CN113761828A - 掩膜数据、掩膜数据的处理方法及系统 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种掩膜数据、掩膜数据处理方法及系统,方法包括:将版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号;将各区块的编号及对应的映射边界图形信息形成一组数据存储;解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。本发明系统重新启动任务后,可以根据已有的计算结果,继续执行剩余的运算,计算处理时间得到了大大降低。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造和计算机辅助设计技术领域,尤其涉及一种支持暂停与恢复的掩膜数据处理方法及系统,还涉及一种经过集成电路版图数据的几何图形修正,数据检验等生成的半导体制造需要的掩膜数据。
背景技术
随着集成电路的发展,其特征尺寸不断缩小,电路规模不断增大。集成电路版图单层图形数量可达数百亿量级。集成电路设计版图到掩膜的转换过程中,需要做一系列的图形处理,包括设计与制造规则检查,辅助图形插入,光学邻近修正,掩膜数据拆分等。这些对几何图形的处理过程计算量大,处理时间长。特别是光学邻近修正领域的处理,光刻仿真模型复杂,一层版图数据所需要的计算资源与时间成本巨大。虽然版图数据的分解与并行计算可以降低掩膜数据处理的时间。但即使利用集群并行计算也需要上千CPU花费数天的时间,才能利用光刻模型计算出最佳的掩膜图像数据。
长时间运行的分布式程序,由硬件失效或软件环境更改造成的系统终端处理失效概率变大。在集群环境中,各个节点出现故障的概率较高.任何计算节点的任何组件都有可能出现失效,包括处理器,硬盘,存储器网络接口等硬件.一个节点上的硬件或者软件故障都有可能会影响到整个系统的调度以及造成数据的丢失。此外,在执行计算量比较大的任务时,经常需要暂停一些优先级比较低的任务,给新的紧急的并行计算任务让出更多的计算资源。这种分布式计算经过异常或人为的暂停之后,恢复计算的成本很大,出错的概率高。
发明内容
基于现有技术的不足,本发明提供了一种掩膜数据处理方法,还提供了一种掩膜数据处理系统,本发明和系统都可以对集成电路版图进行数据处理,并支持程序运算的中断与恢复的操作,避免因任务异常中断而造成的计算结果丢失,系统重启运算时,用以恢复之前的运行进度,降低断点恢复执行的处理时间。
为了半导体制造生产需要,本发明还提供了一种掩膜数据。
第一方面,一种掩膜数据处理方法,其特征在于,所述方法包括:
将版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储;
解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序,同时,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;
当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。
进一步地,对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前,还需要对数据处理结果进行校验。
进一步地,所述方法还包括:
当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理,则获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
进一步地,每个区块的编号信息及该区块的映射边界图形信息构成一组数据由同一存储器或不同存储器存储。
优选地,所述存储器采用非易失性存储器。
进一步地,映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像。
进一步地,所述版图中的图层数据包括一层或多层描述集成电路器件或连接关系的几何图形的集合。
进一步地,将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括:
根据扁平化版图的平面坐标信息划分多个区块,每个区块包括一个编号。
进一步地,将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括:
根据层次化版图,提取重复单元,重复单元划分为一个或多个区块,不同位置的重复单元,区块划分方式和区块编号相同。
进一步地,版图中区块的映射边界图形之间无缝隙,相互不重叠,整体拼接后覆盖整个版图。
进一步地,所述数据处理程序包括版图图形规则检查、版图图形插入以及图形的几何变换。
优选地,将每个区块编号的数据处理结果进行存储的存储格式包括但不限于GDS及OASIS格式。
优选地,对数据处理结果进行校验时采用的文件校验方法包括但不限于MD5、SHA1、CRC。
进一步地,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据的方法包括:
根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据。
更近一步地,根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据时还需要将搜索范围大于原始映射边界图形区域,即实际搜索区域为扩大的映射边界图形的平面区域。
进一步地,被分区块的版图数据在处理时以串行或多个处理器并行的方式执行预定的数据处理程序。
进一步地,所述映射边界图形为多边形。
一种掩膜数据处理系统,其特征在于:
包括处理器单元及存储器单元;
所述存储器单元,用于存储版图图层数据,其中版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
所述存储器单元,还用于将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储;
所述存储器单元,还用于在处理器单元处理版图数据的过程中,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;
所述处理器单元,用于解析提取存储器单元存储的不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序;
所述处理器单元,还用于当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。
进一步地,所述处理器单元,还用于当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理时,获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
进一步地,所述处理器单元,还用于在对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前,对数据处理结果进行校验。
进一步地,所述存储器单元采用一个或多个存储器,当采用多个存储器时,每个区块的编号信息及该区块的映射边界图形信息构成一组数据由不同存储器存储。
优选地,所述处理器单元采用一个或多个处理器,当采用多个处理器时,每个区块的图层数据或任意几个区块的图层数据由一个处理器处理。
进一步地,所述映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像。
一种掩膜数据,其特征在于:所述掩膜数据通过采用上述数据处理方法对版图数据进行处理得到。
有益效果:
本发明的掩膜数据处理方法及系统,在版图数据处理过程中发生异常中断或人为暂停时,可以保存计算进度,重新启动任务后,可以根据已有的计算结果,继续执行剩余的运算,保证了任务中断重启后计算处理时间得到了大大降低;
本发明的掩膜数据,一来可以用在上述掩膜数据处理方法及系统中,还可以在集成电路版图数据的几何图形修正,数据检验等方面满足半导体制造需要。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本发明实施例的方法流程图;
图2为本发明实施例的版图扁平化分解为若干区块的结构示意图;
图3为本发明实施例的映射边界的第一多边形为矩形的结构示意图;
图4为本发明实施例的映射边界的第一多边形为任意多边形的结构示意图;
图5为本发明实施例的一个版图平面区域结构示意图;
图6为本发明实施例的通过空间索引算法查询的版图几何图形数据结构的结构示意图;
图7为本发明图6版图采用空间索引算法时的向外扩展结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实施例进行详细描述。
以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本实施例所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本实施例中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不冲突的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明的是,本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中,且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本实施例,所属领域的技术人员应了解,本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施,且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说,可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外,可使用除了本实施例中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
还需要说明的,集成电路制造中,通过光刻和刻蚀工艺将掩膜版上的图形转移到硅片上。集成电路设计版图到制造需要的掩膜图形,需要进行一系列的几何图形处理与检查。集成电路版图是依照一定工艺层绘制的,工艺层(图层)通常是设计者为了方便版图绘制和验证而定义的抽象工艺层,与芯片制造时用的掩膜图层虽然不是一一对应,但是它是电路转换成芯片时所需光刻掩膜图形产生的依据。掩膜图层一般有很多层,由于掩膜数据处理是逐层处理的,因此这里的表述只是单层处理过程。集成电路版图数据每层的图层的数据是一系列的几何图形的集合,用于制造半导体器件或者电气连接线。版图的每一层几何图形的数量可达数十亿甚至更大量级,且半导体制造的仿真模型复杂,以基于模型的光学邻近修正为例,需要对每个图形做几何变换,利用复杂的光学模型以及光刻胶化学显影模型计算每个图形的曝光显影结果与期望值是否相同,不断迭代拟合最佳的掩膜图层数据。而且受到图形之间光学散射半径的影响,相近图形对周边图形的光刻成像造成影响,并行处理复杂。因此光学邻近修正是计算量巨大,非常耗时的操作。复杂的版图往往需要上千处理器运行数天完成版图的修正。若中途因为软硬件异常中断,则需要重新修正。
为了解决异常中断时,还需要重新进行复杂的版图计算的问题,本实施例一方面提供了一种掩膜数据处理方法,可以支持程序运行中间过程的暂停与断点恢复。
如图1所示,所述方法包括:
将版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储;
解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序,同时,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;
当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序;
当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理,则获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
下面对上述方法进行具体分析,首先,需要将版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储。
在具体实施时,版图中区块的划分可以按照扁平化处理,扁平化处理是指所有图形都在一个坐标系中处理。如图2所示,根据版图边界103划分为若干区块,每个区块设置唯一的编号,每个区块范围由一个映射边界表示,第一区块101的范围由一个几何多边形表示,将区块的编号和该区块映射边界图形信息构成一组数据写入存储器内,本实施例采用的存储器为非易失性存储器。在扁平化处理过程中,区块的映射边界由平面坐标系的坐标点按顺序围成的第一多边形以及平面变换信息组成,平面变换信息包含偏移,旋转,镜像等。第一多边形经过平面变换生成的第二多边形的范围代表区块范围,上述的第一区块101的映射边界是第二多边形102,由于扁平化区块划分的映射边界没有平面变换,映射边界的第一多边形和第二多边形都是第二多边形102。
上述将区块编号和区块的映射边界图形信息构成一组数据写入存储器内中的映射边界图形信息是指在该扁平化平面映射后的映射边界的图形,即上述的第二多边形102,另外,这里,在存储映射边界图形信息时可以按照区块划分的断点信息存储,区块划分的断点存储信息可以为区块编号以及第一多边形的顺时针或逆时针顶点以及平面转换信息。如图3和图4中,区块映射边界的第一多边形可以为矩形也可以为任意多边形。
本实施例版图区块划分还可以将版图数据层次化处理,版图层次化处理是提取版图重复单元,重复单元是一组几何图形以固定的模式排列,并在版图中不同位置重复出现。
另外,版图数据层次化处理是提取重复单元,重复单元划分为一个或多个区块,不同位置的重复单元编号相同,但映射边界的平面变换信息不同。编号相同的区块可以只执行一次数据处理程序,即重复单元可以只处理一次,减少计算量。如图5,第二区块401和第三区块402是重复单元,两区块内的几何图形及排布完全一致。第二区块401和第三区块402的存储编号相同,第二区块401的映射边界在平面内表示为第一多边形405,平面变换信息为无偏移,无旋转,无镜像。第三区块402的映射边界在平面表示也是几何多边形,即第一几何多边形405,其平面变换信息为有偏移,无旋转,无镜像,偏移矢量在图中用矢量线404示意。第一几何多边形405经过平面变换后生成的映射边界的第二多边形即为第二几何多边形406,第二几何多边形406的覆盖区域为第三区块402的空间范围。编号相同的区块内的版图图形及排布完全一致,只是空间位置发生偏移或旋转等变换。
在具体实施时,版图中区块的映射边界图形之间无缝隙,相互不重叠,整体拼接后覆盖整个版图。
数据处理过程中,需要解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序,同时,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储。
通过上述的准备和处理工作,当在数据处理过程中断重启时,只需获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则只需获取对应的映射边界图形信息,如上述图形信息相同的第二多边形的图形信息或第一多边形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序,因此,只执行一次数据处理程序,获取对应的处理结果。在图形处理算法中,第三区块402的数据处理结果可以直接利用第一区块401结果通过平面变换得到。
图5中的第四区块403为非重复单元示例,编号唯一。重复单元根据面积和计算需求可能剖分成多个区块。
还需要说明的是,区块的编号与映射边界信息在程序运行时写入非易失性存储器,将每个区块的版图数据解析提取并执行预先设定的数据处理程序,可以分配到多个节点并行执行,记录每个区块编号的执行状态,每个区块计算结束后,区块对应编号的执行状态,数据处理结果及校验信息等写入非易失性存储器。
另外,数据处理程序不限于版图图形规则检查,版图图形插入以及图形的几何变换等操作。以版图光学邻近修正的数据处理程序为例介绍图形可能的几何变换操作,其是利用光学模型,以及光刻胶化学显影模型,模拟版图每个图形的实际曝光结果,测量仿真结果与预期图形的误差,通过迭代进行版图几何图形修正,使最后生成的掩膜图形通过光刻在硅芯片上生成的实际图形与预期一致。版图图形的规则检查,包括图形之间的间距和位置关系等检查,以及图形线宽角度以及形状等检查。版图图形的插入包括用于光刻的辅助分辨率图形插入等。
还需要说明的是,上述根据多边形区域提取版图数据的范围是由执行的数据处理程序决定,如图6,第一多边形区域501,版图数据解析后根据空间索引算法,提取与第一多边形区域501交叠的版图几何图形,版图区域502就是其中一个几何图形。对于类似光学临近修正等数据处理算法,受到光学散射半径的影响,提取的版图数据范围比多边形覆盖区域更大。如图7,多边形区域602为第一版图区域601往外延伸一定距离的形成多边形,延伸的大小取决于光学散射影响半径。根据多边形区域602提取的版图数据,相比图6,多出图形603。
还需要说明的是,在程序执行时,区块的分解的版图数据以串行或多个处理器并行的方式执行预定的数据处理,计算结果以版图存储格式如GDS,OASIS等或者文本格式保存在非易失性存储器。为了保证断点恢复执行时数据的可靠性,计算结果的校验信息也存储在非易失性存储器,计算结果的校验不限于各种文件校验方式,如MD5,SHA1,CRC等。
综上所述,本实施例可以解决在数据处理运行过程中,断点数据的保存,断点的恢复,恢复数据的有效性等问题,可以保存计算进度,重新启动任务后,可以根据已有的计算结果,继续执行剩余的运算,保证了任务中断重启后计算处理时间得到了大大降低。
另一方面,本实施例还提供了一种掩膜数据处理系统:
包括处理器单元及存储器单元;
所述存储器单元,用于存储版图图层数据,其中版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
所述存储器单元,还用于将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储;
所述存储器单元,还用于在处理器单元处理版图数据的过程中,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储,其中版图数据处理包括版图图形规则检查、版图图形插入以及图形的几何变换等操作。将每个区块编号的数据处理结果进行存储的存储格式包括GDS及OASIS格式等。
所述处理器单元,用于解析提取存储器单元存储的不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序;
所述处理器单元,还用于当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。
本实施例的所述处理器单元,还用于当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理时,获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
其中处理器单元将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括:
根据扁平化版图的平面坐标信息划分多个区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的区块编号不相同;还可以根据层次化版图,提取重复单元,重复单元划分为一个或多个区块,不同位置的重复单元,区块划分方式和区块编号相同。
需要说明的是,版图中区块的映射边界图形之间无缝隙,相互不重叠,整体拼接后覆盖整个版图。
本实施例的所述处理器单元,还用于在对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前,对数据处理结果进行校验,对数据处理结果进行校验时采用的文件校验方法包括但不限于MD5、SHA1、CRC等。
本实施例的所述存储器单元采用一个或多个存储器,当采用多个存储器时,每个区块的编号信息及该区块的映射边界图形信息构成一组数据由不同存储器存储。
本实施例的所述处理器单元采用一个或多个处理器,当采用多个处理器时,每个区块的图层数据或任意几个区块的图层数据由一个处理器处理,所述版图中的图层数据包括一层或多层描述集成电路器件或连接关系的几何图形的集合。
还需要说明的是,所述映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像等。
本实施例的所述存储器采用非易失性存储器。
还需要说明的是,本实施例的处理器单元在处理程序时确定的映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像等。
处理器单元根据映射边界图形信息提取区块的版图数据的方法包括:
根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据。
另外,需要补充说明的是,根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据时还需要将搜索范围大于原始映射边界图形区域,即实际搜索区域为扩大的映射边界图形的平面区域。
还需要说明的是,被分区块的版图数据在被处理器单元处理时以串行或多个处理器并行的方式执行预定的数据处理程序。
本实施例的掩膜数据处理系统,可以配合但不限于实施上述方法,具体实施原理、优点及获得的效果,在此不再赘述。
第三方面,本实施例还提供了一种掩膜数据,所述掩膜数据通过采用上述数据处理方法对版图数据进行处理得到。
本实施例的掩膜数据,一来可以用在上述掩膜数据处理方法及系统中,还可以在集成电路版图数据的几何图形修正,数据检验等方面满足半导体制造需要。
以上所述,仅为本公开的具体实施方式,但本公开的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此,本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (20)
1.一种掩膜数据处理方法,其特征在于,所述方法包括:
将版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
将各区块的编号及对应的映射边界图形信息形成一组数据存储;
解析提取不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序,同时,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;
当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。
2.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前,还需要对数据处理结果进行校验。
3.如权利要求2所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,所述方法还包括:
当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理,则获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
4.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,每个区块的编号信息及该区块的映射边界图形信息构成一组数据由同一存储器或不同存储器存储,所述存储器采用非易失性存储器。
5.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像。
6.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括:
根据扁平化版图的平面坐标信息划分多个区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的区块编号不相同。
7.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,将版图中的图层数据划分为若干区块的方法包括:
根据层次化版图,提取重复单元,其中,重复单元被划分为一个或多个区块,不同位置的重复单元,区块编号相同。
8.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,版图中区块的映射边界图形之间无缝隙,相互不重叠,整体拼接后覆盖整个版图。
9.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,所述数据处理程序包括版图图形规则检查、版图图形插入以及图形的几何变换。
10.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,将每个区块编号的数据处理结果进行存储的存储格式包括GDS及OASIS格式;对数据处理结果进行校验时采用的文件校验方法包括MD5、SHA1、CRC。
11.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据的方法包括:
根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据。
12.如权利要求11所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,
根据空间索引算法,提取二维空间搜索区域有交叠的版图的数据时还需要将搜索范围大于原始映射边界图形区域,即实际搜索区域为扩大的映射边界图形的平面区域。
13.如权利要求1所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,被分区块的版图数据在处理时以串行或多个处理器并行的方式执行预定的数据处理程序。
14.如权利要求1-13任一项所述的掩膜数据处理方法,其特征在于,所述映射边界图形为多边形。
15.一种掩膜数据处理系统,其特征在于:
包括处理器单元及存储器单元;
所述存储器单元,用于存储版图图层数据,其中版图中的图层数据划分为若干区块,每个区块包括一个编号,其中,不同位置的重复单元的区块在某一平面内的映射边界图形相同,但映射变换信息不同;
所述存储器单元,还用于将各区块的编号及对应的映射边界图形信息构成一组数据存储;
所述存储器单元,还用于在处理器单元处理版图数据的过程中,对每个区块编号的执行状态及数据处理结果进行存储;
所述处理器单元,用于解析提取存储器单元存储的不同编号对应区块内的版图数据并执行预先设定的数据处理程序;
所述处理器单元,还用于当在数据处理过程中断重启时,获取每个区块编号的执行状态,当某一区块编号的执行状态为未完成数据处理,则获取对应的映射边界图形信息,根据映射边界图形信息提取区块的版图数据,继续执行预先设定的数据处理程序。
16.如权利要求15所述的掩膜数据处理系统,其特征在于:
所述处理器单元,还用于当某一区块编号的执行状态为已完成数据处理时,获取该编号对应的区块的处理结果,根据该映射边界图形信息及对应的映射变换信息,转换并合并结果。
17.如权利要求15或16所述的掩膜数据处理系统,其特征在于:
所述处理器单元,还用于在对每个区块编号的数据处理结果进行存储之前,对数据处理结果进行校验。
18.如权利要求15或16所述的掩膜数据处理系统,其特征在于:
所述处理器单元采用一个或多个处理器,当采用多个处理器时,每个区块的图层数据或任意几个区块的图层数据由一个处理器处理。
19.如权利要求15或16所述的掩膜数据处理系统,其特征在于:
所述映射边界图形信息包括由平面坐标系的坐标点顺时针或逆时针围成的第一多边形以及平面映射变换信息,其中,平面映射变换信息包括偏移、旋转及镜像。
20.一种掩膜数据,其特征在于:所述掩膜数据通过采用权利要求1-17任一项所述的处理方法对版图数据进行处理得到。
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