CN115259684B - 石英器件的镀碳方法 - Google Patents
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Abstract
提供一种石英器件的镀碳方法，其包括：步骤一，将石英器件的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂；步骤二，将涂布覆盖剂的石英器件置于熏碳炉的熏碳管内的与加热区对应的位置，进行镀碳作业；步骤三，待镀碳作业结束后，将石英器件取出，去掉覆盖剂，并清洁石英器件的去掉覆盖剂的区域。在本公开的石英器件的镀碳方法中，通过将石英器件的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂以及在镀碳作业结束后去掉覆盖剂，能够选择性地对被镀碳的石英器件的裸露表面进行镀碳。
Description
技术领域
本公开涉及石英器件领域，更具体地涉及一种石英器件的镀碳方法。
背景技术
在晶体生长领域，相当一部分实验需要在石英管内进行。为了产品脱模顺利和隔绝物料和石英管反应，需要在石英管的表面镀一层碳膜。镀碳原理是将熏碳管抽至真空并保持高真空状态，将被镀的碳石英管加热至一定温度，然后充入甲烷，甲烷在此温度下裂解成碳和氢气，碳会附着在石英管的表面而形成碳膜。但该方法有一点不足，放进熏碳管内的石英管的内外表面均会被镀碳。很多时候诸如石英管和石英封泡的石英器件在镀碳后还需进行焊封，而碳膜又会阻隔石英焊封，故焊封前又需将焊封位置的碳膜烧掉。此过程会耗费更多的人力，而且针对同一片石英相隔的两面，烧碳过程无法做到仅烧掉一个面的效果，如石英封泡无法仅烧掉凸面碳膜，保留凹面碳膜，导致碳膜依然无法覆盖焊封后石英管以及石英封泡形成的整个工作空间的内表面。
发明内容
鉴于背景技术中存在的问题，本公开的目的在于提供一种石英器件的镀碳方法，其能够选择性地对被镀碳的石英器件的裸露表面进行镀碳。
由此，在一些实施例中，一种石英器件的镀碳方法包括：步骤一，将石英器件的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂；步骤二，将涂布覆盖剂的石英器件置于熏碳炉的熏碳管内的与加热区对应的位置，进行镀碳作业；步骤三，待镀碳作业结束后，将石英器件取出，去掉覆盖剂，并清洁石英器件的去掉覆盖剂的区域。
在一些实施例中，在步骤一中，覆盖剂采用去离子水和碳粉混合而成。
在一些实施例中，碳粉的粒度为80-200目，涂布的厚度为0.5-2mm。
在一些实施例中，碳粉和去离子水的体积比(1.5-2):1。
在一些实施例中，在步骤二中，熏碳管内抽至3.0×10-4Pa以下，将加热区加热至1200℃，保温30min。然后关闭抽真空设备，以20ml/min流量充入1L甲烷，充甲烷完成后加热区301保温1h，然后退火至室温。
在一些实施例中，在步骤三中，去掉覆盖剂是采用无尘纸擦掉覆盖剂。
在一些实施例中，在步骤三中，清洁石英器件的去掉覆盖剂的区域是采用去离子水冲洗干净去掉覆盖剂的区域及其附近区域。
在一些实施例中，还包括步骤：将石英器件的去掉覆盖剂的区域清洁后的石英器件放进真空烘箱烤干。
在一些实施例中，石英器件为一端开口而另一端封闭的石英管，不需要镀碳的区域为石英管的焊封处的内表面和外表面。
在一些实施例中，石英器件为一端为凸端而另一端开口的石英封泡，石英封泡用于置于石英管的开口的一端内，石英封泡的不需要镀碳的区域为石英封泡的整个外周面。
本公开的有益效果如下：在本公开的石英器件的镀碳方法中，通过将石英器件的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂以及在镀碳作业结束后去掉覆盖剂，能够选择性地对被镀碳的石英器件的裸露表面进行镀碳。与背景技术的无选择性地全部镀碳再选择性地去除碳膜相比，能精确地确定无需镀碳的部位，能够满足石英器件的各种不同的无需镀碳的要求。
附图说明
图1是本公开的石英器件的镀碳方法的示意图。
图2是图1的石英管的放大图，其中示出覆盖剂覆盖石英管的焊封部位的内外表面。
图3是图1的作为另一石英器件的石英封泡的放大图，其中，覆盖剂覆盖石英封泡的整个外周面。
其中，附图标记说明如下：
D 轴向
100 石英器件
101 石英管
101a 内表面
101b 外表面
102 石英封泡
102a 外周面
200 覆盖剂
300 熏碳炉
301 加热区
302 熏碳管
303 第一法兰
304 第二法兰
305 连接管
305a 甲烷进气口
305b 抽真空设备连接口
306 分流隔热器
307 石英保温罩
具体实施方式
附图示出本公开的实施例，且将理解的是，所公开的实施例仅仅是本公开的示例，本公开可以以各种形式实施，因此，本文公开的具体细节不应被解释为限制，而是仅作为权利要求的基础且作为表示性的基础用于教导本领域普通技术人员以各种方式实施本公开。
[熏碳机构]
参照图1，熏碳机构300包括加热区301、熏碳管302、第一法兰303、第二法兰304、连接管305、分流隔热器306以及石英保温罩307。
加热区301用于对熏碳管302从外部加热，以使经由连接管305通入的甲烷裂解成碳和氢气，进而裂解出的碳附着处于加热区301位置的熏碳管302内的石英器件100的表面，形成碳膜。加热区301可以采用任何合适的手段，例如电阻加热、电磁加热等。
熏碳管302为两端开口的管，熏碳管302用于供石英器件100置于熏碳管302内的处于加热区301内的位置。
第一法兰303密封地且可拆卸地安装在熏碳管302的开口的一端，第一法兰303设有与熏碳管302内部连通的通孔(未示出)。
第二法兰304密封地且可拆卸地安装在熏碳管302的开口的另一端。第二法兰304用于在镀碳作业开始前供石英器件100和石英保温罩307置入熏碳管302内以及在镀碳作业结束后拆下而从熏碳管302中取出石英器件100和石英保温罩307。
连接管305能够密封地连接于第一法兰303，连接管305设有甲烷进气口305a和抽真空设备连接口305b，甲烷进气口305a用于连接于供给甲烷的甲烷源(未示出)，抽真空设备连接口305b用于连接于抽真空设备(未示出)。
分流隔热器306与第一法兰303相邻，分流隔热器306固定在熏碳管302内且至少在熏碳管302的径向的相反的两侧与熏碳管302的内壁间隔开，以在镀碳作业前且连接管305连接于抽真空设备时，对第一法兰303和第二法兰304密封的熏碳管302的内部经由第一法兰303的通孔和分流隔热器306与熏碳管302之间的间隔进行抽真空，以排除空气，以及在镀碳作业开始且连接管305连接于甲烷源时，甲烷源提供的甲烷经由第一法兰303的通孔以及分流隔热器306与熏碳管302之间的间隔供给到熏碳管302的内部(包含与加热区301对应的部位)。
石英保温罩307位于熏碳管302内与第二法兰304相邻，石英保温罩307能够相对熏碳管302沿轴向D移动。分流隔热器306和石英保温罩307对应加热区301的轴向D的边界位置，石英器件100在熏碳管302内镀碳时定位在分流隔热器306和石英保温罩307之间。分流隔热器306和石英保温罩307用于实现熏碳管302的与加热区301对应的区间的保温和隔热，以使熏碳管302的与加热区301对应的区间的温度恒定一致。
在熏碳炉300操作时，在一示例中，先将分流隔热器306置于熏碳管302内且对应加热区301的轴向D的一个边界位置，之后将第一法兰303安装在熏碳管302的开口的一端，之后将石英管101放入到熏碳管302内且处于与加热区301对应的区域内，接着将石英保温罩307置于熏碳管302内且对应加热区301的轴向D的另一个边界位置，随后将第二法兰304安装在熏碳管302的开口的另一端。随后将连接管305密封地连接于第一法兰303，甲烷进气口305a连接于甲烷源，抽真空设备连接口305b连接于抽真空设备。后续即可连接抽真空设备进行抽真空、启动加热区301进行加热、再通入甲烷源提供的甲烷进行镀碳。作业完成后，将第二法兰304拆下，取出石英保温罩307，再取出镀碳完成的石英器件100。
[石英器件的镀碳方法]
石英器件的镀碳方法采用前述的熏碳炉300。
参照图1至图3，石英器件的镀碳方法包括：步骤一，将石英器件100的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂200；步骤二，将涂布覆盖剂200的石英器件100置于熏碳炉300的熏碳管302内的与加热区301对应的位置，进行镀碳作业；步骤三，待镀碳作业结束后，将石英器件100取出，去掉覆盖剂200，并清洁石英器件100的去掉覆盖剂200的区域。
在本公开的石英器件的镀碳方法中，通过将石英器件100的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂200以及在镀碳作业结束后去掉覆盖剂200，能够选择性地对被镀碳的石英器件100的裸露表面进行镀碳。与背景技术的无选择性地全部镀碳再选择性地去除碳膜相比，能精确地确定无需镀碳的部位，能够满足石英器件100的各种不同的无需镀碳的要求。
在步骤一中，在一示例中，覆盖剂200采用去离子水和碳粉混合而成。当然不限于此，本领域技术人员可以选择任何合适的覆盖剂200的组成。
在步骤一中，在一示例中，碳粉的粒度为80-200目，涂布的厚度不小于0.5mm，涂布的最大厚度以便于后续的去除为宜，涂布的最大厚度不大于2mm，即涂布的厚度范围为0.5-2mm。
在步骤一中，在一示例中，碳粉和去离子水的体积比(1.5-2):1。
在步骤二中，在一示例中，熏碳管302内抽至3.0×10-4Pa以下，将加热区301加热至1200℃，保温30min。然后关闭抽真空设备，以20ml/min流量充入1L甲烷，充甲烷完成后保温1h，然后退火至室温。
在步骤三中，在一示例中，去掉覆盖剂200是采用无尘纸擦掉覆盖剂200。与背景技术采用烧炭的方式相比，操作简单方便。
在步骤三中，清洁石英器件100的去掉覆盖剂200的区域是采用去离子水冲洗干净去掉覆盖剂200的区域及其附近区域。
在一示例中，在本公开的石英器件的镀碳方法还包括步骤：将石英器件100的去掉覆盖剂200的部位清洁后的石英器件100放进真空烘箱烤干，从而石英器件100可以用于后续的工序使用。
参照图1和图2，石英器件100为一端开口而另一端封闭的石英管101，不需要镀碳的区域为石英管101的焊封处的内表面101a和外表面101b。
参照图3，石英器件100为一端为凸端而另一端开口的石英封泡102，石英封泡102用于置于石英管101的开口的一端内，石英封泡102的不需要镀碳的区域为石英封泡102的整个外周面102a。注意的是，石英封泡102的不需要镀碳的区域也可以是石英封泡102的整个外周面102a中的等直径圆筒的部位的外表面。
基于针对图2和图3的石英管101和石英封泡102的镀碳操作，能够方便地实现在镀碳作业中对石英管101和石英封泡102的焊封的部位无需镀碳，从而在石英管101和石英封泡102焊封后，能够保持焊封后的石英管101和石英封泡102形成的整个工作空间覆盖有完整的碳膜。
[测试]
实施例1
制备覆盖剂200：采用碳粉混合去离子水，将其搅拌至糊状，碳粉为100目，碳粉和去离子水的体积比1.5:1。
覆盖不镀碳区域：确定石英管101的不需镀碳的区域，针对石英管101，不需镀碳的区域是石英管的焊封处的内表面101a和外表面101b，如图2所示；
涂布覆盖剂200：将覆盖剂200均匀涂抹在石英管101的该不需镀碳的区域，涂布的厚度为1mm；
镀碳作业：将覆盖有覆盖剂200的石英管101放进熏碳管200内的与加热区301对应的位置，如图1所示，将熏碳管302内抽至3.0×10-4Pa以下，将加热区301加热至1200℃，保温30min，然后关闭抽真空系统，以20ml/min流量充入1L甲烷，充甲烷完成后保温1h，然后退火至室温。
出炉清洗：待熏碳炉300降温后，将石英管101取出，用无尘纸擦掉覆盖剂200，并用去离子水冲洗干净，并放进真空烘箱烤干。
实施例2
制备覆盖剂200：采用碳粉混合去离子水，将其搅拌至糊状，碳粉为100目，碳粉和去离子水的体积比2:1。
覆盖不镀碳区域：确定石英封泡102的不需镀碳的区域，针对石英封泡102，不需镀碳的区域是石英封泡102的整个外周面102a(即石英封泡102的凸面)，如图3所示；
涂布覆盖剂200：将覆盖剂200均匀涂抹在石英封泡102的该不需镀碳的区域，涂布的厚度为1mm；
镀碳作业：将覆盖有覆盖剂200的石英管101放进熏碳管200内的与加热区301对应的位置，如图1所示，将熏碳管302内抽至3.0×10-4Pa以下，将加热区301加热至1200℃，保温30min，然后关闭抽真空系统，以20ml/min流量充入1L甲烷，充甲烷完成后保温1h，然后退火至室温。
出炉清洗：待熏碳炉300降温后，将石英封泡102取出，用无尘纸擦掉覆盖剂200，并用去离子水冲洗干净，并放进真空烘箱烤干。
对比例1
与实施例1基本相同，仅不同的是，制备覆盖剂200中碳粉和去离子水的体积比1.5:2。
实施例1和实施例2出炉时，覆盖剂200已成碳粉或轻微结块，用无尘纸擦掉后，可见覆盖位置并未被镀碳，石英管101和石英封泡102的未被覆盖剂200覆盖的表面均被均匀镀碳。对比例1中，涂抹覆盖剂200过程发现覆盖剂200的稠度太低，出炉拭擦覆盖位置后，发现覆盖位置仍被轻微镀碳，但镀碳均匀度和厚度没有对应的石英管101和石英封泡102的其它区域大。
上面详细的说明描述多个示范性实施例，但本文不意欲限制到明确公开的组合。因此，除非另有说明，本文所公开的各种特征可以组合在一起而形成出于简明目的而未示出的多个另外组合。
Claims (8)
1.一种石英器件的镀碳方法，其特征在于，包括：
步骤一，将石英器件（100）的不需要镀碳的区域整个涂布覆盖剂（200）；
步骤二，将涂布覆盖剂（200）的石英器件（100）置于熏碳炉（300）的熏碳管（302）内的与加热区（301）对应的位置，进行镀碳作业；
步骤三，待镀碳作业结束后，将石英器件（100）取出，去掉覆盖剂（200），并清洁石英器件（100）的去掉覆盖剂（200）的区域；
在步骤一中，覆盖剂（200）采用去离子水和碳粉混合而成；
在步骤三中，去掉覆盖剂（200）是采用无尘纸擦掉覆盖剂（200）。
2.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
碳粉的粒度为80-200目，涂布的厚度为0.5-2mm。
3.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
碳粉和去离子水的体积比(1.5-2):1。
4.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
在步骤二中，熏碳管（302）内抽至3.0×10-4Pa以下，将加热区（301）加热至1200℃，保温30min，然后关闭抽真空设备，以20ml/min流量充入1L甲烷，充甲烷完成后加热区（301）保温1h，然后退火至室温。
5.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
在步骤三中，清洁石英器件（100）的去掉覆盖剂（200）的区域是采用去离子水冲洗干净去掉覆盖剂（200）的区域及其附近区域。
6.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，还包括步骤：
将石英器件（100）的去掉覆盖剂（200）的区域清洁后的石英器件（100）放进真空烘箱烤干。
7.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
石英器件（100）为一端开口而另一端封闭的石英管（101），不需要镀碳的区域为石英管（101）的焊封处的内表面（101a）和外表面（101b）。
8.根据权利要求1所述的石英器件的镀碳方法，其特征在于，
石英器件（100）为一端为凸端而另一端开口的石英封泡（102），石英封泡（102）用于置于石英管（101）的开口的一端内，石英封泡（102）的不需要镀碳的区域为石英封泡（102）的整个外周面（102a）。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN115928010B (zh) * | 2022-11-18 | 2023-08-18 | 有研国晶辉新材料有限公司 | 石英容器熏碳装置及熏碳方法 |
Citations (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0448302A2 (en) * | 1990-03-22 | 1991-09-25 | Regents Of The University Of Minnesota | Carbon-clad inorganic oxide particles and the same with a polymer coating thereon |
| JP2000169188A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-20 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ガラス黒色板状体及びその製造方法 |
| KR20050081748A (ko) * | 2004-02-16 | 2005-08-19 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 평면 스위칭 액정 표시 장치의 제조 방법 |
| CN1962933A (zh) * | 2006-10-23 | 2007-05-16 | 四川大学 | 晶体生长的石英坩埚镀碳膜方法与装置 |
| JP2012041228A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Tosoh Quartz Corp | 石英ガラス成形体の製造方法 |
| JP2012250867A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Asahi Glass Co Ltd | 石英ガラスの成形方法 |
| CN202829838U (zh) * | 2012-11-06 | 2013-03-27 | 马天慧 | 石英管或石墨坩埚镀裂解碳装置 |
| CN204097562U (zh) * | 2014-09-16 | 2015-01-14 | 山东省科学院激光研究所 | 毛细玻璃管表面镀碳膜装置 |
| CN104445986A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-03-25 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 一种用于晶体生长的石英安瓿的镀碳方法 |
| CN104947066A (zh) * | 2014-09-16 | 2015-09-30 | 山东省科学院激光研究所 | 毛细玻璃管表面镀碳膜工艺 |
| CN108914051A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-11-30 | 北京煜鼎增材制造研究院有限公司 | 金属材料激光表面渗碳工艺及其涂碳装置 |
| CN109136837A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-04 | 信利光电股份有限公司 | 一种镀膜方法、装饰盖板及终端 |
| JP2019014950A (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-31 | メテック株式会社 | めっき処理システム及びめっき処理方法 |
| CN109652855A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-19 | 中国电子科技集团公司第十研究所 | 石英舟熏碳方法及锑化铟提纯方法 |
| CN112851138A (zh) * | 2020-12-26 | 2021-05-28 | 云南农业大学 | 一种石英安瓿壁面熏碳装置 |
| CN113359042A (zh) * | 2021-06-07 | 2021-09-07 | 芜湖天弋能源科技有限公司 | 一种无损检测锂离子电池正极漏涂碳层的方法 |
| CN215517626U (zh) * | 2021-09-17 | 2022-01-14 | 安徽光智科技有限公司 | 一种熏碳炉使用的甲烷气体分流装置 |
| CN114635187A (zh) * | 2022-04-24 | 2022-06-17 | 安徽光智科技有限公司 | 低硅高纯锗材料的制备方法 |
-
2022
- 2022-08-02 CN CN202210920571.1A patent/CN115259684B/zh active Active
Patent Citations (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0448302A2 (en) * | 1990-03-22 | 1991-09-25 | Regents Of The University Of Minnesota | Carbon-clad inorganic oxide particles and the same with a polymer coating thereon |
| JP2000169188A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-20 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 石英ガラス黒色板状体及びその製造方法 |
| KR20050081748A (ko) * | 2004-02-16 | 2005-08-19 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 평면 스위칭 액정 표시 장치의 제조 방법 |
| CN1962933A (zh) * | 2006-10-23 | 2007-05-16 | 四川大学 | 晶体生长的石英坩埚镀碳膜方法与装置 |
| JP2012041228A (ja) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Tosoh Quartz Corp | 石英ガラス成形体の製造方法 |
| JP2012250867A (ja) * | 2011-06-01 | 2012-12-20 | Asahi Glass Co Ltd | 石英ガラスの成形方法 |
| CN202829838U (zh) * | 2012-11-06 | 2013-03-27 | 马天慧 | 石英管或石墨坩埚镀裂解碳装置 |
| CN104947066A (zh) * | 2014-09-16 | 2015-09-30 | 山东省科学院激光研究所 | 毛细玻璃管表面镀碳膜工艺 |
| CN204097562U (zh) * | 2014-09-16 | 2015-01-14 | 山东省科学院激光研究所 | 毛细玻璃管表面镀碳膜装置 |
| CN104445986A (zh) * | 2014-11-20 | 2015-03-25 | 中国工程物理研究院化工材料研究所 | 一种用于晶体生长的石英安瓿的镀碳方法 |
| JP2019014950A (ja) * | 2017-07-10 | 2019-01-31 | メテック株式会社 | めっき処理システム及びめっき処理方法 |
| CN108914051A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-11-30 | 北京煜鼎增材制造研究院有限公司 | 金属材料激光表面渗碳工艺及其涂碳装置 |
| CN109136837A (zh) * | 2018-10-18 | 2019-01-04 | 信利光电股份有限公司 | 一种镀膜方法、装饰盖板及终端 |
| CN109652855A (zh) * | 2018-11-29 | 2019-04-19 | 中国电子科技集团公司第十研究所 | 石英舟熏碳方法及锑化铟提纯方法 |
| CN112851138A (zh) * | 2020-12-26 | 2021-05-28 | 云南农业大学 | 一种石英安瓿壁面熏碳装置 |
| CN113359042A (zh) * | 2021-06-07 | 2021-09-07 | 芜湖天弋能源科技有限公司 | 一种无损检测锂离子电池正极漏涂碳层的方法 |
| CN215517626U (zh) * | 2021-09-17 | 2022-01-14 | 安徽光智科技有限公司 | 一种熏碳炉使用的甲烷气体分流装置 |
| CN114635187A (zh) * | 2022-04-24 | 2022-06-17 | 安徽光智科技有限公司 | 低硅高纯锗材料的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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