CN216979582U - 一种走线补充掩膜板及模组结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种走线补充掩膜板，包括多条遮光走线，还包括至少一个曝光不匀区，各条遮光走线在所述曝光不匀区内的一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个曝光不匀区设有至少一个遮光补偿部，所述遮光补偿部位于对应遮光走线的走线密度较小一侧。该走线补充掩膜板及模组结构，可补偿所述外围走线因其两侧走线密度不同而引起的过曝现象。本实用新型还公开了一种走线补充模组结构。

Description

一种走线补充掩膜板及模组结构

技术领域

本实用新型涉及走线制作技术，尤其涉及一种走线补充掩膜板及模组结构。

背景技术

中国专利公开了一种显示屏，如图1所示，包括显示区域1’和外围区域2’，所述显示区域1’内设有显示电路，所述外围区域2’设有绑定区域3’，所述绑定区域3’内设有多个绑定引脚31’；所述外围区域2’还设有多条外围走线21’，各条外围走线21’连接于所述显示电路与对应的绑定引脚31’之间，以在所述显示电路与对应的绑定引脚31’之间传输显示信号。

在现有技术中，上述显示屏的外围走线21’采用掩膜板曝光刻蚀的方式制成。制作时，先铺设一层金属材料，然后再在所述金属材料上覆盖一层光刻胶，接着采用具有遮光走线图案的掩膜板对所述光刻胶进行曝光，所述光刻胶上被曝光的区域会发生材料变性，然后再采用显影液去掉所述光刻胶上被曝光的区域，以局部露出下层的金属材料，而留下未被曝光的光刻胶，接着再采用刻蚀液对露出的金属材料进行刻蚀，而留下的光刻胶会保护其下方的金属材料以形成所述外围走线21’，最后剥离剩余的光刻胶。由于各条外围走线21’与所述显示电路的连接位置不同，且各个绑定引脚31’的位置也不同，故所述外围走线21’需要采用拐角进行走线，这就导致各条外围走线21’在所述拐角处出现一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小的情况。在采用掩膜板进行曝光时，走线密度的不同会导致光线衍射程度的不同，故所述外围走线21’在所述拐角处走线密度较大一侧的曝光程度会小于在所述拐角处走线密度较小一侧，若采用的曝光光量满足在所述拐角处走线密度较大一侧的曝光需求的话，则在所述拐角处走线密度较小一侧则会出现过曝的不良情况，刻蚀后表现为如图2所示的线宽变小、甚至断线，若采用的曝光光量满足在所述拐角处走线密度较小一侧的曝光需求的话，则在所述拐角处走线密度较大一侧则会出现欠曝的不良情况，刻蚀后表现为与相邻的外围走线21’短接。又由于显示屏的显示区域1’要大于其绑定区域3’，所述外围走线21’在靠近所述显示区域1’的拐角处两侧的走线密度差异更大，这种过曝现象在靠近所述显示区域1’的一端尤为明显。

上述技术问题也同样存在于触摸屏的外围走线中。

实用新型内容

为了解决上述现有技术的不足，本实用新型提供一种走线补充掩膜板及模组结构，可补偿所述外围走线因其两侧走线密度不同而引起的过曝现象。

本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种走线补充掩膜板，包括多条遮光走线，还包括至少一个曝光不匀区，各条遮光走线在所述曝光不匀区内的一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个曝光不匀区设有至少一个遮光补偿部，所述遮光补偿部位于对应遮光走线的走线密度较小一侧。

进一步地，所述遮光补偿部与对应的遮光走线为一体结构。

进一步地，所述遮光补偿部与对应的遮光走线为分体结构。

进一步地，所述遮光补偿部与对应的遮光走线的间距，等于各条遮光走线在所述曝光不匀区内的间距。

进一步地，该走线补充掩膜板除了所述遮光走线和遮光补偿部之外均为镂空结构。

一种走线补充模组结构，包括多条外围走线，还包括至少一个密度不匀区，各条外围走线在所述密度不匀区内一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个密度不匀区设有至少一个走线补充部，各个走线补充部位于对应外围走线的走线密度较小一侧。

进一步地，所述走线补充部与对应的外围走线为一体结构。

进一步地，所述走线补充部与对应的外围走线为分体结构。

进一步地，所述走线补充部与对应的外围走线之间的间距，等于各条外围走线在所述密度不匀区内的间距。

进一步地，还包括功能区和外围区，所述外围区围绕所述功能区，所述外围区设有绑定区，所述绑定区内设有多个绑定引脚；所述外围走线设于所述外围区内且从所述功能区延伸至所述绑定区内，与对应的绑定引脚相连接。

本实用新型具有如下有益效果：该走线补充掩膜板通过在所述遮光走线的走线密度较小一侧设置对应的遮光补偿部，在采用正常曝光光量时，可将所述遮光走线因其一侧走线密度较小而导致的过曝不良转移到所述遮光补偿部上，这样制作出来的外围走线就不会因为被过度刻蚀而出现局部线宽变小、甚至断线的问题，充分保证了产品的稳定性。

附图说明

图1为现有的显示屏的示意图；

图2为图1所示的显示屏中外围走线的示意图；

图3为本实用新型提供的走线补充掩膜板的示意图；

图4为本实用新型提供的另一走线补充掩膜板的示意图；

图5为本实用新型提供的走线补充模组结构的示意图；

图6为图5所示的走线补充模组结构中外围走线的示意图；

图7为本实用新型提供的另一走线补充模组结构的示意图；

图8为图7所示的走线补充模组结构中外围走线的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”、“设置”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，还可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

实施例一

如图3和4所示，一种走线补充掩膜板4，可以但不限用于制作显示屏或触摸屏的外围走线。

该走线补充掩膜板4包括多条遮光走线41，所述多条遮光走线41对应于所述显示屏或触摸屏上的多条外围走线；所述遮光走线41不允许光线透过，以在制作所述外围走线时对光刻胶进行选择性曝光。

该走线补充掩膜板4还包括至少一个曝光不匀区，各条遮光走线41在所述曝光不匀区内的一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个曝光不匀区设有至少一个遮光补偿部42，所述遮光补偿部42位于对应遮光走线41的走线密度较小一侧；所述遮光补偿部42同样不允许光线透过，以在制作所述外围走线时对所述光刻胶进行选择性曝光。

制作所述外围走线时，先铺设一层金属材料，然后再在所述金属材料上覆盖一层光刻胶，接着采用该走线补充掩膜板4对所述光刻胶进行曝光，光线透过该走线补充掩膜板4时，所述光刻胶上与所述遮光走线41和遮光补偿部42相对应的区域因未被光线照射而分别形成走线未曝区和补偿未曝区，其他区域形成曝光区；然后再采用显影液去掉所述光刻胶上的曝光区，以局部露出下层的金属材料，而所述走线未曝区和补偿未曝区的光刻胶则留下；接着再采用刻蚀液对露出的金属材料进行刻蚀，而留下的光刻胶会保护其下方的金属材料以分别形成与所述遮光走线41相对应的外围走线，以及与所述遮光补偿部42相对应的走线补充部，最后剥离剩余的光刻胶。在曝光时采用正常曝光光量，即采用的曝光光量满足所述外围走线在其走线密度较大一侧的曝光需求，这样的话，即使出现因走线密度的不同而导致的过曝不良，过曝不良也是发生在所述走线补充部上，而非发生在所述外围走线上，刻蚀后表现为所述走线补充部的宽度变小、甚至断开，而所述外围走线则刻蚀正常（线宽仍为设计值）。

该走线补充掩膜板4通过在所述遮光走线41的走线密度较小一侧设置对应的遮光补偿部42，在采用正常曝光光量时，可将所述遮光走线41因其一侧走线密度较小而导致的过曝不良转移到所述遮光补偿部42上，这样制作出来的外围走线就不会因为被过度刻蚀而出现局部线宽变小、甚至断线的问题，充分保证了产品的稳定性。

本实施例中，多条遮光走线41分为对称的两组，两组遮光走线41分别位于对称轴的左右两侧；每条遮光走线41均包括依次连接的第一遮光段411、第二遮光段412和第三遮光段413，其中所述第一遮光段411和第三遮光段413均与所述对称轴平行，相邻第一遮光段411之间的间距大于相邻第三遮光段413之间的间距，使得所述第二遮光段412相对于所述对称轴呈倾斜状态，位于所述对称轴左侧的各个第二遮光段412向左侧倾斜，位于所述对称轴右侧的各个第二遮光段412向右侧倾斜；那么所述第一遮光段411与所述第二遮光段412的连接处则形成一拐角，所述第三遮光段413与所述第二遮光段412的连接处则形成另一拐角；每个第二遮光段412在两个拐角处因其垂直方向的一侧被相邻的另一个第二遮光段412所覆盖，故走线密度较大，其垂直方向的另一侧未被相邻的另一个第二遮光段412所覆盖，故走线密度较小，即每条遮光走线41的第二遮光段412在两个拐角处表现为一侧走线密度较大、另一侧走线密度较低；故这两个拐角就是两个曝光不匀区。

本实施例在分别靠近所述第一遮光段411和第三遮光段413的两个曝光不匀区内均增设有所述遮光补偿部42。

另外，每组遮光走线41中最左侧的遮光走线41的左侧，以及最右侧的遮光走线41的右侧，也是两个曝光不匀区，这两个曝光不匀区可视具体需求设置或不设所述遮光补偿部42。本实施例中，位于所述对称轴左侧的一组遮光走线41中最左侧的遮光走线41的左侧以及最右侧的遮光走线41的右侧上，均设置有所述遮光补偿部42，同时位于所述对称轴右侧的一组遮光走线41中最左侧的遮光走线41的左侧以及最右侧的遮光走线41的右侧上，也均设置有所述遮光补偿部42。

在一具体实现方式中，如图3所示，所述遮光补偿部42与对应的遮光走线41为一体结构，这种掩膜板结构相当于采用增大了所述遮光走线41在所述曝光不匀区内的宽度，即采用所述走线补充部增大了所述外围走线在走线密度较小一侧的局部线宽；在另一具体实施方式中，如图4所示，所述遮光补偿部42与对应的遮光走线41为分体结构，这种掩膜板结构相当于采用增大了所述遮光走线41在所述曝光不匀区内走线密度较小一侧的走线密度，即采用所述走线补充部增大了所述外围走线在走线密度较小一侧的局部走线密度，此时优选地，所述遮光补偿部42与对应的遮光走线41的间距，等于各条遮光走线41在所述曝光不匀区内的间距（即各个第二遮光段412的间距）。

本案中，该走线补充掩膜板4除了所述遮光走线41和遮光补偿部42之外均为镂空结构，所述遮光走线41和遮光补偿部42与该走线补充掩膜板4的外框之间通过细小的金属丝连接支撑，这些金属丝的宽度在微米级别，不会曝光刻蚀产生影响。

实施例二

如图5-8所示，一种走线补充模组结构，包括多条外围走线21，所述多条外围走线21可以但不限用于采用实施例一中所述的走线补充掩膜板进行曝光刻蚀制作。

该走线补充模组结构还包括至少一个密度不匀区，各条外围走线21在所述密度不匀区内一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个密度不匀区设有至少一个走线补充部22，各个走线补充部22位于对应外围走线21的走线密度较小一侧。

该走线补充模组结构通过在所述外围走线21的走线密度较小一侧设置对应的走线补充部22，在采用正常曝光光量时，可将所述外围走线21因其一侧走线密度较小而导致的过曝不良转移到所述走线补充部22上，这样所述外围走线21就不会因为被过度刻蚀而出现局部线宽变小、甚至断线的问题，充分保证了产品的稳定性。

本实施例中，多条外围走线21分为对称的两组，两组外围走线21分别位于对称轴的左右两侧；每条外围走线21均包括依次连接的第一走线段211、第二走线段212和第三走线段213，其中所述第一走线段211和第三走线段213均与所述对称轴平行，相邻第一走线段211之间的间距大于相邻第三走线段213之间的间距，使得所述第二走线段212相对于所述对称轴呈倾斜状态，位于所述对称轴左侧的各个第二走线段212向左侧倾斜，位于所述对称轴右侧的各个第二走线段212向右侧倾斜；那么所述第一走线段211与所述第二走线段212的连接处则形成一拐角，所述第三走线段213与所述第二走线段212的连接处则形成另一拐角；每个第二走线段212在两个拐角处因其垂直方向的一侧被相邻的另一个第二走线段212所覆盖，故走线密度较大，其垂直方向的另一侧未被相邻的另一个第二走线段212所覆盖，故走线密度较小，即每条外围走线21的第二走线段212在两个拐角处表现为一侧走线密度较大、另一侧走线密度较低；故这两个拐角就是两个密度不匀区。

本实施例在分别靠近所述第一走线段211和第三走线段213的两个曝光不匀区内均增设有所述走线补充部22。

另外，每组外围走线21中最左侧的外围走线21的左侧，以及最右侧的外围走线21的右侧，也是两个曝光不匀区，这两个曝光不匀区可视具体需求设置或不设所述走线补充部22。本实施例中，位于所述对称轴左侧的一组外围走线21中最左侧的外围走线21的左侧以及最右侧的外围走线21的右侧上，均设置有所述走线补充部22，同时位于所述对称轴右侧的一组外围走线21中最左侧的外围走线21的左侧以及最右侧的外围走线21的右侧上，也均设置有所述走线补充部22。

在一具体实现方式中，如图6所示，所述走线补充部22与对应的外围走线21为一体结构，这种模组结构相当于采用所述走线补充部22增大了所述外围走线21在走线密度较小一侧的局部线宽；在另一具体实施方式中，所述走线补充部22与对应的外围走线21为分体结构，这种模组结构相当于采用所述走线补充部22增大了所述外围走线21在走线密度较小一侧的局部走线密度，此时优选地，所述走线补充部22与对应的外围走线21的间距，等于各条外围走线21在所述密度不匀区内的间距（即各个第二走线段212的间距）。

实施例三

作为实施例二的改进方案，如图5和7所示，本实施例的走线补充模组结构还包括功能区1和外围区2，所述外围区2围绕所述功能区1，所述外围区2设有绑定区3，所述绑定区3内设有多个绑定引脚31；所述外围走线21设于所述外围区2内且从所述功能区1延伸至所述绑定区3内，通过其第三走线段213与对应的绑定引脚31相连接。

若该走线补充模组结构为触摸屏，则所述功能区1为触控感应区，设有与各条外围走线21的第一走线段211连接的触控感应电路；若该走线补充模组结构为显示屏，则所述功能区1为TFT阵列区，设有与各条外围走线21的第一走线段211连接的TFT阵列电路。

最后需要说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型实施例的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型实施例进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解依然可以对本实用新型实施例的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本实用新型实施例技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种走线补充掩膜板，包括多条遮光走线，其特征在于，还包括至少一个曝光不匀区，各条遮光走线在所述曝光不匀区内的一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个曝光不匀区设有至少一个遮光补偿部，所述遮光补偿部位于对应遮光走线的走线密度较小一侧。

2.根据权利要求1所述的走线补充掩膜板，其特征在于，所述遮光补偿部与对应的遮光走线为一体结构。

3.根据权利要求1所述的走线补充掩膜板，其特征在于，所述遮光补偿部与对应的遮光走线为分体结构。

4.根据权利要求3所述的走线补充掩膜板，其特征在于，所述遮光补偿部与对应的遮光走线的间距，等于各条遮光走线在所述曝光不匀区内的间距。

5.根据权利要求1所述的走线补充掩膜板，其特征在于，该走线补充掩膜板除了所述遮光走线和遮光补偿部之外均为镂空结构。

6.一种走线补充模组结构，包括多条外围走线，其特征在于，还包括至少一个密度不匀区，各条外围走线在所述密度不匀区内一侧走线密度较大、另一侧走线密度较小；至少一个密度不匀区设有至少一个走线补充部，各个走线补充部位于对应外围走线的走线密度较小一侧。

7.根据权利要求6所述的走线补充模组结构，其特征在于，所述走线补充部与对应的外围走线为一体结构。

8.根据权利要求6所述的走线补充模组结构，其特征在于，所述走线补充部与对应的外围走线为分体结构。

9.根据权利要求8所述的走线补充模组结构，其特征在于，所述走线补充部与对应的外围走线之间的间距，等于各条外围走线在所述密度不匀区内的间距。

10.根据权利要求6所述的走线补充模组结构，其特征在于，还包括功能区和外围区，所述外围区围绕所述功能区，所述外围区设有绑定区，所述绑定区内设有多个绑定引脚；所述外围走线设于所述外围区内且从所述功能区延伸至所述绑定区内，与对应的绑定引脚相连接。

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