CN113774206A

CN113774206A - 热处理炉的加热器供电装置

Info

Publication number: CN113774206A
Application number: CN202010655358.3A
Authority: CN
Inventors: 金珉哲; 中西识
Original assignee: Korea Guangyang Thermoelectric System Co ltd
Current assignee: Korea Guangyang Thermoelectric System Co ltd
Priority date: 2020-06-09
Filing date: 2020-07-09
Publication date: 2021-12-10
Anticipated expiration: 2040-07-09
Also published as: JP2021197352A; JP7072021B2; TWI740577B; CN113774206B; KR102339176B1; TW202146827A

Abstract

本发明公开热处理炉的加热器供电装置。本发明包括：热处理炉，其具有为了加热干燥基板而容纳基板的腔室，所述腔室内安装有作为发热体的加热器，且利用所述加热器的热对基板进行加热或者干燥；导电部，其连接有多个汇流条，所述汇流条与所述加热器的发热线连接以导通电流；以及供电部，其具有突出于腔室的外盒体并用于向所述汇流条导通电流的多个引线(feedthrough)，从而沿着所述腔室的内外盒体引导外部电源输入端子的连接。

Description

热处理炉的加热器供电装置

技术领域

本发明涉及一种将外部电源连接并导通至热处理炉的加热器以进行供给的热处理炉的加热器供电装置。

背景技术

有机发光显示装置及LCD玻璃基板等正在图像屏幕、TV、手机、显示器等各种图像装置中使用。有机发光显示装置及LCD玻璃基板等作为下一代显示器之一正用于各种领域，近来，为了提高性能和收率，该领域平板显示器制造技术的开发正在不断地进行。

制造作为典型的平板显示器的有机发光显示装置或LCD玻璃基板(以下称“基板”或者“玻璃基板”)的过程中，温度控制和温度均匀性是确保优质的基板质量和收率必不可少的。

例如，在有机发光显示装置的制造工艺中，由于在基板表面形成有机物层，从而可能会包含一定量的水分，因此需要用于蒸发水分的干燥工艺。

LCD玻璃基板制造工艺中，在基板表面上涂布感光膜之前进行清洗过程，而在清洗过程之后执行用于去除水分的加热干燥工艺。

此外，将感光膜涂布到LCD玻璃基板上之后执行曝光及显影工艺。该曝光及显影工艺之前和之后依序执行预烘干(pre-baking)和后烘干(post-baking)工艺。

如此，基板制造的大部分工艺执行加热及干燥工艺，以此来制造基板。在基板制造工艺中产生的水分可通过紫外线或放入包括加热器(sheath heater)等发热体的热处理炉的腔室内经加热干燥后去除。

韩国授权专利公报第10-2094763号中已提出与此有关的基板的热处理炉。

另外，现有的热处理炉需要改善向加热器供电的供电部的性能。

即，现有的热处理炉的供电部，其内部腔室内侧形成有作为发热体的加热器，供电部被设置为穿过内部腔室和绝缘物及外部腔室后进行电源供给，但是其性能很难满足最小化对热处理工艺条件的影响的要求。例如，现实情况是在控制腔室内部的温度气氛及工艺气体的外流等方面存在不足。

此外，不仅需要最小化对热处理工艺产生的影响，而且电性方面不存在问题的条件下满足电安全标准方面同样也存在局限性。

另外，热处理炉的供电部提出了几个性能要求。例如，需要具有电绝缘性能，需要具有满足电安全认证程度的安全性，高温使用时不存在问题且仍能够保持一定的绝缘性能，能够阻断腔室内部的工艺气体的外流，能够缩短维护时间且操作性优异等要求。

【在先技术文献】

【专利文献】

专利文献1.韩国授权专利公报第10-2094763号(公告日期2020年03月31日)

发明内容

【技术问题】

本发明要解决的一技术问题是，通过在腔室的外盒体上单独设置热处理炉的加热器供电部，从而提供一种改善包括供电部的监控和维护在内的供电部管理操作性的热处理炉的加热器供电装置。

本发明要解决的一技术问题是，通过确保腔室高温下的供电部的耐久性，从而提供一种改善腔室内部的工艺气体通过供电部外流的问题的热处理炉的加热器供电装置。

【技术方案】

根据本发明，所述目的可通过热处理炉的加热器供电装置来实现，所述供电装置包括：热处理炉，其具有为了加热干燥基板而容纳基板的腔室，所述腔室内安装有作为发热体的加热器，从而利用所述加热器的热对基板进行加热或者干燥；导电部，其与多个汇流条连接，所述汇流条与所述加热器的发热线连接以导通电流；以及供电部，其具有突出于腔室的外盒体并用于向所述汇流条导通电流的多个引线(feedthrough)，从而沿着所述腔室的内外盒体引导外部电源输入端子的连接。

根据本发明的实施例，所述供电部可具有使所述引线突出的开口孔，并包括用于保护所述引线且在外部进行维护的箱体。

根据本发明的实施例，所述箱体的一端可具有可控制腔室内的加热器温度的温度控制传感器引导窗，所述箱体的内侧包括具有耐热性的外壳和用于阻断腔室内的热和流体向外部外流的温度传感器密封垫。

根据本发明的实施例，所述引线可被配置为在腔室的外盒体上安装硅环，并被引导至所述硅环以保持高温绝缘性能。

根据本发明的实施例，所述硅环可被配置为在腔室的外盒体上安装金属衬套，并被引导至所述金属衬套以保持高温密封。

根据本发明的实施例，为了预防高温腐蚀，所述引线可以由镍材料组成。

根据本发明的实施例，为了保持密封，所述硅环可以由多个密封圈或者平衡座组成。

【有益效果】

本发明通过在腔室的外盒体单独设置于热处理炉的加热器供电部，从而具有可改善包括监控及维护在内的供电部管理操作性的效果。

此外，通过作为高温下仍可使用的绝缘体的硅环和垫片，将引线引导至腔室的外盒体并固定，从而具有可确保腔室高温下的供电部的耐久性，且可有效地阻断腔室内部的工艺气体通过供电部外流的现象的效果。

附图说明

图1是根据本发明一实施例的热处理炉的示例。

图2是显示根据本发明一实施例的热处理炉的正面的示例。

图3是俯视根据本发明一实施例的热处理炉的示例。

图4是显示根据本发明一实施例的热处理炉的一侧面的示例。

图5是显示从图4中节选的A部的分解图的示例，是根据本发明一实施例的供电部的示例。

图6是显示根据本发明一实施例的将供电部组装到腔室侧的状态的示例。

图7是显示根据本发明一实施例的将供电部组装到腔室侧的状态的示例。

附图标记的说明

100：热处理炉 200：腔室

210：外盒体 220：内盒体

400：供电部 410：箱体

411：温度控制传感器引导窗 412：开口孔

420：外壳 421：温度传感器密封垫

430：引线(feedthrough) 440：硅环

450：金属衬套 452：硅密封圈

具体实施方式

下面，参照附图对根据本发明的优选实施例的热处理炉的加热器供电装置的内容进行具体说明。

通常，热处理基板的热处理炉的后侧可具有炉门，且前侧可具有遮挡器，从而将待热处理基板放入腔室内预置的各台或者从腔室搬出热处理工艺结束的基板。

此外，热处理炉具有用于容纳待加热或者干燥的基板的腔室，腔室内安装有由加热器组成的发热体，从而可利用从加热器产生的热对基板进行加热或者通过蒸发水分进行干燥。此外，根据配置会有所不同，但是一般情况下加热器的上下部设置有与其紧贴的上/下部热传递板，从而可有效地进行基板加热工艺。

此外，热处理炉的腔室的一侧具有用于供含有工艺气体的流体流入的供气口，以及用于将腔室内流体排出的排气口，并包括具有用于支撑并托起腔室的支托的框架及与多个汇流条连接的导电部。所述汇流条与加热器的发热线连接以导通电流。

另外，热处理炉为了去除基板的热处理工艺中基板上残留的水分，腔室内部包括加热器，而且为了提高产品的质量，需要具有更加有效且高性能的工艺能力。

此外，为了通过缩短热处理工艺时间来对更多产品进行量产，需要一种能够快速提高腔室内部的温度且能够快速冷却的同时结构上具有优异的耐久性的热处理炉。

现有的热处理炉需要改善向加热器供电的供电部的性能。即，内部腔室内侧形成有作为发热体的加热器，供电部设置为穿过内部腔室和绝缘物及外部腔室后进行供电，但是其性能很难满足最小化对热处理工艺条件的影响的要求。

例如，现有供电部的形式很难保持腔室内部的温度氛围并很难控制工艺气体的外流。

热处理炉的供电部提出了几个性能要求。例如，需要具有电绝缘性能，需要具有满足电安全认证程度的安全性，高温使用时不存在问题仍能够保持一定的绝缘性能，能够阻断腔室内部的工艺气体的外流，能够缩短维护时间且操作性优异等要求。

因此，本发明通过在腔室的外盒体单独设置热处理炉的加热器供电部，从而提出了一种能够改善包括供电部的监控及维护在内的供电部管理操作性的热处理炉的加热器供电装置。

此外，本发明通过作为高温下仍可使用的绝缘体的硅环和金属衬套，将引线引导至腔室的外盒体并固定，从而提出了一种可确保高腔室温度下的供电部耐久性，且可有效地阻断腔室内部的工艺气体通过供电部外流的现象的热处理炉的加热器供电装置。

参照附图对根据本发明的优选实施例的内容进行更加具体的说明。

图1是根据本发明一实施例的热处理炉的示例。图2是显示根据本发明一实施例的热处理炉的正面的示例。图3是俯视根据本发明一实施例的热处理炉的示例。图4是显示根据本发明一实施例的热处理炉的一侧面的示例。

图1至图4中图示的附图是显示热处理炉100的整体结构，是包括腔室200的热处理炉100的示例。

根据本发明的热处理炉100如图1至图4所示，热处理基板的热处理炉100的后侧可具有炉门部110，且前侧可具有遮挡器部120，从而将待热处理的基板放到腔室200内预置的各台或者从腔室200搬出热处理工艺结束的基板。

此外，热处理炉100具有用于容纳待加热或者干燥基板的腔室200，腔室200内安装有由加热器组成的发热体，从而可利用从加热器产生的热对基板进行加热或者通过蒸发水分进行干燥。

此外，根据配置会有所不同，但是一般情况下加热器230的上下部设置有与其紧贴的上/下部热传递板，从而可有效地进行基板加热工艺。

此外，热处理炉100在腔室200的一侧具有用于供含有工艺气体的流体流入的供气口，以及用于将腔室内流体排出的排气口，并包括具有用于支撑并托起腔室的支托的框架和与多个汇流条510连接的导电部500，所述汇流条510与加热器的发热线连接以导通电流。

作为参考，形成热处理炉的基本构件，例如，加热器、上/下部的热传递板、工艺气体的供气及排气系统，包括用于向加热器供电的汇流条的导电部的构件与本发明没有直接的关联。此外，热处理炉的基本构件与本发明的主旨无关，是已知的构件，因此本发明将省略其说明。

根据本发明的热处理炉的加热器供电装置的主要构件将参照图5至图7进行说明。

根据本发明实施例的热处理炉的加热器供电装置，具有为了加热干燥基板而容纳基板的腔室200，而且包括向热处理炉100的加热器230供电的供电部400，所述热处理炉100的腔室200内设置有作为发热体的加热器230，从而利用加热器230的热对基板进行加热或者干燥。

热处理炉100形成有导电部500，所述导电部500与多个汇流条510连接，所述汇流条510与加热器230的发热线连接以导通电流。

此外，向热处理炉100的加热器230供电的供电部400具有突出于腔室200的外盒体220且用于向汇流条510导通电流的多个引线430，从而沿着腔室200的内外盒体210、220引导外部电源输入端子的连接。

此外，如图5所示，供电部400具有使引线430突出的开口孔412，并具有用于保护引线430且进行维护的箱体410。其中，箱体410可附接在腔室200的外盒体220上。

此外，如图5所示，供电部400的箱体410的一端具有能够控制腔室200内的加热器温度的温度控制传感器引导窗411，箱体410的内侧包括具有耐热性的外壳420及能够阻断腔室200内的热和流体向外部外流的温度传感器密封垫421。

此外，如图6和图7所示，供电部400的引线430被引导至安装于腔室200外盒体220的硅环440以保持高温绝缘性能。

此外，供电部400的引线430如图6和图7所示，支撑固定于腔室200外盒体220的硅环440被引导至安装于腔室200外盒体220的金属衬套450以保持高温密封。

此外，如图7所示，供电部400的金属衬套450与硅环440和硅密封圈452紧贴，可保持高温密封。

此外，供电部400的引线430采用镍金属材料以预防高温腐蚀。

另外，在图1和图4中，未说明的附图标记300是“冷却外套”，所述“冷却外套”形成冷却气流且通过形成于腔室200内部的冷却气流通道使腔室均匀冷却。

此外，在图5中，未说明的附图标记413是为了沿着腔室200的外盒体220表面安装箱体410而沿着箱体410的棱角形成的“凸缘部”。452可以是沿着腔室200的外盒体220表面安装箱体410时用于密封的“垫圈”。

此外，在图6和图7中，未说明的附图标记451是为了引导硅环440的一端使其紧贴地组装而形成于金属衬套450的“组装孔”。460是为了引导硅环440的安置而可组装在腔室的外盒体220的“引导支架”。

如上所述，根据本发明的热处理炉的加热器供电装置向腔室200内部的加热器230供电，以使基板的热处理工艺中所需的热符合基板的热处理条件，从而可进行基板的热处理工艺。

如果通过供电部400向腔室200内部形成的导电部500供电，则加热器230起到平板发热体的作用同时向基板传递热，从而可在腔室200内进行热处理工艺。

基于供电部400的供电可按照控制区进行区分后供给，根据需要可自由地调整供给的电源。

供电可通过多个配线分别控制，用于供电的各引线430被配置为能够满足电容量和绝缘性能、密封性能的结构，并且能够在高温中使用。

引线430通过硅环440支撑于腔室200的外盒体上，硅环440引导至安装于腔室200的外盒体220的金属衬套450，从而可执行保持高温密封地功能。

另外，根据本发明的热处理炉的供电装置可满足热处理炉中要求的几个性能。

例如，可具有电绝缘性能。能够确保高温密封，因此具有满足电安全认证程度的安全性。

此外，高温使用中也不存在问题，可保持一定的绝缘性能。

此外，通过密封件可有效地阻断腔室内部的工艺气体的外流，而且供电部400的外部设置有箱体410，因此可缩短维护时间且确保良好的操作性。

如上所述，根据本发明的热处理炉的加热器供电装置，通过将热处理炉的加热器供电部单独设于腔室的外盒体上，从而具有改善包括供电部的监控和维护在内的供电部管理操作性的优点。

此外，能够确保腔室高温下的供电部耐久性，且具有能够有效地改善腔室内部的工艺气体通过供电部外流的问题的优点。

本发明虽然参考附图中图示的一实施例进行说明，但本发明并不限于这些实施例，在不脱离本发明主旨的范围内可进行修改和变形，这些修改和变形属于本发明的技术思想。

Claims

1.一种热处理炉的加热器供电装置，包括：

热处理炉，其具有为了加热干燥基板而容纳基板的腔室，所述腔室内安装有作为发热体的加热器，从而利用所述加热器的热对基板进行加热或者干燥；

导电部，其与多个汇流条连接，所述汇流条与所述加热器的发热线连接以导通电流；以及

供电部，其具有突出于腔室的外盒体并用于向所述汇流条导通电流的多个引线，从而沿着所述腔室的内外盒体引导外部电源输入端子的连接。

2.如权利要求1所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，所述供电部具有使所述引线突出的开口孔，并包括用于保护所述引线且在外部进行维护的箱体。

3.如权利要求2所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，所述箱体的一端具有可控制腔室内的加热器温度的温度控制传感器引导窗，所述箱体的内侧包括具有耐热性的外壳和用于阻断腔室内的热和流体向外部外流的温度传感器密封垫。

4.如权利要求1所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，在腔室的外部盒体上安装硅环，所述引线被引导至硅环以保持高温绝缘性能。

5.如权利要求4所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，在腔室的外盒体上安装金属衬套，所述硅环被引导至所述金属衬套以保持高温密封。

6.如权利要求1所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，所述引线由镍材料组成以预防高温腐蚀。

7.如权利要求5所述的热处理炉的加热器供电装置，其中，所述硅环由多个密封圈或者平衡座组成以保持密封。