲ化合物选自以下式Ⅲ-1、式Ⅲ-2、式Ⅲ-3结构:
其中,R1为氢或C1~C6烷基,R2为化学键或者C1~C6亚烷基。
优选地,所述酯化反应合成路线操作步骤完成后的纯化步骤为:
b1)反应结束后,在反应液Z中加入甲醇淬灭;
b2)将步骤b1)所得溶液减压浓缩至干,再将所得固体溶于二氯甲烷中;
b3)将步骤b2)所得溶液用去离子水洗涤,浓缩除去二氯甲烷及其里面含有的少量水份,用甲基叔丁基醚重结晶得即化合物Ⅲ。
优选地,所述合成路线操作步骤还包括如下技术特征中的至少一项:
c2)所述化合物Ⅴ-1与化合物Ⅳ-1的摩尔比为1:(0.8~3);
c3)所述步骤a1)中化合物Ⅴ-1与有机碱A的摩尔比为1:(2~4);
c4)所述步骤a1)和步骤a2)中惰性气体选自氮气、氩气、氦气中至少一种;
c5)所述步骤a1)和步骤a2)中有机溶剂B选自乙腈、四氢呋喃、1,4-二氧六环和N,N-二甲基甲酰胺中的一种;
c6)所述步骤a3)中具体步骤为:控温在0~5℃下,将混合溶液Y-2滴加入混合溶液Y-1中制备混合溶液Z,滴加完毕后,在20-30℃下搅拌15-25h至反应完成。
优选地,所述化合物Ⅳ-1由以下卤化反应合成路线制备:
其中,R1为氢或者C1~C6烷基,R2为化学键或C1~C6的亚烷基;
所述卤化试剂IV-3选自氯化亚砜、草酰氯、三氯化磷、五氯化磷中至少一种;
所述卤化反应的操作步骤为:将化合物Ⅳ-2溶于二氯甲烷中,加入N,N-二甲基甲酰胺,在0~10℃下滴加卤化试剂,反应2h,浓缩至干得化合物Ⅳ-1。
第二方面,本发明提供一种光致产酸剂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
采用权利要求1~5任一项所述的光致产酸剂中间体的制备方法所得的化合物Ⅲ与硫鎓盐发生离子交换反应生成光致产酸剂Ⅰ,所述合成路线为:
R1为氢或C1~C6的烷基,R2为化学键或C1~C6的亚烷基。
本发明的有益效果:本发明先将原料金刚烷甲酸制成酰氯以提高活性,采用氯化亚砜为原料,成本较低,反应较纯,后处理简单;反应中使用有机碱作缚酸剂,反应完之后磺酸基团上发生交换反应,钠离子被交换成缚酸剂,生成一种有机盐,后处理时能较容易地通过水洗除去多余的Na离子,从而有利于产品中的金属离子的控制。该工艺后处理都为常规操作,可以较容易的实现放大生产。中间体反应后采用甲醇淬灭的副产物金刚烷甲酸甲酯类物质很容易除去。
附图说明
图1为实施例2中光致产酸剂中间体化合物Ⅲ-1-A的HNMR谱图。
图2为实施例2中光致产酸剂化合物Ⅰ-A的HNMR谱图。
具体实施方式
下面通过具体实施例,对本发明的技术方案作进一步的具体说明。应当理解,本发明的实施并不局限于下面的实施例,对本发明所做的任何形式上的变通和/或改变都将落入本发明保护范围。
第一方面,本发明提供一种光致产酸剂中间体的制备方法。
光致产酸剂中间体的结构通式为式Ⅲ
其中,R1为氢或C1~C6烷基,R2为化学键或C1~C6亚烷基,A为有机碱;
优选地,所述的式Ⅲ化合物选自以下式Ⅲ-1、式Ⅲ-2、式Ⅲ-3结构:
其中,R1为氢或C1~C6烷基,R2为化学键或者C1~C6亚烷基。
更优选地,式Ⅲ-1选自式Ⅲ-1-A、式Ⅲ-2选自式Ⅲ-2-A、式Ⅲ-3选自式Ⅲ-2-A:
光致产酸剂中间体Ⅲ合成采用如下酯化反应合成路线:
其中,R1为氢或C1~C6烷基,R2为化学键或C1~C6亚烷基,X为卤族元素,A为有机碱;
其中,光致产酸剂中间体Ⅲ制备原料化合物Ⅳ-1优选为化合物Ⅳ-1-A:
第二方面,本发明提供一种光致产酸剂的制备方法。
光致产酸剂的结构通式为式Ⅰ:
优选地,式Ⅰ选自式Ⅰ-A
实施例1
光致产酸剂中间体制备原料化合物Ⅳ-1-A的制备
制备路线为:
操作步骤为:使用1.0mol的金刚烷甲酸溶于二氯甲烷中,加入催化剂N,N-二甲基甲酰胺,0~10℃下滴加1.5mol的氯化亚砜,滴完慢慢升温至回流反应2h,浓缩至干得化合物Ⅳ-1-A。
实施例2
光致产酸剂中间体Ⅲ-1-A的制备及中间体为Ⅲ-1-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
(1)光致产酸剂中间体Ⅲ-1-A的制备路线为:
操作步骤为:
配有磁力搅拌的2L反应瓶先用氮气置换3次,然后加入化合物Ⅴ-1(69.4g,0.377mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),室温搅拌,白色悬浮,降温至0~5℃,加入三乙胺(95.37g,0.943mol)制备成混合溶液α-1。
另一反应瓶中加入预制备好的金刚烷甲酰氯(化合物Ⅳ-1-A,112.36g,0.566mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),氮气氛中制成混合溶液β-1。
将配制好的混合溶液β-1控温在0~5℃下滴加入混合溶液α-1中,有大量白烟生成,滴加完毕,慢慢升至室温搅拌反应20h。
反应结束,加入甲醇淬灭体系,减压浓缩至干,溶于二氯甲烷中,用去离子水(350mL×3)洗涤,浓缩除去二氯甲烷及其里面含有的少量水份,用甲基叔丁基醚重结晶得140g类白色固体即化合物Ⅲ-1-A,摩尔收率87.27%。
图1为化合物Ⅲ-1-A的HNMR谱图。
(2)中间体为Ⅲ-1-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
操作步骤为:
避光条件下1L反应瓶中加入化合物Ⅲ-1-A(20g,47mmol)、化合物Ⅱ(16.85g,56.4mmol)、水(200mL)和二氯甲烷(200mL),室温搅拌16h。
反应完后,分层,有机相用去离子水(200mL×5)洗涤,浓缩除去二氯甲烷,用甲基叔丁基醚重结晶得类白色固体即化合物Ⅰ-A 24g,摩尔收率87.0%。
图2为化合物Ⅰ-A的HNMR谱图
实施例3
光致产酸剂中间体Ⅲ-2-A的制备及中间体为Ⅲ-2-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
(1)光致产酸剂中间体Ⅲ-2-A的制备路线为:
操作步骤为:
配有磁力搅拌的2L反应瓶先用氮气置换3次,然后加入化合物Ⅴ-1(73.6g,0.4mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),室温搅拌,白色悬浮,降温至0~5℃,加入N,N-二异丙基乙胺(116g,0.9mol)制备成混合溶液α-2。
另一反应瓶中加入预制备好的金刚烷甲酰氯(化合物Ⅳ-1-A,112.36g,0.566mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),氮气氛中制成混合溶液β-2。
将配制好的混合溶液β-2控温在0~5℃下滴加入混合溶液α-2中,有大量白烟生成,滴加完毕,慢慢升至室温搅拌反应20h。
反应结束,加入甲醇淬灭体系,减压浓缩至干,溶于二氯甲烷中,用去离子水(350mL×3)洗涤,浓缩除去二氯甲烷及其里面含有的少量水份,用甲基叔丁基醚重结晶得165.3g类白色固体即化合物Ⅲ-2-A,摩尔收率91.2%。
(2)中间体为Ⅲ-2-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
操作步骤为:
避光条件下1L反应瓶中加入化合物Ⅲ-2-A(20g,44mmol)、化合物Ⅱ(16.85g,56.4mmol)、水(200mL)和二氯甲烷(200mL),室温搅拌16h。
反应完后,分层,有机相用去离子水(200mL×5)洗涤,浓缩除去二氯甲烷,用甲基叔丁基醚重结晶得类白色固体即化合物Ⅰ-A 23g,摩尔收率89.3%。
实施例4
光致产酸剂中间体Ⅲ-3-A的制备及中间体为Ⅲ-3-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
(1)光致产酸剂中间体Ⅲ-3-A的制备路线为:
操作步骤为:
配有磁力搅拌的2L反应瓶先用氮气置换3次,然后加入化合物Ⅴ-1(70g,0.38mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),室温搅拌,白色悬浮,降温至0~5℃,加入吡啶(75g,0.95mol)制备成混合溶液α-3。
另一反应瓶中加入预制备好的金刚烷甲酰氯(化合物Ⅳ-1-A,112.36g,0.566mol)和预先用分子筛干燥过的乙腈(350g),氮气氛中制成混合溶液β-3。
将配制好的混合溶液β-3控温在0~5℃下滴加入混合溶液α-3中,有大量白烟生成,滴加完毕,慢慢升至室温搅拌反应20h。
反应结束,加入甲醇淬灭体系,减压浓缩至干,溶于二氯甲烷中,用去离子水(350mL×3)洗涤,浓缩除去二氯甲烷及其里面含有的少量水份,用甲基叔丁基醚重结晶得141.4g类白色固体即化合物Ⅲ-3-A,摩尔收率92.3%。
(2)中间体为Ⅲ-3-A的光致产酸剂Ⅰ-A的制备
操作步骤为:
避光条件下1L反应瓶中加入化合物Ⅲ-3-A(20g,50mmol)、化合物Ⅱ(16.85g,56.4mmol)、水(200mL)和二氯甲烷(200mL),室温搅拌16h。
反应完后,分层,有机相用去离子水(200mL×5)洗涤,浓缩除去二氯甲烷,用甲基叔丁基醚重结晶得类白色固体即化合物Ⅰ-A 25.6g,摩尔收率87.6%。
Claims (7)
2.根据权利要求1所述的光致产酸剂中间体的制备方法,其特征在于,所述酯化反应合成路线操作步骤为:
a1)在惰性气体保护下,将化合物Ⅴ-1溶于有机溶剂B中,加入有机碱A制备成混合溶液Y-1;
a2)在惰性气体保护下,将化合物Ⅳ-1溶于有机溶剂B,制备成混合溶液Y-2;
a3)在0~15℃温度下,将混合溶液Y-2滴加到混合溶液Y-1中,经酯化反应,得到反应液Z。
3.根据权利要求2所述的光致产酸剂中间体的制备方法,其特征在于,所述酯化反应合成路线操作步骤完成后包含纯化步骤,所述纯化步骤为:
b1)反应结束后,在反应液Z中加入甲醇淬灭;
b2)将步骤b1)所得溶液减压浓缩至干,再将所得固体溶于二氯甲烷中;
b3)将步骤b2)所得溶液用去离子水洗涤,浓缩除去二氯甲烷及其里面含有的少量水份,用甲基叔丁基醚重结晶得化合物Ⅲ。
4.根据权利要求2所述的光致产酸剂中间体的制备方法,其特征在于,所述合成路线操作步骤还包括如下技术特征中的至少一项:
c1)合成路线中X为氯原子;
c2)所述化合物Ⅴ-1与化合物Ⅳ-1的摩尔比为1:(0.8~3);
c3)所述步骤a1)中化合物Ⅴ-1与有机碱A的摩尔比为1:(2~4);
c4)所述步骤a1)和步骤a2)中惰性气体选自氮气、氩气、氦气中至少一种;
c5)所述步骤a1)和步骤a2)中有机溶剂B选自乙腈、四氢呋喃、1,4-二氧六环和N,N-二甲基甲酰胺中的一种;
c6)所述步骤a3)中具体步骤为:控温在0~5℃下,将混合溶液Y-2滴加入混合溶液Y-1中制备混合溶液Z,滴加完毕后,在20-30℃下搅拌15~25h至反应完成。
6.根据权利要求5所述的光致产酸剂中间体的制备方法,其特征在于,所述卤化反应的操作步骤为:将化合物Ⅳ-2溶于二氯甲烷中,加入N,N-二甲基甲酰胺,在0~10℃下滴加卤化试剂,反应1.5~2.5h,浓缩至干得化合物Ⅳ-1。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211205331.XA CN115536557B (zh) | 2022-09-29 | 2022-09-29 | 一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202211205331.XA CN115536557B (zh) | 2022-09-29 | 2022-09-29 | 一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115536557A true CN115536557A (zh) | 2022-12-30 |
CN115536557B CN115536557B (zh) | 2024-01-26 |
Family
ID=84731741
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202211205331.XA Active CN115536557B (zh) | 2022-09-29 | 2022-09-29 | 一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN115536557B (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005132783A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Tokuyama Corp | 多環式化合物 |
JP2009019003A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US20090234155A1 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd. | Acid generating agent for chemically amplified resist compositions |
CN101687741A (zh) * | 2007-09-18 | 2010-03-31 | 中央硝子株式会社 | 2-(烷基羰氧基)-1,1-二氟乙烷磺酸盐类及其制造方法 |
US20110008728A1 (en) * | 2009-05-29 | 2011-01-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition and method of forming resist pattern |
US20140017617A1 (en) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | c/o Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method of producing ammonium salt compound, method of producing compound, and compound, polymeric compound, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern |
CN113912520A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-01-11 | 江苏汉拓光学材料有限公司 | 光致产酸剂及其制备方法 |
CN114149349A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-08 | 江苏汉拓光学材料有限公司 | 一种光致产酸剂、光致产酸剂及其中间体的制备方法 |
-
2022
- 2022-09-29 CN CN202211205331.XA patent/CN115536557B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005132783A (ja) * | 2003-10-31 | 2005-05-26 | Tokuyama Corp | 多環式化合物 |
JP2009019003A (ja) * | 2007-07-11 | 2009-01-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
CN101687741A (zh) * | 2007-09-18 | 2010-03-31 | 中央硝子株式会社 | 2-(烷基羰氧基)-1,1-二氟乙烷磺酸盐类及其制造方法 |
US20090234155A1 (en) * | 2008-03-13 | 2009-09-17 | Korea Kumho Petrochemical Co., Ltd. | Acid generating agent for chemically amplified resist compositions |
US20110008728A1 (en) * | 2009-05-29 | 2011-01-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition and method of forming resist pattern |
US20140017617A1 (en) * | 2012-07-10 | 2014-01-16 | c/o Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method of producing ammonium salt compound, method of producing compound, and compound, polymeric compound, acid generator, resist composition and method of forming resist pattern |
CN113912520A (zh) * | 2021-10-15 | 2022-01-11 | 江苏汉拓光学材料有限公司 | 光致产酸剂及其制备方法 |
CN114149349A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-08 | 江苏汉拓光学材料有限公司 | 一种光致产酸剂、光致产酸剂及其中间体的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN115536557B (zh) | 2024-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111123645A (zh) | 含柏木醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法 | |
CN111056980A (zh) | 含愈创木醇结构的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN109535004B (zh) | 一种n,n,n-三甲基-1-金刚烷基氢氧化铵的制备方法 | |
CN115894329B (zh) | 一种轴手性含2-硫氰基-3-芳基的吲哚衍生物合成方法 | |
CN111116426A (zh) | 含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法 | |
CN115536557A (zh) | 一种光致产酸剂中间体及光致产酸剂的制备方法 | |
Kiebooms et al. | Low-band-gap conjugated polymers. Improved model compounds for the structural analysis of poly (isothianaphthene) | |
CN114349609B (zh) | 一种六苯并蔻二聚体的合成方法 | |
CN108675971B (zh) | 一种制备2,5-呋喃二甲醛的方法 | |
CN113912520A (zh) | 光致产酸剂及其制备方法 | |
CN112794810B (zh) | 环丁胺类化合物的合成方法 | |
JPH0782207A (ja) | フルオレノンの製造方法およびそれに用いる酸化触媒 | |
CN114736120B (zh) | 一种ArF光刻胶用光引发剂三苯基硫鎓盐的制备方法及其应用 | |
CN115947704B (zh) | 一种有机发光材料中间体1-溴二苯并呋喃的制备方法 | |
WO2019173548A1 (en) | Process for preparing soluble guanylate cyclase stimulators | |
JPH04210673A (ja) | スルホニウム塩の製造方法 | |
CN112645997B (zh) | 由表雄酮合成的树脂单体及其制备方法 | |
CN116041184A (zh) | 一种含氟光刻胶树脂单体中间体、含氟光刻胶树脂单体及其制备方法 | |
CN110683949B (zh) | 一种制备9,10-菲二羧酸酯类化合物的方法 | |
CN109456219B (zh) | 一种稳定高效制备n-丙烯酰胺类化合物的方法 | |
KR101042077B1 (ko) | 술폰화된 플루오렌 유도체의 제조방법 | |
CN117946013A (zh) | 一锅法合成5,6-二卤代-3-氨基吡嗪-2-甲酸甲酯的方法 | |
JP2783370B2 (ja) | 第三アミン・三酸化硫黄錯体の製造方法 | |
CN116789702A (zh) | 一种膦酸化合物的氟化方法 | |
KR20200143392A (ko) | 산-불안정 케톤 보호기 기능을 갖는 n-아실화된 아미노산의 에스테르를 제조하는 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |