CN116313236A - 金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板 - Google Patents

金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板 Download PDF

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CN116313236A CN202310207540.6A CN202310207540A CN116313236A CN 116313236 A CN116313236 A CN 116313236A CN 202310207540 A CN202310207540 A CN 202310207540A CN 116313236 A CN116313236 A CN 116313236A
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陈俊铭
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Interface Optoelectronics Shenzhen Co Ltd
Interface Technology Chengdu Co Ltd
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General Interface Solution Ltd
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Abstract

本申请涉及一种金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板，金属网格导电膜包括基材、第一金属网格图案和第二金属网格图案。基材具有第一区域、第二区域和拼接区域。第一金属网格图案设置于第一区域和拼接区域，包括平行设置的多个第一金属线和平行设置的多个第二金属线。第一金属线与第二金属线交叉相连。第二金属网格图案设置于第二区域和拼接区域，包括平行设置的多个第三金属线和平行设置的多个第四金属线。第三金属线与第四金属线交叉相连。在拼接区域，第一金属线与第四金属线交叉相连，第三金属线与第二金属线交叉相连，以使第一金属网格图案和第二金属网格图案拼接形成网格图案。上述金属网格导电膜能够保证触控显示面板的视觉效果。

Description

金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板
技术领域
本申请涉及金属网格导电膜技术领域，特别是涉及一种金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板。
背景技术
金属网格导电膜包括基材和设置于基材一侧的金属网格，常用作触控显示面板中的触控感应层。相比ITO(氧化铟锡)导电膜，金属网格导电膜的电阻更小，触控响应速度更快，适用于大尺寸的触控显示面板。
相关技术中，金属网格图案通过光刻工艺制作，受限于设备尺寸，通常采用小尺寸的多个光罩进行多次曝光拼接，以形成大尺寸的曝光图案，进而在基材上形成大尺寸的金属网格图案。目前的金属网格导电膜中，受拼接时的对位偏差影响，拼接区域的图案容易与常规区域的图案产生明显差异，影响触控显示面板的视觉效果。
发明内容
基于此，有必要提供一种金属网格导电膜及其制作方法和触控显示面板，以保证触控显示面板的视觉效果。
根据本申请的第一方面，本申请实施例提供了一种金属网格导电膜，包括：
基材，具有第一区域、第二区域和位于所述第一区域和所述第二区域之间的拼接区域；
第一金属网格图案，设置于所述基材一侧，且位于所述第一区域和所述拼接区域；所述第一金属网格图案包括平行设置的多个第一金属线和平行设置的多个第二金属线；所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸；所述第一金属线与所述第二金属线交叉相连；以及
第二金属网格图案，设置于所述基材一侧，且位于所述第二区域和所述拼接区域；所述第二金属网格图案包括平行设置的多个第三金属线和平行设置的多个第四金属线；所述第三金属线沿所述第一方向延伸，所述第四金属线沿所述第二方向延伸；所述第三金属线与所述第四金属线交叉相连；
其中，所述第一方向和所述第二方向相交，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的排布密度，小于所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的排布密度；所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的排布密度，小于所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的排布密度；
在所述拼接区域，所述第一金属线与所述第四金属线交叉相连，所述第三金属线与所述第二金属线交叉相连，以使所述第一金属网格图案和所述第二金属网格图案拼接形成网格图案。
在其中一个实施例中，在所述拼接区域，所述第一金属线和所述第三金属线交替排布，所述第二金属线和所述第四金属线交替排布。
在其中一个实施例中，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的线距等于第一预设线距，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的线距等于第二预设线距；
所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的线距等于所述第一预设线距，所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的线距等于所述第二预设线距；
其中，所述第二预设线距与所述第一预设线距的比值为2。
在其中一个实施例中，所述第一金属线和所述第二金属线在所述第一区域形成多个第一网格单元，在所述拼接区域形成多个第二网格单元和第一不规则单元；
所述第三金属线和所述第四金属线在所述第二区域形成多个所述第一网格单元，在所述拼接区域形成多个所述第二网格单元和第二不规则单元；
其中，所述第一金属线和所述第二金属线在所述拼接区域形成的所述第二网格单元，与所述第三金属线和所述第四金属线在所述拼接区域形成的所述第二网格单元能够拼接形成所述网格图案；所述第一不规则单元与所述第二不规则单元能够拼接形成所述网格图案；
所述第一网格单元与所述第二网格单元为相似四边形，所述第一网格单元与所述第二网格单元的相似比为2。
在其中一个实施例中，所述第一网格单元和所述第二网格单元的形状为菱形。
在其中一个实施例中，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的线宽，大于所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的线宽；
所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的线宽，大于所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的线宽。
根据本申请的第二方面，本申请实施例还提供了一种触控显示面板，包括触控感应层，所述触控感应层配置为上述金属网格导电膜。
根据本申请的第三方面，本申请实施例还提供了一种金属网格导电膜的制作方法，用于制造上述金属网格导电膜；
该制作方法包括：
提供光刻胶板；所述光刻胶板包括依次叠设的所述基材、金属层和光刻胶层；
在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案；
对所述光刻胶板进行显影、蚀刻和去胶，以使所述金属层在所述基材一侧形成所述第一金属网格图案和所述第二金属网格图案。
在其中一个实施例中，所述在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案具体包括：
通过所述光刻胶板上的第一对位标记使第一光罩相对所述光刻胶板定位，透过所述第一光罩对所述光刻胶板进行曝光以形成所述第一曝光图案；
通过所述光刻胶板上的第二对位标记使第二光罩相对所述光刻胶板定位，透过所述第二光罩对所述光刻胶板进行曝光以形成所述第二曝光图案。
在其中一个实施例中，所述第一对位标记和所述第二对位标记为同一对位标记。
在其中一个实施例中，所述在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案之前还包括：
在所述光刻胶板上形成所述第一对位标记和所述第二对位标记。
上述金属网格导电膜中，通过各金属线在拼接区域交叉相连实现线路的电性连接，在保证连接可靠性的同时，拼接区域的图案与常规区域的图案能够尽可能保持一致。由于拼接区域中第一金属线和第二金属线的连接以及第三金属线和第四金属线的连接由单次的曝光图案形成，不受对位偏差影响，对位偏差仅影响第一金属线与第四金属线的连接以及第二金属线与第三金属线的连接，从而减少了对位偏差对拼接区域的图案的影响，以保证触控显示面板的视觉效果。另外，拼接区域中第一金属线和第二金属线的连接以及第三金属线和第四金属线的连接还保证了较多的连接点数量，降低了触控功能的失效风险，提高了产品良率。
附图说明
图1为本申请一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；
图2为图1所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；
图3为图1所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图；
图4为本申请另一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；
图5为图4所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；
图6为图4所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图；
图7为本申请又一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；
图8为图7所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；
图9为图7所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图；
图10为本申请一实施例中第一金属线的结构示意图；
图11为本申请一实施例中金属网格导电膜的制作方法的流程示意图；
图12为本申请一实施例中光刻胶板与第一光罩、第二光罩的对位示意图；
图13为图12中第一光罩的结构示意图；
图14为图12中第二光罩的结构示意图。
附图标记说明：
10、基材A、第一区域
B、第二区域C、拼接区域
20、第一金属网格图案 21、第一金属线
211、第一主体部 212、第一延伸部
22、第二金属线 30、第二金属网格图案
31、第三金属线 32、第四金属线
m1、第一网格单元m2、第二网格单元
100、光刻胶板 200、第一光罩
210、第一遮光结构 220、第一对位结构；
300、第二光罩 310、第二遮光结构
320、第二对位结构
具体实施方式
为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。
在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
图1示出了本申请一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；图2示出了图1所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；图3示出了图1所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图。
参见图1至图3，本申请实施例提供了一种金属网格导电膜，包括基材10、第一金属网格图案20和第二金属网格图案30。基材10具有第一区域A、第二区域B和位于第一区域A和第二区域B之间的拼接区域C。第一金属网格图案20设置于基材10一侧，且位于第一区域A和拼接区域C。第一金属网格图案20包括平行设置的多个第一金属线21和平行设置的多个第二金属线22。第一金属线21沿第一方向(图中a方向)延伸，第二金属线22沿第二方向(图中b方向)延伸，第一金属线21与第二金属线22交叉相连。第二金属网格图案30设置于基材10一侧，且位于第二区域B和拼接区域C。第二金属网格图案30包括平行设置的多个第三金属线31和平行设置的多个第四金属线32。第三金属线31沿第一方向延伸，第四金属线32沿第二方向延伸，第三金属线31与第四金属线32交叉相连。
其中，第一方向和第二方向相交，第一金属线21和第二金属线22位于拼接区域C的排布密度，小于第一金属线21和第二金属线22位于第一区域A的排布密度。第三金属线31和第四金属线32位于拼接区域C的排布密度，小于第三金属线31和第四金属线32位于第二区域B的排布密度。在拼接区域C，第一金属线21与第四金属线32交叉相连，第三金属线31与第二金属线22交叉相连，以使第一金属网格图案20和第二金属网格图案30拼接形成网格图案。
相关技术一些实施例中，第一金属网格图案和第二金属网格图案在拼接区域通过搭接点进行拼接实现线路的电性连接，考虑到拼接时的对位偏差影响，需要增大搭接点的尺寸以保证连接可靠性，但搭接点过大则会影响触控显示面板的视觉效果。而本申请实施例的金属网格导电膜中，通过各金属线在拼接区域C交叉相连实现线路的电性连接，在保证连接可靠性的同时，拼接区域C的图案与常规区域(即第一区域A和第二区域B)的图案能够尽可能保持一致，从而保证触控显示面板的视觉效果。
相关技术另一些实施例中，第一金属网格图案在拼接区域仅具有平行设置的一种金属线，第二金属网格图案在拼接区域仅具有平行设置的另一种金属线，且两种金属线的延伸方向相交。在不存在对位偏差的理想情况下，拼接区域的图案与常规区域的图案能够保持一致。然而，在存在对位偏差的实际情况下，拼接区域所有金属线的连接均受到对位偏差的影响，导致拼接区域的图案容易与常规区域的图案产生明显差异，影响触控显示面板的视觉效果。同时，拼接区域金属线之间的连接点数量不足，还会提高触控功能的失效风险，导致产品良率低。
而本申请实施例的金属网格导电膜中，由于拼接区域C中第一金属线21和第二金属线22的连接以及第三金属线31和第四金属线32的连接由单次的曝光图案形成，不受对位偏差影响，对位偏差仅影响第一金属线21与第四金属线32的连接以及第二金属线22与第三金属线31的连接，从而减少了对位偏差对拼接区域C的图案的影响，以保证触控显示面板的视觉效果。另外，拼接区域C中第一金属线21和第二金属线22的连接以及第三金属线31和第四金属线32的连接还保证了较多的连接点数量，降低了触控功能的失效风险，提高了产品良率。
继续参见图1，在一些实施例中，在拼接区域C，第一金属线21和第三金属线31交替排布，第二金属线22和第四金属线32交替排布。如此，在拼接区域C，第一金属线21、第二金属线22、第三金属线31和第四金属线32的数量大致相等且排布均匀。一方面，排布的均匀性有助于减小拼接区域C的图案与常规区域的图案的差异，从而保证触控显示面板的视觉效果。另一方案，在拼接区域C的金属线总数一定的情况下，四种金属线数量大致相等能够最大化第一金属线21和第四金属线32以及第二金属线22和第三金属线31的连接点数量，从而提高第一金属网格图案20和第二金属网格图案30的连接可靠性。
作为一种可选的实施方式，参见图2，第一金属线21和第二金属线22位于第一区域A的线距H11和H21等于第一预设线距。第一金属线21和第二金属线22位于拼接区域C的线距H12和H22等于第二预设线距。第三金属线31和第四金属线32位于第二区域B的线距H31和H41等于第一预设线距，第三金属线31和第四金属线32位于拼接区域C的线距H32和H42等于第二预设线距。其中，第二预设线距与第一预设线距的比值为2。如此，在拼接区域C，相邻的第一金属线21与第三金属线31之间的距离，以及相邻的第二金属线22与第四金属线32之间的距离能够接近第一预设线距，有助于减小拼接区域C的图案与常规区域的图案的差异，从而保证触控显示面板的视觉效果。
图4示出了本申请另一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；图5示出了图4所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；图6示出了图4所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图。
参见图4至图6，在一些实施例中，第一金属线21和第二金属线22在第一区域A形成多个第一网格单元m1，在拼接区域C形成多个第二网格单元m2和第一不规则单元。第三金属线31和第四金属线32在第二区域B形成多个第一网格单元m1，在拼接区域C形成多个第二网格单元m2和第二不规则单元。其中，其中，第一金属线21和第二金属线22在拼接区域C形成的第二网格单元m2，与第三金属线31和第四金属线32在拼接区域C形成的第二网格单元m2能够拼接形成网格图案，第一不规则单元与第二不规则单元能够拼接形成网格图案。第一网格单元m1与第二网格单元m2为相似四边形，第一网格单元m1与第二网格单元m2的相似比为2。
如此，第二网格单元m2的形状与第一网格单元m1的形状相同，且多个第二网格单元m2、第一不规则单元和第二不规则单元能够拼接形成多个与第一网格单元m1相同或相近的网格图案，有助于减小拼接区域C的图案与常规区域的图案的差异，从而保证触控显示面板的视觉效果。可选的，第一网格单元m1和第二网格单元m2的形状为菱形。
图7示出了本申请又一实施例中金属网格导电膜的结构示意图；图8示出了图7所示金属网格导电膜中第一金属网格图案的结构示意图；图9示出了图7所示金属网格导电膜中第二金属网格图案的结构示意图。
参见图7至图9，在一些实施例中，图4中所示的金属网格图案在旋转90度后仍可适用上述拼接设置方式。
图10示出了本申请一实施例中第一金属线的结构示意图。
在一些实施例中，第一金属线21和第二金属线22位于第一区域A的线宽，大于第一金属线21和第二金属线22位于拼接区域C的线宽。第三金属线31和第四金属线32位于第二区域B的线宽，大于第三金属线31和第四金属线32位于拼接区域C的线宽。由于拼接区域C容易因为对位偏移导致网格密度变更，通过减小拼接区域C中各金属线的线宽，有助于减小网格密度变更对视觉效果的影响。
示例地，参见图10，一些第一金属线21由第一区域A延伸至拼接区域C，这些第一金属线21包括第一主体部211和与第一主体部211相连的第一延伸部212，第一主体部211的线宽W11大于第一延伸部212的线宽W12。由第一区域A延伸至拼接区域C的第二金属线22，以及由第二区域B延伸至拼接区域C的第三金属线31和第四金属线32同理，在此不作赘述。
基于同样的发明构思，本申请实施例还提供了一种触控显示面板，包括触控感应层，触控感应层配置为上述金属网格导电膜，以保证触控显示面板的视觉效果。
图11为本申请一实施例中金属网格导电膜的制作方法的流程示意图。
基于同样的发明构思，本申请实施例还提供了一种金属网格导电膜的制作方法，用于制造上述金属网格导电膜。该制作方法包括如下步骤：
S101、提供光刻胶板。光刻胶板包括依次叠设的基材、金属层和光刻胶层。
S102、在光刻胶层上形成对应于第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于第二金属网格图案的第二曝光图案。
S103、对光刻胶板进行显影、蚀刻和去胶，以使金属层在基材一侧形成第一金属网格图案和第二金属网格图案。
上述制作方法中，第一曝光图案和第二曝光图案拼接形成更大的曝光图案，进而在基材上形成大尺寸的金属网格图案，从而实现利用小尺寸的设备形成大尺寸的金属网格导电膜。第一曝光图案保证了第一金属线21和第二金属线22在拼接区域C的连接，第二曝光图案保证了第三金属线31和第四金属线32的在拼接区域C的连接，对位偏差仅影响第一金属线21与第四金属线32的连接以及第二金属线22与第三金属线31的连接，从而减少了对位偏差对拼接区域C的图案的影响，以保证触控显示面板的视觉效果。
图12示出了本申请一实施例中光刻胶板与第一光罩、第二光罩的对位示意图；图13示出了图12中第一光罩的结构示意图；图14示出了图12中第二光罩的结构示意图。
在一些实施例中，参见图12至图14，光刻胶板100上设有第一对位标记和第二对位标记。第一光罩200上设有用于形成第一曝光图案的第一遮光结构210，以及用于与第一对位标记对位的第一对位结构220。第二光罩300上设有用于形成第二曝光图案的第二遮光结构310，以及用于与第二对位标记对位的第二对位结构320。
S102步骤具体包括通过光刻胶板100上的第一对位标记使第一光罩200相对光刻胶板100定位，透过第一光罩200对光刻胶板100进行曝光以形成第一曝光图案。通过光刻胶板100上的第二对位标记使第二光罩300相对光刻胶板100定位，透过第二光罩300对光刻胶板100进行曝光以形成第二曝光图案。如此，第一光罩200和第二光罩300均能够相对光刻胶板100定位，从而减小第一曝光图案和第二曝光图案在拼接时的对位偏差。
在一些实施例中，在S102步骤之前还包括在光刻胶板上形成第一对位标记和第二对位标记。示例地，形成第一对位标记和第二对位标记的方式可采用打孔、光刻或印刷。
具体到图12至图14所示的实施例中，第一对位标记和第二对位标记为同一对位标记110。也即，第一光罩200的第一对位结构220和第二光罩300的第二对位结构320共用对位标记110。如此，在第一光罩200曝光完成、更换第二光罩300进行曝光时，由于共用对位标记110，机台不需要移动光刻胶板100，因此排除了机台材料传送精度，第一曝光图案和第二曝光图案在拼接时的对位偏差主要取决于设备对位精度，从而进一步减小了第一曝光图案和第二曝光图案在拼接时的对位偏差。
综上所述，上述金属网格导电膜中，通过各金属线在拼接区域C交叉相连实现线路的电性连接，在保证连接可靠性的同时，拼接区域C的图案与常规区域的图案能够尽可能保持一致。由于拼接区域C中第一金属线21和第二金属线22的连接以及第三金属线31和第四金属线32的连接由单次的曝光图案形成，不受对位偏差影响，对位偏差仅影响第一金属线21与第四金属线32的连接以及第二金属线22与第三金属线31的连接，从而减少了对位偏差对拼接区域C的图案的影响，以保证触控显示面板的视觉效果。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (11)

1.一种金属网格导电膜，其特征在于，包括：
基材，具有第一区域、第二区域和位于所述第一区域和所述第二区域之间的拼接区域；
第一金属网格图案，设置于所述基材一侧，且位于所述第一区域和所述拼接区域；所述第一金属网格图案包括平行设置的多个第一金属线和平行设置的多个第二金属线；所述第一金属线沿第一方向延伸，所述第二金属线沿第二方向延伸；所述第一金属线与所述第二金属线交叉相连；以及
第二金属网格图案，设置于所述基材一侧，且位于所述第二区域和所述拼接区域；所述第二金属网格图案包括平行设置的多个第三金属线和平行设置的多个第四金属线；所述第三金属线沿所述第一方向延伸，所述第四金属线沿所述第二方向延伸；所述第三金属线与所述第四金属线交叉相连；
其中，所述第一方向和所述第二方向相交，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的排布密度，小于所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的排布密度；所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的排布密度，小于所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的排布密度；
在所述拼接区域，所述第一金属线与所述第四金属线交叉相连，所述第三金属线与所述第二金属线交叉相连，以使所述第一金属网格图案和所述第二金属网格图案拼接形成网格图案。
2.根据权利要求1所述的金属网格导电膜，其特征在于，在所述拼接区域，所述第一金属线和所述第三金属线交替排布，所述第二金属线和所述第四金属线交替排布。
3.根据权利要求2所述的金属网格导电膜，其特征在于，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的线距等于第一预设线距，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的线距等于第二预设线距；
所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的线距等于所述第一预设线距，所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的线距等于所述第二预设线距；
其中，所述第二预设线距与所述第一预设线距的比值为2。
4.根据权利要求1所述的金属网格导电膜，其特征在于，所述第一金属线和所述第二金属线在所述第一区域形成多个第一网格单元，在所述拼接区域形成多个第二网格单元和第一不规则单元；
所述第三金属线和所述第四金属线在所述第二区域形成多个所述第一网格单元，在所述拼接区域形成多个所述第二网格单元和第二不规则单元；
其中，所述第一金属线和所述第二金属线在所述拼接区域形成的所述第二网格单元，与所述第三金属线和所述第四金属线在所述拼接区域形成的所述第二网格单元能够拼接形成所述网格图案；所述第一不规则单元与所述第二不规则单元能够拼接形成所述网格图案；
所述第一网格单元与所述第二网格单元为相似四边形，所述第一网格单元与所述第二网格单元的相似比为2。
5.根据权利要求4所述的金属网格导电膜，其特征在于，所述第一网格单元和所述第二网格单元的形状为菱形。
6.根据权利要求1所述的金属网格导电膜，其特征在于，所述第一金属线和所述第二金属线位于所述第一区域的线宽，大于所述第一金属线和所述第二金属线位于所述拼接区域的线宽；
所述第三金属线和所述第四金属线位于所述第二区域的线宽，大于所述第三金属线和所述第四金属线位于所述拼接区域的线宽。
7.一种触控显示面板，其特征在于，包括触控感应层，所述触控感应层配置为如权利要求1-6任一项所述的金属网格导电膜。
8.一种金属网格导电膜的制作方法，其特征在于，用于制作如权利要求1-6任一项所述的金属网格导电膜；
该制作方法包括：
提供光刻胶板；所述光刻胶板包括依次叠设的所述基材、金属层和光刻胶层；
在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案；
对所述光刻胶板进行显影、蚀刻和去胶，以使所述金属层在所述基材一侧形成所述第一金属网格图案和所述第二金属网格图案。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案具体包括：
通过所述光刻胶板上的第一对位标记使第一光罩相对所述光刻胶板定位，透过所述第一光罩对所述光刻胶板进行曝光以形成所述第一曝光图案；
通过所述光刻胶板上的第二对位标记使第二光罩相对所述光刻胶板定位，透过所述第二光罩对所述光刻胶板进行曝光以形成所述第二曝光图案。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一对位标记和所述第二对位标记为同一对位标记。
11.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述在所述光刻胶层上形成对应于所述第一金属网格图案的第一曝光图案，以及对应于所述第二金属网格图案的第二曝光图案之前还包括：
在所述光刻胶板上形成所述第一对位标记和所述第二对位标记。
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