CN114642981A - 配制装置、配制方法以及控制装置 - Google Patents

配制装置、配制方法以及控制装置 Download PDF

Info

Publication number
CN114642981A
CN114642981A CN202110787365.3A CN202110787365A CN114642981A CN 114642981 A CN114642981 A CN 114642981A CN 202110787365 A CN202110787365 A CN 202110787365A CN 114642981 A CN114642981 A CN 114642981A
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
tank
preparation
viscosity
supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110787365.3A
Other languages
English (en)
Inventor
林久树
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Ten Ltd
Original Assignee
Denso Ten Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denso Ten Ltd filed Critical Denso Ten Ltd
Publication of CN114642981A publication Critical patent/CN114642981A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/43—Mixing liquids with liquids; Emulsifying using driven stirrers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22—Control or regulation
    • B01F35/2201—Control or regulation characterised by the type of control technique used
    • B01F35/2209—Controlling the mixing process as a whole, i.e. involving a complete monitoring and controlling of the mixing process during the whole mixing cycle
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/405—Methods of mixing liquids with liquids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/40—Mixing liquids with liquids; Emulsifying
    • B01F23/47—Mixing liquids with liquids; Emulsifying involving high-viscosity liquids, e.g. asphalt
    • B01F23/471—Mixing liquids with liquids; Emulsifying involving high-viscosity liquids, e.g. asphalt using a very viscous liquid and a liquid of low viscosity
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F33/00—Other mixers; Mixing plants; Combinations of mixers
    • B01F33/40—Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes
    • B01F33/403—Mixers using gas or liquid agitation, e.g. with air supply tubes for mixing liquids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/10—Maintenance of mixers
    • B01F35/145—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means
    • B01F35/1452—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means using fluids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21—Measuring
    • B01F35/211—Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2112—Level of material in a container or the position or shape of the upper surface of the material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21—Measuring
    • B01F35/211—Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2115—Temperature
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21—Measuring
    • B01F35/2136—Viscosity
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22—Control or regulation
    • B01F35/221—Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
    • B01F35/2216—Time, i.e. duration, of at least one parameter during the operation
    • B01F35/22162—Time of feeding of at least one of the components to be mixed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20—Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22—Control or regulation
    • B01F35/221—Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
    • B01F35/2217—Volume of at least one component to be mixed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/71—Feed mechanisms
    • B01F35/717—Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer
    • B01F35/71805—Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer using valves, gates, orifices or openings
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/80—Forming a predetermined ratio of the substances to be mixed
    • B01F35/82—Forming a predetermined ratio of the substances to be mixed by adding a material to be mixed to a mixture in response to a detected feature, e.g. density, radioactivity, consumed power or colour
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/80—Forming a predetermined ratio of the substances to be mixed
    • B01F35/88—Forming a predetermined ratio of the substances to be mixed by feeding the materials batchwise
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D24/00—Control of viscosity
    • G05D24/02—Control of viscosity characterised by the use of electric means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Mixers With Rotating Receptacles And Mixers With Vibration Mechanisms (AREA)

Abstract

本发明提供一种能够抑制装置的成本的配制装置、配制方法以及控制装置。实施方式涉及的配制装置具备第1罐、第2罐、配制罐、控制装置。在第1罐中放入第1液体。在第2罐中放入粘度比第1液体低的第2液体。配制罐对从第1罐供给的第1液体和从第2罐供给的第2液体进行搅拌来配制配制液。控制装置根据从第1罐向配制罐以固定压力供给了给定量的第1液体时的供给时间，计测第1液体的粘度，根据所计测出的粘度，向配制罐供给第2液体，由此以目标粘度配制配制液。

Description

配制装置、配制方法以及控制装置
技术领域
本发明涉及配制装置以及配制方法。
背景技术
以往，已知有例如以目标粘度配制在印刷基板涂敷的防湿材料等的配制装置。在这样的配制装置中，将比原液粘度低的稀释液与原液进行配制，并且一边通过粘度传感器计测粘度，一边进行配制使得成为目标粘度(例如，参照专利文献1)。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-103895号公报
在此，粘度传感器具有测定范围越宽、精度越低(分辨率变宽)的特点。因此，在对原液缓慢供给稀释液并进行配制的方法中，需要在配制的初始阶段使用计测范围宽、精度低的传感器，在配制为目标粘度的最终阶段使用计测范围窄、精度高的传感器。这样，以往，由于为了能够进行宽幅的粘度测定而变得需要计测范围不同的粘度传感器，所以存在装置的成本升高的问题。
发明内容
本发明是鉴于上述情形而完成的，其目的在于，提供一种能够抑制装置的成本的配制装置以及配制方法。
为了解决上述的课题并达到目的，本发明涉及的配制装置具备第1罐、第2罐、配制罐、控制装置。在所述第1罐中放入第1液体。在所述第2罐中放入粘度比所述第1液体低的第2液体。所述配制罐对从所述第1罐供给的所述第1液体和从所述第2罐供给的第2液体进行搅拌来配制配制液。所述控制装置根据从所述第1罐向所述配制罐以固定压力供给了给定量的所述第1液体时的供给时间，计测所述第1液体的粘度，根据所计测出的所述粘度，向所述配制罐供给所述第2液体，由此以目标粘度配制所述配制液。
根据本发明，能够抑制装置的成本。
附图说明
图1是示出实施方式涉及的配制装置的结构例的图。
图2是示出实施方式涉及的控制装置的结构例的框图。
图3是示出粘度映射信息的一个例子的信息。
图4是示出配比映射信息的一个例子的图。
图5是配制液的配制方法的说明图。
图6是配制罐的清洗工序的说明图。
图7是配制罐的清洗工序的说明图。
图8是比排出口位于下游的配管内的搅拌方法的说明图。
图9是由实施方式涉及的配制装置执行的处理的处理过程。
图10是由实施方式涉及的配制装置执行的处理的处理过程。
图11是由实施方式涉及的配制装置执行的处理的处理过程。
图12是由实施方式涉及的配制装置执行的处理的处理过程。
符号说明
1：配制装置；
10：控制装置；
20：控制部；
21：获取部；
22：计测部；
23：计算部；
24：阀控制部；
30：存储部；
31：粘度映射信息；
32：配比映射信息；
100：原液罐；
110：原液供给路径；
200：稀释液罐；
210：稀释液供给路径；
300：配制罐；
310：搅拌装置；
320：排出口；
330：排出路径；
340：分岔路径；
400：配制完的罐；
500：清洗罐；
510：排出阀；
600：气泡供给装置；
HSh、HSl：液面传感器；
P1～P4：泵；
PS1～PS3：压力传感器；
R1～R3：压力调节器；
V1：第1电磁阀；
V10、V20、V40：压力阀；
V2：第2电磁阀；
V30、V60：手动阀；
V50：电磁阀；
V70：逆流防止阀；
VS1：粘度传感器。
具体实施方式
以下，参照附图对本申请公开的配制装置以及配制方法的实施方式进行详细说明。另外，本发明不由以下所示的实施方式限定。
此外，以下，举出将在印刷基板涂敷的防湿材料作为配制液进行配制的情况为例进行说明，但是配制液例如也可以是涂料等其他液体。换言之，只要是混合了粘度不同的两种液体的配制液即可。
首先，图1是示出实施方式涉及的配制装置的结构例的图。如图1所示，实施方式涉及的配制装置1具备原液罐(第1罐的一个例子)100、稀释液罐(第2罐的一个例子)200、配制罐300、控制装置10(参照图2)。原液罐100以及配制罐300通过设置有第1电磁阀V1的原液供给路径110相互连接。此外，稀释液罐200通过设置有第2电磁阀V2的稀释液供给路径210相互连接。
原液罐100是放入了防湿材料的原液(第1液体的一个例子)的罐。此外，如图1所示，在原液罐100连接有泵P1、压力调节器R1、压力阀V10、压力传感器PS1。
泵P1生成用于对原液罐100的内部进行加压的压缩空气。压力调节器R1使由泵P1生成的压缩空气成为固定的压力并向原液罐100供给。压力阀V10例如是电磁阀。压力传感器PS1检测被加压的原液罐100的内部的压力。通过这样的结构，原液罐100成为内部以固定的压力被加压的状态。
原液罐100在通过控制装置10的控制而打开了第1电磁阀V1的情况下，将贮存在原液罐100内的原液经由原液供给路径110向配制罐300供给。另外，由于原液罐100的内部是以固定的压力被加压的状态，所以原液以固定压力供给到配制罐300。
稀释液罐200是放入了稀释原液的稀释液(第2液体的一个例子)的罐。稀释液是比原液粘度低的液体，例如是稀释剂。此外，如图1所示，在稀释液罐200连接有泵P2、压力调节器R2、压力阀V20、压力传感器PS2。
泵P2生成用于对稀释液罐200的内部进行加压的压缩空气。压力调节器R2使由泵P2生成的压缩空气成为固定的压力并向稀释液罐200供给。压力阀V20例如是电磁阀。压力传感器PS2检测被加压的稀释液罐200的内部的压力。通过这样的结构，稀释液罐200成为内部以固定的压力被加压的状态。
稀释液罐200在通过控制装置10的控制而打开了第2电磁阀V2的情况下，将贮存在稀释液罐200内的稀释液经由稀释液供给路径210向配制罐300供给。另外，由于稀释液罐200的内部是以固定的压力被加压的状态，所以稀释液以固定压力供给到配制罐300。
配制罐300对从原液罐100供给的原液和从稀释液罐200供给的稀释液进行搅拌，配制作为配制液的防湿材料。此外，在配制罐300设置有搅拌装置310、液面传感器HSh、HSl、粘度传感器VS1。
搅拌装置310通过搅拌叶片对配制罐300的配制液进行搅拌。液面传感器HSh、HSl检测贮存在配制罐300的配制液的液面高度。具体地，液面传感器HSh、HS1构成为包含检测是否达到了第1液面高度的液面传感器HSl和检测是否达到了比第1液面高度高的第2液面高度的液面传感器HSh。
另外，通过液面传感器HS1检测的第1液面高度是能够进行基于粘度传感器VS1的粘度测定的液面高度，是能够进行配制罐300的搅拌的液面高度的最小值。通过液面传感器HSh检测的第2液面高度是能够进行配制罐300的搅拌的液面高度的最大值。也就是说，配制液在从第1液面高度到第2液面高度的范围内进行配制。
粘度传感器VS1是计测配制液的粘度的传感器。粘度传感器VS1是将目标粘度的前后作为计测范围的传感器，是相比而言计测范围窄、重视精度的传感器。
此外，配制罐300在配制后通过作业者打开手动阀V30的情况下，从排出口320排出到配制完的罐400(参照图6)。即，实施方式涉及的配制装置1是将配制罐300的容量作为一批次的批次式的配制装置。
在此，对实施方式涉及的配制方法进行说明。如上所述，印刷基板的防湿材料的品质受涂敷的粘度的影响。具体地，若粘度高，则在基板不扩展，由此不能充分地进行涂层，若粘度低，则会扩展至不应进行涂层的区域。
因此，以往，需要在配制的初始阶段(粗配制)使用计测范围宽、精度低的传感器，在配制为目标粘度的最终阶段(精密配制)使用计测范围窄、精度高的传感器。这样，以往，由于为了能够进行宽度宽的粘度测定而变得需要计测范围不同的粘度传感器，所以存在装置的成本增高的问题。
因此，在实施方式涉及的配制方法中，通过根据原液的供给时间计测粘度，从而省略了在粗配制时使用的粘度传感器(宽计测范围、低精度)。
具体地，在实施方式涉及的配制方法中，首先，计测从原液罐100向配制罐300以固定压力供给了给定量的原液时的供给时间。接下来，在配制方法中，根据所计测的供给时间计测原液的粘度。而且，在配制方法中，根据所计测的粘度，向配制罐300供给稀释液，由此以目标粘度来配制配制液。
也就是说，在实施方式涉及的配制方法中，在以固定压力供给给定量的原液的情况下，供给时间着眼于与粘度成比例的相关性。具体地，供给时间越长，原液的粘度变得越高，供给时间越短，原液的粘度变得越低。
另外，在粗配制时使用根据供给时间计测出的粘度，在用于与目标粘度一致的精密配制时使用粘度传感器VS1。由此，能够担保向目标粘度的调整精度。
这样，在实施方式涉及的配制方法中，通过根据原液的供给时间计测粘度，变得不需要在粗配制时使用的粘度传感器。因此，根据实施方式涉及的配制方法，能够抑制装置的成本。
接着，使用图2对实施方式涉及的配制装置1具备的控制装置10的结构进行说明。图2是示出实施方式涉及的控制装置10的结构例的框图。如图2所示，控制装置10具备控制部20和存储部30。
在此，控制装置10例如包含具有CPU(Central Processing Unit，中央处理器)、ROM(Read Only Memory，只读存储器)、RAM(Random Access Memory，随机存取存储器)、闪速存储器、输入输出端口等的计算机、各种电路。
计算机的CPU例如通过读取并执行存储在ROM的程序，作为控制部20的获取部21、计测部22、计算部23以及阀控制部24而发挥功能。
此外，控制部20的获取部21、计测部22、计算部23以及阀控制部24的至少任一个或全部也能够通过ASIC(Application Specific Integrated Circuit，特定用途集成电路)、FPGA(Field Programmable Gate Array，现场可编程门阵列)等硬件来构成。
此外，存储部30对应于RAM、闪速存储器。RAM、闪速存储器能够存储粘度映射信息31、配比映射信息32、各种程序的信息等。另外，也可以使控制装置10经由通过有线、无线的网络连接的其他计算机、可移动型记录介质获取上述的程序、各种信息。
粘度映射信息31是用于通过后述的计测部22来计测粘度的信息。图3是示出粘度映射信息31的一个例子的信息。图3所示的粘度映射信息31根据实验结果等预先生成。如图3所示，粘度映射信息31是供给时间和粘度建立对应的映射信息。所谓供给时间是给定量的原液供给到配制罐300的时间。粘度是原液的粘度。
如图3所示，在粘度映射信息31中，供给时间越长，粘度变得越高。即，供给时间与粘度处于比例关系。
配比映射信息32是用于计算为了以目标粘度配制配制液而需要的稀释液的量的信息。图4是示出配比映射信息32的一个例子的图。图4所示的配比映射信息32根据实验结果等预先生成。如图4所示，配比映射信息32是原液粘度和稀释液的稀释量建立对应的映射信息。
如图4所示，在配比映射信息32中，原液粘度越高，稀释量变得越高。即，原液粘度与稀释量处于比例关系。
接着，对控制部20的各功能(获取部21、计测部22、计算部23以及阀控制部24)进行说明。
获取部21获取各种信息。例如，获取部21获取设置在原液罐100的压力传感器PS1、设置在稀释液罐200的压力传感器PS2的传感器值的信息。
此外，获取部21获取设置在配制罐300的粘度传感器VS1的传感器值、液面传感器HSh、HSl的传感器值的信息。此外，获取部21获取由未图示的液温传感器检测到的原液、稀释液以及配制液的液温的信息。此外，获取部21获取设置在后述的清洗罐500(参照图6)的压力传感器PS3的传感器值的信息。
计测部22计测各种信息。例如，计测部22计测在给定量的原液从原液罐100被供给到配制罐300时需要的供给时间。具体地，计测部22计测在原液的初始供给时设置在原液供给路径110的第1电磁阀V1从打开到关闭为止的时间作为供给时间。
更具体地，计测部22计测从开始原液的供给到通过配制罐300中的液面传感器HS1达到第1液面高度为止的时间作为供给时间。即，所谓给定量是直到配制罐300中的第1液面高度为止的量。
然后，计测部22参照粘度映射信息31，根据所计测的供给时间计测原液的粘度。另外，计测部22也可以根据供给到配制罐300的原液的液温修正所计测的粘度。由此，即使在供给后原液的液温在配制罐300内上升(或者下降)的情况下，也能够高精度地掌握粘度。
此外，计测部22计测直到原液罐100被泵P1加压到给定压力为止的加压时间。具体地，计测部22计测从压力阀V10打开到压力传感器PS1的传感器值达到给定压力为止的时间作为加压时间。另外，由于通过压力调节器R1将压缩空气的供给量保持为固定，所以原液罐100的液面越低，加压时间变得越长。
此外，计测部22计测直到稀释液罐200被泵P2加压到给定压力为止的加压时间。具体地，计测部22计测从压力阀V20打开到压力传感器PS2的传感器值达到给定压力为止的时间作为加压时间。另外，由于通过压力调节器R2将压缩空气的供给量保持为固定，所以稀释液罐200的液面越低，加压时间变得越长。
计算部23计算各种信息。例如，计算部23根据通过计测部22计测的原液的粘度，计算粗配制时的稀释液的初始供给量。具体地，计算部23参照配比映射信息32，根据所计测的原液的粘度计算稀释液的初始供给量。
另外，初始供给量优选设定为比配比映射信息32中的稀释量稍微少。由此，在粗配制结束时刻，能够配制比目标粘度稍高的粘度的配制液，因此能够缩短后段的精密配制时的配制时间和抑制在目标粘度前后变动的振荡现象。
此外，计算部23根据通过设置在配制罐300的粘度传感器VS1检测到的配制液的当前的粘度(以下为当前粘度)，计算精密配制时的原液或者稀释液的供给量。例如，计算部23在当前粘度与目标粘度相同的情况下，将原液或者稀释液的供给量设为零进行计算。即，完成配制液的配制。
此外，例如，计算部23在当前粘度比目标粘度高的情况下，根据当前粘度与目标粘度的偏差，计算稀释液的供给量。具体地，计算部23进行用于进行偏差越大、越增多供给量的PID控制的PID运算，根据运算结果计算稀释液的供给量。
此外，例如，计算部23在当前粘度比目标粘度低的情况下，根据当前粘度与目标粘度的偏差，计算原液的供给量。然后，计算部23进行用于进行偏差越大、越增多供给量的PID控制的PID运算，根据运算结果计算原液的供给量。
另外，计算部23也可以根据原液罐100、稀释液罐200的液面高度修正粗配制时、精密配制时的原液以及稀释液的供给量。具体地，计算部23根据通过计测部22计测出的加压时间，计算罐(原液罐100或稀释液罐200)的液面高度。由此，能够以简易的结构高精度地检测液面高度。
然后，计算部23根据所计算出的液面高度修正水位差，根据修正过的水位差修正所计算出的供给量。由此，能够高精度地计算供给量。
阀控制部24根据通过计算部23计算出的供给量，控制第1电磁阀V1或第2电磁阀V2。具体地，阀控制部24将第1电磁阀V1或第2电磁阀V2打开与基于当前粘度以及目标粘度的偏差PID运算结果相应的时间，由此以供给量供给原液、稀释液。
也就是说，阀控制部24根据配制液的当前粘度与目标粘度的偏差，控制第1电磁阀V1或第2电磁阀V2的开闭时间，由此控制向配制罐300的原液以及稀释液的供给量。这样，使用PID运算结果，根据电磁阀的开闭时间来控制供给量，由此能够在批次式的配制装置1中高精度地控制原液、稀释液的供给量。
接着，使用图5对配制液的配制方法进行更具体的说明。图5是配制液的配制方法的说明图。如图5所示，配制液的配制方法构成为包含粗配制和精密配制这两个工序。
粗配制工序是将配制液配制至目标粘度的附近为止的工序。具体地，控制装置10根据基于供给时间而计测出的原液的粘度，供给稀释液使得成为比目标粘度高的粘度。更具体地，控制装置10供给配制液的粘度成为不足阈值TH1的供给量的稀释液。
精密配制是将具有不足阈值TH1的粘度的配制液配制为目标粘度的工序。具体地，控制装置10根据将供给稀释液后的配制液的粘度传感器VS1的计测结果，向配制罐300供给稀释液，由此以目标粘度配制配制液。
更具体地，控制装置10通过分多次供给少量的稀释液，使得配制液的粘度逐渐靠近目标粘度。这样，通过粗配制以及精密配制来配制配制液，由此能够高精度地以目标粘度配制配制液。
此外，控制装置10通过供给时间来控制精密配制时的稀释液、原液的供给量。即，控制装置10在使从原液罐100以及稀释液罐200向配制罐300的液体的供给压力固定的状态下，根据供给时间，控制液体的供给量。由此，变得不需要检测供给量的传感器等，因此能够抑制装置的成本。
接着，使用图6以及图7对配制罐300的清洗工序进行说明。图6以及图7是配制罐300的清洗工序的说明图。如图6以及图7所示，配制装置1还具备配制完的罐400和清洗罐500。
配制完的罐400是贮存通过配制罐300配制后的配制液的罐。贮存在配制完的罐400的配制液被送到向印刷基板涂敷防湿材料的涂敷装置。
清洗罐500是贮存用于清洗配制罐300的清洗液的罐。另外，清洗液是稀释液。此外，在清洗罐500连接有泵P3、压力调节器R3、压力阀V40、压力传感器PS3。
泵P3生成用于对清洗罐500的内部进行加压的压缩空气。压力调节器R3使通过泵P3生成的压缩空气成为固定的压力并向清洗罐500供给。压力阀V40例如是电磁阀。压力传感器PS3检测被加压的清洗罐500的内部的压力。通过这样的结构，清洗罐500成为内部以固定的压力被加压的状态。
清洗罐500在通过控制装置10的控制打开了电磁阀V50的情况下，将贮存在清洗罐500内的稀释液经由排出口320向配制罐300供给。另外，在图6中，示出了作为清洗液的稀释液被供给到配制罐300直至第2液面高度(液面传感器HSh的传感器值)为止的情况。
然后，控制装置10在配制罐300被清洗液充满之后，驱动搅拌装置310，在配制罐300内进行搅拌，进行清洗。然后，控制装置10在搅拌固定时间后，使搅拌装置310停止，并且打开电磁阀V50，使清洗液从配制罐300向清洗罐500移动。另外，此时，使泵P3停止，通过清洗液的自重使其向清洗罐500移动。
此外，清洗液在进行给定次数的清洗工序后，换言之，在清洗液包含的配制液的含量成为给定量以上的情况下，将清洗液从排出阀510排出，并更换新的稀释液。
这样，控制装置10在配制液的排出后的清洗工序中，从清洗罐500经由排出口320向配制罐300供给作为清洗液的稀释液，在清洗后，经由排出口320从配制罐300向清洗罐500排出清洗液。
由此，能够冲洗配制罐300内的残渣、排出口320附近的残渣，因此能够提高清洗效果。此外，通过在清洗液中使用稀释液，能够排除下一工序(下一批次)中的清洗液的影响。
接着，使用图8对与排出口320相比靠下游的配管内的配制液的搅拌方法进行说明。图8是与排出口320相比靠下游的配管内的搅拌方法的说明图。如图8所示，在配制罐300的排出口320的下游连接有用于向配制完的罐400(外部的一个例子)排出配制液的排出路径330和从排出路径330分岔的分岔路径340。
而且，在本实施方式中，在分岔路径340连接有从分岔路径340朝向排出口320供给空气气泡的气泡供给装置600。气泡供给装置600具备泵P4、手动阀V60、逆流防止阀V70。逆流防止阀V70是防止配制液从分岔路径340向泵P4侧逆流的阀。
气泡供给装置600按照控制装置10的控制从泵P4间歇性地生成压缩空气，向分岔路径340供给，由此使空气气泡产生。然后，所产生的空气气泡朝向作为上游侧的排出口320，在配制罐300的上方被脱气。
即，控制装置10通过气泡供给装置600供给空气气泡，由此对从分岔路径340到排出口320之间填充的配制液进行搅拌。由此，能够高精度地搅拌配管内的配制液，因此能够减少配管损耗。另外，空气气泡的强度(空气量)、完成时间能够与使用的材料匹配地进行调整。
接着，使用图9～图12对通过实施方式涉及的配制装置1执行的处理的处理过程进行说明。图9～图12是通过实施方式涉及的配制装置1执行的处理的处理过程。
首先，使用图9对粗配制时的处理过程进行说明。
如图9所示，配制装置1首先对原液罐100以及稀释液罐200的内部进行加压(步骤S101)。接下来，配制装置1开始从原液罐100向配制罐300的原液的供给(步骤S102)。
接下来，配制装置1判定贮存在配制罐300的原液是否达到给定量(步骤S103)。配制装置1在原液达到给定量的情况下(步骤S103：是)，结束向配制罐300的原液的供给(步骤S104)。另外，配制装置1在原液未达到给定量的情况下(步骤S103：否)，返回步骤S102。
接下来，配制装置1根据给定量的原液的供给时间计测原液的粘度(步骤S105)。接下来，配制装置1根据贮存在配制罐300的原液的液温修正所计测的粘度(步骤S106)。
接下来，配制装置1根据修正后的粘度计算稀释液的初始供给量(步骤S107)。接下来，配制装置1向配制罐300供给计算出的初始供给量的稀释液(步骤S108)。接下来，配制装置1通过搅拌装置310搅拌配制液(步骤S109)，结束处理。
接着，使用图10对精密配制时的处理过程进行说明。
如图10所示，配制装置1首先通过粘度传感器VS1计测粗配制后的配制液的粘度(步骤S201)。接下来，配制装置1判定目标粘度与所计测的当前粘度是否相同(步骤S202)。
配制装置1在目标粘度与当前粘度相同的情况下(步骤S202：是)，结束精密配制的处理。另一方面，配制装置1在目标粘度与当前粘度不同的情况下(步骤S202：否)，判定当前粘度是否比目标粘度高(步骤S203)。
配制装置1在当前粘度比目标粘度高的情况下(步骤S203：是)，进行用于供给稀释液的PID运算(步骤S204)，计算稀释液的供给量(步骤S205)。
接下来，配制装置1开始稀释液的供给(步骤S206)，判定是否达到计算出的供给量(步骤S207)。配制装置1在达到供给量的情况下(步骤S207：是)，返回步骤S202。另外，配制装置1在未达到供给量的情况下(步骤S207：否)，重复步骤S207直至达到供给量为止。
另一方面，在步骤S203中，配制装置1在当前粘度比目标粘度低的情况下(步骤S203：否)，进行用于供给原液的PID运算(步骤S208)，计算原液的供给量(步骤S209)。
接下来，配制装置1开始原液的供给(步骤S210)，判定是否达到计算出的供给量(步骤S211)。配制装置1在达到供给量的情况下(步骤S211：是)，返回步骤S202。另外，配制装置1在未达到供给量的情况下(步骤S211：否)，重复步骤S211直至达到供给量为止。
接着，使用图11对通过原液罐100或稀释液罐200的液面高度来修正供给量的处理的处理过程进行说明。另外，在图11中，将原液罐100或稀释液罐200总称为罐，将原液以及稀释液总称为液体。
如图11所示，配制装置1首先计算液体的供给量(步骤S301)。另外，步骤S301例如相当于图9所示的步骤S107、图10所示的步骤S205以及步骤S209。
接下来，配制装置1开始罐的加压(步骤S302)，判定罐内的压力是否达到给定压力(步骤S303)。
配制装置1在罐内的压力达到给定压力的情况下(步骤S303：是)，结束罐的加压(步骤S304)。另外，配制装置1在罐内的压力未达到给定压力的情况下(步骤S303：否)，重复执行步骤S303。
接下来，配制装置1根据加压时间计算贮存在罐的液体的液面高度(步骤S305)，根据所计算出的液面高度修正水位差(步骤S306)。接下来，配制装置1根据修正过的水位差来修正供给量(步骤S307)，结束处理。
接着，使用图12对清洗工序中的处理的处理过程进行说明。
如图12所示，配制装置1首先使精密配制完成(步骤S401)。接下来，配制装置1从配制罐300向配制完的罐400排出配制液(步骤S402)。
接下来，配制装置1关闭原液罐100以及稀释液罐200的电磁阀(第1电磁阀V1以及第2电磁阀V2)(步骤S403)。接下来，配制装置1对清洗罐500的内部进行加压(步骤S404)。
接下来，配制装置1在对清洗罐500进行加压至固定压力为止后，向配制罐300供给作为清洗液的稀释液(步骤S405)。接下来，配制装置1开始配制罐300的搅拌(步骤S406)。
接下来，配制装置1结束搅拌(步骤S407)，向清洗罐500排出清洗液后(步骤S408)，结束处理。
如上所述，实施方式涉及的配制装置1具备原液罐100(第1罐)、稀释液罐200(第2罐)、配制罐300、控制装置10。在原液罐100中放入原液(第1液体)。在稀释液罐200中放入粘度比原液低的稀释液(第2液体)。配制罐300对从原液罐100供给的原液和从稀释液罐200供给的稀释液进行搅拌而配制配制液。控制装置10根据从原液罐100向配制罐300以固定压力供给了给定量的原液时的供给时间，计测原液的粘度，根据所计测的粘度，向配制罐300供给稀释液，由此以目标粘度配制配制液。由此，变得不需要在粗配制时使用的粘度传感器，因此能够抑制装置的成本。
进一步的效果、变形例能够由本领域技术人员容易地导出。因此，本发明的更广泛的方式并不限定于如以上那样表示且记述的特定的详情以及代表性的实施方式。因此，能够在不脱离由所附的权利要求书及其等同物定义的总括性的发明的概念的精神或范围的情况下，进行各种各样的变甲。

Claims (10)

1.一种配制装置，其特征在于，具备：
第1罐，在该第1罐中放入第1液体；
第2罐，在该第2罐中放入粘度比所述第1液体低的第2液体；
配制罐，该配制罐对从所述第1罐供给的所述第1液体和从所述第2罐供给的第2液体进行搅拌来配制配制液；以及
控制装置，该控制装置根据从所述第1罐向所述配制罐以固定压力供给了给定量的所述第1液体时的供给时间，计测所述第1液体的粘度，根据计测出的所述粘度，向所述配制罐供给所述第2液体，由此以目标粘度配制所述配制液。
2.根据权利要求1所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：粘度传感器，该粘度传感器设置在所述配制罐，计测所述配制液的粘度，
所述控制装置根据计测出的所述第1液体的所述粘度来供给所述第2液体，使得成为比所述目标粘度高的粘度，根据供给所述第2液体后的所述配制液的所述粘度传感器的计测结果，向所述配制罐供给所述第2液体，由此以目标粘度配制所述配制液。
3.根据权利要求1或2所述的配制装置，其特征在于，
所述控制装置在使从所述第1罐以及所述第2罐向所述配制罐的液体的供给压力固定的状态下，根据供给时间，控制所述液体的供给量。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：液温传感器，该液温传感器计测供给到所述配制罐的所述第1液体的液温，
所述控制装置根据所述液温，修正计测出的所述第1液体的所述粘度。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：电磁阀，该电磁阀设置在所述第1罐以及所述配制罐之间的供给路径和所述第2罐以及所述配制罐之间的供给路径，
所述控制装置根据所述配制液的当前的粘度与目标粘度的偏差，控制所述电磁阀的开闭时间，由此控制所述第1液体以及所述第2液体向所述配制罐的供给量。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：
第1泵，该第1泵对所述第1罐的内部进行加压；以及
第2泵，该第2泵对所述第2罐的内部进行加压，
所述控制装置根据所述第1罐以及所述第2罐各自的内部达到给定压力为止的所述第1泵以及所述第2泵各自的加压时间，检测所述第1液体以及所述第2液体各自的液面高度。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：清洗罐，该清洗罐连接在所述配制罐的排出所述配制液的排出口，在该清洗罐中放入所述第2液体，
所述控制装置在排出所述配制液后的清洗工序中，从所述清洗罐经由所述排出口向所述配制罐供给所述第2液体，在清洗后经由所述排出口从所述配制罐向所述清洗罐排出所述第2液体。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的配制装置，其特征在于，
所述配制装置还具备：
排出路径，该排出路径连接在所述配制罐的排出口，将从所述排出口排出的所述配制液向外部排出；以及
气泡供给装置，该气泡供给装置设置在从所述排出路径分岔的分岔路径，从所述分岔路径朝向所述排出口供给空气气泡，
所述控制装置通过所述气泡供给装置供给所述空气气泡，由此对从所述分岔路径到所述排出口之间填充的所述配制液进行搅拌。
9.一种配制方法，是通过配制装置来执行的配制方法，
所述配制装置具备：
第1罐，在该第1罐中放入第1液体；
第2罐，在该第2罐中放入粘度比所述第1液体低的第2液体；以及
配制罐，该配制罐对从所述第1罐供给的所述第1液体和从所述第2罐供给的第2液体进行搅拌来配制配制液，
所述配制方法的特征在于，包含：
控制工序，根据从所述第1罐向所述配制罐以固定压力供给了给定量的所述第1液体时的供给时间，计测所述第1液体的粘度，根据计测出的所述粘度，向所述配制罐供给所述第2液体，由此以目标粘度配制所述配制液。
10.一种控制装置，该控制装置进行以下控制：对第1液体和粘度比所述第1液体低的第2液体进行搅拌来配制配制液，
所述控制装置的特征在于，
根据以固定压力向配制罐供给了给定量的所述第1液体时的供给时间，向所述配制罐供给所述第2液体，由此以目标粘度配制所述配制液，在该配制罐，对所述第1液体和所述第2液体进行搅拌来配制配制液。
CN202110787365.3A 2020-12-21 2021-07-12 配制装置、配制方法以及控制装置 Pending CN114642981A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020211718A JP7050140B1 (ja) 2020-12-21 2020-12-21 調合装置および調合方法
JP2020-211718 2020-12-21

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114642981A true CN114642981A (zh) 2022-06-21

Family

ID=81259229

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110787365.3A Pending CN114642981A (zh) 2020-12-21 2021-07-12 配制装置、配制方法以及控制装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11958028B2 (zh)
JP (2) JP7050140B1 (zh)
CN (1) CN114642981A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11162817A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
US6503568B1 (en) * 1999-09-30 2003-01-07 Oki Electric Industry Co., Ltd. Resist coating and recycling method
JP2005336289A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Hitachi Chem Co Ltd プリプレグの製造装置及びプリプレグの製造方法
CN102753351A (zh) * 2009-12-23 2012-10-24 马肯依玛士公司 连续喷墨打印机的流体回路中的测量系统、相关的流体回路和设计为执行所述测量系统的模块
JP2018122044A (ja) * 2017-02-03 2018-08-09 千代田工販株式会社 気泡攪拌式の紫外線照射方法及び装置
CN208612346U (zh) * 2018-05-11 2019-03-19 江西群鑫强磁新材料股份有限公司 稀土溶解罐
CN109696929A (zh) * 2017-10-21 2019-04-30 广东万安纸业有限公司 油墨检测配比控制器

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS544632B2 (zh) * 1973-07-24 1979-03-08
CA1058158A (en) * 1975-11-04 1979-07-10 Mitsubishi Precision Co. Gas sparger with axially adjustable elements
JPS59114418A (ja) * 1982-12-21 1984-07-02 Kurabo Ind Ltd 自動注入計量装置
JPH025759Y2 (zh) 1984-11-21 1990-02-13
JPS61170815A (ja) 1985-01-25 1986-08-01 Gadelius Kk 粘度調整装置
GB8530885D0 (en) * 1985-12-16 1986-01-29 Domino Printing Sciences Plc Ink jet printing system
JP2527318B2 (ja) * 1986-12-25 1996-08-21 関東化学 株式会社 レジスト組成物を回収、再使用するための方法および装置
JPH03192408A (ja) * 1989-12-22 1991-08-22 Toyoda Gosei Co Ltd 自動粘度管理装置
US5330576A (en) * 1990-04-26 1994-07-19 Baldwin-Gegenheimer Gmbh Recirculating coating liquid supply system with viscosity regulation
JPH0439715A (ja) * 1990-06-06 1992-02-10 Toyota Motor Corp 鍛造用型潤滑液の自動調合装置
FR2730831B1 (fr) * 1995-02-22 1997-06-13 Centre Nat Etd Spatiales Dispositif de pressurisation d'un sous-systeme de propulsion biliquide unifie d'un satellite geostationnaire
JP3665102B2 (ja) 1995-03-07 2005-06-29 ヤンマー株式会社 微生物培養システム
US6025012A (en) * 1995-09-20 2000-02-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method and apparatus for determining film thickness control conditions and discharging liquid to a rotating substrate
JP3333121B2 (ja) * 1996-12-25 2002-10-07 東京エレクトロン株式会社 塗布装置
WO2000001495A1 (en) * 1998-07-02 2000-01-13 Millipore Corporation Process for coating a solid surface with a liquid composition
JP2000074718A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Tokico Ltd 薬液調合装置
US20030010792A1 (en) * 1998-12-30 2003-01-16 Randy Forshey Chemical mix and delivery systems and methods thereof
US6786714B2 (en) * 2001-04-12 2004-09-07 James W. Haskew Delivery system for liquid catalysts
US6740163B1 (en) * 2001-06-15 2004-05-25 Seagate Technology Llc Photoresist recirculation and viscosity control for dip coating applications
DE10139142A1 (de) * 2001-08-09 2003-02-20 Bosch Gmbh Robert Abgasbehandlungseinheit und Messvorrichtung zur Ermittlung einer Konzentration einer Harnstoff-Wasser-Lösung
JP2003063032A (ja) * 2001-08-24 2003-03-05 Hitachi Ltd 液体調整装置及びインクジェット記録装置
US6849563B2 (en) * 2002-12-09 2005-02-01 International Business Machines Corporation Method and apparatus for controlling coating thickness
US7531040B2 (en) * 2003-10-02 2009-05-12 Asml Holdings N.V. Resist recovery method
JP4704228B2 (ja) 2005-09-06 2011-06-15 東京応化工業株式会社 レジスト液供給装置及び当該レジスト液供給装置を得るための改造キット
JP2009125729A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、画像表示装置および電子機器
EP2409130B1 (en) * 2009-03-20 2013-12-04 Pbs Biotech, Inc. Automatable aseptic sample withdrawal system
CN106423755B (zh) * 2016-11-22 2019-06-25 京东方科技集团股份有限公司 涂布设备、利用其回收涂布液的方法及其清洁方法
CN109569081B (zh) * 2018-12-04 2021-02-26 惠科股份有限公司 过滤装置和光阻涂布系统

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11162817A (ja) * 1997-11-28 1999-06-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
US6503568B1 (en) * 1999-09-30 2003-01-07 Oki Electric Industry Co., Ltd. Resist coating and recycling method
US20030042183A1 (en) * 1999-09-30 2003-03-06 Yasuharu Oota Resist recycling apparatus and method for recycling the same
JP2005336289A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Hitachi Chem Co Ltd プリプレグの製造装置及びプリプレグの製造方法
CN102753351A (zh) * 2009-12-23 2012-10-24 马肯依玛士公司 连续喷墨打印机的流体回路中的测量系统、相关的流体回路和设计为执行所述测量系统的模块
JP2018122044A (ja) * 2017-02-03 2018-08-09 千代田工販株式会社 気泡攪拌式の紫外線照射方法及び装置
CN109696929A (zh) * 2017-10-21 2019-04-30 广东万安纸业有限公司 油墨检测配比控制器
CN208612346U (zh) * 2018-05-11 2019-03-19 江西群鑫强磁新材料股份有限公司 稀土溶解罐

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022098502A (ja) 2022-07-01
JP7050140B1 (ja) 2022-04-07
JP2022098275A (ja) 2022-07-01
US11958028B2 (en) 2024-04-16
US20220193622A1 (en) 2022-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7363114B2 (en) Batch mixing method with standard deviation homogeneity monitoring
KR101353661B1 (ko) 기판용 도포 장치
US10559480B2 (en) Substrate treatment apparatus and substrate treatment method
JP2005510054A (ja) 浸漬処理用の改良されたプロセス制御
US8372299B2 (en) Substrate treating apparatus and substrate treating method
JP6898940B2 (ja) 容器充填装置
KR102135000B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP2014215125A (ja) 高圧力定流量ポンプ及び高圧力定流量送液方法
CN114642981A (zh) 配制装置、配制方法以及控制装置
US7281840B2 (en) Chemical mixing apparatus
CN110523341B (zh) 一种粘性膜水性胶自动配制系统及其控制方法
JP7305820B2 (ja) 調合装置および制御装置
US20030095472A1 (en) Chemical concentration control device for semiconductor processing apparatus
KR100911855B1 (ko) 약액의 특성 측정 장치, 약액 공급 장치 및 약액의 농도측정 방법
JP2011235237A (ja) 塗布剤塗布方法および塗布剤塗布装置
KR20180135452A (ko) 글리옥살화 폴리아크릴아미드로 이루어진 건조 지력제의 제조 방법
CN113561330B (zh) 一种定量配料方法、装置及搅拌站
EP3124155B1 (en) Electric discharge machine and method for calculating a weight of a workpiece
JP2001205158A (ja) 基板浸漬処理装置
KR100394194B1 (ko) 화학용액 자동 공급장치 및 그 제어방법
KR100614114B1 (ko) 기판 세정용 용액 희석시스템 및 방법
JP6843034B2 (ja) 塗布装置および塗布制御方法
KR100898045B1 (ko) 기판 처리 장치 및 그의 약액 공급 방법
KR102356550B1 (ko) 디스펜서 및 이를 통한 시린지 내 액체 잔량에 따른 미세 정량 토출 방법
KR20090025569A (ko) 약액 공급 장치 및 그의 약액 농도 보정 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination