CN113831369A - 一种金属铱络合物及其应用 - Google Patents
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- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 30
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 14
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 272
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 abstract description 46
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 abstract description 46
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 162
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 161
- 238000000034 method Methods 0.000 description 141
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 111
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 73
- 230000008569 process Effects 0.000 description 70
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 61
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 52
- 101150037468 CPD1 gene Proteins 0.000 description 26
- 101100108853 Mus musculus Anp32e gene Proteins 0.000 description 26
- 101100221809 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) cpd-7 gene Proteins 0.000 description 26
- 101100165815 Oryza sativa subsp. japonica CYP90A3 gene Proteins 0.000 description 26
- 101100490727 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) AIF1 gene Proteins 0.000 description 26
- 101150025236 dmaW gene Proteins 0.000 description 26
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 22
- -1 n-octyl group Chemical group 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 8
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 125000004987 dibenzofuryl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- APOYTRAZFJURPB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-n-(2-methoxyethyl)-n-(trifluoro-$l^{4}-sulfanyl)ethanamine Chemical compound COCCN(S(F)(F)F)CCOC APOYTRAZFJURPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical group COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical compound [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N Heavy water Chemical compound [2H]O[2H] XLYOFNOQVPJJNP-ZSJDYOACSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100457453 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) MNL1 gene Proteins 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004134 1-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])C2([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004135 2-norbornyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C2([H])C([H])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])* 0.000 description 1
- KJRJBBVVHYGROV-UHFFFAOYSA-N ClP(C1=CC=C(C=C1)N(C)C)(C(C)(C)C)(C(C)(C)C)Cl Chemical compound ClP(C1=CC=C(C=C1)N(C)C)(C(C)(C)C)(C(C)(C)C)Cl KJRJBBVVHYGROV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical group CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical group COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000003670 adamantan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])C(C2([H])[H])([H])C([H])([H])C3([H])C([*])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])C3([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004618 benzofuryl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002676 chrysenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=C4C=CC=CC4=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000008358 core component Substances 0.000 description 1
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- NXQGGXCHGDYOHB-UHFFFAOYSA-L cyclopenta-1,4-dien-1-yl(diphenyl)phosphane;dichloropalladium;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].Cl[Pd]Cl.[CH-]1C=CC(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1.[CH-]1C=CC(P(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 NXQGGXCHGDYOHB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000005299 dibenzofluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=C3C(=C4C=5C=CC=CC5CC4=C21)C=CC=C3)* 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical group CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000003838 furazanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 1
- YJLPIKFDEXHCNQ-UHFFFAOYSA-N iridium;quinoline Chemical compound [Ir].N1=CC=CC2=CC=CC=C21 YJLPIKFDEXHCNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001715 oxadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005968 oxazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 125000004934 phenanthridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC=C3C=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Abstract
本发明涉及一种金属铱络合物及其应用。所述金属铱络合物具有式I所示结构。本发明提供的化合物具有升华温度低，光、电稳定性好，发光效率高，寿命长，色饱和度高等优点，可用于有机发光器件中，特别是作为红色发光磷光材料，具有应用于AMOLED产业的可能。
Description
技术领域
本发明涉及有机电致发光技术领域，尤其涉及一种适合有机电致发光器件的有机发光材料，特别涉及一种金属铱络合物及其在有机电致发光器件上的应用。
背景技术
目前，作为新一代显示技术的有机电致发光器件(OLED)在显示和照明技术方面都获得了越来越多的关注，应用前景十分广泛。但是，和市场应用要求相比，OLED器件的发光效率、驱动电压、使用寿命等性能还需要继续加强和改进。
一般来说，OLED器件基本结构为在金属电极中间夹杂各种不同功能的有机功能材料薄膜，犹如一个三明治的结构，在电流的驱动下，从阴阳两极分别注入空穴和电子，空穴和电子在移动一段距离后，在发光层得到复合，并以光或热的形式进行释放，从而产生了OLED的发光。然而，有机功能材料是有机电致发光器件的核心组成部分，材料的热稳定性、光化学稳定性、电化学稳定性、量子产率、成膜稳定性、结晶性、色饱和度等都是影响器件性能表现的主要因素。
一般地，有机功能材料包括荧光材料和磷光材料。荧光材料通常为有机小分子材料，一般只能利用25％单重态发光，所以发光效率比较低。而磷光材料由于重原子效应引起地自旋轨道耦合作用，除了利用25％单重态之外，还可以利用75％三重态激子的能量，所以发光效率可以得到提升。但是相较于荧光材料，磷光材料起步较晚，且材料的热稳定性、寿命、色饱和度等都有待提升，这是一个具有挑战性的课题。现已经有人开发各种化合物作为磷光材料。例如发明专利文献CN107973823公开了一类喹啉类的铱化合物，但是该类化合物的色饱和度以及器件性能尤其是发光效率和器件寿命都有待改善；发明专利文献CN106459114公开了一类β-二酮配位基配位的铱化合物，但是该类化合物的升华温度高，色饱和度不佳，特别的，器件性能尤其是发光效率和器件寿命表现不理想，有待进一步改进。
发明内容
本发明是为了解决上述课题而完成的，目的在于提供高性能的有机电致发光器件及可实现这样的有机电致发光器件的新型材料。
本发明人为了达成前述目的而反复进行了深入的研究，结果发现，通过使用下述式(1)表示的金属铱络合物，可以得到高性能的有机电致发光器件。
本发明涉及一种金属铱络合物及其应用。所述金属铱络合物具有式I所示结构。本发明提供的络合物具有升华温度低，光、电稳定性好，发光效率高，寿命长，色饱和度高等优点，可用于有机发光器件中，特别是作为红色发光磷光材料，具有应用于AMOLED产业的可能。
本发明的目的之一在于提供一种金属铱络合物，该类络合物具有升华温度较低，光、电化学稳定性高，色饱和度高，发光效率高，器件寿命长等优点，可用于有机电致发光器件中。特别是作为红色发光掺杂体，能应用于OLED产业中。
一种金属铱络合物，结构式如式I所示：
其中
A为CR0或者N；
R1、R2、R3的个数为单取代到最大可能取代；
其中R1、R4独立的选自取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
R0、R2、R3独立的选自氢、氘、卤素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
或者R0、R1、R2、R3任意两个相邻基团可以相互连接形成环或并环结构；
其中当R3存在且在A的邻位时，不为F；Rx-Rz独立的选自氢、氘、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、或取代的或未取代的C1-C10杂烷基；
其中Z独立地选自O，S，C(R)2，NR，；其中R独立地选自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C2-C30的环烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或者取代的或未取代的C1-C18杂芳基；
其中所述取代为被氘、F、Cl、Br、C1-C5烷基C3-C6环烷基取代，
所述杂烷基或杂芳基中的杂原子为N、S、O中的一个或多个。
优选：其中R1、R2、R3的个数为单取代，其中R1，R4为取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，R0、R2、R3独立的选自氢、氘、卤素、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基。
更优选：结构式如式II所示：
其中R1，R4为取代或未取代的C3-C6支链烷基、取代的C3-C6直链烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，R0、R2、R3独立的选自氢、氘、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，所述取代为被氘、F、C1-C5烷基或C3-C6环烷基取代。
其中所述取代为被D、F、部分或完全D或F取代的C1-C5烷基或C3-C6环烷基取代。
其中A为CH或者A为N。
其中A为N，R3不为H。
作为优选的金属铱络合物，其中式I中的右侧的
的结构，优选为以下结构之一或者他们对应的部分或完全氘代物或者他们对应的部分或完全氟代物，其中虚线表示连接金属的位置，
作为优选的金属铱络合物，具有下列结构式之一或者他们对应的部分或完全氘代物或者他们对应的部分或完全氟代物，
一种电致发光器件，其包括：阴极，阳极以及设置在阴极与阳极之间的有机层，所述有机层中包含上述的金属铱络合物。
其中所述有机层中包括有发光层，所述金属铱络合物作为发光层的红色发光掺杂材料；或者其中所述有机层中包括有空穴注入层，所述的金属铱络合物作为空穴注入层中的空穴注入材料。
本发明的材料不但具有升华温度较低，光、电化学稳定性高，色饱和度高，发光效率高，器件寿命长等优点。本发明的材料作为磷光材料，可以将三重激发态转换成光，所以能够提高有机电致发光器件的发光效率，从而降低能耗。
附图说明
图1是本发明的化合物L12在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图2是本发明的化合物CPD 93在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图3是本发明的化合物L14在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图4是本发明的化合物CPD 123在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图5是本发明的化合物L17在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图6是本发明的化合物CPD 249在氘代氯仿溶液中的1HNMR谱图，
图7是本发明的化合物CPD 93/CPD 123/CPD 249在二氯甲烷溶液中的紫外吸收光谱以及发射光谱。
具体实施方式
本发明的化合物由下式(I)表示
其中
A为CR0或者N；
R1、R2、R3的个数为单取代到最大可能取代；
其中R1、R4独立的选自取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
R0、R2、R3独立的选自氢、氘、卤素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
或者R0、R1、R2、R3任意两个相邻基团可以相互连接形成环或并环结构；
其中当R3存在且在A的邻位时，不为F；Rx-Rz独立的选自氢、氘、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、或取代的或未取代的C1-C10杂烷基；
其中Z独立地选自O，S，C(R)2，NR，；其中R独立地选自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C2-C30的环烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或者取代的或未取代的C1-C18杂芳基；
其中所述取代为被氘、F、Cl、Br、C1-C5烷基C3-C6环烷基取代，
所述杂烷基或杂芳基中的杂原子为N、S、O中的一个或多个。
式(1)中，在R3为2个以上的情况下，多个R3可以分别相同也可以不同。
式(1)中，在所述取代基为2个以上的情况下，多个取代基可以分别相同也可以不同。
优选：R1、R2、R3的个数为单取代。
更优选化合物为下列结构：
以下，对于式(1)所表示的化合物的各基团的例子进行说明。
需要说明的是，本说明书中，“取代或未取代的碳数a～b的X基”这一表述中的“碳数a～b”表示的是X基未取代的情况下的碳数，不包括X基被取代时的取代基的碳数。
作为C1～C10的烷基，为直链状或支链状的烷基，具体来说，为甲基、乙基、丙基、、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基及其异构体、正己基及其异构体、正庚基及其异构体、正辛基及其异构体、正壬基及其异构体、正癸基及其异构体等，优选为甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基，更优选为丙基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基。
作为C3～C20的环烷基，可举出环丙基、环丁基、环戊基、环己基、1－金刚烷基、2－金刚烷基、1－降冰片烷基、2－降冰片烷基等，优选为环戊基、环己基。
作为C2～C10的烯基，可举出乙烯基、丙烯基、烯丙基、1-丁二烯基、2-丁二烯基、1-己三烯基、2-己三烯基、3-己三烯基等，优选为丙烯基、烯丙基。
作为C1-C10杂烷基，为含有除碳氢以外的原子构成的直链状或支链状的烷基、环烷基等，可举出巯甲基甲烷基、甲氧基甲烷基、乙氧基甲烷基、叔丁氧基甲烷基、N,N-二甲基甲烷基、环氧丁烷基、环氧戊烷基、环氧己烷基等，优选为甲氧基甲烷基、环氧戊烷基。
作为芳基的具体例，为苯基、萘基、蒽基、菲基、并四苯基、芘基、屈基、苯并[c]菲基、苯并[g]屈基、芴基、苯并芴基、二苯并芴基、联苯基、三联苯基、四联苯基、荧蒽基等，优选为苯基、萘基。
作为杂芳基的具体例，可举出吡咯基、吡嗪基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基、吲哚基、异吲哚基、咪唑基、呋喃基、苯并呋喃基、异苯并呋喃基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、氮杂二苯并呋喃基、氮杂二苯并噻吩基、二氮杂二苯并呋喃基、二氮杂二苯并噻吩基、喹啉基、异喹啉基、喹喔啉基、咔唑基、菲啶基、吖啶基、菲咯啉基、吩嗪基、吩噻嗪基、吩噁嗪基、噁唑啉基、噁二唑基、呋咱基、噻吩基、苯并噻吩基、二氢吖啶基、氮杂咔唑基、二氮杂咔唑基、喹唑啉基等，优选为吡啶基、嘧啶基、三嗪基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、氮杂二苯并呋喃基、氮杂二苯并噻吩基、二氮杂二苯并呋喃基、二氮杂二苯并噻吩基、咔唑基、氮杂咔唑基、二氮杂咔唑基。
下述实施例仅仅是为了便于理解技术发明，不应视为本发明的具体限制。
本发明中的化合物合成中涉及的原物料和溶剂等均购自于Alfa、Acros等本领域技术人员熟知的供应商。
实施例1化合物CPD1的合成
共用中间体化合物B1的合成：
向一个1L三口烧瓶，依次加入化合物B1-1(49.0g，169.4mmol，1.0eq)、联硼酸频那醇酯(51.6g，203.3mmol，1.2eq)，[1,1'-双(二苯基膦基)二茂铁]二氯化钯(2.48g，3.39mmol，0.02eq)、醋酸钾(33.2g，338.9mmol，2.0eq)，二氧六环(500ml)，抽真空，氮气置换3次，油浴加热到100℃左右，搅拌16h，取样TLC监控原料B1-1反应完。降至室温，分批转移至1L单口瓶中旋蒸除去大部分二氧六环，再加入甲苯(300ml)，加热溶解，加入去离子水水洗3次(100ml/次)，分液，将有机相过硅胶滤(200-300目，30g)，并用甲苯100ml淋洗。浓缩有机相至剩80ml左右，加入正己烷(160ml)，常温搅拌析晶4h。过滤，滤饼用正己烷(40ml)淋洗，所得产品烘干后，得到44.7g类白色固体化合物B1，收率78.5％。质谱：337.2(M+H)。
共用配体化合物L1的合成：
化合物L1-3的合成：
向一个1L三口烧瓶，依次加入化合物L1-1(42.1g，173.61mmol，1.0eq)、化合物L1-2(27.21g，243.05mmol，1.4eq)，二氯-二叔丁基-(4-二甲基氨基苯基)磷钯(II)(1.23g，1.74mmol，0.01eq)、无水K3PO4(73.7g，347.22mmol，2.0eq)，甲苯(505ml)，抽真空，氮气置换3次，油浴加热到80℃左右，搅拌16h，取样TLC监控原料L1-1基本反应完。降至室温，在反应瓶中加入乙酸乙酯(250ml)，加入去离子水水洗3次(150ml/次)，分液，有机相进行减压浓缩成固体。将粗品进行柱层析分离(EA：Hex＝1:10)，所得产品干燥后，得到27.4g类白色固体化合物L1-3，收率68.71％。质谱：230.7(M+H)
化合物L1-4的合成：
向一个500ml三口烧瓶，依次加入化合物L1-3(25.5g，111.01mmol，1.0eq)、化合物B1(41.06g，122.11mmol，1.1eq)，二氯-二叔丁基-(4-二甲基氨基苯基)磷钯(II)(0.78g，1.11mmol，0.01eq)、碳酸钠(23.53g，222.02mmol，2.0eq)，四氢呋喃(250ml)，去离子水(62ml)，抽真空，氮气置换3次，油浴加热到60℃左右，搅拌2h，取样TLC监控原料L1-3基本反应完。降至室温，将反应液转移至1L单口瓶中，再加入乙酸乙酯(300ml)，加入去离子水水洗3次(150ml/次)，分液，有机相进行减压浓缩成固体。将粗品采用甲苯/甲醇进行重结晶(粗品：甲苯：甲醇＝1:5:20)，所得产品干燥后，得到35.97g白色固体化合物L1-4，收率80.3％。质谱：404.5(M+H)
化合物L1的合成：
向一个250ml单口瓶，依次加入化合物L1-4(32.0g，79.3mmol，1.0eq)、10％的钯碳(8.44g，7.93mmol，0.1eq)，四氢呋喃(64ml)和乙醇(96ml)的混合溶剂，向反应瓶通入H2，油浴加热到40℃左右，搅拌24h，取样TLC监控原料L1-4基本反应完。降至室温，将反应液直接过滤，收集滤液，浓缩干燥。将粗品进行柱层析分离(EA：Hex＝1:8)，所得产品干燥后，得到25.47g类白色固体化合物L1，收率79.2％。质谱：406.5(M+H).1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.64(d,J＝5.7Hz,1H),7.93(d,J＝7.4Hz,1H),7.85(s,1H),7.70(d,J＝7.9Hz,2H),7.68–7.55(m,2H),7.51(s,1H),7.43–7.24(m,3H),2.94(s,1H),δ2.87(s,1H),2.00(m,2H)，1.71(m,J＝25.0Hz,6H),1.20(d,6H).
化合物CPD1的合成：
共用中间体化合物CPD1-1的合成：
将化合物L1(24.7g,60.91mmol,3.0eq)、IrCl3.3H2O(6.83g,20.3mmol,1.0eq)置于一个500ml三口烧瓶中，加入乙二醇乙醚(247ml)及去离子水(82.3ml)中，混合液于N2保护作用下，110℃搅拌回流16小时。冷却到室温后，过滤，滤渣依次用甲醇(100ml*3)、正己烷(100ml*3)，干燥得到化合物CPD1-1(22.03g,88.3％)。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD1的合成：
将化合物CPD1-1(8.75,7.12mmol,1.0eq)溶于乙二醇乙醚(87.5ml)，依次加入无水碳酸钠(7.55g,71.2mmol,10.0eq)以及化合物A1(3.65g,35.6mmol,5.0eq)，加入完毕后，混合液于N2保护作用下，40℃搅拌16小时后冷却到室温。取样TLC监控有红色产品点生成。向反应液中加入甲醇(87.5ml)，搅拌析出红色固体，过滤收集固体。固体采用二氯甲烷(150ml)溶解澄清，然后进行硅胶过滤，用少量二氯甲烷淋洗滤饼。收集滤液加入去离子水水洗3次(60ml/次)，分液，有机相进行减压浓缩成固体。将固体采用四氢呋喃/甲醇进行重结晶3次(粗品：四氢呋喃：甲醇＝1:5:7)，所得产品干燥后，得到目标化合物CPD1(4.83g，61.7％)。将4.83克CPD 1粗品升华纯化后得到升华纯CPD 1(3.32g，68.73％)。质谱：1101.37(M+H)。
实施例2化合物CPD3的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD3(4.64g，58.81％)。将4.64克CPD3粗品升华纯化后得到升华纯CPD3(3.26g，70.25％)。质谱：1213.5(M+H)。
实施例3化合物CPD8的合成：
共用配体化合物L4的合成：
化合物B2的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：351.3(M+H)。
化合物L4-2的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：418.5(M+H)。
化合物L4的合成：
参照化合物L1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：420.6(M+H).1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.64(d,J＝5.7Hz,1H),7.94(d,J＝7.4Hz,1H),7.86(s,1H),7.70(d,J＝7.9Hz,2H),7.68–7.55(m,2H),7.51(s,1H),7.43–7.24(m,3H),2.92(s,1H),1.98(d,J＝7.0Hz,2H),1.72(dd,J＝28.5,21.5Hz,6H),1.32(s,9H).
化合物CPD8的合成：
化合物CPD8-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD8的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD8(3.77g，60.3％)。将3.77克CPD8粗品升华纯化后得到升华纯CPD8(2.87g，76.12％)。质谱：1185.5(M+H)。
实施例4化合物CPD21的合成：
共用配体化合物L6的合成：
化合物B3的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：351.3(M+H)。
化合物L6-1的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：418.5(M+H)。
化合物L6的合成：
参照化合物L1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：420.6(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.95(d,J＝7.4Hz,1H),7.86(s,1H),7.70(d,J＝7.9Hz,2H),7.68–7.55(m,2H),7.51(s,1H),7.43–7.24(m,3H),2.85(dt,1H),2.43(d,2H),2.00(m,2H),1.82(dq,1H),1.79–1.60(m,6H),0.87(d,6H).
化合物CPD21的合成：
化合物CPD21-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD21的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD21(4.11g，62.3％)。将4.11克CPD21粗品升华纯化后得到升华纯CPD21(2.94g，71.53％)。质谱：1241.6(M+H)。
实施例5化合物CPD27的合成：
共用中间体化合物B4的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：337.2(M+H)。
共用中间体化合物L4的合成：
化合物L7-2的合成：
参照化合物L1-3的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：206.7(M+H)。
化合物L7的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：380.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.66(d,J＝5.7Hz,1H),7.98(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.80–7.67(m,3H),7.50(s,1H),7.37(dq,J＝13.9,6.2Hz,4H),3.11(dt,J＝13.7,6.8Hz,1H),2.87(dt,1H),2.60(s,3H),1.36(d,J＝6.9Hz,6H),1.20(d,6H).
化合物CPD27的合成：
化合物CPD27-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD27的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD27(4.35g，57.6％)。将4.35克CPD27粗品升华纯化后得到升华纯CPD27(3.01g，69.19％)。质谱：1161.5(M+H)。
实施例6化合物CPD28的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD28(3.52g，54.71％)。将3.52克CPD28粗品升华纯化后得到升华纯CPD28(2.47g，70.17％)。质谱：1133.5(M+H)。
实施例7化合物CPD33的合成：
共用中间体化合物L9的合成：
化合物L9-2的合成：
参照化合物L1-3的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：220.7(M+H)。
化合物L9的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：394.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.67(d,J＝5.7Hz,1H),7.99(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.75(d,J＝8.6Hz,1H),7.72–7.63(m,2H),7.52(s,1H),7.40(d J＝5.4Hz,2H),7.36–7.27(m,2H),2.87(m,1H),2.68(d,J＝7.2Hz,2H),2.01(m,1H),1.20(d,6H),0.97(d,J＝6.6Hz,6H).
化合物CPD33的合成：
化合物CPD33-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD33的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD33(3.77g，57.6％)。将3.77克CPD33粗品升华纯化后得到升华纯CPD33(2.69g，71.35％)。质谱：1189.6(M+H)。
实施例8化合物CPD39的合成：
共用中间体化合物L10的合成：
化合物B5的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：361.3(M+H)。
化合物L10-1的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：428.5(M+H)。
化合物L10的合成：
参照化合物L1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：432.6(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.67(d,J＝5.7Hz,1H),7.99(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.75(d,J＝8.6Hz,1H),7.72–7.63(m,2H),7.52(s,1H),7.40(d J＝5.4Hz,2H),7.36–7.27(m,2H),2.87(m,1H),3.00(m,1H),2.84(m,1H),2.14–1.88(m,4H),1.86–1.56(m,12H).
化合物CPD39的合成：
化合物CPD39-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD39的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD39(3.96g，60.71％)。将3.96克CPD39粗品升华纯化后得到升华纯CPD39(3.74g，69.19％)。质谱：1265.6(M+H)。
实施例9化合物CPD75的合成：
共用中间体化合物L11的合成：
化合物L11-2的合成：
参照化合物L1-3的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：262.8(M+H)。
化合物L11的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：436.6(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.68(d,J＝5.7Hz,1H),7.98(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.76(d,J＝8.6Hz,1H),7.72–7.63(m,2H),7.52(s,1H),7.40(d J＝5.4Hz,2H),7.36–7.27(m,2H),2.97(m,1H),2.87(m,1H),2.68(d,J＝7.2Hz,2H),2.01(m,1H),1.20(m,12H),0.97(d,J＝6.6Hz,6H).
化合物CPD75的合成：
化合物CPD75-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD75的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD75(4.17g，61.81％)。将4.17克CPD75粗品升华纯化后得到升华纯CPD75(2.94g，70.5％)。质谱：1273.6(M+H)。
实施例10化合物CPD93的合成：
共用中间体化合物L12的合成：
化合物B6的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：309.2(M+H)。
化合物L12的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：366.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.67(d,J＝5.7Hz,1H),7.99(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.75(d,J＝8.6Hz,1H),7.72–7.63(m,2H),7.52(s,1H),7.40(d J＝5.4Hz,2H),7.36–7.27(m,2H),2.68(d,J＝7.2Hz,2H),2.60(s,3H),2.01(m,1H),0.97(d,J＝6.6Hz,6H).见图1所示。
化合物CPD93的合成：
化合物CPD93-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD93的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD93(3.55g，54.8％)。将3.55克CPD93粗品升华纯化后得到升华纯CPD93(2.23g，62.81％)。质谱：1133.5(M+H)。如附图2所示，1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.89(d,J＝8.8Hz,2H),8.26(d,J＝6.4Hz,2H),7.80(d,J＝7.5Hz,2H),7.58(s,2H),7.48(dd,J＝15.7,8.5Hz,4H),7.39–7.31(m,3H),7.31–7.19(m,5H),4.81(s,1H),2.76(dd,J＝14.3,7.1Hz,5H),2.21–2.01(m,4H),1.76–1.41(m,12H),1.20–0.92(m,11H),0.78(dd,J＝17.0,9.6Hz,3H)，0.47(t,J＝7.4Hz,5H),0.01(s,2H),-0.16(t,J＝7.4Hz,4H)。
实施例11化合物CPD99的合成
共用中间体化合物L13的合成：
化合物L13-2的合成：
参照化合物L1-3的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：260.7(M+H)。
化合物L13的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：406.4(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.69(d,J＝5.7Hz,1H),8.01(d,J＝7.4Hz,1H),7.90(s,1H),7.76(d,J＝8.6Hz,1H),7.73–7.64(m,2H),7.52(s,1H),7.41(d,J＝5.4Hz,2H),7.38–7.28(m,2H),2.93(t,3H),2.46(t,3H),2.31(s,3H)。
化合物CPD99的合成：
化合物CPD99-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD99的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD99(3.79g，57.8％)。将3.79克CPD99粗品升华纯化后得到升华纯CPD99(2.44g，64.37％)。质谱：1213.4(M+H)。
实施例12化合物CPD121的合成
共用中间体化合物L14的合成：
化合物L14-1的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：376.5(M+H)。
化合物L14的合成：
参照化合物L1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：378.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.94(d,J＝7.4Hz,1H),7.86(s,1H),7.72(d,J＝7.9Hz,2H),7.69–7.56(m,2H),7.52(s,1H),7.44–7.25(m,3H),2.96(s,1H),2.31(s,3H),1.96(s,2H),1.72(t,J＝25.0Hz,6H).见图3所示。
化合物CPD121的合成：
化合物CPD121-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD121的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD121(4.05g，59.3％)。将4.05克CPD121粗品升华纯化后得到升华纯CPD121(2.71g，66.91％)。质谱：1045.3(M+H)。
实施例13化合物CPD123的合成
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD123(3.97g，61.1％)。将3.97克CPD123粗品升华纯化后得到升华纯CPD123(2.66g，67.0％)。质谱：1157.5(M+H)。如附图4所示，1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.93(d,J＝8.9Hz,2H),8.28(d,J＝6.3Hz,2H),7.82(d,J＝7.5Hz,2H),7.67(s,2H),7.60(dd,J＝8.9,1.6Hz,2H),7.50(d,J＝8.0Hz,2H),7.36(d,J＝7.5Hz,3H),7.34–7.22(m,5H),4.82(s,1H),3.4–3.18(m,2H),2.24(s,4H),1.86(dd,J＝34.0,16.9Hz，11H),1.66(s,5H)，1.61–1.46(m,3H),1.36–1.19(m,3H),1.11(dd,J＝15.2,9.7Hz,3H),0.91–0.65(m,4H),0.49(t,J＝7.4Hz,6H),-0.15(t,J＝7.4Hz,5H).
实施例14化合物CPD145的合成
化合物L15的合成：
向一个250ml单口瓶，依次加入化合物L14(14.3g，37.88mmol，1.0eq)、叔丁醇钠(10.92g，113.65mmol，3eq)，DMSO-d6(172ml)，抽真空氮气置换3次，油浴加热到75℃，搅拌24h。降至室温，加入重水(35ml)搅拌10min，有黄色固体析出，再加入去离子水(350ml)搅拌10min，抽滤，收集黄色固体。固体采用乙酸乙酯(450ml)溶解，再加入去离子水水洗3次(200ml/次)，分液，水相合并用少量乙酸乙酯萃取一次，合并有机相，浓缩干燥。将粗品进行柱层析分离(EA：Hex＝1:8)，所得产品干燥后，得到白色固体化合物L15(12.8g,收率88.6％)。质谱：382.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.94(d,J＝7.4Hz,1H),7.86(s,1H),7.72(d,J＝7.9Hz,2H),7.69–7.56(m,2H),7.52(s,1H),7.44–7.25(m,3H),1.99(m,2H),1.89–1.58(m,6H).
化合物CPD145-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD145的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD145(3.62g，53.7％)。将3.62克CPD145粗品升华纯化后得到升华纯CPD145(2.25g，62.15％)。质谱：1053.3(M+H)。
实施例15化合物CPD147的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD147(3.55g，54.4％)。将3.55克CPD147粗品升华纯化后得到升华纯CPD147(2.12g，59.71％)。质谱：1165.5(M+H)。
共用中间体化合物L16的合成：
化合物L16-2的合成：
参照化合物L1-3的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：244.7(M+H)。
化合物L16-3的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：390.4(M+H)。
化合物L16-4的合成：
向一个500ml单口瓶，依次加入化合物L16-3(25g，64.19mmol，1.0eq)、二氯甲烷(150ml)，将反应体系降温至0℃左右，缓慢滴加双(2-甲氧基乙基)氨基三氟化硫(BAST，35.51ml，192.58mmol，3.0eq)，滴加完毕，在室温下搅拌16h，取样TLC监控原料L16-3基本反应完。将反应液加入饱和碳酸钠溶液中(450ml)搅拌0.5h，静置分液，水层再加入二氯甲烷(150ml)萃取1次，合并有机相，再用去离子水水洗3次(100ml/次)，分液，有机相浓缩干燥。将粗品进行柱层析分离(EA：Hex＝1:10)，所得产品干燥后，得到19.28g白色固体化合物L16-4，收率73％。质谱：412.4(M+H).
化合物L16的合成：
参照化合物L1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：414.5(M+H)1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.94(d,J＝7.4Hz,1H),7.86(s,1H),7.72(d,J＝7.9Hz,2H),7.69–7.56(m,2H),7.52(s,1H),7.44–7.25(m,3H),3.26(d,1H),2.44(m,1H),2.32(s,3H),2.03(m,J＝28.1,24.1Hz,4H),1.76(m,1H).
实施例16化合物CPD175的合成：
化合物CPD175-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD175的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD175(3.77g，51.5％)。将3.77克CPD175粗品升华纯化后得到升华纯CPD175(2.44g，64.72％)。质谱：1117.3(M+H)。
实施例17化合物CPD177的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD177(3.61g，52.7％)。将3.61克CPD177粗品升华纯化后得到升华纯CPD177(2.37g，65.65％)。质谱：1229.4(M+H)。
实施例18化合物CPD247的合成：
化合物L17的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：352.4(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.66(d,J＝5.7Hz,1H),7.98(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.80–7.67(m,3H),7.50(s,1H),7.37(dq,J＝13.9,6.2Hz,4H),3.11(dt,J＝13.7,6.8Hz,1H),2.60(s,3H),1.36(d,J＝6.9Hz,6H).见图5所示。
化合物CPD247-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD247的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD247(3.23g，48.9％)。将3.23克CPD247粗品升华纯化后得到升华纯CPD247(2.03，62.84％)。质谱：993.2(M+H)。
实施例19化合物CPD249的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD249(3.51g，50.7％)。将3.51克CPD249粗品升华纯化后得到升华纯CPD249(2.17，61.82％)。质谱：1105.4(M+H)。如附图6所示，1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.89(d,J＝8.8Hz,2H),8.26(d,J＝6.4Hz,2H),7.79(d,J＝7.5Hz,2H),7.58(s,2H),7.48(dd,J＝15.7,8.5Hz,5H),7.37–7.30(m,4H),7.28(d,J＝5.8Hz,2H),4.80(s,1H),2.75(qd,J＝13.2,7.2Hz,4H),2.10(dt,J＝13.5,6.7Hz,2H),1.63(s,6H),1.61–1.48(m,12H),1.09–0.98(m,12H),0.46(t,J＝7.4Hz,6H).
共用中间体化合物L18的合成：
化合物B7的合成：
参照化合物B1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：324.2(M+H)。
化合物L18的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：367.5(M+H.1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.4(d,1H),7.81(dd,1H),7.74(dd,1H),7.71(s,1H),7.50(s,1H),7.27-7.36(m,3H),7.1(d,1H),3.12(q,1H),2.55(s,3H),2.35(s,3H),1.29(d,6H).
实施例20化合物CPD253的合成：
化合物CPD253-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD253的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD253(4.13g，56.3％)。将4.13克CPD253粗品升华纯化后得到升华纯CPD253(2.78g，67.3％)。质谱：1023.3(M+H)。
实施例21化合物CPD256的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD256(4.02g，58.1％)。将4.02克CPD256粗品升华纯化后得到升华纯CPD256(2.67g，66.41％)。质谱：1107.4(M+H)。
实施例22化合物CPD309的合成：
化合物L19的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：366.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.97(d,J＝7.4Hz,1H),7.88(s,1H),7.80–7.67(m,3H),7.50(s,1H),7.37(dq,J＝13.9,6.2Hz,4H),2.60(s,3H),1.43(s,9H).
化合物CPD309-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD309的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD309(3.08g，47.8％)。将3.08克CPD309粗品升华纯化后得到升华纯CPD309(1.89，61.36％)。质谱：1133.5(M+H)。
实施例23化合物CPD315的合成：
化合物L20的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：394.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.65(d,J＝5.7Hz,1H),7.99(d,J＝7.4Hz,1H),7.88(s,1H),7.80–7.67(m,3H),7.50(s,1H),7.37(dq,J＝13.9,6.2Hz,4H),2.60(s,3H),1.78(m,J＝4.6Hz,4H),1.35(s,3H),0.89(t,6H).
化合物CPD315-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD315的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD315(3.44g，52.2％)。将3.44克CPD315粗品升华纯化后得到升华纯CPD315(2.24，65.11％)。质谱：1189.5(M+H)。
实施例24化合物CPD321的合成：
化合物L21的合成：
参照化合物L1-4的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。质谱：380.5(M+H)。1HNMR(400MHz,CDCl3)δ8.66(d,J＝5.7Hz,1H),7.98(d,J＝7.4Hz,1H),7.89(s,1H),7.80–7.67(m,3H),7.50(s,1H),7.37(dq,J＝13.9,6.2Hz,4H),2.60(s,3H),1.78(t,2H),0.90(d,J＝10.0Hz,9H).
化合物CPD321-1的合成：
参照化合物CPD1-1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可。得到的化合物不经纯化直接使用于下一步。
化合物CPD321的合成：
参照化合物CPD1的合成过程及后处理纯化方法，只需要将对应的原物料变更即可，得到目标化合物CPD321(3.21g，51.1％)。将3.21克CPD321粗品升华纯化后得到升华纯CPD321(2.16，67.28％)。质谱：1161.5(M+H)。
选取对应的材料，用同样类似的方法可以用于合成、升华得到其他化合物。
本发明的化合物CPD 93/CPD 123/CPD 249在二氯甲烷溶液中的紫外吸收光谱以及发射光谱。见图7所示。本发明的化合物均表现出更饱和的红色发光以及较窄的半峰宽，利于实现较高的发光效率。
应用例：有机电致发光器件的制作
将50mm*50mm*1.0mm的具有ITO(100nm)透明电极的玻璃基板在乙醇中超声清洗10分钟，再150度烘干后经过N2 Plasma处理30分钟。将洗涤后的玻璃基板安装在真空蒸镀装置的基板支架上，首先再有透明电极线一侧的面上按照覆盖透明电极的方式蒸镀化合物HATCN，形成膜厚为5nm的薄膜，紧接着蒸镀一层HTM1形成膜厚为60nm的薄膜，再在HTM1薄膜上蒸镀一层HTM2形成膜厚为10nm的薄膜，然后，在HTM2膜层上再采用共蒸镀的模式蒸镀主体材料CBP和掺杂化合物(对比化合物X、CPD X)，膜厚为30nm，主体材料和掺杂材料比例为90％：10％。在发光层上再依次蒸镀AlQ3膜层(25nm)LiF膜层(1nm)，最后蒸镀一层金属Al(100nm)作为电极。
评价：将上述器件进行器件性能测试，在各实施例和比较例中，使用恒定电流电源(Keithley 2400),使用固定的电流密度流过发光元件，使用分光辐射亮度计(CS 2000)测试发光波谱。同时测定电压值以及测试亮度为初始亮度的90％的时间(LT90)。结果如下：
由上面表格中的数据对比可知，使用本发明的化合物作为掺杂剂的有机电致发光器件，相较于对比化合物在驱动电压、发光效率、器件寿命都表现出更加优越的性能。
升华温度对比：升华温度的定义为：在10-7Torr的真空度，蒸镀速率为1埃每秒对应的温度。测试结果如下：
| 掺杂材料 | 升华温度 |
| CPD 1 | 263 |
| CPD 75 | 262 |
| CPD 93 | 265 |
| CPD 99 | 258 |
| CPD 123 | 269 |
| CPD 249 | 268 |
| 对比化合物1 | 280 |
| 对比化合物2 | 288 |
| 对比化合物3 | 286 |
| 对比化合物4 | 276 |
由上面表格中的数据对比可知，本发明金属铱络合物具有较低的升华温度，有利于产业化应用。
本发明通过对取代基的特殊搭配，出乎意料地提供了更好的器件发光效率和改善的寿命，同时相对于现有技术，出乎意料地提供了较低的升华温度。上述结果表明本发明的化合物具有升华温度较低，光、电化学稳定性高，色饱和度高，发光效率高，器件寿命长等优点，可用于有机电致发光器件中。特别是作为红色发光掺杂体，具有应用于OLED产业的可能。
Claims (10)
1.一种金属铱络合物，结构式如式I所示：
其中
A为CR0或者N；
R1、R2、R3的个数为单取代到最大可能取代；
其中R1、R4独立的选自取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
R0、R2、R3独立的选自氢、氘、卤素、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、取代的或未取代的C1-C10杂烷基、取代的或未取代的C6-C30芳烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、取代的或未取代的C1-C8杂芳基；
或者R0、R1、R2、R3任意两个相邻基团可以相互连接形成环或并环结构；
其中当R3存在且在A的邻位时，不为F；Rx-Rz独立的选自氢、氘、取代的或未取代的C1-C10烷基、取代的或未取代的C3-C20环烷基、取代的或未取代的C2-C10烯基、或取代的或未取代的C1-C10杂烷基；
其中Z独立地选自O，S，C(R)2，NR，；其中R独立地选自取代的或未取代的C1-C10的烷基或烷氧基、取代的或未取代的C2-C30的环烷基、取代的或未取代的C6-C30芳基、或者取代的或未取代的C1-C18杂芳基；
其中所述取代为被氘、F、Cl、Br、C1-C5烷基C3-C6环烷基取代，
所述杂烷基或杂芳基中的杂原子为N、S、O中的一个或多个。
2.根据权利要求1所述的金属铱络合物，其中R1、R2、R3的个数为单取代，其中R1，R4为取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，R0、R2、R3独立的选自氢、氘、卤素、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基。
3.根据权利要求2所述的金属铱络合物，结构式如式II所示：
其中R1，R4为取代或未取代的C3-C6支链烷基、取代的C3-C6直链烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，R0、R2、R3独立的选自氢、氘、取代的或未取代的C1-C6烷基、取代的或未取代的C3-C6环烷基，所述取代为被氘、F、C1-C5烷基或C3-C6环烷基取代。
4.根据权利要求3所述的金属铱络合物，其中所述取代为被D、F、部分或完全D或F取代的C1-C5烷基或C3-C6环烷基取代。
5.根据权利要求4任一所述的金属铱络合物，其中A为CH或者A为N。
6.根据权利要求5所述的金属铱络合物，其中A为N，R3不为H。
7.根据权利要求1-5任一所述的金属铱络合物，其中式I中的右侧的
的结构，为以下结构之一或者他们对应的部分或完全氘代物或者他们对应的部分或完全氟代物，其中虚线表示连接金属的位置，
8.根据权利要求1所述的金属铱络合物，具有下列结构式之一或者他们对应的部分或完全氘代物或者他们对应的部分或完全氟代物，
9.一种电致发光器件，其包括：阴极，阳极以及设置在阴极与阳极之间的有机层，所述有机层中包含权利要求1-8任一所述的金属铱络合物。
10.如权利要求9所述的电致发光器件，其中所述有机层中包括有发光层，所述权利要求1-9任一所述的金属铱络合物作为发光层的红色发光掺杂材料；或者其中所述有机层中包括有空穴注入层，所述权利要求1-9任一所述的金属铱络合物作为空穴注入层中的空穴注入材料。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010579527.XA CN113831369A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种金属铱络合物及其应用 |
| KR1020237001484A KR20230026406A (ko) | 2020-06-23 | 2021-05-09 | 금속 이리듐 착물 및 이의 응용 |
| US17/928,908 US20230227485A1 (en) | 2020-06-23 | 2021-05-09 | Metal iridium complex and use thereof |
| PCT/CN2021/092527 WO2021258875A1 (zh) | 2020-06-23 | 2021-05-09 | 一种金属铱络合物及其应用 |
| TW110117388A TWI788846B (zh) | 2020-06-23 | 2021-05-13 | 一種金屬銥絡合物及其應用 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010579527.XA CN113831369A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种金属铱络合物及其应用 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113831369A true CN113831369A (zh) | 2021-12-24 |
Family
ID=78964002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202010579527.XA Pending CN113831369A (zh) | 2020-06-23 | 2020-06-23 | 一种金属铱络合物及其应用 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230227485A1 (zh) |
| KR (1) | KR20230026406A (zh) |
| CN (1) | CN113831369A (zh) |
| TW (1) | TWI788846B (zh) |
| WO (1) | WO2021258875A1 (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN115947764A (zh) * | 2023-02-14 | 2023-04-11 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种金属铱络合物及其应用 |
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| CN112830943A (zh) * | 2019-11-25 | 2021-05-25 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种化合物及其应用 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5897171B2 (ja) * | 2014-06-13 | 2016-03-30 | 田中貴金属工業株式会社 | 有機電界発光素子用の有機イリジウム錯体 |
| CN107973823A (zh) * | 2016-10-21 | 2018-05-01 | 上海和辉光电有限公司 | 一种喹啉基二苯并取代作为配体的有机电致发光材料及其用途 |
| CN111620910B (zh) * | 2020-06-03 | 2023-09-05 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种金属络合物及其应用 |
-
2020
- 2020-06-23 CN CN202010579527.XA patent/CN113831369A/zh active Pending
-
2021
- 2021-05-09 KR KR1020237001484A patent/KR20230026406A/ko unknown
- 2021-05-09 WO PCT/CN2021/092527 patent/WO2021258875A1/zh active Application Filing
- 2021-05-09 US US17/928,908 patent/US20230227485A1/en active Pending
- 2021-05-13 TW TW110117388A patent/TWI788846B/zh active
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| CN111377969A (zh) * | 2018-12-27 | 2020-07-07 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种有机金属化合物及其应用 |
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| CN115947764A (zh) * | 2023-02-14 | 2023-04-11 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种金属铱络合物及其应用 |
| CN115947764B (zh) * | 2023-02-14 | 2023-09-29 | 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 | 一种金属铱络合物及其应用 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202200601A (zh) | 2022-01-01 |
| US20230227485A1 (en) | 2023-07-20 |
| TWI788846B (zh) | 2023-01-01 |
| KR20230026406A (ko) | 2023-02-24 |
| WO2021258875A1 (zh) | 2021-12-30 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20211224 |