CN113912890A - 一种反射膜的制备方法 - Google Patents

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Abstract

一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上；(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，在80‑100℃，进行热处理2‑6h，得到具有反射涂层的薄膜基体；(3).将薄膜基体的温度控制在60‑70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制金属反射层，得到第二薄膜基体；(4).将第二薄膜基体的温度控制在60‑70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制无机保护层。本发明制备的反射膜漫反射率更高、亮度更均匀。

Description

一种反射膜的制备方法
技术领域
本发明涉及一种反射膜的制备方法。
背景技术
液晶显示（LCD）已经成为当今应用的最普遍的显示技术。LCD并不能自行发光，需要借助背光模组才能实现显示功能。所以，背光模组为液晶显示器面板的关键零组件之一。背光模组包括光源、导光板、反射膜、扩散膜、增亮膜等。其中反射膜置于背光模组的最底层，其主要作用是将光源发出的光线反射至背光模组的出光方向，提高光线利用率，降低光损耗，以达到提高背光模组亮度，节能的目的。将中间层含有微泡结构的传统反射膜应用于短OD（OD距离15-18mm）背光膜组中，极易出现暗影现象。
发明内容
为了克服现有反射膜的上述不足，本发明提供一种反射膜的制备方法，所制备的反射膜漫反射率更高、亮度更均匀。
本发明解决其技术问题的技术方案是：一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
极性聚合物 14-17份
非极性聚合物 3.5-6份
相容剂 3-9份
无机粒子 2.5-4份，粒径5-15um
分散剂 5-8份
溶剂 50-66份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，在80-100℃，进行热处理2-6h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制金属反射层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制无机保护层。
优选的，所述极性聚合物为光学级PMMA、光学级PET中的一种；
所述非极性聚合物为PS；
所述相容剂为PS-g-PMMA、PS-b-PMMA、PC-g-PS、PS-b-PC中的一种；
所述无机粒子为金红石型二氧化钛粒子；
所述分散剂为油酸钠、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇中的一种；
所述溶剂为四氢呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰胺、二氯乙烷中的一种。
优选的，金属反射层为Al或Ag。
优选的，所述无机保护层为SiO2、SiO、MaF2中的一种。
本发明的有益效果在于：1、一部分光线在膜表面直接被反射回到导光板一部分光线进入薄膜内部经过多次反射、折射、散射后返回导光板；两种效果的叠加大大提高了薄膜的反射率，尤其是无机粒子采用金红石型二氧化钛时，金红石型二氧化钛结晶构造致密，折射率高，与基体树脂折射率相差大，可以得到高反射的界面。2、极性与非极性聚合物发生相分离，形成海岛状结构，使得薄膜表面的粗糙度大大提高，更多的光线发生漫反射，从而整个背光模组亮度更均匀，避免了使用时LED灯影的产生。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明。
实施例一，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PMMA 15份
PS 5份
PS-g-PMMA6份
金红石型二氧化钛粒子3.5份，粒径5-15um
油酸钠 6份
四氢呋喃55份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理4h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Al层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制SiO2层。
实施例二，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PET 14份
PS 6份
PS-b-PMMA9份
金红石型二氧化钛粒子2.5份，粒径5-15um
聚乙烯醇缩丁醛8份
三氯甲烷60份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理2h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Ag层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制SiO层。
实施例三，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PMMA15.5份
PS 4.5份
PC-g-PS5份
金红石型二氧化钛粒子2.6份，粒径5-15um
聚乙二醇5份
二氯甲烷50份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理5h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Al层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制MaF2层。
实施例四，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PET16.5份
PS 3.5份
PC-g-PS8份
金红石型二氧化钛粒子3.8份，粒径5-15um
聚乙二醇7.5份
二氯甲烷53份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理6h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Ag层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制SiO2层。
实施例五，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PMMA16份
PS 4份
PC-g-PS3份
金红石型二氧化钛粒子2.8份，粒径5-15um
聚乙二醇7份
N,N-二甲基甲酰胺66份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理2.5h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Al层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制SiO层。
实施例六，一种反射膜的制备方法，包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
光学级PET17份
PS5.5份
PS-b-PC7份
金红石型二氧化钛粒子4份，粒径5-15um
油酸钠6.5份
二氯乙烷62份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，温度控制在80-100℃之间，进行热处理5.5h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制Ag层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制MaF2层。
比较例：市售未涂布的UX-188反射膜。将发明的实施例与比较例进行辉度测量：用BM-7A测量样品辉度，测试环境：23±2℃，55±5%RH，测试条件：样品长（40cm*25cm）,测量点位置为：1.（0.1L，0.1W）；2.(0.9L，0.1W) ； 3.( 0.1L，0.5W) ； 4.( 0.5L，0.5W) ； 5.（0.9L，0.5W）；6.（0.1L，0.9W）；7.（0.5L，0.9W）；8.（0.9L，0.9W）。
定义中心辉度为第4点的辉度值，分别将实施例和比较例置于相同的背光模组中，测试其辉度，结果如下表所示：
Figure DEST_PATH_IMAGE002A
以上测试数据说明，本发明提供的反射膜，能提高组装在其上方的背光模组的中央辉度、平均辉度，并使背光模组的亮度变得更均匀。

Claims (4)

1.一种反射膜的制备方法，其特征在于包括下列步骤：
(1).调制反射胶水涂料，将调制的反射胶水涂料涂布于经电晕处理的PC基材的电晕面上，其中反射胶水涂料由以下质量份数的组分组成：
极性聚合物 14-17份
非极性聚合物 3.5-6份
相容剂 3-9份
无机粒子 2.5-4份，粒径5-15um
分散剂 5-8份
溶剂 50-66份；
(2).将步骤(1)所得的涂布后的薄膜基材放入烘箱，在80-100℃，进行热处理2-6h，得到具有反射涂层的薄膜基体；
(3).将薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在薄膜基体的反射涂层上镀制金属反射层，得到第二薄膜基体；
(4).将第二薄膜基体的温度控制在60-70℃，采用离子束辅助沉积技术在第二薄膜基体的金属反射层上镀制无机保护层。
2.如权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述极性聚合物为光学级PMMA、光学级PET中的一种；
所述非极性聚合物为PS；
所述相容剂为PS-g-PMMA、PS-b-PMMA、PC-g-PS、PS-b-PC中的一种；
所述无机粒子为金红石型二氧化钛粒子；
所述分散剂为油酸钠、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙二醇中的一种；
所述溶剂为四氢呋喃、三氯甲烷、二氯甲烷、二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰胺、二氯乙烷中的一种。
3.如权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于：金属反射层为Al或Ag。
4.如权利要求1所述的反射膜的制备方法，其特征在于：所述无机保护层为SiO2、SiO、MaF2中的一种。
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