CN115223450B - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了显示面板及其制备方法和显示装置,显示面板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区以及围绕所述显示区的周边区,所述周边区包括第一扇出区和第二扇出区,所述第一扇出区邻近所述显示区设置,所述第二扇出区位于所述第一扇出区远离所述显示区的一侧;多条数据线,所述多条数据线位于所述衬底基板的一侧,并自所述显示区延伸至所述第一扇出区和所述第二扇出区;至少一条虚拟数据线,所述至少一条虚拟数据线位于所述第二扇出区内且位于两条相邻的所述数据线之间,所述虚拟数据线的延伸方向与所述数据线的延伸方向相一致。由此,显示面板具有较高的产品良率和较优的显示性能。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体地,涉及显示面板及其制备方法和显示装置。
背景技术
随着平板显示技术的发展,电子消费品的多功能化要求显示面板的屏占比越来越高,相应地,显示面板的边框也就越来越窄,这对显示面板的电路结构设计提出了更高的要求,如何提升窄边框产品制程良率就成为了亟待解决的问题。
因此,目前的显示面板及其制备方法和显示装置仍有待改进。
发明内容
本申请是基于发明人对于以下事实和问题的发现和认识做出的:
发明人发现,在窄边框显示面板的工艺制程中,由于扇出区内不同区域数据线的设计线密度不一致,会导致光刻处理形成数据线结构后,扇出区内不同区域的数据线线宽差异较大,导致数据线不良高发,因此提升光刻处理后扇出区内的数据线线宽的均一性对于显示面板的显示性能提高,尤其是窄边框显示面板的良率提升极具意义
本申请旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。
在本申请的一个方面,本申请提出了一种显示面板,包括:衬底基板,所述衬底基板包括显示区以及围绕所述显示区的周边区,所述周边区包括第一扇出区和第二扇出区,所述第一扇出区邻近所述显示区设置,所述第二扇出区位于所述第一扇出区远离所述显示区的一侧;多条数据线,所述多条数据线位于所述衬底基板的一侧,并自所述显示区延伸至所述第一扇出区和所述第二扇出区;至少一条虚拟数据线,所述至少一条虚拟数据线位于所述第二扇出区内且位于两条相邻的所述数据线之间,所述虚拟数据线的延伸方向与所述数据线的延伸方向相一致。由此,显示面板具有较高的产品良率和较优的显示性能。
根据本申请的实施例,所述显示区、所述第一扇出区和所述第二扇出区沿第一方向排布,所述第二扇出区在第二方向上具有第一边缘子区域、中心子区域和第二边缘子区域,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述虚拟数据线位于边缘子区域内。由此,可以提高扇出区内不同区域的线密度均一性。
根据本申请的实施例,位于所述中心子区域内相邻的两个所述数据线在所述第二方向上的间距为D1,位于所述边缘子区域内相邻的两个所述数据线在所述第二方向上的间距为D2,当(D2-D1)/D1不小于50%时,相邻的所述数据线之间具有至少一条所述虚拟数据线。由此,可以进一步提高扇出区内不同区域的数据线线宽均一性。
根据本申请的实施例,所述D1为1-5微米,所述D2为1-5微米。由此,可以提高扇出区的线密度均一性。
根据本申请的实施例,所述数据线的线宽为1-5微米,所述虚拟数据线的线宽为1-5微米。由此,可以提高数据线线宽的均一性。
根据本申请的实施例,相邻的所述数据线之间具有一条所述虚拟数据线,自所述边缘子区域朝向所述中心子区域的方向上,多条所述虚拟数据线的宽度逐渐减小。由此,可以进一步提高显示面板的显示性能。由此,可以进一步提高扇出区内的数据线线宽均一性。
根据本申请的实施例,所述虚拟数据线包括多个子电极块,多个所述子电极块沿数据线延伸方向间隔排布。由此,可以通过多种结构的虚拟数据线提高数据线线宽的均一性。
根据本申请的实施例,所述边缘子区域内的相邻的所述数据线与所述虚拟数据线之间的距离为D3,(D3-D1)/D1不大于30%。由此,可以进一步提高显示面板的显示性能。
在本申请的又一个方面,本申请提出了一种制备前述的显示面板的方法,包括:提供衬底基板,在所述衬底基板上设置用于形成数据线的金属层;对所述金属层进行光刻处理,以基于同一次所述光刻处理,形成数据线和虚拟数据线。由此,可以通过虚拟数据线的设置提高扇出区内数据线线密度较低区域的线密度,从而提高扇出区数据线线宽的均一性。
在本申请的又一个方面,本申请提出了一种显示装置,包括前述的显示面板。由此,该显示装置具有前述显示面板的全部特征及优点,在此不再赘述。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1显示了根据本申请一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图2显示了根据本申请又一个实施例的显示面板的部分结构示意图;
图3显示了相关技术中的显示面板的部分结构示意图;
图4显示了根据本申请又一个实施例的显示面板的部分结构示意图。
附图标记说明:
1:数据线;2:虚拟数据线;100:显示区;210:第一扇出区;220:第二扇出区;221:第一边缘子区域;222:中心子区域;223:第二边缘子区域。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的一个方面,本申请提出了一种显示面板,参考图1和图2,包括:衬底基板,衬底基板包括显示区100以及围绕显示区的周边区,周边区包括第一扇出区210和第二扇出区220,第一扇出区210邻近显示区100设置,第二扇出区220位于第一扇出区210远离显示区100的一侧;多个子像素,多个子像素位于显示区100;多条数据线1,多条数据线1位于衬底基板的一侧,并自显示区100延伸至第一扇出区210和第二扇出区220,且被配置为为多个子像素提供数据信号;至少一条虚拟数据线2,至少一条虚拟数据线2位于第二扇出区220内且位于两条相邻的数据线1之间,虚拟数据线2的延伸方向与数据线1的延伸方向相一致。由此,该显示面板可以在产品设计开发时,通过在掩模板预设数据线以及虚拟数据线的透光孔,从而通过虚拟数据线的添加提升原本数据线线密度相对较低的区域的线密度,进而通过提高掩模板各区域的线形开孔的线密度均一性,提升扇周边区中不同区域曝光后数据线线宽的均一性,进而在缩小显示面板扇出区宽度的同时,还可以减少数据线断路不良的发生,提升窄边框显示面板的良率,提升产品竞争力。
为了便于理解,下面对于本申请中的显示面板具有上述有益效果的原理进行说明:
发明人发现,数据线的线宽与数据线自身的阻值密切相关,为了提高数据信号的传输准确性和一致性,同一显示面板中的数据线宽度应尽可能的保持一致。参见图3,相关技术的数据线1’自第一扇出区210’延伸至第二扇出区220’后,位于第一扇出区210’中的A区域的数据线1’在第二扇出区中的线宽为1.88微米,类似地,位于第一扇出区210’中的B区域的数据线1’在第二扇出区中的线宽2.05微米,位于第一扇出区210’中的A区域的数据线1’在第二扇出区中的线宽2.02微米。A区域为数据线相对稀疏区域,B区域和C区域为数据线相对密集区域,即A区域的数据线线宽相较于B和C区域的数据线线宽偏小0.2微米,从而导致A区域的数据线线宽过窄,数据线不良高发。
进一步地,发明人发现,显示面板上的数据线结构均通过一次曝光处理形成,具体地,以正性光刻胶为例,曝光处理可以包括:将掩模板与衬底基板对位设置,衬底基板上具有依次层叠设置的金属层和光刻胶层;掩模板上具有预设孔,预设孔在衬底基板上的正投影与数据线在衬底基板上的正投影重合;进行光刻处理,以使得除数据线所在区域外的光刻胶层去交联;去除已去交联的光刻胶层以暴露除数据线所在区域外的金属层,并进行刻蚀处理以去除多余的金属层;最后去除数据线所在区域的未去交联的光刻胶层以获得显示面板。在曝光过程中,显示面板上各区域所接收的光总量是一定的,对于数据线设计较为稀疏的区域,在曝光强度和时间一致的前提下,其相较于数据线设计较为密集的区域而言,数据线周边区域的吃光量更大,从而使得数据线周边区域在后续的蚀刻过程中被刻蚀的程度更大,最终导致原本不应被蚀刻的数据线区域也被一定程度上刻蚀,使得获得的数据线线宽相较于设计宽度值更窄。
在本申请中,通过在原本的数据线设计较为稀疏的区域,在相邻数据值之间设置虚拟数据线,从而可以在数据线设计较为稀疏的区域进行曝光时,通过虚拟数据线的设置减小数据线周边区域的吃光量,使得原本的数据线设计较为稀疏的区域的数据线和虚拟数据线的总线密度与原本的数据线设计较为密集的区域线密度相接近,进而提高数据线密集区域和数据线稀疏区曝光处理后得到的数据线宽度均一性。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“宽度”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
根据本申请的一些实施例,显示面板的结构不受特别限制,例如,参考图1和图2,显示区100、第一扇出区210和第二扇出区220可以沿第一方向排布,第二扇出区220在第二方向上具有第一边缘子区域221、中心子区域222和第二边缘子区域223,第二方向与第一方向垂直,虚拟数据线2可以位于边缘子区域内。
根据本申请的另一些实施例,虚拟数据线2和数据线1的相对位置关系不受特别限制,只要虚拟数据线2和数据线1的在衬底基板上的正投影不重合即可,即虚拟数据线与数据线之间无任何电连接,从而可以避免虚拟数据线在显示面板工作时影响数据线的数据传输。
根据本申请的一些实施例,参考图2和图4,虚拟数据线的设置位置不受特别限制,例如,当位于中心子区域212内相邻的两个数据线1在第二方向上的间距为D1,位于边缘子区域223内相邻的两个数据线1在第二方向上的间距为D2时,当(D2-D1)/D1不小于50%时,相邻的数据线1之间可以具有至少一条虚拟数据线2,从而即可以在数据线的曝光成型过程中防止数据线因曝光过度,进而因过度刻蚀使其线宽过窄,发生断路不良。
可以理解的是,在本申请中,子边缘区域包括第一子边缘区域和/或第二子边缘区域。
根据本申请的一些实施例,D2的范围不受特别限制,例如,当D1为1-5微米时,D2可以为1-5微米,从而即可以实现提高资边缘子区域内数据线线宽与中心子区域数据线线宽一致性的效果。
根据本申请的一些实施例,数据线的宽度和虚拟数据线的宽度均不受特别限制,例如,数据线的线宽可以为1-5微米,虚拟数据线的线宽可以为1-5微米。
在本申请中,无论是否使用“大约”或“约”等字眼,所有在此公开了的数字均为近似值。每一个数字的数值有可能会出现10%以下的差异或者本领域人员认为的合理的差异,如1%、2%、3%、4%或5%的差异。
根据本申请的一些实施例,虚拟数据线的设置方式不受特别限制,例如,参考图2,相邻的数据线1之间可以具有一条虚拟数据线2,自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上,多条虚拟数据线2的宽度可以逐渐减小。由于自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上数据线的线密度是逐渐增大的,相应地,自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上,虚拟数据线2的宽度可以逐渐减小,从而实现对于由边缘子区域朝向中心子区域的线密度梯度补偿,进而使得第二扇出区的整体线密度具有较高的一致性。
根据本申请的一些实施例,虚拟数据线的设置方式不受特别限制,例如,相邻的数据线1之间可以具有多条虚拟数据线2,自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上,多条虚拟数据线2的总宽度可以逐渐减小。由于自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上数据线的线密度是逐渐增大的,相应地,自边缘子区域223朝向中心子区域222的方向上,位于相邻数据线1之间的多条虚拟数据线2的总宽度可以逐渐减小,从而使得第二扇出区的整体线密度具有较高的一致性。
可以理解的是,当相邻的数据线1之间可以具有多条虚拟数据线2时,多条虚拟数据线可以是相接触的,即位于相邻的数据线之间的虚拟数据线可以是电连接,只要其不与相邻的数据线电连接即可。
根据本申请的一些实施例,虚拟数据线的结构不受特别限制,例如,参考图2,虚拟数据线包括多个子电极块,多个子电极块沿数据线延伸方向间隔排布,多个子电极块共同构成呈虚线状的虚拟数据线,进一步地,多个子电极块的宽度可以保持一致。根据本申请的一些实施例,参考图4,虚拟数据线可以为连续的线状结构。又例如,本申请中的虚拟数据线可以为曲线结构。
根据本申请的一些实施例,通过虚拟数据线的设置,可以使得边缘子区域内数据线与虚拟数据线的总线密度与中心子区域的数据线线密度较为接近,例如,当边缘子区域内的相邻的数据线与虚拟数据线之间的距离为D3时,(D3-D1)/D1不大于30%,整个第二扇出区的线密度一致性较高。
在本申请的又一个方面,本申请提出了一种制备前述的显示面板的方法,包括:提供衬底基板,在衬底基板上设置用于形成数据线的金属层;对金属层进行光刻处理,以基于同一次光刻处理,形成数据线和虚拟数据线。具体地,包括以下步骤:显示面板上的数据线结构均通过一次曝光处理形成,具体地,以正性光刻胶为例,曝光处理可以包括:将掩模板与衬底基板对位设置,衬底基板上具有依次层叠设置的金属层和光刻胶层;掩模板上具有预设孔,预设孔在衬底基板上的正投影与数据线以及虚拟数据线在衬底基板上的正投影重合;进行光刻处理,以使得除数据线和虚拟数据线外所在区域的光刻胶层去交联;去除已去交联的光刻胶层以暴露除数据线和虚拟数据线所在区域外的金属层,并进行刻蚀处理以去除多余的金属层;最后去除数据线和虚拟数据线所在区域的未去交联的光刻胶层以获得显示面板。在曝光过程中,通过在原本的数据线设计较为稀疏的区域,在相邻数据值之间设置虚拟数据线,从而可以在数据线设计较为稀疏的区域进行曝光时,通过虚拟数据线的设置减小数据线周边区域的吃光量,使得原本的数据线设计较为稀疏的区域的数据线和虚拟数据线的总线密度与原本的数据线设计较为密集的区域线密度相接近,进而提高数据线密集区域和数据线稀疏区曝光处理后得到的数据线宽度均一性。
在本申请的又一个方面,本申请提出了一种显示装置,包括前述的显示面板。由此,该显示装置具有前述显示面板的全部特征及优点,在此不再赘述。
根据本申请的一些实施例,前述的显示面板可以在较窄的第二扇出区时仍具有较好的显示效果,因此该显示装置尤其适用于窄边框及配置有窄边框的显示器。
在本申请的描述中,“第一特征”、“第二特征”可以包括一个或者更多个该特征。
在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,“A和/或B”可以包括单独A的情况,单独B的情况,A和B的情况的任一种,其中A、B仅用于举例,其可以是本申请中使用“和/或”连接的任意技术特征。
除非另外说明,本申请所使用的所有科技术语具有与本申请所属领域技术人员的通常理解相同的含义。本申请涉及的所有专利和公开出版物通过引用方式整体并入本申请。术语“包含”或“包括”为开放式表达,即包括本申请所指明的内容,但并不排除其他方面的内容。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。另外,需要说明的是,本说明书中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本申请的限制,本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (8)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底基板,所述衬底基板包括显示区以及围绕所述显示区的周边区,所述周边区包括第一扇出区和第二扇出区,所述第一扇出区邻近所述显示区设置,所述第二扇出区位于所述第一扇出区远离所述显示区的一侧;
多条数据线,所述多条数据线位于所述衬底基板的一侧,并自所述显示区延伸至所述第一扇出区和所述第二扇出区;
至少一条虚拟数据线,所述至少一条虚拟数据线位于所述第二扇出区内且位于两条相邻的所述数据线之间,所述虚拟数据线的延伸方向与所述数据线的延伸方向相一致;
所述显示区、所述第一扇出区和所述第二扇出区沿第一方向排布,所述第二扇出区在第二方向上具有第一边缘子区域、中心子区域和第二边缘子区域,所述第二方向与所述第一方向垂直,所述虚拟数据线位于边缘子区域内;
所述虚拟数据线包括多个子电极块,多个所述子电极块沿数据线延伸方向间隔排布。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,位于所述中心子区域内相邻的两个所述数据线在所述第二方向上的间距为D1,位于所述边缘子区域内相邻的两个所述数据线在所述第二方向上的间距为D2,当(D2-D1)/D1不小于50%时,相邻的所述数据线之间具有至少一条所述虚拟数据线。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述D1为1-5微米,所述D2为1-5微米。
4.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述数据线的线宽为1-5微米,所述虚拟数据线的线宽为1-5微米。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,相邻的所述数据线之间具有一条所述虚拟数据线,自所述边缘子区域朝向所述中心子区域的方向上,多条所述虚拟数据线的宽度逐渐减小。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述边缘子区域内的相邻的所述数据线与所述虚拟数据线之间的距离为D3,(D3-D1)/D1不大于30%。
7.一种制备权利要求1-6任一项所述的显示面板的方法,其特征在于,包括:
提供衬底基板,在所述衬底基板上设置用于形成数据线的金属层;
对所述金属层进行光刻处理,以基于同一次所述光刻处理,形成数据线和虚拟数据线。
8.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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