CN115151989A - 薄膜电容器用膜、薄膜电容器用金属层叠层膜及薄膜电容器 - Google Patents

薄膜电容器用膜、薄膜电容器用金属层叠层膜及薄膜电容器 Download PDF

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Abstract

本发明以提供具备高耐热性和自愈性、生产性也优异的薄膜电容器用膜作为其课题，以下述薄膜电容器用膜作为宗旨，上述薄膜电容器用膜具有熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上的树脂层A、和层B，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，上述层B的氧原子含量为1.0质量％以上，在2个最外层表面之中，利用相同面彼此测定动摩擦系数时，在将动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面，将上述a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，将上述a面与上述b面的动摩擦系数设为μdab时，满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2。

Description

薄膜电容器用膜、薄膜电容器用金属层叠层膜及薄膜电容器
技术领域
本发明涉及成为薄膜电容器的电介质的薄膜电容器用膜、薄膜电容器用金属层叠层膜、以及薄膜电容器。
背景技术
最近数年，起因于地球环境问题等，混合动力车(HEV)、插电式混合动力车(PHEV)的电动机驱动并用车、或电动汽车(EV)、燃料电池汽车(FCV)的电动机驱动车的市场扩大了，但随着这些电动机驱动并用车、电动机驱动车的市场扩大，这些车所使用的薄膜电容器的需求也迅速增大。
薄膜电容器为以树脂制的基材膜作为电介质的电容器，可以获得优异的频率特性、温度稳定性。作为该薄膜电容器的基材膜，可举出聚丙烯(PP)树脂膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)树脂膜等聚酯树脂膜、聚苯硫醚(PPS)树脂膜等热塑性树脂膜、或作为非晶性的热塑性树脂的聚醚酰亚胺(PEI)树脂膜。
这些膜中，聚醚酰亚胺树脂膜作为基材膜而受到关注(专利文献1)。这是因为，在薄膜电容器被利用于电动机驱动并用车、电动机驱动车的用途的情况下，要求可耐受120℃的环境下的使用的耐热性，如果使用玻璃化转变温度(Tg)为200℃以上的聚醚酰亚胺树脂制的基材膜，则可以获得优异的耐热性、耐电压特性、介电特性等电特性。
另一方面，聚醚酰亚胺、聚苯硫醚等具有优异的耐热性的基材膜一般自愈(SH)性差、如果长时间使用则具有电容器容量降低这样的缺点。针对于此，已知通过在基材膜设置涂层来改善自愈性的技术(专利文献2、3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-300126号公报
专利文献2：日本特开2018-163950号公报
专利文献3：国际公开第2007/080757号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而，在现有技术中，在兼有耐热性与自愈性时，使用了高额并且形成花费时间、生产性差、自愈性的改善效果也低的聚对二甲苯系树脂的涂层、使用了在绝缘击穿时生成可能成为电路的导线不良的原因的硅氧烷的有机硅系的自愈涂层等是课题。因此，本发明鉴于这样的现有技术的背景，想要提供具备高耐热性和自愈性、生产性也优异的薄膜电容器用膜。
用于解决课题的方法
上述课题能够通过以下二个方案来解决。
本发明的薄膜电容器用膜的第1方案是一种薄膜电容器用膜，其具有树脂层A和层B，所述树脂层A的熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，上述层B的氧原子含量为1.0质量％以上，在2个最外层表面之中，利用相同面彼此测定动摩擦系数时，将动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面，将上述a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，且将上述a面与上述b面的动摩擦系数设为μdab时，满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2。
本发明的薄膜电容器用膜的第2方案是一种薄膜电容器用膜，其具有树脂层A和层B，所述树脂层A的熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，上述层B的氧原子含量为1.0质量％以上。
发明的效果
根据本发明，可以提供具备高耐热性和自愈性、生产性也优异的薄膜电容器用膜。
具体实施方式
本发明的薄膜电容器用膜的第1方案具有熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上的树脂层A、和层B，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，上述层B的氧原子含量为1.0质量％以上，在2个最外层表面之中，利用相同面彼此测定动摩擦系数时，将动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面，将上述a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，将上述a面与上述b面的动摩擦系数设为μdab时，满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2。
本发明的薄膜电容器用膜的第2方案具有熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上的树脂层A、和层B，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，上述层B的氧原子含量为1.0质量％以上。
另外，以下，有时将本发明的薄膜电容器用膜的第1方案、与本发明的薄膜电容器用膜的第2方案总称为本发明的薄膜电容器用膜。以下，对本发明的薄膜电容器用膜具体说明。
本发明的薄膜电容器用膜具有熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上的树脂层A。树脂层A的熔点的下限优选为205℃，更优选为215℃，上限没有特别设置，但优选为400℃，更优选为350℃。树脂层A的玻璃化转变温度的下限优选为180℃，更优选为205℃，上限没有特别设置，但优选为400℃，更优选为350℃。通过树脂层A的熔点和/或玻璃化转变温度包含于上述范围，从而在120℃以上的高温环境下使用薄膜电容器用膜时不易发生由热收缩、破膜引起的绝缘不良。
本发明的树脂层A的厚度没有特别限定，但优选为100μm以下，更优选为10μm以下。通过使本发明的树脂层A的厚度为100μm以下，从而容易使制成电容器元件时的体积小。树脂层A的厚度的下限没有特别限定，但优选为0.50μm，更优选为1.3μm，进一步优选为1.6μm。通过使树脂层A的厚度为0.50μm以上，从而容易使绝缘击穿电压高。
本发明的薄膜电容器用膜的树脂层A所使用的原料没有特别限定，可举出例如，聚苯乙烯(PS)树脂、聚甲基戊烯(PMP)树脂、环状烯烃(COP)树脂、和环状烯烃/共聚物(COC)树脂等聚烯烃树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)树脂、和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)树脂等聚酯树脂、聚酰胺6(PA6)树脂、聚酰胺66(PA66)树脂、聚酰胺46(PA46)树脂、聚酰胺4T(PA4T)树脂、聚酰胺6T(PA6T)树脂、改性聚酰胺6T(改性PA6T)树脂、聚酰胺9T(PA9T)树脂、聚酰胺10T(PA10T)树脂、和聚酰胺11T(PA11T)树脂等聚酰胺树脂、聚砜(PSU)树脂、聚醚砜(PES)树脂、和聚苯基砜(PPSU)树脂等聚砜树脂、聚苯硫醚(PPS)树脂、聚苯硫醚酮树脂、聚苯硫醚砜树脂、聚苯硫醚酮砜树脂等聚芳撑硫醚树脂、聚酰亚胺(PI)树脂、聚醚酰亚胺(PEI)树脂、和聚酰胺酰亚胺(PAI)树脂等聚酰亚胺(PI)树脂、聚醚酮(PEK)树脂、聚醚醚酮(PEEK)树脂、聚醚酮酮(PEKK)树脂、聚醚醚酮酮(PEEKK)树脂、聚醚酮醚酮酮(PEKEKK)树脂等聚芳基醚酮树脂、聚四氟乙烯(PTFE)树脂(也称为四氟乙烯树脂)、聚四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)树脂(也称为四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物树脂)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)树脂(也称为四氟乙烯-六氟丙烯共聚物树脂)、四氟乙烯-乙烯共聚物(ETFE)树脂(也称为四氟乙烯-乙烯共聚物树脂)、聚氯三氟乙烯(PCTFE)树脂(也称为三氟氯乙烯树脂)、聚1,1-二氟乙烯(PVDE)树脂(也称为1,1-二氟乙烯树脂)、1,1-二氟乙烯/四氟乙烯/六氟芘共聚物树脂等氟树脂、聚缩醛树脂、液晶聚合物(LCP)树脂、聚碳酸酯(PC)树脂、聚芳酯(PAR)树脂、酚树脂、聚脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、醇酸树脂等。它们之中，优选使用150℃下的耐热性优异的聚醚酰亚胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚苯硫醚树脂、聚醚砜树脂、和聚苯基砜树脂等聚砜树脂、聚酰亚胺树脂、聚甲基戊烯树脂、聚醚醚酮树脂、聚醚酮酮树脂、聚芳基醚酮树脂，在耐热性优异的树脂中，更优选使用介质损耗角正切低、适于作为电容器使用的聚苯硫醚树脂、聚醚酰亚胺树脂、聚苯基砜树脂、聚醚砜树脂，更优选含有这些树脂之中的至少1种树脂50质量％以上且100质量％以下。这些树脂也可以使用改性体、衍生物、和与其它化合物的共聚物。此外，可以单独使用，也可以混合使用2种以上。
在本发明的薄膜电容器用膜的树脂层A中，在不损害其特性的范围，可以含有抗氧化剂、光稳定剂、紫外线吸收剂、增塑剂、润滑剂、交联剂、阻燃剂、抗静电剂、耐热改进剂、着色剂、滑动剂、防粘连剂、无机粒子、树脂粒子、无机化合物、有机化合物等。另外，这些各成分也可以根据需要单独使用或组合使用多种。
本发明的薄膜电容器用膜在其至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B。层B的氧原子含量为1.0质量％以上。层B的氧原子含量优选为1.5质量％以上，更优选为21质量％以上，进一步优选为25质量％以上。层B的氧原子含量的上限没有特别限定，但优选为50质量％，更优选为37质量％，进一步优选为34质量％。通过使层B所包含的氧原子的含量为1.0质量％以上，从而在绝缘击穿时层B易于挥发，可以使自愈性提高。通过使层B所包含的氧原子的含量为50质量％以下，从而可以获得膜彼此的粘连性低、生产性优异的膜。另外，所谓层B的氧原子含量为1.0质量％以上，是指在将层B中的氢原子、碳原子、硫原子、硅原子、氮原子和氧原子的合计设为100质量％时，层B中的氧原子为1.0质量％以上。后述层B的硅原子Si的含量也可以同样地解释。
本发明的层B的厚度没有特别限定，但优选为10nm以上，更优选为50nm以上。通过使层B的厚度为10nm以上，从而提高自愈性变得容易。此外，层B的厚度的上限没有特别限定，但优选为5.0μm，更优选为1.0μm，进一步优选为0.50μm，特别优选为0.30μm。通过使层B的厚度为5.0μm以下，从而提高绝缘击穿电压变得容易。
这里，各层的厚度可以将宽度方向-厚度方向截面用场发射扫描电子显微镜进行观察，通过其测长功能而计测，详细的步骤后述。此外，各层中的原子的含量可以由通过采用卢瑟福背散射/氢前向散射分析同时测定法(National Electrostatics Corporation制Pelletron 3SDH)的分析而获得的原子分率而求出，详细的步骤后述(不仅层B的氧原子含量，而且各层的其它原子含量也相同。)。
层B的硅原子Si的含量优选为27质量％以下。层B的硅原子Si的含量的上限更优选为15质量％以下，更优选为3.0质量％以下，进一步优选为1.0质量％以下，特别优选不含有硅原子Si。通过使层B所包含的硅原子Si的含量为27质量％以下，从而可以抑制由绝缘击穿时生成的硅氧烷引起的电容器特性的劣化。
层B优选满足以下条件(i)。
条件(i)：由层B所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率基于下式(Ⅱ)而计算的值XB为0.90以下。
式(Ⅱ)XB＝(层B的碳原子C的原子分率+层B的氮原子N的原子分率+层B的硫原子S的原子分率+层B的硅原子Si的原子分率)/(层B的氢原子H的原子分率+层B的氧原子O的原子分率)
上述条件(i)的XB的上限更优选为0.80，进一步优选为0.70，特别优选为0.65。XB采用在绝缘击穿时具有不易蒸发的倾向的原子和具有易于蒸发的倾向的原子之比，通过使其为0.90以下，从而提高自愈性、电容器的可靠性变得容易。XB的下限没有特别限定，但优选为0.050，更优选为0.20。通过使XB为0.050以上，从而提高层B与树脂层A的密合性变得容易。
层B所使用的原料没有特别限定，可以使用例如树脂、低分子有机化合物。从与树脂层A的密合性的观点考虑，优选使用树脂。作为层B所使用的树脂，没有特别限定，可举出例如聚苯乙烯(PS)树脂、聚甲基戊烯(PMP)树脂、环状烯烃(COP)树脂、和环状烯烃/共聚物(COC)树脂等聚烯烃树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)树脂、和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)树脂等聚酯树脂、聚酰胺6(PA6)树脂、聚酰胺66(PA66)树脂、聚酰胺46(PA46)树脂、聚酰胺4T(PA4T)树脂、聚酰胺6T(PA6T)树脂、改性聚酰胺6T(改性PA6T)树脂、聚酰胺9T(PA9T)树脂、聚酰胺10T(PA10T)树脂、和聚酰胺11T(PA11T)树脂等聚酰胺树脂、聚醚砜(PES)树脂、和聚苯基砜(PPSU)树脂等聚砜树脂、聚苯硫醚(PPS)树脂、聚苯硫醚酮树脂、聚苯硫醚砜树脂、聚苯硫醚酮砜树脂等聚芳撑硫醚树脂、聚酰亚胺(PI)树脂、聚醚酰亚胺(PEI)树脂、和聚酰胺酰亚胺(PAI)树脂等聚酰亚胺(PI)树脂、聚醚酮(PEK)树脂、聚醚醚酮(PEEK)树脂、聚醚酮酮(PEKK)树脂、聚醚醚酮酮(PEEKK)树脂、聚醚酮醚酮酮(PEKEKK)树脂等聚芳基醚酮树脂、聚四氟乙烯(PTFE)树脂(也称为四氟乙烯树脂)、聚四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)树脂(也称为四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物树脂)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)树脂(也称为四氟乙烯-六氟丙烯共聚物树脂)、四氟乙烯-乙烯共聚物(ETFE)树脂(也称为四氟乙烯-乙烯共聚物树脂)、聚氯三氟乙烯(PCTFE)树脂(也称为三氟氯乙烯树脂)、聚1,1-二氟乙烯(PVDE)树脂(也称为1,1-二氟乙烯树脂)、1,1-二氟乙烯/四氟乙烯/六氟芘共聚物树脂等氟树脂、聚缩醛树脂、液晶聚合物(LCP)树脂、聚碳酸酯(PC)树脂、聚芳酯(PAR)树脂、酚树脂、聚脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)、聚氨酯树脂(PU)、聚氨酯丙烯酸酯树脂、纤维素、纤维素衍生物(例如，乙酸纤维素、羧基甲基纤维素、羟基乙基纤维素、羟基丙基甲基纤维素等)、石油树脂、萜烯树脂、萜酚树脂等。这些树脂中，作为XB成为低值且自愈性变高的树脂，优选使用聚乙烯(PE)树脂、聚丙烯(PP)树脂、聚苯乙烯(PS)树脂、聚甲基戊烯(PNP)树脂、环状烯烃(COP)树脂、和环状烯烃/共聚物(COC)树脂等聚烯烃树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)树脂、和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)树脂等聚酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂、丙烯酸系树脂、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)、聚缩醛树脂、液晶聚合物(LCP)树脂、聚碳酸酯(PC)树脂、聚芳酯(PAR)树脂、酚树脂、纤维素、纤维素衍生物(例如，乙酸纤维素、羧基甲基纤维素、羟基乙基纤维素、羟基丙基甲基纤维素等)、石油树脂、萜烯树脂、萜酚树脂。
这些原料之中，丙烯酸系树脂可以通过形成时的交联而提高耐热性，环氧树脂、纤维素衍生物由于主骨架的结构因此耐热性高，通过作为层B的原料而使用，从而制作使用本发明的电容器用膜而成的电容器元件时容易延长高温下的寿命。此外，丙烯酸系树脂、环氧树脂、纤维素衍生物、聚酯树脂为包含氧原子的树脂，因此提高层B的氧原子含量、提高自愈性变得容易。从这些方面考虑，层B更优选含有丙烯酸系树脂、环氧树脂、纤维素衍生物、和聚酯树脂之中的至少1种树脂50质量％以上且100质量％以下。这些原料也可以使用改性体、衍生物、和与其它化合物的共聚物、以单体的形态进行了涂覆后使其聚合而形成的树脂。此外，可以单独使用，也可以混合使用2种以上。
从提高层B侧的表面的突出峰部高度、使滑动性好的观点考虑，本发明的薄膜电容器用膜优选层B包含彼此不相容的2种以上成分。这里所谓的“彼此不相容的成分”，是未以分子水平均匀地混合的2种成分，具体而言是指以不同的2种成分作为主成分的相都形成0.01μm以上的相结构的情况下的该2种成分(是否符合这里所谓的“主成分”可以通过2种成分的合计的含量在构成层B的全部成分中是否超过50质量％来判断。)。另外，例如在3种以上的成分包含于层B的情况下，如果以某一种成分作为主成分的相形成0.01μm以上的相结构，则满足“包含彼此不相容的2种以上成分”。另外，在构成层B的成分为3种成分以上的情况下，如果其中的2种成分满足上述要件，则无论剩下的其它成分是否满足上述要件都视为“包含彼此不相容的2种以上成分”。
2种以上成分是否不相容如例如Polymer Alloys and Blends,Leszek AUtracki,hanser Publishers,Munich Viema New York,P64所记载地那样，可以通过电子显微镜、差示扫描量热计(DSC)、其它各种方法来判断。将彼此不相容的成分混合2种以上而提高突出峰部高度的方法没有特别限定，可举出例如，使粒子和树脂分散在溶剂中并在干燥时将粒子作为突起而残留的方法；将与树脂层A的材料的亲和性高的树脂和与树脂层A的材料的亲和性低的树脂以亲和性低的树脂变少的方式混合而使亲和性低的树脂作为突起而点状存在于层B侧的表面的方法；和在2种沸点不同的溶剂中溶解对各溶剂具有高亲和性的树脂并在干燥时以一方的溶剂先蒸发的方式设定温度，从而溶解于剩下一方的溶剂的树脂稍后作为突起而析出的方法；以及将它们组合而成的方法等。
作为层B所使用的彼此不相容的2种成分的组合，优选为丙烯酸系树脂与纤维素衍生物的组合、纤维素衍生物与环氧树脂的组合、甲基丙烯酸系树脂与丙烯酸系树脂的组合。它们也可以使用改性体、衍生物、和与其它化合物的共聚物、在以单体的形态进行了涂覆后使其聚合而形成的树脂，在将用于形成层B的组合物涂覆于树脂层A使其形成的情况下，关于这些原料的组合，优选在涂覆了将一方以聚合物的形态、将另一方以单体的形态混合而成的涂液后，使单体聚合而形成。此外，如果重视加工性，则例如环氧树脂与二氧化硅的组合也是优选的。
从用于电容器时的寿命长的观点考虑，本发明的薄膜电容器用膜优选介质损耗角正切为2.0％以下。从上述观点考虑，薄膜电容器用膜的介质损耗角正切的上限优选为0.70％，更优选为0.40％，进一步优选为0.30％。通过薄膜电容器用膜的介质损耗角正切为2.0％以下，从而在用于薄膜电容器时通电中的发热量减少，薄膜电容器的寿命变长。薄膜电容器用膜的介质损耗角正切的下限没有特别限定，但优选为0.0010％，更优选为0.010％。在使用极性低的树脂作为树脂层A的树脂、使用介质损耗角正切高于树脂层A的原料作为层B的原料的情况下，通过使层B的厚度薄，从而可以使薄膜电容器用膜的介质损耗角正切小。另外，这里所谓的介质损耗角正切是指按照JIS C2138-2007而测定的值，其详细的测定方法后述。
本发明的薄膜电容器用膜的第1方案是，在2个最外层表面之中，利用相同面彼此测定动摩擦系数时，将动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面，将a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，将a面与b面的动摩擦系数设为μdab时，满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2。此外，将b面彼此的动摩擦系数设为μdbb。μdab更优选满足μdab≤0.90，进一步优选满足μdab≤0.75，特别优选满足μdab≤0.60。通过μdaa＞μdab并且μdab≤1.2，从而能够不易使电容器特性降低而改善滑动性。进一步，通过使μdab为低值，从而可以使加工性更高。μdab的下限没有特别限定，但优选为0.10。通过使μdab为0.10以上，从而将本发明的薄膜电容器用膜制成卷绕体时，不易卷绕错位变得容易。另外，动摩擦系数是按照JIS K 7125(1999)，在荷重200g、25℃、65％RH下测定的，详细的步骤后述。
作为使μdaa和μdab满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2的方法，没有特别限定，可举出在平滑的基材膜、镜面辊上形成树脂层A，在其上以原料包含不相容的2种成分的方式形成层B的方法。在μdab高的情况下，通过以上述2种成分的含量之差变小的方式调整混合比，从而可以使μdab低。此外，为了使μdaa≤μdab，通过上述方法使μdab低，或使形成树脂层A所使用的基材膜、辊的平滑性提高，使μdaa高，从而可以使μdaa>μdab。
μdbb的值没有特别限定，但优选为0.10以上，更优选为0.25以上。通过使μdbb为0.10以上，从而抑制将本发明的薄膜电容器用膜制成卷绕体时的卷绕错位变得容易。μdbb的上限没有特别限定，但优选为2.0，更优选为1.5，进一步优选为1.2。通过使μdbb为2.0以下，从而使加工性提高变得容易。
μdaa的值没有特别限定，但优选为0.10以上，更优选为0.25以上。通过使μdaa为0.10以上，从而抑制将本发明的薄膜电容器用膜制成卷绕体时的卷绕错位变得容易。μdaa的上限没有特别限定，但优选为2.0，更优选为1.5，进一步优选为1.2。通过使μdaa的值为2.0以下，从而使加工性提高变得容易。
本发明的薄膜电容器用膜优选至少一方的最外层表面满足将突出峰部与中心部分离的负载面积率Smr1≥12％。Smr1由于着眼于突出部的比例，因此该值越高，则可以越有效地减少与其它面接触时的接触面积。通过使Smr1为12％以上，从而在提高膜的绝缘击穿电压的状态下改善膜的滑动性变得容易。Smr1的上限没有特别限定，但优选为49％，更优选为18％。通过使Smr1为49％以下，从而在将本发明的薄膜电容器用膜制成卷绕体时，抑制膜表面的变形变得容易。另外，Smr1可以按照ISO 25178-2:2012，ISO 25178-3：2012测定、算出，详细的测定步骤后述。
使至少一方的最外层表面的Smr1满足Smr1≥12％的方法没有特别限定，可举出例如，以原料包含不相容的2种成分的方式形成层B的方法。在Smr1低的情况下，通过以上述2种成分的含量之差变大的方式调整混合比、使2种成分的溶解度参数(所谓SP值)变小，从而可以提高Smr1。
由树脂层A所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率基于下式(Ⅲ)而计算的值XA优选相对于XB满足XA＞XB。
式(Ⅲ)XA＝(树脂层A的碳原子C的原子分率+树脂层A的氮原子N的原子分率+树脂层A的硫原子S的原子分率+树脂层A的硅原子Si的原子分率)/(树脂层A的氢原子H的原子分率+树脂层A的氧原子O的原子分率)
XA越高，则越具有成为不饱和度高且具有刚直的结构的树脂的倾向，因此通过满足XA>XB，从而在使耐热性保持得高的状态下提高自愈性变得容易。
优选a面的突出峰部高度Spk-a与b面的突出峰部高度Spk-b之比满足Spk-b/Spk-a≥2.0，并且，将b面的突出峰部与中心部分离的负载面积率Smr1-b≥12％以上。通过使Smr1-b为12％以上，从而可以改善膜的滑动性。Smr1-b的上限没有特别限定，但优选为49％。通过使Smr1-b为49％以下，从而在将本发明的薄膜电容器用膜制成卷绕体时，抑制膜表面的变形变得容易。通过满足Spk-b/Spk-a≥2.0并且Smr1-b≥12％，从而获得滑动性优异的膜变得容易。另外，Spk-a和Spk-b可以按照ISO 25178-2:2012，ISO 25178-3：2012测定、算出，详细的测定步骤后述。
作为使至少一方的最外层表面的Spk-a、Spk-b、和Smr1-b满足Spk-b/Spk-a≥2.0，并且，满足Smr1-b≥12％以上的方法，没有特别限定，可举出例如，以原料包含不相容的2种成分的方式形成层B的方法。在Spk-b/Spk-a低的情况下，通过使上述2种成分的含量之差大，使2种成分的溶解度参数(所谓SP值)变大，从而可以使Spk-b/Spk-a高。在Smr1-b低的情况下，通过以上述2种成分的含量之差变大的方式调整混合比，或使2种成分的溶解度参数(所谓SP值)变小，从而可以使Smr1-b高。
优选在将树脂层A和层B的合计厚度设为T(F)时，本发明的薄膜电容器用膜的两方的最外层表面的最大谷深度Sv都满足Sv/T(F)<0.30。Sv/T(F)的上限在两面都优选为0.20。即，更优选为Sv/T(F)≤0.20。Sv/T(F)是指膜的凹陷相对于厚度的大小，其越高，则在以相同厚度进行比较的情况下越易于绝缘击穿。通过使Sv/T(F)小于0.30，从而获得具有高耐电压特性的膜变得容易。另外，Sv可以按照ISO 25178-2:2012，ISO 25178-3：2012测定、算出，详细的测定步骤后述。
使Sv/T(F)小于0.30的方法没有特别限定，可举出例如，在平滑的基材膜、镜面辊上形成树脂层A，在其上将溶液或液状的层B的原料用涂布机进行了涂覆后，干燥而形成层B的方法。在层B侧的表面的Sv/T(F)成为0.30以上的情况下，通过在层B的原料中添加流平剂，从而可以使Sv/T(F)低。
本发明的薄膜电容器用膜的两方的最外层表面的最大谷深度Sv的值关于任一面都优选为0.10nm以上，更优选为10nm以上。通过使本发明的薄膜电容器用膜的两方的最外层表面的最大谷深度Sv在任一面都为0.10nm以上，从而提高加工性变得容易。本发明的薄膜电容器用膜的两方的最外层表面的最大谷深度Sv的上限关于任一面都优选为5000nm。通过使本发明的薄膜电容器用膜的两方的最外层表面的最大谷深度Sv关于任一面都为5000nm以下，从而获得具有高耐电压特性的膜变得容易。
以下，对本发明的薄膜电容器用金属层叠层膜进行说明。本发明的薄膜电容器用膜从集成化的观点考虑，优选为在至少一方的最外层表面具有金属层的薄膜电容器用金属层叠层膜，从提高自愈性的目的考虑，更优选为依次具有树脂层A、层B、金属层的薄膜电容器用金属层叠层膜。另外，这里所谓“依次具有树脂层A、层B、金属层”，是指树脂层A、层B、金属层依次配置的方式总体，无论在树脂层A与层B之间、层B与金属层之间是否具有其它层。
进一步，为了通过提高由耐热性高的树脂形成的树脂层A的平滑性，从而在使耐电压特性保持得高的状态下发挥由层B带来的滑动性的改善效果，本发明的薄膜电容器用金属层叠层膜特别优选仅在树脂层A的一面具有上述层B，在层B侧具有上述金属层，在2个最外层表面之中，将利用相同面彼此测得的动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面时，b面从树脂层A来看位于层B侧。
金属层的厚度优选为1nm以上且100nm以下，更优选为5nm以上且80nm以下，进一步优选为10nm以上且50nm以下的范围。此外，金属层的表面电阻值优选为0.1Ω/sq以上且10Ω/sq以下，更优选为2Ω/sq以上且8Ω/sq以下，进一步优选为3Ω/sq以上且6Ω/sq以下的范围。这是因为，在金属层的表面电阻值小于0.1Ω/sq的情况下，自愈性(也称为自修复性)降低，因此是不优选的。相反，在超过10Ω/sq的情况下，基于介质损耗角正切可能恶化这样的理由。
本发明的薄膜电容器用膜是作为电容器用电介质膜而优选使用的，但不受电容器的类型限定。具体而言，从电极构成的观点考虑，可以为箔卷绕电容器、金属蒸镀薄膜电容器中的任一者，也优选用于含浸了绝缘油的油浸型的电容器、完全不使用绝缘油的干式电容器。此外，从形状的观点考虑，可以为卷绕式，也可以为叠层式。它们之中，从本发明的膜的特性考虑，优选作为包含金属层叠层膜的金属蒸镀膜薄膜电容器而使用。作为金属层的形成方法，使用例如真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、镀敷法等。这些方法中，优选为生产性优异的真空蒸镀法。在蒸镀金属层的情况下，作为蒸镀方法，使用油法、带等。作为金属层的蒸镀图案，没有特别限定，作为优选的图案，可举出例如T空白图案、蜂窝图案、马赛克图案等。
接下来对本发明的薄膜电容器进行说明。本发明的薄膜电容器是使用本发明的薄膜电容器用金属层叠层膜而成的。本发明的薄膜电容器可以为汽车用逆变器和/或转换器(例如，混合动力汽车用的逆变器、混合动力汽车用的转换器、电动汽车用的逆变器、电动汽车用的转换器等)的一部分。
接下来，对本发明的薄膜电容器用膜的制造方法的例子进行说明。另外，以下例子为具有树脂层A和层B的2层构成，但本发明的薄膜电容器用膜只要具有树脂层A和层B，就可以为2层构成，也可以为具有其以外的层的3层以上的构成。在为3层以上的构成的情况下，将熔点180℃以上且/或玻璃化转变温度130℃以上，厚度最大的层设为树脂层A。
首先，作为树脂层A的形成方法，可举出将树脂层A的原料供给到挤出机，从T型模等狭缝状口模使其熔融挤出而在冷却鼓等上使其固化而制成树脂层A的方法；将溶液或液体状的树脂层A的原料在聚烯烃膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚酰亚胺膜、或对它们进行有机硅涂布而提高了脱模性的膜等基材膜上用涂布机进行了涂覆后，进行干燥从而形成树脂层A的方法；使该液体在流延带上流延后，进行干燥从而形成树脂层A的方法等。其中，从提高树脂层A的平滑性的观点考虑，优选通过下述方法中的任一方法进行：通过将溶液或液体状的树脂层A的原料用涂布机涂覆在基材膜上后，进行干燥的方法而形成树脂层A的方法；或将原料供给到挤出机，从T型模等狭缝状口模使其熔融挤出而在冷却鼓等上使其固化而成型为膜状后，以单轴或双轴进行了拉伸，将所得的层设为树脂层A的方法。在基材膜上形成树脂层A的情况下，可以在进行层B的形成前将树脂层A从基材膜剥离，也可以不剥离，但从提高输送性的观点考虑，优选在不剥离的情况下进行层B的形成。
作为在树脂层A的一面形成层B的方法，可举出将溶液或液体状的层B的原料在树脂层A上用涂布机进行了涂覆后进行干燥的方法、将层B的原料真空蒸镀在树脂层A上的方法。从提高所形成的层B的突起高度的观点考虑，优选通过将溶液或液体状的层B的原料在树脂层A上用涂布机涂覆后进行干燥的方法来形成。在树脂层A的一面涂覆层B的原料而形成的情况下，可以对树脂层A的涂覆面预先进行电晕放电处理等表面处理。通过进行电晕放电处理等表面处理，从而使涂料组合物对涂覆面润湿性提高、防止涂料组合物的排斥、实现均匀的涂布厚度变得容易。在由所得的树脂层A和层B构成的膜叠层金属层的情况下，其方法没有特别限定，但优选通过真空蒸镀将金属蒸镀在层B上。作为蒸镀所使用的金属，优选为铝。此时，也可以与铝同时或依次蒸镀例如镍、铜、金、银、铬和锌等其它金属成分。在通过蒸镀对由树脂层A和层B构成的膜进行金属层叠层的情况下，可以在蒸镀前对膜的蒸镀面进行电晕放电处理等表面处理。通过进行电晕放电处理等表面处理，从而可以提高蒸镀的金属对膜的密合性。
在形成层B时，优选将层B的成分交联。进行交联的方法没有特别限定，可举出使用具有多个反应位点的化合物作为层B的原料，通过热、紫外线进行交联反应的方法。作为具有多个反应位点的化合物，可举出具有2个以上乙烯基的丙烯酸酯、具有2个以上环氧基的环氧化合物、三聚氰胺与甲醛的缩合物等。其中，从使层B的氧浓度高而提高自愈性的观点考虑，优选使用具有2个以上乙烯基的丙烯酸酯。为了促进交联反应，可以在形成层B时根据反应位点的反应性而添加酸、碱等催化剂、阳离子引发剂、阴离子引发剂、自由基引发剂等添加剂。例如，在使用具有2个以上乙烯基的丙烯酸酯作为层B的原料的情况下，可以制作添加了通过紫外线而生成自由基的自由基引发剂的涂液，在树脂层A上涂覆了该涂液后照射紫外线从而促进交联反应。作为自由基引发剂，没有特别限定，但可以使用通过紫外线而生成自由基的、羟基烷基苯酮型引发剂、氨基苯乙酮型引发剂。通过将层B交联，从而提高本发明的薄膜电容器用膜的耐热性变得容易。
实施例
以下，使用实施例对本发明的薄膜电容器用膜具体地说明。另外，特性值的测定方法、以及效果的评价方法如下所述。
(1)膜厚度T(F)
在23℃、65％RH的气氛下使用接触式的アンリツ(株)制电子测微计(K-312A型)测定了膜的任意10处的厚度。将该10处的厚度的算术平均值设为膜厚度T(F)。
(2)树脂层A的厚度T(A)、层B的厚度T(B)
使用切片法，制作沿膜的宽度方向-厚度方向具有截面的宽5mm的超薄切片，在该截面进行铂涂布而设为观察试样。接下来，使用日立制作所制场发射扫描电子显微镜(S-4800)，将膜截面以加速电压1.0kV进行观察，从观察图像的任意位置计测树脂层A的厚度、层B的厚度。另外，将2层之中的厚的一方的层设为树脂层A，将薄的一方的层设为层B，观察倍率设为10,000倍。进一步，进行同样的计测合计20次，使用其平均值作为树脂层A的厚度T(A)、层B的厚度T(B)。
(3)树脂层A的熔点、玻璃化转变温度
量取通过(2)所记载的步骤而被确定的树脂层A 5mg，使用差示扫描量热计(セイコーインスツル制EXSTAR DSC6220)，在氮气气氛中按照以下程序进行了加热冷却。
＜程序＞
步骤1：以10℃/分钟从25℃加热直到330℃后，在330℃保持5分钟。
步骤2：以-10℃/分钟从330℃冷却直到25℃后，在25℃保持5分钟。
步骤3：以10℃/分钟从25℃加热直到330℃后，在330℃保持5分钟。
在步骤3的升温过程中，从330℃朝向低温侧而观察DSC图时，将DSC图的倾斜度基于基线的倾斜度变化的温度的最大值设为T＿1，将在小于T＿1的温度下DSC图的倾斜度恢复到基线的倾斜度的温度的最小值设为T＿2，将通过以下计算式而获得的值Tg设为树脂层A的玻璃化转变温度。
＜计算式＞
Tg＝(T＿1+T＿2)/2。
此外，将通过步骤3而获得的吸热曲线的峰温度设为树脂层A的熔点，在可以观测到多个峰温度的情况下，将最高温的温度设为树脂层A的熔点。但是，在通过步骤3而获得的吸热曲线未观测到峰，并且，在步骤3的升温过程中，在从330℃朝向低温侧而观察DSC图时，在25℃以上的区域DSC图的倾斜度基于基线的倾斜度未变化的情况下，将树脂层A的熔点、玻璃化转变温度都设为330℃以上。在通过步骤3而获得的吸热曲线未观测到峰，但玻璃化转变温度小于330℃的情况下，设为无熔点。在步骤3的升温过程中，在从330℃朝向低温侧而观察DSC图时，在25℃以上的区域DSC图的倾斜度基于基线的倾斜度未变化，但熔点小于330℃的情况下，设为无玻璃化转变温度。分别在对应的情况下在表1～表3中作为“-”而记载。
(4)树脂层A、层B所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率、与层B的氧原子O、硅原子Si的含量
将膜的树脂层A侧的表面利用卢瑟福背散射/氢前向散射分析同时测定法(National Electrostatics Corporation制Pelletron 3SDH)进行分析，获得了树脂层A的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子收率Y(H)、Y(C)、Y(S)、Y(Si)、Y(N)和Y(O)。将由所得的值基于下式而获得的值设为树脂层A所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率。
＜计算式＞
Y(All)＝Y(C)+Y(S)+Y(Si)+Y(N)+Y(O)+Y(H)。
氢原子H的原子分率＝Y(H)/Y(All)
碳原子C的原子分率＝Y(C)/Y(All)
硫原子S的原子分率＝Y(S)/Y(All)
硅原子Si的原子分率＝Y(Si)/Y(All)
氮原子N的原子分率＝Y(N)/Y(All)
氧原子O的原子分率＝Y(O)/Y(All)。
关于层B，将通过卢瑟福背散射/氢前向散射分析同时测定法而进行分析的表面设为层B侧的表面，除此以外，通过同样的步骤进行分析、各值的计算，设为层B所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率。此外，基于下式而算出层B的氧原子O、硅原子Si的含量。另外，式中的原子分率Y(C)、Y(S)、Y(Si)、Y(N)、Y(O)、Y(H)都为层B的值。
＜计算式＞
氧原子O的含量(质量％)＝100×16.0×Y(O)/(12.0×Y(C)+32.1×Y(S)+28.1×Y(Si)+14.0×Y(N)+16.0×Y(O)+1.01×Y(H))
硅原子Si的含量(质量％)＝100×28.1×Y(Si)/(12.0×Y(C)+32.1×Y(S)+28.1×Y(Si)+14.0×Y(N)+16.0×Y(O)+1.01×Y(H))
另外，测定的条件如下所述。
入射离子：4He++
入射能量：2300keV
入射角：75deg
散射角：160deg
反冲角：30deg
试样电流：4nA
束径：2mmφ
面内旋转：无
照射量：0.5μC×20点
(5)XA、XB
使用通过(4)所记载的方法而获得的各值，通过下述式(Ⅱ)而算出XB，通过下述式(Ⅲ)而算出XA。
式(Ⅱ)XB＝(层B的碳原子C的原子分率+层B的氮原子N的原子分率+层B的硫原子S的原子分率+层B的硅原子Si的原子分率)/(层B的氢原子H的原子分率+层B的氧原子O的原子分率)
式(Ⅲ)XA＝(树脂层A的碳原子C的原子分率+树脂层A的氮原子N的原子分率+树脂层A的硫原子S的原子分率+树脂层A的硅原子Si的原子分率)/(树脂层A的氢原子H的原子分率+树脂层A的氧原子O的原子分率)。
(6)动摩擦系数(μdaa、μdab、μdbb)
使用东洋精机(株)制滑动试验机，按照JIS K 7125(1999)，在荷重200g、25℃、65％RH下测定了动摩擦系数。另外，在将膜的一面设为α面，将另一面设为β面时，测定对将α面彼此重叠了的情况、将β面彼此重叠了的情况的2种情况进行了测定。测定分别进行3次，算出所得的值的平均值，设为利用各面彼此进行了测定的情况下的动摩擦系数。将α面、β面之中，利用各面彼此重叠而测定时的动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面时，将a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，将b面彼此的动摩擦系数设为μdbb。进一步，对将a面与b面重叠的情况进行3次测定，算出所得的值的平均值，设为μdab。另外，对各情况在测定时用负载传感器检测到的摩擦力超过5.9N时，将测定中断，使该情况下的动摩擦系数的测定值>3.0。在利用相同面彼此进行测定的情况下的动摩擦系数相等、或>3.0的情况下，将通过后述方法而测定的算术平均粗糙度Sa高的一方的面设为b面。
(7)算术平均粗糙度Sa、负载面积率Smr1、突出峰部高度Spk、最大谷深度Sv
各参数按照ISO 25178-2:2012、25178-3：2012测定、算出。其中，测定使用扫描型白色干涉显微镜“VS1540”(株式会社日立ハイテクサイエンス制，测定条件和装置构成后述)而进行，通过附属的解析软件而补充处理(完全补充)拍摄画面，利用多项式4次近似进行了面校正后，用中值滤波器(3×3像素)进行了处理，对处理所得的画面进行了测定。此外，S-filter的S-Filter Nesting Index设为0.455。测定对切割为5cm×5cm的正方形状的膜的两面进行，将对角线的交叉点设为第1点的测定点(开始点)，从开始点朝向4个各角将距离1cm的位置分别作为第2～5个测定点而确定合计5处的测定位置，在各测定位置进行测定，按照上述步骤而求出各测定位置的Sa、Smr1、Spk、Sv，采用各自的平均值作为膜的Sa、Smr1、Spk、Sv。此外，特别是将a面的Spk的值记为Spk-a，将b面的Spk、Smr1的值分别记为Spk-b、Smr1-b。由所得的Spk-a和Spk-b的值算出Spk-b/Spk-a。由所得的各面的Sv的值和上述T(F)的值算出Sv/T(F)。
＜测定条件和装置构成＞
物镜：10x
镜筒：1x
变焦透镜：1x
波长滤波器：530nm白色
测定模式：Wave
测定软件：VS-Measure 10.0.4.0
解析软件：VS-Viewer10.0.3.0
测定区域：561.1μm×561.5μm
像素数：1,024×1,024。
(8)SH不良率、自愈性
对层B侧的表面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。另外，在不具有层B的膜中，对b面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。接着对电晕放电处理面用钟罩式真空蒸镀装置以气压1.0×10-3Pa、灯丝电压2.6kV蒸镀市售的铝，使50nm的蒸镀膜形成，获得了金属层叠层膜。将所得的金属层叠层膜切割为以长度方向作为长边的12cm×7.5cm的长方形状，作为试验片。
在1m×2m的铜板上，设置了10cm见方的厚1mm的“テフロン”(注册商标)片。在“テフロン”(注册商标)片上，以试验片的短边与“テフロン”(注册商标)片的一边平行，并且，从试验片的一侧的短边端1cm的区域载置在“テフロン”(注册商标)片上的方式设置试验片。以将试验片的载置于“テフロン”(注册商标)片的部分夹入2cm2左右的方式，使5cm见方的板状的导电性橡胶制电极载置在“テフロン”(注册商标)片上。进一步，以重心在橡胶电极与试验片与“テフロン”(注册商标)片重叠的区域上的方式将3cmφ的圆柱的电极设置在橡胶电极上。在圆柱的电极与铜板分别经由电线而连接DC电源，作为初始电压施加100VDC的电压，在该电压下经过15秒后以阶梯状以100VDC/30秒逐渐使施加电压上升直到初始电压+800VDC，反复进行该操作，进行所谓的阶梯提高试验，使金属层叠层膜产生多个绝缘击穿痕。
目视观察产生的绝缘击穿痕，将2个以上绝缘击穿痕重叠的绝缘击穿痕设为1个SH不良位置，将不是那样的绝缘击穿痕设为1个正常位置，求出各自的数，通过下式而求出SH不良率。进行同样的测定2次，采用平均值作为膜的SH不良率。另外，在未发生绝缘击穿的情况下，将初始电压设为900VDC而进行了同样的测定。在即使为初始电压10,000VDC，也未发生绝缘击穿的情况下，SH不良率设为0％。
＜计算式＞
SH不良率(％)＝100×(SH不良位置的个数)/(正常位置的个数+SH不良位置的个数)
基于膜的SH不良率，关于自愈性如下那样评价。
S：SH不良率为16％以下。
A：SH不良率大于16％且为22％以下。
B：SH不良率大于22％且为30％以下。
C：SH不良率大于30％。
(9)加工性的评价
在层B侧的表面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。另外，在不具有层B的膜中，对b面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。接着对电晕放电处理面用钟罩式真空蒸镀装置以气压1.0×10-3Pa、灯丝电压2.6kV蒸镀市售的铝，使50nm的蒸镀膜形成，获得了金属层叠层膜。将所得的金属层叠层膜切割为以长度方向作为长边的12cm×7.5cm的长方形状，作为试验片。使用东洋精机(株)制滑动试验机，按照JIS K 7125(1999)，在荷重200g、25℃、65％RH下进行所得的金属层叠层膜的、金属蒸镀面与未蒸镀金属的面之间的动摩擦系数测定3次，将所得的值的平均值设为金属叠层膜的动摩擦系数μM。另外，在测定时用负载传感器检测到的摩擦力超过5.9N时，将测定中断，将该情况下的μM的测定值设为>3.0。基于所得的μM，通过以下基准判定了膜的加工性。
S：μM为0.60以下。
A：μM大于0.60且为0.90以下。
B：μM大于0.90且为1.5以下。
C：μM大于1.5。
(10)介质损耗角正切
按照JIS C2138-2007，测定了介质损耗角正切。首先，将膜切为6cm×6cm的正方形状，对层B侧的表面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。另外，在不具有层B的膜中，对b面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。接着对电晕放电处理面用钟罩式真空蒸镀装置以气压1.0×10-3Pa、灯丝电压2.6kV蒸镀市售的铝，使5.0cm直径、50nm厚度的圆形薄膜电极形成。接着，对膜的未进行电晕放电处理的表面，以形成于电晕放电处理面的电极的中心与中心位置一致的方式，用钟罩式真空蒸镀装置以气压1.0×10-3Pa、灯丝电压2.6kV蒸镀市售的铝，使直径5.6cm、厚50nm的圆形薄膜电极形成，获得了试验片。将所得的试验片利用E4980AプレシジョンLCRメータ(Keysight Technologies制)，以接触法、23℃、相对湿度50％、频率10kHz以n＝5测定介质损耗角正切，将所得的值的平均值设为该膜的介质损耗角正切。
(11)150℃下的膜绝缘击穿电压的评价
在被保温于150℃的烘箱内将膜加热1分钟后，在该气氛中按照JIS C2330(2001)7.4.11.2B法(平板电极法)进行了测定。其中，关于下部电极，使用了在JIS C2330(2001)7.4.11.2的B法记载的金属板上，载置了同一尺寸的株式会社十川ゴム制“導電ゴムE-100＜65＞”而得的物质。进行绝缘击穿电压试验(上述测定)30次，将所得的值除以膜的厚度(在上述(1)中测定)，换算为(V/μm)而获得的共计30点的测定值(算出值)之中，除去从最大值起按照从大到小的顺序的5点和从最小值起按照从小到大的顺序的5点，求出除去后所得的20点的平均值，将其设为150℃下的膜绝缘击穿电压。从所得的150℃下的膜绝缘击穿电压，如以下那样进行了150℃下的膜绝缘击穿电压的评价。
S：150℃下的膜绝缘击穿电压为270V/μm以上。
A：150℃下的膜绝缘击穿电压为240V/μm以上且小于270V/μm。
B：150℃下的膜绝缘击穿电压为210V/μm以上且小于240V/μm。
C：150℃下的膜绝缘击穿电压为100V/μm以上且小于210V/μm。
D：150℃下的膜绝缘击穿电压小于100V/μm或膜的收缩大而不能评价。
(12)薄膜电容器特性的评价(150℃下的可靠性)
对膜的层B侧的表面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。另外，在不具有层B的膜中，对b面以25W·min/m2的处理强度在大气中进行了电晕放电处理。接着，对电晕放电处理面，用(株)アルバック制真空蒸镀机将铝以膜电阻为10Ω/sq且按照具有沿与长度方向垂直的方向设置了空白部的、所谓T型空白(通过屏蔽油而长度方向间距(周期)为17mm、熔丝宽度为0.5mm)的蒸镀图案实施蒸镀，在切开后，获得了膜宽度50mm(端部空白宽度2mm)的蒸镀卷轴。接着，使用该卷轴利用(株)皆藤制作所制元件卷机(KAW-4NHB)将薄膜电容器元件卷绕，实施了金属喷镀后，在减压下，在130℃的温度下实施8小时的热处理，安装引线而完工为薄膜电容器元件。使用这样操作而获得的电容器元件10个，在150℃高温下向电容器元件施加250VDC的电压，在该电压下经过10分钟后阶梯状地以50VDC/1分钟逐渐使施加电压上升，反复进行该操作，进行了所谓的阶梯提高试验。使电压上升直到静电容量相对于初始值减少到12％以下后，拆卸电容器元件而调查破坏的状态，如以下那样评价了薄膜电容器特性。
S：薄膜电容器元件没有形状的变化，观察不到贯通状的破坏。
A：薄膜电容器元件没有形状的变化，观察到膜5层以内的贯通状破坏。
B：薄膜电容器元件没有形状的变化，观察到贯通膜6层～7层的贯通状破坏。
C：薄膜电容器元件形状确认到变化。或观察到膜8层～14层的贯通状破坏。
D：薄膜电容器元件形状大幅变化而破坏了，或膜的加工性差，不能制作薄膜电容器元件。
-：未进行薄膜电容器特性的评价。
S可以没有问题地使用，A能够根据条件而使用，B虽然实用上的性能差但能够使用，C虽然根据条件而实用上的性能差但能够使用。D实质难以作为电容器用膜使用。
〔树脂、膜、涂液〕
聚苯硫醚系树脂颗粒1(PPS颗粒1)：
在带有工程搅拌机的1升高压釜中加入47质量％氢硫化钠1.00摩尔、96质量％氢氧化钠1.02摩尔、N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)1.56摩尔、乙酸钠0.46摩尔、和离子交换水140g，以250rpm搅拌同时一边在常压下通入氮气一边经约3小时缓慢加热直到225℃，将212g的水和4g的NMP馏出后，将反应容器冷却到160℃。接下来，加入对二氯苯(p-DCB)1.00摩尔、NMP1.32摩尔，将反应容器在氮气下密封。然后，一边以240rpm搅拌一边以0.6℃/分钟的速度升温直到200℃～235℃，在达到235℃后，在235℃下继续反应95分钟。然后，以0.8℃/分钟的速度升温直到270℃并保持了100分钟。此时，在达到了270℃后，经15分钟将1摩尔的水注入到体系内。在270℃下保持100分钟后，以1.0℃/分钟的速度冷却直到200℃，然后将室温的冷却水供于高压釜从而冷却直到室温附近。接着，取出内容物，用0.4升的NMP进行稀释，在85℃下搅拌了30分钟后，将溶剂和固体物质用筛子(80目)进行了过滤分离。进一步，在所得的固体物质中加入0.5升的NMP并在85℃下搅拌30分钟，将固体物质进行了过滤分离。然后，将所得的固体物质用0.9升的温水洗涤3次进行了过滤分离。在这样操作而获得的粒子(固体物质)中加入1升温水而洗涤2次，过滤分离而获得了聚合物粒子。将其在80℃下进行了热风干燥后，在120℃下减压干燥，获得了熔点为280℃、重均分子量70,000的聚苯硫醚(PPS)树脂的颗粒(PPS颗粒1)。
膜用PPS原料1(PPS1)：
将PPS颗粒1投入到被加热到320℃的带有通气口的同方向旋转式双螺杆混炼挤出机(日本制钢所制，螺杆直径30mm，螺杆长度/螺杆直径＝45.5)中，以滞留时间90秒，螺杆转速150转/分钟熔融挤出而条状地排出，用温度25℃的水进行了冷却。然后，立即裁剪而制作片料，制成膜用PPS原料1(PPS1)。
膜用PPS原料(PPS2)：
将PPS颗粒1 100质量份、平均粒径为0.7μm的碳酸钙粒子1(日东粉化工业社制“NITOREX”#30PS)0.05质量份、和硬脂酸钙0.2质量份进行混合，将所得的混合粉末制粒，调制出以PPS作为主成分的树脂颗粒。将所得的树脂颗粒投入到被加热到320℃的带有通气口的同方向旋转式双螺杆混炼挤出机(日本制钢所制，螺杆直径30mm，螺杆长度/螺杆直径＝45.5)，以滞留时间90秒、螺杆转速150转/分钟熔融挤出而条状地排出，用温度25℃的水冷却。然后，立即裁剪而制作片料，制成膜用PPS原料2(PPS2)。
PPS膜1：
作为原料，将PPS1在180℃下经3小时进行了真空干燥。接着，供给到挤出机，在氮气气氛下，在320℃的温度下使其熔融，导入到T型模口模。接着，从T型模口模内，片状地挤出而制成熔融单层片，将其排出在表面温度被保持于25℃的旋转速度4.0m/分钟的流延鼓上，通过静电施加法使其密合并进行冷却固化从而流延，获得了未拉伸膜。将所得的未拉伸膜使用了由被加热了的多个辊组构成的纵向拉伸机，利用辊的圆周速度差在拉伸温度103℃下沿膜的长度方向以3.1倍的倍率进行了拉伸。然后，将所得的单轴拉伸膜的宽度方向两端部用夹具担载而导到拉幅机，在拉伸温度100℃下沿宽度方向以3.3倍的倍率拉伸。接着在280℃下进行了热处理后，进行2％松弛处理，冷却直到室温。接着对膜表面(流延鼓接触面侧)以25W·min/m2的处理强度在大气中进行电晕放电处理，然后，将膜边缘除去而获得了厚度为4.5μm的双轴拉伸PPS膜。
PPS膜2：
作为原料，代替PPS1而使用了PPS2，除此以外，与PPS膜1同样地操作，获得了厚度为4.6μm的双轴拉伸PPS膜。
涂液1：
将70g的丙烯酸酯(I)(商品名“ビスコート”#300，季戊四醇与丙烯酸的缩合物，含有季戊四醇四丙烯酸酯45质量％、和季戊四醇三丙烯酸酯35质量％，大阪有机化学工业株式会社制)、50g的乙酸纤维素(i)(富士フイルム和光純薬株式会社制，乙酰化度54％)、880g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和200mg的Omnirad184(IGM ResinsB.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)混合而得的涂液。
涂液2：
将70g的丙烯酸酯(II)(商品名“EBECRYL”(注册商标)150，ダイセル·オルネクス株式会社制，氧化乙烯改性双酚A二丙烯酸酯)、30g的乙酸纤维素(i)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和200mg的Omnirad184(IGM Resins B.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)混合而得的涂液。
涂液3：
将80g的丙烯酸酯(I)、11g的环氧树脂(商品名“EPICLON”850，活性基当量189eq/g，DIC株式会社制)、9.0g的活性酯(商品名“HPC-8000-65T”，活性基当量223eq/g，DIC株式会社制)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、200mg的Omnirad184(IGMResins B.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)、和10mg的4-二甲基氨基吡啶(东京化成工业株式会社制)混合而得的涂液。
涂液4：
将99.5g的丙烯酸酯(II)、500mg的丙烯酸系树脂(商品名“MP-1451”，非交联丙烯酸系粒子，综研化学株式会社制，平均粒径150nm)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和200mg的Omnirad184(IGM Resins B.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)混合而得的涂液。
涂液5：
将54g的环氧树脂(商品名“EPICLON”(注册商标)850，活性基当量189eq/g，DIC株式会社制)、45.5g的活性酯(商品名“HPC-8000-65T”，活性基当量223eq/g，DIC株式会社制)、500mg的丙烯酸系树脂(商品名“MP-1451”，非交联丙烯酸系粒子，综研化学株式会社制，平均粒径150nm)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和10mg的4-二甲基氨基吡啶(东京化成工业株式会社制)混合而得的涂液。
涂液6：
将65g的丙烯酸酯(I)、35g的萜酚树脂(商品名“TH130”，ヤスハラケミカル社制)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和200mg的Omnirad184(IGM ResinsB.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)混合而得的涂液。
涂液7：
将500mg的丙烯酸系树脂(商品名“MP-1451”，非交联丙烯酸系粒子，综研化学株式会社制，平均粒径150nm)、99.5g的乙酸纤维素(i)、和900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)混合而得的涂液。
涂液8：
将99.9g的丁腈橡胶(商品名“Nipol”(注册商标)DN003，日本ゼオン株式会社制，门尼粘度77.5)、100mg的碳酸钙粒子2(商品名“CALUCEO”(注册商标)P015S0，粒径150nm)、和900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)混合而得的涂液。
涂液9：
将54g的环氧树脂(商品名“EPICLON”(注册商标)850，活性基当量189eq/g，DIC株式会社制)、45.5g的活性酯(商品名“HPC-8000-65T”，活性基当量223eq/g，DIC株式会社制)、7.0g的二氧化硅粒子(y)(平均粒径0.1μm，“シーホスター”(注册商标)KE-P10，日本触媒株式会社制)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和10mg的4-二甲基氨基吡啶(东京化成工业株式会社制)混合而得的涂液。
涂液10：
将100g的丙烯酸酯(I)、900g的2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)、和200mg的Omnirad184(IGM Resins B.V.社制，1-羟基环己基苯基酮)混合而得的涂液。
涂液11：
将99.5g的聚醚酰亚胺(商品名“ULTEM”(注册商标)Resin 1010，SABIC社制，玻璃化转变温度217℃)、500mg的碳酸钙粒子2、和900g的N-甲基吡咯烷酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)混合而得的涂液。
(实施例1)
使聚醚酰亚胺树脂(商品名“ULTEM”(注册商标)Resin 1010，SABIC社制，玻璃化转变温度217℃)15g溶解在N-甲基-2-吡咯烷酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)85g中，制作出聚醚酰亚胺的NMP溶液。将其使用#20的刮棒而涂覆在市售的聚酰亚胺膜(厚度140μm)上，用150℃的烘箱使其干燥15分钟，在聚酰亚胺膜上形成聚醚酰亚胺树脂层(树脂层A)。接着，将萜酚树脂(商品名“TH130”，ヤスハラケミカル社制)2.1g、二氧化硅粒子(x)(平均粒径0.7μm，“サンシール”(注册商标)SS-07，株式会社トクヤマ制)25mg、和2-丁酮(富士フイルム和光純薬株式会社制)12g进行混合，使萜酚树脂溶解了，由此制作出涂液。将其使用#4的刮棒而涂覆在聚酰亚胺膜上的聚醚酰亚胺树脂层上，用100℃的烘箱使其干燥1分钟，在聚醚酰亚胺树脂层上使涂层(层B)形成。将聚醚酰亚胺树脂层与涂层的叠层体从聚酰亚胺膜剥离，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例2)
使萜酚树脂、二氧化硅粒子(x)和2-丁酮的混合量分别为0.70g、8mg、14.2g，除此以外，与实施例1同样地操作而获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例3)
在PPS膜1(树脂层A)的实施了电晕处理的面上，使用棒式涂布机以固化后的层B的膜厚成为0.10μm的方式将涂液1均匀地涂覆后，用90℃的干燥炉以干燥时间成为1分钟的方式使其干燥了。接着，导入到UV照射装置，在照度50mW/cm2、照射量0.1J/cm2、氧浓度100ppm的条件下使涂膜固化而形成了层B后，将树脂层A与层B的叠层体卷绕，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例4)
代替涂液1而使用了涂液2，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例5)
代替涂液1而使用涂液3，使干燥炉中的干燥温度为120℃，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例6)
代替涂液1而使用了涂液4，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例7)
代替涂液1而使用了涂液5，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表1中。
(实施例8)
使150g的聚醚酰亚胺树脂溶解在850gN-甲基-2-吡咯烷酮中，制作出聚醚酰亚胺的NMP溶液。将其在市售的聚酰亚胺膜(厚度140μm)上使用棒式涂布机以干燥后的聚醚酰亚胺层的厚度成为3μm的方式均匀地涂覆，导入到150℃的干燥炉，以干燥时间成为5分钟的方式使其干燥，在聚酰亚胺膜上使聚醚酰亚胺树脂层(树脂层A)形成了。在所得的叠层体的树脂层A侧的表面使用棒式涂布机以固化后的层B的厚度成为0.1μm的方式将涂液6均匀地涂覆后，用90℃的干燥炉以干燥时间成为1分钟的方式使其干燥。接着，导入到UV照射装置，在照度50mW/cm2、照射量0.1J/cm2、氧浓度100ppm的条件下使涂膜固化而使层B形成了。接着，从聚酰亚胺膜剥离树脂层A与层B的叠层体进行卷绕，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(实施例9)
与实施例8同样地在市售的聚酰亚胺膜上形成聚醚酰亚胺树脂层(树脂层A)，在树脂层A上使用棒式涂布机以干燥后的层B的厚度成为0.10μm的方式涂覆涂液7，用90℃的干燥炉以干燥时间成为1分钟的方式使其干燥而形成了层B。然后，从聚酰亚胺膜剥离树脂层A与层B的叠层体进行卷绕，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(实施例10)
代替涂液1而使用了涂液9，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(实施例11)
代替PPS膜1而使用PPS膜2，代替涂液1而使用了涂液10，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(实施例12)
代替涂液1而使用涂液11，使干燥炉的温度从90℃变为150℃，使干燥时间从1分钟变为5分钟，除此以外，与实施例3同样地操作，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(实施例13)
使乙酸纤维素(i)100g溶解在甲基乙基酮900g中，制作出乙酸纤维素的甲基乙基酮溶液。将其使用棒式涂布机以干燥后的乙酸纤维素层的厚度成为3.2μm的方式涂覆在市售的聚酰亚胺膜(厚度140μm)上，导入到100℃的干燥炉，以干燥时间成为2分钟的方式使其干燥，在聚酰亚胺膜上形成了乙酸纤维素树脂层(树脂层A)。接着，在所得的叠层体的树脂层A侧的表面使用棒式涂布机以固化后的层B的厚度成为0.10μm的方式涂覆涂液7，导入到100℃的干燥炉以干燥时间成为1分钟的方式使其干燥，在树脂层A上使层B形成了。从聚酰亚胺膜剥离树脂层A与层B的叠层体进行卷绕，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表2中。
(比较例1)
省略了形成树脂层A后的形成层B的工序，除此以外，与实施例1同样地操作而获得了仅由A层构成的薄膜电容器用膜。将评价结果示于表3中。
(比较例2)
在PPS膜1(树脂层A)的实施了电晕处理的面上用棒式涂布机以固化后的层B的厚度成为0.50μm的方式涂覆涂液8，用90℃的烘箱使其干燥1分钟而使层B形成，获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表3中。
(比较例3)
将PPS膜1作为薄膜电容器用膜，进行了评价。将评价结果示于表3中。
(比较例4)
将PPS膜2作为薄膜电容器用膜，进行了评价。将评价结果示于表3中。
(比较例5)
作为树脂层A的成型材料，准备聚醚酰亚胺树脂〔SABICイノベーティブプラスチック社制品名：ULTEM1010-1000-NB(以下，简写为“1010-1000”)〕，将该成型材料在加热到150℃的除湿热风干燥机〔松井制作所社制商品名：マルチジェットMJ3〕中放置12小时使其干燥，确认该成型材料的含水率为300ppm以下后，将成型材料放置于具备宽度900mm的T型模的φ40mm的单螺杆挤出成型机中进行熔融混炼，并且将该熔融混炼了的成型材料从单螺杆挤出成型机的T型模连续地挤出而将聚醚酰亚胺树脂制的膜带形地挤出成型，制作出长度1000m、宽度65cm的聚醚酰亚胺树脂层。单螺杆挤出成型机的料筒温度调整为360～380℃，T型模的温度调整为385℃，将单螺杆挤出成型机与T型模连接的连接管的温度调整为380℃。此外，在单螺杆挤出成型机中投入成型材料时，供给了作为非活性气体的氮气18L/分钟。将所形成的聚醚酰亚胺树脂层依次卷架于具备算术平均粗糙度(Ra)为0.44～0.47μm的硅橡胶的一对压接辊、作为在外周面具备算术平均粗糙度(Ra)为1.28μm的凸花纹的205℃的冷却辊的金属辊、和位于它们的下游的6英寸的卷绕管，使其夹持于各压接辊和金属辊而进行了冷却。通过使聚醚酰亚胺树脂层夹持于压接辊和金属辊，从而使聚醚酰亚胺树脂层的表背面分别形成了多个微细的凹凸部。将所得的在表面具有微细的凹凸部的聚醚酰亚胺树脂层作为树脂层A，使二聚对二甲苯在180℃、10Pa的条件下气化，在680℃、10Pa的条件下热分解，将热分解而获得的二自由基对二甲苯单体在35℃、10Pa的条件下与树脂层A的金属辊面侧重叠，从而形成了由聚对二甲苯树脂形成的层B。将所得的叠层体卷绕而获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表3中。
(比较例6)
将利用齐格勒-纳塔催化剂进行了聚合的、内消旋五单元组分率为0.98、熔点为167℃、熔体流动速率(MFR)为2.6g/10分钟的直链状聚丙烯树脂供给到单螺杆的熔融挤出机，在240℃下进行熔融挤出，用80μm截止的烧结过滤器除去异物后，使熔融聚合物从T型模排出，将该熔融片在被保持于95℃的流延鼓上，通过静电施加使其密合并进行冷却固化而获得了未拉伸片。接着，将该片利用多个辊组而缓慢预热到145℃，接着使其通过保持于145℃的温度并设置了圆周速度差的辊间，沿长度方向拉伸到5.0倍。接着将该膜导到拉幅机，在165℃的温度下沿宽度方向进行8倍拉伸，接着作为第1段的热处理和松弛处理，一边沿宽度方向给予8％的松弛一边在130℃下进行热处理，进一步作为第2段的热处理，在用夹具进行了宽度方向把持的状态下在140℃下进行了热处理。然后在100℃下经过冷却工序而导向拉幅机的外侧，释放膜端部的夹具，将膜厚度3.0μm的膜卷绕而获得了薄膜电容器用膜。将评价结果示于表3中。
Figure BDA0003811202210000331
Figure BDA0003811202210000341
Figure BDA0003811202210000351
另外，关于实施例1、实施例2、比较例1，以片状制作膜，得不到对于进行电容器元件加工而言充分的长度的膜，因此未进行电容器元件加工和薄膜电容器特性的评价。
产业可利用性
本发明的薄膜电容器用膜可以应用于包装用途、带用途、以电缆包蝉、电容器为代表的电气用途等各种用途，特别是可以利用于需要高温时的耐电压性和可靠性的高电压用电容器用途。

Claims (15)

1.一种薄膜电容器用膜，其具有树脂层A和层B，所述树脂层A的熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，所述层B的氧原子含量为1.0质量％以上，在2个最外层表面之中，利用相同面彼此测定动摩擦系数时，在将动摩擦系数大的一方的表面设为a面，将动摩擦系数小的一方的表面设为b面，将所述a面彼此的动摩擦系数设为μdaa，且将所述a面与所述b面的动摩擦系数设为μdab时，满足μdaa＞μdab，并且μdab≤1.2。
2.一种薄膜电容器用膜，其具有树脂层A和层B，所述树脂层A的熔点为180℃以上且/或玻璃化转变温度为130℃以上，在至少一方的膜最外层具有厚度比该树脂层A薄的层B，所述层B的氧原子含量为1.0质量％以上。
3.根据权利要求1或2所述的薄膜电容器用膜，其介质损耗角正切为2.0％以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述层B中的硅原子Si的含量为27质量％以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述层B满足以下条件(i)，
条件(i)：由所述层B所含有的氢原子H、碳原子C、硫原子S、硅原子Si、氮原子N和氧原子O的原子分率基于下式(Ⅱ)而计算的值XB为0.90以下；
式(Ⅱ)XB＝(所述层B的碳原子C的原子分率+所述层B的氮原子N的原子分率+所述层B的硫原子S的原子分率+所述层B的硅原子Si的原子分率)/(所述层B的氢原子H的原子分率+所述层B的氧原子O的原子分率)。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的薄膜电容器用膜，至少一方的最外层表面满足将突出峰部与中心部分离的负载面积率Smr1≥12％。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述a面的突出峰部高度Spk-a与所述b面的突出峰部高度Spk-b之比满足Spk-b/Spk-a≥2.0，并且，所述薄膜电容器用膜满足所述b面的将突出峰部与中心部分离的负载面积率Smr1-b≥12％。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的薄膜电容器用膜，在将膜厚度设为T(F)时，两个最外层表面的最大谷深度Sv都满足Sv/T(F)<0.30。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述层B包含互相不相容的2种以上成分。
10.根据权利要求1～9中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述树脂层A含有聚苯硫醚树脂、聚醚酰亚胺树脂、聚苯基砜树脂、和聚醚砜树脂之中的至少1种树脂50质量％以上且100质量％以下。
11.根据权利要求1～10中任一项所述的薄膜电容器用膜，所述层B含有丙烯酸系树脂、环氧树脂、纤维素衍生物、和聚酯树脂之中的至少1种树脂50质量％以上且100质量％以下。
12.一种薄膜电容器用金属层叠层膜，其在权利要求1～11中任一项所述的薄膜电容器用膜的至少一方的最外层表面具有金属层。
13.根据权利要求12所述的薄膜电容器用金属层叠层膜，其依次具有所述树脂层A、所述层B、和所述金属层。
14.根据权利要求13所述的薄膜电容器用金属层叠层膜，仅在所述树脂层A的一面具有所述层B，在所述层B侧具有所述金属层，在2个最外层表面之中，将利用相同面彼此测得的动摩擦系数大的一方的表面设为a面、小的一方的表面设为b面时，所述b面从所述树脂层A来看位于所述层B侧。
15.一种薄膜电容器，其是使用权利要求12～14中任一项所述的薄膜电容器用金属层叠层膜制成的。
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