KR20000027862A - 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법 - Google Patents

박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20000027862A
KR20000027862A KR1019980045902A KR19980045902A KR20000027862A KR 20000027862 A KR20000027862 A KR 20000027862A KR 1019980045902 A KR1019980045902 A KR 1019980045902A KR 19980045902 A KR19980045902 A KR 19980045902A KR 20000027862 A KR20000027862 A KR 20000027862A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
transparent resin
film
light
light diffusion
resin layer
Prior art date
Application number
KR1019980045902A
Other languages
English (en)
Inventor
박민효
임대우
지성대
Original Assignee
한형수
주식회사 새한
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한형수, 주식회사 새한 filed Critical 한형수
Priority to KR1019980045902A priority Critical patent/KR20000027862A/ko
Publication of KR20000027862A publication Critical patent/KR20000027862A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133504—Diffusing, scattering, diffracting elements
    • G02F1/133507—Films for enhancing the luminance

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

본 발명은 박막 트랜지스터 액정표시장치의 백 라이트 유니트의 제조에 사용되는 고투명 합성수지 필름을 기재로 한 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 높은 전광선투과율과 광확산성을 만족시키는 광확산 필름 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 광확산 필름은, 고투명 플라스틱으로 이루어진 기재 필름과; 상기 기재 필름의 한 면에 적층된 투명수지층과; 그리고, 상기 투명수지층 위에 투명수지, 광확산입자 및 대전방지제가 혼합되어 적층된 광확산층을 포함하여 이루어진다. 또한, 본 발명에 따른 광확산 필름 제조방법은, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리스티렌 또는 폴리메틸메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된 어느 한 고투명 플라스틱으로 이루어진 기재 필름의 한면에 투명수지층을 적층하는 단계와; 상기 투명수지층 위에 투명수지, 광확산입자 및 대전방지제가 혼합된 광확산층을 차례로 적층하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 따라서, 기재 필름(1)으로서의 고투명 플라스틱 필름과 광확산층(3) 사이에 기재 필름(1)과 굴절율이 비슷한 투명수지층(2)이 적층되도록 하였으므로 각 층 사이의 경계면에서의 빛의 반사 및 산란이 줄어들어 광확산 필름 전체의 전광선투과율 향상을 도모할 수 있으므로 액정표시장치의 선명한 화상을 얻을 수 있다.

Description

박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법
본 발명은 박막 트랜지스터 액정표시장치의 백 라이트 유니트의 제조에 사용되는 고투명 합성수지 필름을 기재로 한 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 박막 트랜지스터 액정표시장치의 디스플레이의 선명한 화상을 얻기 위하여 측면 또는 후면에 위치한 광원램프로부터 조사되는 빛을 통과시키면서 균일한 광확산을 유도하여 선명한 광화상을 얻을 수 있는 고투명 합성수지 필름을 기재로 한 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.
종래 디스플레이 방식은 대부분 도광판이 광확산 역할까지 겸하고 있으므로 가격면에서 유리한 측면이 있으나 보다 선명한 화상이 요구되는 박막 트랜지스터 액정표시장치에 있어서는 기존의 도광판에 광확산을 부여한 방식(일본 공개특허 평4-270302호와 미국 특허 제5,289,351호)으로는 한계가 있으므로 도광판 위에 별도의 광확산 필름 또는 광확산판을 사용한 방식이 각종 노트북 컴퓨터, 퍼스널 컴퓨터, 벽걸이 텔리비젼 등의 박막 트랜지스터 액정표시장치의 백 라이트 유니트에 사용되고 있다.
액정표시장치의 백 라이트 유니트에 사용되는 광확산 필름으로는 일반적으로 투명한 합성수지 시트에 광확산입자를 혼입하거나 합성수지 시트에 광확산 입자를 코팅한 제품 등이 개발되어 있다(일본 공개특허 평7-174909호). 이러한 광확산 필름은 광원램프로부터 조사되어 프리즘필름을 투과한 빛을 손실없이 통과시키면서도 균일하게 확산시키는 기능을 가져야 하며, 그 중요한 특성으로는 높은 전광선투과율과 높은 헤이즈(haze)이다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래 광확산 필름의 경우에는 투명 기재층에 광확산층이 바로 도포됨으로써 투명기재층과 광확산층 사이에서 빛의 반사 및 산란이 일어나 광확산 필름의 전체 전광선투과율이 저하될 우려가 있다.
본 발명은 상기한 점들을 감안하여 이루어진 것으로서, 높은 전광선투과율과 광확산성을 만족시키는 광확산 필름 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 광확산 필름의 적층구조를 나타내는 도면이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 기재 필름, 2 : 투명수지층,
3 : 광확산층
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 광확산 필름은, 고투명 플라스틱으로 이루어진 기재 필름과; 상기 기재 필름의 한 면에 적층되는 투명수지층과; 그리고, 상기 투명수지층 위에 적층되는 광확산층을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 광확산 필름 제조방법은, 폴리에스테르 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리메틸메타크릴레이트 필름, 폴리스티렌 필름과 같은 고투명 플라스틱 필름의 한 면에 투명수지층을 도포하는 단계와; 상기 플라스틱 필름 위에 투명수지층 및 광확산입자 및 대전방지제가 혼합된 광확산층을 차례로 적층하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 기재 필름인 고투명 플라스틱 필름과 광확산층 사이에 기재 필름과 굴절율이 비슷한 투명수지층이 적층됨으로써 경계면에서의 빛의 반사 및 산란이 줄어들어 광확산 필름 전체의 전광선투과율이 향상된다.
본 발명의 다른 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.
도 1에 도시된 바와 같이 참조부호 1은 기재 필름으로서, 광투과율이 85%∼95%의 범위인 플라스틱 필름이 사용되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 광투과율이 90%∼94%의 범위인 고투명 플라스틱 필름이 사용된다. 그리고, 투명수지층과의 밀착성 및 코팅성 향상을 위하여 프라이머(primer)가 코팅된 고투명 플라스틱 플름을 기재 필름(1)으로 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 광확산 필름을 구성하는 투명수지층(2)을 기재 필름(1) 위에 적층하기 위하여, 투명수지층(2)을 이루는 도포수지는 투명하여야 하며, 폴리메타크릴산메틸 또는 메타크릴산에스테르 공중합체 등의 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 비닐계, 폴리에스테르계, 폴리아미드계 등의 수지를 포함하는 군에서 선택된 어느 하나의 수지 또는 이들을 2가지 이상 혼합한 혼합수지가 사용될 수 있다.
광확산 필름의 기재 필름(1)으로 폴리에스테르 필름을 사용할 경우 투명수지층(2)을 형성하기 위한 도포 투명수지로는 상기한 수지 중에서 폴리에스테르 필름과의 접착력이 우수한 폴리에스테르계와 우레탄-폴리에스테르 공중합체가 사용되는 것이 바람직하다. 투명수지층(2)의 굴절률은 기재 필름(1)과의 굴절율 차이가 0.22 이하여야 한다. 굴절율의 차이가 0.22 이상이면 플라스틱 기재 필름(1)과 투명수지층(2)과의 경계면과, 투명수지층(2)과 광확산층(3)과의 경계면에서 빛의 반사 및 산란이 일어나 높은 휘도를 얻을 수 있는 광확산 필름을 얻기 어렵다. 그리고, 투명수지층(2)의 두께는 1㎛∼30㎛가 바람직하며, 투명수지층(2)의 두께가 1㎛ 이하일 때는 빛의 반사 및 산란을 방지하는 효과가 크기 않고, 투명수지층(2)의 두께가 30㎛ 이상일 때에는 광확산 필름의 광투과율이 떨어진다.
광확산제로는 투명입자 또는 백색입자가 적합하다. 또한 투명입자로는 아크릴입자, 스티렌입자, 실리콘입자 등의 유기입자와, 합성실리카, 그래스비드, 다이아몬드 등의 무기입자가 사용될 수 있다. 그리고, 백색입자로는 산화티타늄, 산화아연, 황산바륨, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 수산화알루미늄, 클레이 등이 사용될 수 있고, 이들을 단독 또는 2가지 이상 혼합한 혼합입자를 광확산제로 사용하여도 좋다.
광확산층(3)에 첨가되는 대전방지제는 광확산 필름의 표면저항을 저하시켜 광확산 필름을 사용하는 조립공정에서 정전기 발생에 의한 이물 혼입을 방지하기 위하여 필요하다. 또한, 대전방지제는 광확산 필름의 광투과율에 영향을 주지 않는 무색의 양이온성 고분자 대전방지제 또는 비이온성 고분자 대전방지제를 사용하는 것이 바람직하며, 대전방지제의 사용량은 도포수지량에 대하여 0.1중량부∼5중량부의 범위가 바람직하다. 대전방지제를 0.1중량부 이하 사용할 경우 이물방지에 효과가 있는 정도의 표면 저항치(1012Ω 이하)를 가지기 힘들고, 대전방지제를 5중량부 이상 사용할 경우에는 광확산층의 경도가 떨어져 광확산 필름의 내스크래치성이 떨어진다.
그리고, 원하는 광학적 특성을 가진 액정표시장치에 사용되는 광확산 필름을 제조하기 위해서는 도포수지와 광확산제의 비율을 적절하게 조절하는 것이 중요하다. 특히 전광선투과율이 85%∼94%에 이르는 광확산 필름을 제조하기 위해서는 도포수지에 대한 광확산제의 비율은 20∼50중량%의 범위가 바람직하다. 광확산제의 중량비가 20% 이하이면 헤이즈가 낮아져 우수한 광확산성을 얻기 어려우며, 중량비가 50% 이상이 되면 전광선투과율이 낮아져 높은 광투과율을 가지는 광확산 필름을 얻기 어렵다. 또한, 광투과율을 조절하기 위해서는 도포층의 두께를 조절하여야 하고, 85%∼94%에 이르는 광투과율을 얻기 위해서는 도포층의 두께가 3㎛∼30㎛이 좋으며, 더욱 바람직하게는 10∼20㎛ 범위이다. 도포층의 두께가 3㎛ 이하가 되면 광투과율 및 헤이즈가 떨어지고, 30㎛ 이상이 되면 전광선투과율이 85% 이하가 되어 신뢰성 시험중 도포층에 균열이 생길 수 있어 원하는 광확산 필름을 얻을 수 없게 된다.
광확산 필름의 제조과정에서 광확산층(3)에 첨가되는 첨가로서 투명수지와 광확산제의 혼합성을 높이기 위하여 커플링제가 사용될 수 있는데 이 커플링제의 첨가량은 광확산제의 중량에 대하여 2∼10%의 범위가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 4∼8%의 범위이다. 커플링제를 2% 이하 사용하였을 경우에는 투명수지와 광확산제의 혼합성을 향상시키는 데 큰 효과가 없고, 10% 이상 사용하였을 경우에는 광확산 필름의 투과율이 저하될 수 있다. 그리고, 커플링제로는 실란 커플링제가 사용되는 것이 바람직하다.
<실시예 1>
고투명 폴리에스테르 필름((주)새한, 상품명 XG-500, 100㎛ 굴절율 1.66)의 한 면에 폴리에스터 투명수지(Toyobo Vylon 200, 굴절율 1.50)를 바 코터(Bar Coator)를 이용하여 10㎛ 도포한 후 다음의 조성을 가진 도포액을 바 코터를 이용하여 도포한 다음 100℃에서 30초간 건조함으로써 도포층의 두께가 20㎛인 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 폴리에스터 투명수지(Toyobo Vylon 200) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 6.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 3.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 0.25g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<실시예 2>
광확산층에 사용되는 투명수지(우레탄-폴리에스터수지 : Toyobo Vylon UR-1400, 굴절율 1.48)로 투명수지층 15㎛을 도포한 후 실시예 1과 같은 방법으로 아래의 조성을 가진 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 우레탄-폴리에스터수지(Toyobo Vylon UR-1400) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 5.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 4.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 0.25g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<실시예 3>
투명수지층에 폴리스티렌(굴절율 1.59)을 10㎛ 도포하고 광확산층은 실시예 1과 같은 조성으로 광확산 필름을 제조하였다.
<비교예 1>
실시예 1과 같이 투명수지층 10㎛을 도포한 후 아래와 같은 조성을 가지는 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 폴리에스터수지(Toyobo, Vylon 200) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 2.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 2.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 0.25g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<비교예 2>
실시예 1과 같이 투명수지층 10%㎛을 도포한 후 아래와 같은 조성을 가지는 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 폴리에스터수지(Toyobo, Vylon 200) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 10.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 5.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 0.25g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<비교예 3>
실시예 1과 같이 투명수지층 10㎛을 도포한 후 아래와 같은 조성을 가지는 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 폴리에스터수지(Toyobo, Vylon 200) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 6.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 3.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 0.015g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<비교예 4>
실시에 1과 같이 투명수지층 10㎛을 도포한 후 아래와 같은 조성을 가지는 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
도포액의 조성
- 폴리에스터수지(Toyobo, Vylon 200) : 25.0g
- 합성아크릴비드(Soken Chemical : MX-150) : 6.0g
- 합성실리카입자(Fusi-Silysia : Silysia 250) : 3.0g
- 실란커플링제(OSI Specialties : A-189) : 0.5g
- 대전방지제(ACL Stayicide 2002) : 2.0g
- 메틸에틸케톤 : 66.0g
<비교예 5>
투명수지층을 도포하지 않고 실시에 1과 같은 조성을 가지는 도포액을 사용하여 광확산 필름을 제조하였다.
<비교예 6>
투명수지층에 폴리에스테르 또는 우레탄-폴리에스테르 대신에 PTCFE(폴리테트라클로로플로로에틸렌, 굴절율 1.38)를 도포하고, 광확산층은 실시예 1과 같은 조성으로 도포하여 광확산 필름을 제조하였다.
상기 실시예 및 비교예에서 얻어진 광확산 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
전광선투과율(%) 헤이즈(HAZE) 표면저항(Ω) 내스크래치성
실시예 1 92.5 88.5 1010 양호
실시예 2 91.6 89.2 1010 양호
실시예 3 90.4 89.1 1010 양호
비교예 1 92.1 45.5 1010 양호
비교예 2 52.3 97.6 1010 양호
비교예 3 92.4 88.6 1014 양호
비교예 4 91.2 88.9 108 불량
비교예 5 81.2 88.6 1010 양호
비교예 6 82.2 89.1 1010 양호
- 전광선투과율 및 헤이즈는 ASTM D-1003에 의거하여 측정하였으며, 측정기기로는 일본 덴쇼쿠공업사의 모델 1000을 사용하였다.
- 표면저항은 ASTM D 257에 의거하여 측정하였으며, 측정기기로는 가와구치전업사(Kawaguchi Electric Works)의 모델 P-618을 사용하였다.
- 내스크래치성은 연필경도가 2H 이상이면 양호, 그 이하이면 불량으로 평가하였다.
상기 표 1에서 알 수 있듯이, 실시예 1, 2 및 3과 같이 플라스틱 기재층과 투명수지층의 굴절률의 차이가 크지 않을 때에는 높은 광투과율을 얻을 수 있지만 비교예 5와 같이 투명수지층이 없거나 있더라도 비교예 6과 같이 플라스틱 기재층과의 굴절률의 차이가 0.22 이상일 때에는 원하는 정도의 광투과율을 얻을 수 없었다.
또한, 비교예 1과 같이 광확산제의 양이 도포 수지에 대하여 20% 이하일 때는 매우 낮은 헤이즈를 얻었고, 비교예 2와 같이 광확산제의 양이 과다할 때에는 헤이즈는 매우 높지만 광투과율이 낮아 역시 원하는 광확산 필름을 얻을 수 없었다.
또한 비교예 3과 같이 대전방지제의 첨가량이 부족할 때에는 표면저항이 높아 이물방지에 효과를 볼 수 없었으며, 비교예 4와 같이 대전방지제의 첨가량이 과다할 때에는 표면저항은 매우 낮으나 내스크래치성이 좋지 않았다.
상기한 바와 같이, 본 발명에 따른 제조방법에 있어서는, 기재 필름(1)으로서의 고투명 플라스틱 필름과 광확산층(3) 사이에 기재 필름(1)과 굴절율이 비슷한 투명수지층(2)이 적층되도록 하였으므로 각 층 사이의 경계면에서의 빛의 반사 및 산란이 줄어들어 광확산 필름 전체의 전광선투과율 향상을 도모할 수 있고, 따라서 액정표시장치의 선명한 화상을 얻을 수 있다.

Claims (5)

  1. 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리스티렌 또는 폴리메틸메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된 어느 한 고투명 플라스틱으로 이루어진 기재 필름과;
    상기 기재 필름의 한 면에 적층된 투명수지층과; 그리고,
    상기 투명수지층 위에 투명수지, 광확산입자 및 대전방지제가 혼합되어 적층된 광확산층을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름.
  2. 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리스티렌 또는 폴리메틸메타크릴레이트를 포함하는 군에서 선택된 어느 한 고투명 플라스틱으로 이루어진 기재 필름의 한면에 투명수지층을 적층하는 단계와;
    상기 투명수지층 위에 투명수지, 광확산입자 및 대전방지제가 혼합된 광확산층을 적층하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 투명수지는 폴리메타크릴산메틸 또는 메타크릴산에스테르 공중합체의 아크릴계, 스티렌계, 우레탄계, 비닐계 또는 폴리에스테르계 고투명 기재 필름과의 굴절률 차이가 0.22인 수지를 포함하는 군에서 선택된 어느 1성분 또는 2성분 이상을 혼합한 수지로 이루어짐을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 제조방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 광확산입자로는 아크릴입자, 스티렌입자, 산화티타늄, 합성실리카 또는 수산화알루미늄을 포함하는 군에서 선택된 어느 1성분 또는 2성분 이상이 혼합된 것이 사용되고, 그 사용량은 투명수지에 대하여 중량부로 20∼50% 범위임을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 제조방법.
  5. 제 3 항에 있어서, 상기 대전방지제로는 무색 양이온성 대전방지제 또는 무색 비이온성 대전방지제가 사용되고, 그 사용량은 투명수지에 대하여 중량부로 0.1∼5%임을 특징으로 하는 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 제조방법.
KR1019980045902A 1998-10-29 1998-10-29 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법 KR20000027862A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980045902A KR20000027862A (ko) 1998-10-29 1998-10-29 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019980045902A KR20000027862A (ko) 1998-10-29 1998-10-29 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20000027862A true KR20000027862A (ko) 2000-05-15

Family

ID=19556211

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019980045902A KR20000027862A (ko) 1998-10-29 1998-10-29 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20000027862A (ko)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100411851B1 (ko) * 2001-07-18 2003-12-18 주식회사 코오롱 액정 디스플레이의 백라이트 유니트용 필름
KR100446043B1 (ko) * 2002-06-07 2004-08-25 신화인터텍 주식회사 광확산 필름
KR100573372B1 (ko) * 1999-03-09 2006-04-25 도레이새한 주식회사 투명 플라스틱 필름을 기재로 한 액정표시장치용 광확산필름
KR100611460B1 (ko) * 2004-05-12 2006-08-09 제일모직주식회사 반사방지능이 우수한 광확산 필름 및 이를 이용한백라이트 유닛
KR100738320B1 (ko) * 2006-03-30 2007-07-12 주식회사 에이스 디지텍 대전방지 배향막을 이용한 아이피에스용 보상필름을 구비한광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된광학소자
KR20110013865A (ko) * 2009-08-04 2011-02-10 도레이첨단소재 주식회사 액정디스플레이의 백라이트 유니트용 시트
KR101282149B1 (ko) * 2005-08-29 2013-07-04 후지필름 가부시키가이샤 광학 시트 및 그 제조방법

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100573372B1 (ko) * 1999-03-09 2006-04-25 도레이새한 주식회사 투명 플라스틱 필름을 기재로 한 액정표시장치용 광확산필름
KR100411851B1 (ko) * 2001-07-18 2003-12-18 주식회사 코오롱 액정 디스플레이의 백라이트 유니트용 필름
KR100446043B1 (ko) * 2002-06-07 2004-08-25 신화인터텍 주식회사 광확산 필름
KR100611460B1 (ko) * 2004-05-12 2006-08-09 제일모직주식회사 반사방지능이 우수한 광확산 필름 및 이를 이용한백라이트 유닛
KR101282149B1 (ko) * 2005-08-29 2013-07-04 후지필름 가부시키가이샤 광학 시트 및 그 제조방법
KR100738320B1 (ko) * 2006-03-30 2007-07-12 주식회사 에이스 디지텍 대전방지 배향막을 이용한 아이피에스용 보상필름을 구비한광학소자의 제조방법 및 그 제조방법에 의해 제조된광학소자
KR20110013865A (ko) * 2009-08-04 2011-02-10 도레이첨단소재 주식회사 액정디스플레이의 백라이트 유니트용 시트

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100884658B1 (ko) 광학 박막 시트
US8928843B2 (en) Liquid crystal display module comprising a transparent media layer interposed between a reflection polarizing plate and an optical sheet
US7850356B2 (en) Reflection sheet and backlight unit employing the same
US20080158663A1 (en) Anti-UV coating composition and the use thereof
WO2003005072A1 (en) Light diffusing film
KR20070026197A (ko) 높은 광확산성을 갖는 리플렉터
KR100573372B1 (ko) 투명 플라스틱 필름을 기재로 한 액정표시장치용 광확산필름
US8926777B2 (en) Method for manufacturing high brightness optical sheet
KR20080084343A (ko) 백라이트유니트용 광확산 시트
KR101090495B1 (ko) 발광다이오드용 광확산 필름
WO2007043847A1 (en) Antistatic light diffusion film
KR20080063543A (ko) 휘도향상용 플레이트 및 그 제조방법
KR101752245B1 (ko) 백라이트 유니트용 광확산 시트
KR100775850B1 (ko) 백라이트유니트용 광확산 시트
KR20080040316A (ko) 휘도향상용 플레이트
KR20000027862A (ko) 박막 트랜지스터 액정표시장치용 광확산 필름 및 그 제조방법
KR20120078508A (ko) 광학 시트
KR20100001582A (ko) 광확산판, 이를 구비한 백라이트 장치 및 액정표시장치
KR19980068299A (ko) Tft-lcd용 광학산필름의 제조방법
JP2002162508A (ja) 光拡散性フィルム
TWI398699B (zh) 用於背光單元之光擴散片材與光學片材
KR100737978B1 (ko) 액정 디스플레이의 백라이트 유니트용 광확산 시트 및 이를포함하는 백라이트 유니트
KR100812593B1 (ko) 엘시디 백라이트 유니트용 광확산 시트
KR100601759B1 (ko) 액정 디스플레이의 백라이트 유니트용 광확산필름
KR100804062B1 (ko) 액정 백라이트 유니트용 광확산필름

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
WITN Withdrawal due to no request for examination