CN115200369A - 一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及氮化硅陶瓷领域，尤其涉及一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备。本发明的技术问题是：氮化硅陶瓷上有灰尘影响烧结质量，人工准备烧结前时间太长。本发明的技术实施方案是：一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，包括有车体和液压推杆等；车体左部安装有液压推杆。本发明通过液压推杆带动转接座、圆柱、升降架和烧结框向上移动，升降架受重力作用，会绕着圆柱转动，升降架和烧结框停止转动并维持倾斜状态，使得烧结框内摆放多层的氮化硅陶瓷。

Description

一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备
技术领域
本发明涉及氮化硅陶瓷领域，尤其涉及一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备。
背景技术
氮化硅陶瓷在压制车间压制好后需要转移至烧结车间进行烧结工作，在转移至烧结车间的过程中，氮化硅陶瓷上会附着大量灰尘，而且因为氮化硅陶瓷结构并非单纯的圆柱形，所以人工很难对氮化硅陶瓷的内外表面以及特殊的区域进行完全清理，导致后续烧结时出现问题；
而且现有技术中，对氮化硅陶瓷的清灰和搬运转移完全依赖人工，要人工对单个的氮化硅陶瓷进行清灰和放入烧结炉，单次烧结氮化硅陶瓷的量极大，完全依靠人工进行，这大幅度增加了烧结所消耗的时间，导致生产效率不高。
发明内容
为了克服氮化硅陶瓷上有灰尘影响烧结质量，人工准备烧结前时间太长的缺点，本发明提供一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备。
本发明的技术实施方案是：一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，包括有车体、液压推杆、转接座、圆柱、限位块、升降架、烧结框、定位系统、送料系统、清理转移系统、定位摆放系统和均匀调整系统；车体左部安装有液压推杆；液压推杆伸缩部安装有转接座；转接座连接有圆柱；圆柱上设置有限位块；圆柱转动连接有升降架；升降架上开有限位槽；升降架上放置有烧结框；烧结框上安装有定位系统；定位系统后方设置有清理转移系统；清理转移系统上安装有定位摆放系统；定位摆放系统后方设置有送料系统；送料系统上安装有均匀调整系统；定位系统用于氮化硅陶瓷摆放的导向；送料系统用于氮化硅陶瓷外表的清洁和输送；清理转移系统用于氮化硅陶瓷内部的清洁和转移；定位摆放系统用于将清理完成的氮化硅陶瓷转移至烧结框内。
可选地，烧结框后下侧边缘设置成从右侧向左侧，由圆角逐渐收缩成直角的形态。
可选地，定位系统包括有盖板和定位块；烧结框上方放置有盖板，盖板上开有若干个第一入料口；盖板前中部、后中部、左中部和右中部各固接有一个定位块。
可选地，送料系统包括有第一固定支架、安装座、送料板、料框、导向框、弧形板、摄像头、电动转辊、光杆、圆环、第一L型支架、遮挡滑动板、垫块、槽板、T形触发板、第二固定块、第一电动推杆、矩形条、拨动架、第一限位板、长条、第二限位板、第一弹性件、缓冲板、第三限位板、第二弹性件、第一拨块、第三弹性件和第二L型支架；盖板后方设置有第一固定支架；第一固定支架上表面固接有安装座；安装座上固接有送料板；安装座前左侧和前右侧各固接有一个摄像头，且两个摄像头呈左右对称设置；送料板上开有若干个第一滑槽、第二滑槽和置物槽，且第一滑槽位于送料板上表面中部，且第二滑槽位于送料板上表面中部，且第二滑槽位于第一滑槽前方，且置物槽位于送料板前下部；安装座后上部固接有料框；料框后部开有第三滑槽；料框底部开有第二入料口，且第二入料口内设有刷毛；料框底面固接有导向框，且导向框通过第二入料口与料框连通；导向框内后侧面下部固接有若干个弧形板；若干个置物槽内各设置有一个电动转辊；安装座前下部固接有一个光杆，且光杆位于摄像头下方；光杆上套接有若干个圆环，且圆环与电动转辊一一对应；若干个圆环前上部各固接有一个第二限位板和一个缓冲板，且第二限位板位于缓冲板前方；每个第二限位板和每个缓冲板之间连接有一个第一弹性件；若干个圆环后下部各固接有一个第一L型支架；若干个第一L型支架后部各传动连接有一个遮挡滑动板，且第一L型支架后部开有通槽，遮挡滑动板下部通过一短杆在通槽中滑动，且遮挡滑动板上部通过对应的第二滑槽内与送料板进行上下向滑动连接；每个遮挡滑动板后侧面固接有一个第三限位板；每个第三限位板上表面固接有一个第二弹性件，且第二弹性件另一端与送料板底面固定；料框前部固接有若干个垫块，且垫块位于第二滑槽前方；第一固定支架上固接有槽板，且槽板上表面为前高后低的斜面，且槽板位于安装座下方；槽板上滑动连接有T形触发板，且T形触发板前部可以与若干个第一L型支架互相配合；T形触发板后部固接有第二L型支架；料框后侧面上部固接有第二固定块；第二固定块后侧面固接有第一电动推杆；第一电动推杆伸缩部固接有矩形条；矩形条前侧面固接有若干个拨动架，且若干个拨动架在对应的第三滑槽内滑动；每个拨动架前部各活动连接有一个第一拨板；每个拨动架前侧面各固接有一个第一限位板，且第一限位板位于第一拨板下方；每个拨动架上表面前部和每个第一拨板上表面后部共同固接有一个第三弹性件；矩形条底面中部固接有长条，且长条与第二L 型支架相互配合；安装座和导向框连接有均匀调整系统；送料系统用于对氮化硅陶瓷进行自动下料并对陶瓷外表面进行清灰处理。
可选地，第二L型支架下后侧设置有一个配重块，配重块用于使T形触发板在不使用时自然沿槽板向后滑动，进行复位操作。
可选地，清理转移系统包括有承载柱、第二固定支架、驱动电机、圆辊、连接板、定位件、清洁支架、导向锥、第四弹性件、第五弹性件和第六弹性件；第一固定支架左前方设置有承载柱；承载柱右方设置有第二固定支架；承载柱上表面固接有驱动电机；驱动电机输出轴连接有圆辊，且圆辊另一端与第二固定支架上部转动连接；圆辊上均匀固接有三个连接板；三个连接板上各活动连接有若干个等距分布的定位件，且定位件表面设有一层清洁棉；每个定位件和对应的连接板之间连接有第六弹性件；每个定位件远离第六弹性件的一侧各开有一个第四滑槽；每个定位件内左侧和内右侧各开有一个第五滑槽；每个第四滑槽内滑动连接有一个清洁支架；每个清洁支架内侧面固接有三个第四弹性件，且第四弹性件另一端与定位件内侧面固接；每定位件内滑动连接有一个导向锥，且导向锥同时在两个第五滑槽内滑动；导向锥表面固接有两个呈左右分布的第五弹性件，且第五弹性件另一端与定位件固接；清理转移系统用于转移但回归陶瓷，同时对氮化硅陶瓷的凹槽内进行除灰工作。
可选地，定位摆放系统包括有限位架、转移框、第三L型支架和第二电动推杆；承载柱和第二固定支架共同固接有限位架；限位架上侧活动连接有转移框；限位架后侧面固接有两个呈左右分布的第三L型支架；两个第三L型支架前侧面上部各固接有一个第二电动推杆；两个第二电动推杆伸缩部与转移框后部活动连接。
可选地，限位架前部设置有两个上下分布的圆杆，料框翻转前的后上侧边缘和下前侧边缘的高度位置位于两个圆杆之间，料框翻转后的后上侧边缘处于上圆杆上方，下前侧边缘的高度处于下圆杆的下方。
可选地，均匀调整系统包括有滑动架、直线滑轨、直线滑块、第一固定块、移动支架和第二拨板；安装座前侧面上部固接有滑动架；导向框前侧面固接有直线滑轨；直线滑轨上滑动连接有直线滑块；直线滑块前侧面固接有第一固定块，且第一固定块在滑动架内滑动；第一固定块底面固接有移动支架；移动支架底面固接有若干个第二拨板，且第二拨板在第一滑槽内滑动。
本发明具有如下优点：本发明通过液压推杆带动转接座、圆柱、升降架和烧结框向上移动，因为圆柱连接在升降架的前部，且圆柱与升降架为转动连接，因而升降架受重力作用，会绕着圆柱转动，升降架和烧结框停止转动并维持倾斜状态，使得烧结框内摆放多层的氮化硅陶瓷，氮化硅陶瓷也不会出现横置的现象。
本发明通过定位系统，从最后一排第一入料口开始进行批量放置，层层贴放直至通过最前侧的第一入料口放置氮化硅陶瓷，批量且有序的放置大幅度缩短了放置时间，且保证后续烧结时氮化硅陶瓷受热更加均匀，提高烧结质量。
本发明通过送料系统，实现了对批量倒入料框的氮化硅绝缘子进行自动梳理自动下料，同时利用第二入料口中的刷毛对氮化硅陶瓷外表面进行灰尘去除。
通过清理转移系统，利用定位件上的清洁棉无法将氮化硅陶瓷内部的灰尘去除；通过电动转辊进行转动，使氮化硅陶瓷上的凹槽与清洁支架对准，第四弹性件将清洁支架推入氮化硅陶瓷上的凹槽内，对凹槽中的灰尘进行一次去除；当氮化硅陶瓷转移至转移框正上方时，氮化硅陶瓷因自身重量开始向下掉落，清洁支架上的清洁棉对氮化硅陶瓷上凹槽内的灰尘进行二次去除。
通过定位摆放系统，批量将氮化硅陶瓷送入第一入料口，进行批量叠置氮化硅陶瓷，批量且有序的放置大幅度缩短了放置时间。
通过均匀调整系统，当送料板上的氮化硅陶瓷摆放不均匀时，第二拨板在第一滑槽内左右往复滑动，对送料板上的氮化硅陶瓷进行均匀调整，防止氮化硅陶瓷在送料板上出现堆积现象。
本发明通过烧结框后下侧边缘设置成从右向左看，由圆角逐渐收缩成直角的形态，实现了烧结框推入烧结炉后的自动摆正。
附图说明
图1为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开结构示意图；
图2为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的升降架的局部结构剖视图；
图3为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的定位系统的结构示意图；
图4为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的送料系统的结构示意图；
图5为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的送料系统的第一种局部结构示意图；
图6为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的送料系统的第二种局部结构示意图；
图7为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的送料系统的第三种局部结构示意图；
图8为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的送料系统的第四种局部结构示意图；
图9为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的清理转移系统的结构示意图；
图10为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的清理转移系统的局部结构剖视图；
图11为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的清理转移系统的局部结构爆炸图；
图12为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的定位摆放系统的第一种结构示意图；
图13为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的定位摆放系统的第二种结构示意图；
图14为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的遮挡滑动板顶起氮化硅陶瓷的结构示意图；
图15为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的烧结框结构示意图；
图16为本发明氮化硅陶瓷烧结用辅助设备公开的氮化硅陶瓷形状示意图。
图中附图标记的含义：1-车体，2-液压推杆，3-转接座，4-圆柱，5-限位块，6-升降架，7-烧结框，201-盖板，202-定位块，301-第一固定支架，302- 安装座，303-送料板，304-料框，305-导向框，306-滑动架，307-直线滑轨， 308-直线滑块，309-第一固定块，310-移动支架，311-弧形板，312-摄像头， 313-电动转辊，314-光杆，315-圆环，316-第一L型支架，317-遮挡滑动板， 318-垫块，319-槽板，320-T形触发板，321-第二固定块，322-第一电动推杆， 323-矩形条，324-拨动架，325-第一限位板，326-长条，327-第二限位板，328- 第一弹性件，329-缓冲板，330-第三限位板，331-第二弹性件，332-第一拨板， 333-第三弹性件，334-第二L型支架，335-第二拨板，401-承载柱，402-第二固定支架，403-驱动电机，404-圆辊，405-连接板，406-定位件，407-清洁支架，408-导向锥，409-第四弹性件，410-第五弹性件，411-第六弹性件，501- 限位架，502-转移框，503-第三L型支架，504-第二电动推杆，6a-限位槽，201a- 第一入料口，303a-第一滑槽，303b-第二滑槽，303c-置物槽，304a-第三滑槽， 304b-第二入料口，406a-第四滑槽，406b-第五滑槽。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1
一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，如图1-16所示，包括有车体1、液压推杆2、转接座3、圆柱4、限位块5、升降架6、烧结框7、定位系统、送料系统、清理转移系统、定位摆放系统和均匀调整系统；车体1左部安装有液压推杆2；液压推杆2伸缩部安装有转接座3；转接座3连接有圆柱4；圆柱4上设置有限位块5；圆柱4转动连接有升降架6；升降架6上开有限位槽6a；升降架6上放置有烧结框7；烧结框7上安装有定位系统；定位系统后方设置有清理转移系统；清理转移系统上安装有定位摆放系统；定位摆放系统后方设置有送料系统；送料系统上安装有均匀调整系统。
烧结框7后下侧边缘设置成从右侧向左侧，由圆角逐渐收缩成直角的形态。
本发明具体工作，需先接通电源，为送料系统、清理转移系统、定位摆放系统和均匀调整系统提供电力，并外设单片机等控制部件以及控制按钮或控制屏，操作人员将定位系统放置在烧结框7上，操作人员将送料系统调整至初始状态，如图1所示。开始工作时，操作人员将氮化硅陶瓷，倒入送料系统内，利用送料系统对氮化硅陶瓷进行精准下料处理，送料系统在控制下料的过程中同步对氮化硅陶瓷外表面的灰尘去除，从送料系统内掉落的氮化硅陶瓷会进入清理转移系统，如果送料系统上的氮化硅陶瓷摆放不均匀时，通过均匀调整系统来调整送料系统上的氮化硅陶瓷数量，使得氮化硅陶瓷均匀摆放在送料系统上，防止氮化硅陶瓷在送料系统上出现堆积现象；通过清理转移系统对氮化硅陶瓷进行转移，并且在转移前清理转移系统配合送料系统让氮化硅陶瓷的凹槽与清理转移系统贴合，清理转移系统在转移氮化硅陶瓷的同时将凹槽内的灰尘去除，清理好的氮化硅陶瓷掉落至定位摆放系统内，然后控制液压推杆2带动转接座3向上移动，即带动圆柱4、限位块5、升降架6、烧结框7和定位系统向上移动，当定位组件贴近定位摆放系统时，转接座3停止向上移动，转接座3 通过圆柱4带动升降架6和烧结框7同步向上移动，升降架6向上移动的过程中，其底部脱离支撑板并处于悬空状态，且因为圆柱4连接在升降架6的前部，即升降架6在圆柱4前侧的部分相较于在圆柱4后侧的部分，质量更小，且圆柱4与升降架6为转动连接，因而升降架6受重力作用，会绕着圆柱4转动，且转动方向为从左往右看逆时针转动，当限位块5与限位槽6a的前部平面接触时导致升降架6被卡住，升降架6和烧结框7停止转动并维持倾斜状态，准备接收从氮化硅陶瓷；定位摆放系统将处理好的氮化硅陶瓷以竖直的状态经过第一入料口201a转移至倾斜状态的烧结框7内，从定位系统最后一排第一入料口 201a开始进行批量放置，每完成一排的放置，就调整车体1的位置使车体1后移，让前一排的第一入料口201a能够从定位摆放系统处接收氮化硅陶瓷，因为此时烧结框7是处于倾斜的状态，所以第一批氮化硅陶瓷会倾斜着贴在烧结框7 内后侧面上，第二批会倾斜着贴在第一批氮化硅陶瓷前侧，如此层层贴放直至通过最前侧的第一入料口201a放置氮化硅陶瓷，此时烧结框7被放满氮化硅陶瓷，批量且有序的放置大幅度缩短了放置时间，且保证后续烧结时氮化硅陶瓷受热更加均匀，提高烧结质量；当烧结框7内的氮化硅陶瓷摆满后，操作人员将定位系统取走放置一旁，操作人员将车体1推动至烧结炉正前方，使烧结框7 右侧面面对烧结炉，液压推杆2带动转接座3进一步向上移动，当倾斜的烧结框7上升至底面最低点与烧结炉加热区底面等高时，液压推杆2停止收缩，然后操作人员将烧结框7推动至烧结炉内，在推动的过程中，如图10五所示，烧结框7后下侧的圆角的底端会与烧结炉加热区底面先接触，然后随着烧结框7 不断被推入烧结炉中，圆角的曲面面积越来越小，由最开始的曲面逐渐转为烧结框7底面平面与烧结炉加热区底面相接触，所以烧结炉加热区底面会逐渐推动倾斜的升降架6和烧结框7恢复到水平状态，然后操作人员推动烧结框7完全与升降架6分离进入烧结炉中，最后控制液压推杆2复位并将车体1推动出烧结炉的工作区域，完成将氮化硅陶瓷批量填充并自动摆放至烧结炉内的步骤。
实施例2
在实施例1的基础上，如图1-16所示，定位系统包括有盖板201和定位块 202；烧结框7上方放置有盖板201，盖板201上开有若干个第一入料口201a；盖板201前中部、后中部、左中部和右中部各固接有一个定位块202。
送料系统包括有第一固定支架301、安装座302、送料板303、料框304、导向框305、弧形板311、摄像头312、电动转辊313、光杆314、圆环315、第一L型支架316、遮挡滑动板317、垫块318、槽板319、T形触发板320、第二固定块321、第一电动推杆322、矩形条323、拨动架324、第一限位板325、长条326、第二限位板327、第一弹性件328、缓冲板329、第三限位板330、第二弹性件331、第一拨块、第三弹性件333和第二L型支架334；盖板201后方设置有第一固定支架301；第一固定支架301上表面焊接有安装座302；安装座302 上焊接有送料板303；安装座302前左侧和前右侧各固接有一个摄像头312，且两个摄像头312呈左右对称设置；送料板303上开有若干个第一滑槽303a、第二滑槽303b和置物槽303c，且第一滑槽303a位于送料板303上表面中部，且第二滑槽303b位于送料板303上表面中部，且第二滑槽303b位于第一滑槽303a 前方，且置物槽303c位于送料板303前下部；安装座302后上部固接有料框304；料框304后部开有第三滑槽304a；料框304底部开有第二入料口304b，且第二入料口304b内设有刷毛；料框304底面固接有导向框305，且导向框305通过第二入料口304b与料框304连通；导向框305内后侧面下部固接有若干个弧形板311；若干个置物槽303c内各设置有一个电动转辊313；安装座302前下部固接有一个光杆314，且光杆314位于摄像头312下方；光杆314上套接有若干个圆环315，且圆环315与电动转辊313一一对应；若干个圆环315前上部各固接有一个第二限位板327和一个缓冲板329，且第二限位板327位于缓冲板329 前方；每个第二限位板327和每个缓冲板329之间连接有一个第一弹性件328；若干个圆环315后下部各固接有一个第一L型支架316；若干个第一L型支架 316后部各传动连接有一个遮挡滑动板317，且第一L型支架316后部开有通槽，遮挡滑动板317下部通过一短杆在通槽中滑动，且遮挡滑动板317上部通过对应的第二滑槽303b内与送料板303进行上下向滑动连接；每个遮挡滑动板317 后侧面固接有一个第三限位板330；每个第三限位板330上表面固接有一个第二弹性件331，且第二弹性件331另一端与送料板303底面固定；料框304前部固接有若干个垫块318，且垫块318位于第二滑槽303b前方；第一固定支架301 上焊接有槽板319，且槽板319上表面为前高后低的斜面，且槽板319位于安装座302下方；槽板319上滑动连接有T形触发板320，且T形触发板320前部可以与若干个第一L型支架316互相配合；T形触发板320后部固接有第二L型支架334；料框304后侧面上部焊接有第二固定块321；第二固定块321后侧面固接有第一电动推杆322；第一电动推杆322伸缩部固接有矩形条323；矩形条323 前侧面固接有若干个拨动架324，且若干个拨动架324在对应的第三滑槽304a 内滑动；每个拨动架324前部各铰接有一个第一拨板332；每个拨动架324前侧面各固接有一个第一限位板325，且第一限位板325位于第一拨板332下方；每个拨动架324上表面前部和每个第一拨板332上表面后部共同固接有一个第三弹性件333；矩形条323底面中部固接有长条326，且长条326与第二L型支架 334相互配合；安装座302和导向框305连接有均匀调整系统第二L型支架334 下后侧设置有一个配重块。
清理转移系统包括有承载柱401、第二固定支架402、驱动电机403、圆辊 404、连接板405、定位件406、清洁支架407、导向锥408、第四弹性件409、第五弹性件410和第六弹性件411；第一固定支架301左前方设置有承载柱401；承载柱401右方设置有第二固定支架402；承载柱401上表面螺栓连接有驱动电机403；驱动电机403输出轴连接有圆辊404，且圆辊404另一端与第二固定支架402上部转动连接；圆辊404上均匀固接有三个连接板405；三个连接板405 上各铰接有若干个等距分布的定位件406，且定位件406表面设有一层清洁棉；每个定位件406和对应的连接板405之间连接有第六弹性件411；每个定位件 406远离第六弹性件411的一侧各开有一个第四滑槽406a；每个定位件406内左侧和内右侧各开有一个第五滑槽406b；每个第四滑槽406a内滑动连接有一个清洁支架407；每个清洁支架407内侧面固接有三个第四弹性件409，且第四弹性件409另一端与定位件406内侧面固接；每定位件406内滑动连接有一个导向锥408，且导向锥408同时在两个第五滑槽406b内滑动；导向锥408表面固接有两个呈左右分布的第五弹性件410，且第五弹性件410另一端与定位件406 固接
定位摆放系统包括有限位架501、转移框502、第三L型支架503和第二电动推杆504；承载柱401和第二固定支架402共同固接有限位架501；限位架501 上侧铰接有转移框502；限位架501后侧面固接有两个呈左右分布的第三L型支架503；两个第三L型支架503前侧面上部各固接有一个第二电动推杆504；两个第二电动推杆504伸缩部与转移框502后部铰接。
限位架501前部设置有两个上下分布的圆杆，料框304翻转前的后上侧边缘和下前侧边缘的高度位置位于两个圆杆之间，料框304翻转后的后上侧边缘处于上圆杆上方，下前侧边缘的高度处于下圆杆的下方。
均匀调整系统包括有滑动架306、直线滑轨307、直线滑块308、第一固定块309、移动支架310和第二拨板335；安装座302前侧面上部固接有滑动架306；导向框305前侧面固接有直线滑轨307；直线滑轨307上滑动连接有直线滑块 308；直线滑块308前侧面固接有第一固定块309，且第一固定块309在滑动架 306内滑动；第一固定块309底面固接有移动支架310；移动支架310底面固接有若干个第二拨板335，且第二拨板335在第一滑槽303a内滑动。
本发明前后左右的方位以图1为准；
本发明具体工作，需先接通电源，为直线滑轨307、摄像头312、电动转辊 313、第一电动推杆322、驱动电机403和第二电动推杆504提供电力，并外设单片机等控制部件以及控制按钮或控制屏，操作人员将定位系统放置在烧结框7 上，然后推动车体1使烧结框7移动到预定位置，控制液压推杆2收缩，从而带动升降架6和烧结框7同步上移，升降架6向上移动的过程中，其底部脱离支撑板并处于悬空状态，且因为圆柱4连接在升降架6的前部，即升降架6在圆柱4前侧的部分相较于在圆柱4后侧的部分，质量更小，且圆柱4与升降架6 为转动连接，因而升降架6受重力作用，会绕着圆柱4转动，且转动方向为从左往右看逆时针转动，当限位块5与限位槽6a的前部平面接触时导致升降架6 被卡住，升降架6和烧结框7停止转动并维持倾斜状态，准备接收从氮化硅陶瓷；接着操作人员将氮化硅陶瓷倒入料框304内，部分氮化硅陶瓷直接以竖直的状态直接从第二入料口304b向下掉落，剩余的氮化硅陶横置在料框304内，然后控制第一电动推杆322伸长，带动矩形条323斜向下移动，即带动拨动架324、第一限位板325、长条326、第一拨板332和第三弹性件333斜向下移动，当第一拨板332底面接触到氮化硅陶瓷后，第一拨板332继续斜向下移动导致其被氮化硅陶瓷挤压，从而使第一拨板332围绕与拨动架324铰接轴发生从左往右看逆时针转动，转动时第三弹性被压缩积蓄弹力，当第一拨板332移动到氮化硅陶瓷下方后不再受氮化硅陶瓷限制，第三弹性开始释放弹力使第一拨板 332恢复成水平的姿态，第一限位板325起到防止第一拨板332过度回转的作用；当第一拨板332恢复后，第一电动推杆322开始收缩，从而使第一拨板332开始原路返回，于是第一拨板332就会将横置的氮化硅陶瓷抬起，使其由横置的状态转变为倾斜的状态，此过程中氮化硅陶瓷的一端会发生掉落，被杆拨起的氮化硅陶瓷掉落进入第二入料口304b时，会压迫边侧刷毛，而刷毛具有弹性，在氮化硅陶瓷落入孔的过程中，刷毛将陶瓷扶正，使氮化硅陶瓷顺利受重力影响下滑同时刷毛清洁氮化硅陶瓷外表面，由此实现了氮化硅陶瓷的连续全自动下料；
氮化硅陶瓷经过导向框305掉落至对应弧形板311上，经过弧形板311的引导上滑落至送料板303上然后沿着送料板303继续向前滑动，因为是连续下料，所以送料板303会同时存在复数的氮化硅陶瓷；
为了避免送料板303中段一次性滑出大量氮化硅陶瓷，当氮化硅陶瓷滑动到送料板303中段前部时，氮化硅陶瓷前端会与垫块318相接触然后被减速至停止，此时氮化硅陶瓷头部伸出送料板303中段前部，中部在垫块318和遮挡滑动板317上方，后部在遮挡滑动板317后上方，第一电动推杆322伸长后，长条326会同步与第一电动推杆322斜向下移动，长条326与第二L型支架334 接触时，长条326顶部挤压第二L型支架334使其向前上方移动，向前上方移动的第二L型支架334会推动T形触发板320在槽板319表面同步向前上方滑动，此时T形触发板320推动多个第一L型支架316，因为第一L型支架316是通过圆环315转动连接光杆314上的，所以T形触发板320会使第一L型支架 316围绕光杆314、从右向左看逆时针转动，从而通过第一L型支架316驱动遮挡滑动板317和第三限位板330向上移动，此过程中第二弹性件331被压缩，第二滑槽303b起到对遮挡滑动板317限位作用；此过程中圆环315发生转动，则第二限位板327、第一弹性件328和缓冲板329会同样围绕光杆314进行从右向左看逆时针转动，遮挡滑动板317通过第二滑槽303b伸出送料板303，形成一次隔断，将位于送料板303上、遮挡滑动板317后方的氮化硅陶瓷挡住，使得掉落在送料板303上的氮化硅陶瓷无法继续向前滑落，而且遮挡滑动板317 还会将停止在其上方的氮化硅陶瓷后部抬起，使氮化硅陶瓷与垫块318分离，失去垫块318的限制滑入送料板303下段区域继续送料，如图14所示；
当第一电动推杆322收缩后，长条326会同步与第一电动推杆322斜向上移动，长条326与第二L型支架334脱离，在第二L型支架334下后侧的配重块以及槽板319前高后低的倾斜上表面的影响下，第二L型支架334和T形触发板320开始沿着槽板319向后下方滑动，导致T形触发板320与第一L型支架316分离，第二弹性件331开始释放弹力，遮挡滑动板317缩回送料板303 内不再对后续的氮化硅陶瓷进行阻挡，从而继续进行下料；如此，通过第一电动推杆322的伸缩，同时实现料框304连续入料、连续让单个氮化硅陶瓷通过遮挡滑动板317进入送料板303整体前部的倾斜下段。进入送料板303下段的氮化硅陶瓷会下滑直至与缓冲板329接触，通过第二限位板327和第一弹性件 328的配合来减少氮化硅陶瓷向下滑落的冲击力，使得氮化硅陶瓷在转移过程中造成的损伤减小；
然后承载柱401上的驱动电机403带动圆辊404从左往右看逆时针转动，即带动连接板405、定位件406、清洁支架407、导向锥408、第四弹性件409、第五弹性件410和第六弹性件411跟随转动，当导向锥408与接触缓冲板329 的氮化硅陶瓷接触时，通过导向锥408的引导，使得定位件406插入氮化硅陶瓷内，清洁支架407受到挤压，第四弹性件409开始收缩，定位件406上的清洁棉将氮化硅陶瓷内的灰尘去除，当定位件406与缓冲板329接触时，圆辊404 停止转动，因为氮化硅陶瓷自身的结构存在有凹槽，定位件406上的清洁棉无法将凹槽内的灰尘去除，此时需要通过电动转辊313进行转动，即带动氮化硅陶瓷跟随转动，氮化硅陶瓷上的凹槽与清洁支架407对准时，第四弹性件409 将清洁支架407推入氮化硅陶瓷上的凹槽内，对凹槽中的灰尘进行一次去除，通过摄像头312进行检测，已卡入清洁支架407的氮化硅陶瓷所对应的电动转辊313停止转动，当全部电动转辊313停止转动时，驱动电机403带动圆辊404 继续从左往右看逆时针转动，即带动连接板405、定位件406、清洁支架407、导向锥408、第四弹性件409、第五弹性件410和第六弹性件411跟随转动，第二限位板327和第一弹性件328可以继续从左向右看进行逆时针转动留出定位件406的转动空间，导向锥408恢复至初始状态，将氮化硅陶瓷向转移框502 方向转移，当氮化硅陶瓷转移至转移框502正上方时，圆辊404停止转动，氮化硅陶瓷因自身重量开始向下掉落，在氮化硅陶瓷向下掉落的过程中，清洁支架407上的清洁棉对氮化硅陶瓷上凹槽内的灰尘进行二次去除，清理好的氮化硅陶瓷掉落至转移框502内；
只有前方的陶瓷完全转移至转移框502中后，第一电动推杆322才会收缩，让遮挡滑动板317开始收缩释放下一个氮化硅陶瓷进行处理；
当送料板303上的氮化硅陶瓷摆放不均匀时，直线滑轨307带动直线滑块 308左右往复移动，即带动第一固定块309在滑动架306内左右往复滑动，移动支架310左右往复移动，第二拨板335在第一滑槽303a内左右往复滑动，对送料板303上的氮化硅陶瓷进行均匀调整，防止氮化硅陶瓷在送料板303上出现堆积现象；
操作人员将车体1推向转移框502的工作范围，即带动液压推杆2、转接座 3、圆柱4、限位块5、升降架6、烧结框7和定位系统跟随移动，当盖板201上从前往后数最后一排的第一入料口201a到达转移框502的工作范围内时，车体 1停止移动，液压推杆2带动转接座3向上移动，即带动圆柱4、限位块5、升降架6、烧结框7和定位系统向上移动，当定位系统与转移框502到达合适距离时，转接座3停止向上移动，转接座3通过圆柱4带动升降架6和烧结框7同步向上移动，升降架6向上移动的过程中，其底部脱离支撑板并处于悬空状态，且因为圆柱4连接在升降架6的前部，且圆柱4与升降架6为转动连接，因而升降架6受重力作用，会绕着圆柱4转动，且转动方向为从左往右看逆时针转动，当限位块5与限位槽6a的前部接触时，升降架6和烧结框7停止转动并维持倾斜状态，第三L型支架503上的第二电动推杆504推动转移框502在限位架501转动，转移框502内的氮化硅陶瓷开始向下掉落，氮化硅陶瓷在掉落的过程中，氮化硅陶瓷与限位架501前部接触时，氮化硅陶瓷上部被限位架501 前部两圆杆挡住无法向下掉落，同时转移框502继续转动，所以转移框502对氮化硅陶瓷的支撑力越来越小，直至转移框502完全对氮化硅陶瓷底部失去支撑，氮化硅陶瓷开始从转移框502中掉出，限位架501前部的两圆杆与转移框 502后上部之间的空间只够竖直状态的氮化硅陶瓷通过，从而使得氮化硅陶瓷只能保持竖直状态向下掉落，氮化硅陶瓷从对应的第一入料口201a掉落至烧结框 7内，此时烧结框7处于倾斜状态，使得烧结框7内贴放多层的氮化硅陶瓷，氮化硅陶瓷也不会出现横置的现象，从定位系统最后一排第一入料口201a开始进行批量放置，每完成一排的放置，就调整车体1的位置使车体1后移，让前一排的第一入料口201a能够从定位摆放系统处接收氮化硅陶瓷，第二批会倾斜着贴在第一批氮化硅陶瓷前侧，如此层层贴放直至通过最前侧的第一入料口201a 放置氮化硅陶瓷，此时烧结框7被放满氮化硅陶瓷，批量且有序的放置大幅度缩短了放置时间，且保证后续烧结时氮化硅陶瓷受热更加均匀，提高烧结质量；当烧结框7内的氮化硅陶瓷摆满后，操作人员将定位系统取走放置一旁，操作人员将车体1推动至烧结炉正前方，即带动液压推杆2、转接座3、圆柱4、限位块5、升降架6、烧结框7和定位系统跟随移动，液压推杆2带动转接座3向上移动，即带动圆柱4、限位块5、升降架6和烧结框7向上移动，当烧结框7 上升至合适的高度时，转接座3停止向上移动，然后操作人员将烧结框7推动至烧结炉内，在推动的过程中，圆角的曲面面积越来越小，由最开始的曲面逐渐转为烧结框7底面平面与烧结炉加热区底面相接触，所以烧结炉加热区底面会逐渐推动倾斜的升降架6和烧结框7恢复到水平状态，然后操作人员推动烧结框7完全与升降架6分离进入烧结炉中，最后控制液压推杆2复位并将车体1 推动出烧结炉的工作区域，完成将氮化硅陶瓷批量填充并自动摆放至烧结炉内的步骤。
尽管参照上面实施例详细说明了本发明，但是通过本公开对于本领域技术人员显而易见的是，而在不脱离所述的权利要求限定的本发明的原理及精神范围的情况下，可对本发明做出各种变化或修改。因此，本公开实施例的详细描述仅用来解释，而不是用来限制本发明，而是由权利要求的内容限定保护的范围。

Claims (9)

1.一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，包括有车体(1)、液压推杆(2)、转接座(3)、圆柱(4)、限位块(5)、升降架(6)和烧结框(7)；车体(1)左部安装有液压推杆(2)；液压推杆(2)伸缩部安装有转接座(3)；转接座(3)连接有圆柱(4)；圆柱(4)上设置有限位块(5)；圆柱(4)转动连接有升降架(6)；升降架(6)上开有限位槽(6a)；升降架(6)上放置有烧结框(7)；其特征是：还包括有定位系统、送料系统、清理转移系统、定位摆放系统和均匀调整系统；烧结框(7)上安装有定位系统；定位系统后方设置有清理转移系统；清理转移系统上安装有定位摆放系统；定位摆放系统后方设置有送料系统；送料系统上安装有均匀调整系统；定位系统用于氮化硅陶瓷摆放的导向；送料系统用于氮化硅陶瓷外表的清洁和输送；清理转移系统用于氮化硅陶瓷内部的清洁和转移；定位摆放系统用于将清理完成的氮化硅陶瓷转移至烧结框(7)内。
2.按照权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：烧结框(7)后下侧边缘设置成从右侧向左侧，由圆角逐渐收缩成直角的形态。
3.按照权利要求2所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：定位系统包括有盖板(201)和定位块(202)；烧结框(7)上方放置有盖板(201)，盖板(201)上开有若干个第一入料口(201a)；盖板(201)前中部、后中部、左中部和右中部各固接有一个定位块(202)。
4.按照权利要求3所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：送料系统包括有第一固定支架(301)、安装座(302)、送料板(303)、料框(304)、导向框(305)、弧形板(311)、摄像头(312)、电动转辊(313)、光杆(314)、圆环(315)、第一L型支架(316)、遮挡滑动板(317)、垫块(318)、槽板(319)、T形触发板(320)、第二固定块(321)、第一电动推杆(322)、矩形条(323)、拨动架(324)、第一限位板(325)、长条(326)、第二限位板(327)、第一弹性件(328)、缓冲板(329)、第三限位板(330)、第二弹性件(331)、第一拨块、第三弹性件(333)和第二L型支架(334)；盖板(201)后方设置有第一固定支架(301)；第一固定支架(301)上表面固接有安装座(302)；安装座(302)上固接有送料板(303)；安装座(302)前左侧和前右侧各固接有一个摄像头(312)，且两个摄像头(312)呈左右对称设置；送料板(303)上开有若干个第一滑槽(303a)、第二滑槽(303b)和置物槽(303c)，且第一滑槽(303a)位于送料板(303)上表面中部，且第二滑槽(303b)位于送料板(303)上表面中部，且第二滑槽(303b)位于第一滑槽(303a)前方，且置物槽(303c)位于送料板(303)前下部；安装座(302)后上部固接有料框(304)；料框(304)后部开有第三滑槽(304a)；料框(304)底部开有第二入料口(304b)，且第二入料口(304b)内设有刷毛；料框(304)底面固接有导向框(305)，且导向框(305)通过第二入料口(304b)与料框(304)连通；导向框(305)内后侧面下部固接有若干个弧形板(311)；若干个置物槽(303c)内各设置有一个电动转辊(313)；安装座(302)前下部固接有一个光杆(314)，且光杆(314)位于摄像头(312)下方；光杆(314)上套接有若干个圆环(315)，且圆环(315)与电动转辊(313)一一对应；若干个圆环(315)前上部各固接有一个第二限位板(327)和一个缓冲板(329)，且第二限位板(327)位于缓冲板(329)前方；每个第二限位板(327)和每个缓冲板(329)之间连接有一个第一弹性件(328)；若干个圆环(315)后下部各固接有一个第一L型支架(316)；若干个第一L型支架(316)后部各传动连接有一个遮挡滑动板(317)，且第一L型支架(316)后部开有通槽，遮挡滑动板(317)下部通过一短杆在通槽中滑动，且遮挡滑动板(317)上部通过对应的第二滑槽(303b)内与送料板(303)进行上下向滑动连接；每个遮挡滑动板(317)后侧面固接有一个第三限位板(330)；每个第三限位板(330)上表面固接有一个第二弹性件(331)，且第二弹性件(331)另一端与送料板(303)底面固定；料框(304)前部固接有若干个垫块(318)，且垫块(318)位于第二滑槽(303b)前方；第一固定支架(301)上固接有槽板(319)，且槽板(319)上表面为前高后低的斜面，且槽板(319)位于安装座(302)下方；槽板(319)上滑动连接有T形触发板(320)，且T形触发板(320)前部可以与若干个第一L型支架(316)互相配合；T形触发板(320)后部固接有第二L型支架(334)；料框(304)后侧面上部固接有第二固定块(321)；第二固定块(321)后侧面固接有第一电动推杆(322)；第一电动推杆(322)伸缩部固接有矩形条(323)；矩形条(323)前侧面固接有若干个拨动架(324)，且若干个拨动架(324)在对应的第三滑槽(304a)内滑动；每个拨动架(324)前部各活动连接有一个第一拨板(332)；每个拨动架(324)前侧面各固接有一个第一限位板(325)，且第一限位板(325)位于第一拨板(332)下方；每个拨动架(324)上表面前部和每个第一拨板(332)上表面后部共同固接有一个第三弹性件(333)；矩形条(323)底面中部固接有长条(326)，且长条(326)与第二L型支架(334)相互配合；安装座(302)和导向框(305)连接有均匀调整系统；送料系统用于对氮化硅陶瓷进行自动下料并对陶瓷外表面进行清灰处理。
5.按照权利要求4所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：第二L型支架(334)下后侧设置有一个配重块，配重块用于使T形触发板(320)在不使用时自然沿槽板(319)向后滑动，进行复位操作。
6.按照权利要求5所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：清理转移系统包括有承载柱(401)、第二固定支架(402)、驱动电机(403)、圆辊(404)、连接板(405)、定位件(406)、清洁支架(407)、导向锥(408)、第四弹性件(409)、第五弹性件(410)和第六弹性件(411)；第一固定支架(301)左前方设置有承载柱(401)；承载柱(401)右方设置有第二固定支架(402)；承载柱(401)上表面固接有驱动电机(403)；驱动电机(403)输出轴连接有圆辊(404)，且圆辊(404)另一端与第二固定支架(402)上部转动连接；圆辊(404)上均匀固接有三个连接板(405)；三个连接板(405)上各活动连接有若干个等距分布的定位件(406)，且定位件(406)表面设有一层清洁棉；每个定位件(406)和对应的连接板(405)之间连接有第六弹性件(411)；每个定位件(406)远离第六弹性件(411)的一侧各开有一个第四滑槽(406a)；每个定位件(406)内左侧和内右侧各开有一个第五滑槽(406b)；每个第四滑槽(406a)内滑动连接有一个清洁支架(407)；每个清洁支架(407)内侧面固接有三个第四弹性件(409)，且第四弹性件(409)另一端与定位件(406)内侧面固接；每定位件(406)内滑动连接有一个导向锥(408)，且导向锥(408)同时在两个第五滑槽(406b)内滑动；导向锥(408)表面固接有两个呈左右分布的第五弹性件(410)，且第五弹性件(410)另一端与定位件(406)固接；清理转移系统用于转移但回归陶瓷，同时对氮化硅陶瓷的凹槽内进行除灰工作。
7.按照权利要求6所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：定位摆放系统包括有限位架(501)、转移框(502)、第三L型支架(503)和第二电动推杆(504)；承载柱(401)和第二固定支架(402)共同固接有限位架(501)；限位架(501)上侧活动连接有转移框(502)；限位架(501)后侧面固接有两个呈左右分布的第三L型支架(503)；两个第三L型支架(503)前侧面上部各固接有一个第二电动推杆(504)；两个第二电动推杆(504)伸缩部与转移框(502)后部活动连接。
8.按照权利要求7所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：限位架(501)前部设置有两个上下分布的圆杆，料框(304)翻转前的后上侧边缘和下前侧边缘的高度位置位于两个圆杆之间，料框(304)翻转后的后上侧边缘处于上圆杆上方，下前侧边缘的高度处于下圆杆的下方。
9.按照权利要求8所述的一种氮化硅陶瓷烧结用辅助设备，其特征是：均匀调整系统包括有滑动架(306)、直线滑轨(307)、直线滑块(308)、第一固定块(309)、移动支架(310)和第二拨板(335)；安装座(302)前侧面上部固接有滑动架(306)；导向框(305)前侧面固接有直线滑轨(307)；直线滑轨(307)上滑动连接有直线滑块(308)；直线滑块(308)前侧面固接有第一固定块(309)，且第一固定块(309)在滑动架(306)内滑动；第一固定块(309)底面固接有移动支架(310)；移动支架(310)底面固接有若干个第二拨板(335)，且第二拨板(335)在第一滑槽(303a)内滑动。
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