CN113620921A - 一种光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用 - Google Patents
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Abstract
Description
技术领域
本发明涉及光刻胶树脂单体领域,尤其涉及光敏型树脂单体及其合成方法和应用。
背景技术
光刻技术是指利用光刻材料(特指光刻胶)在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。
光刻材料(特指光刻胶),又称光致抗蚀剂,是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料,主要成分是树脂、光酸产生剂、以及相应的添加剂和溶剂,这类材料具有光(包括可见光、紫外线、电子束等)化学敏感性,经光化学反应,本身在显影液中的溶解性发生变化。根据光化学反应机理不同,光刻胶分为正性光刻胶与负性光刻胶:曝光后,光刻胶在显影液中溶解性增加,得到与掩膜版相同图形的称为正性光刻胶;曝光后,光刻胶在显影液中溶解性降低甚至不溶,得到与掩膜版相反图形的称为负性光刻胶。
正性光刻胶的光刻显影剂为碱性,常用的为四甲基氢氧化铵 (TMAH),光刻胶曝光前后需要在显影剂中存在溶解速度差,这个差值的大小很大程度上影响光刻图形的分辨率和边缘粗糙度,这种溶解差取决于光敏树脂单体曝光前后的性质差异,一些含内酯结构的聚合单元也具有改良溶解差的作用。常见的光敏单体包括:环状叔丁基醇酯结构、半缩醛(酮)结构,叔丁醇酯结构。
发明内容
本发明提出了一种光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
其中R1为甲基或者氢,R2和R3独立的为氢或者烷基,或者R2和 R3之间通过共价键形成碳原子数3-15的环状结构,R4为酸敏基团。
优选的,所述R4选自以下结构之一:
优选的,所述光刻胶酸敏树脂单体的具体结构选自以下结构之一:
一种光刻胶酸敏树脂单体的合成方法,其合成路线如下:
其中,R1为甲基或者氢,R2和R3独立的为氢或者烷基,或者R2和R3之间通过共价键形成碳原子数3-15的环状结构,R4为酸敏基团;具体步骤为:
S1.初始原料葡萄糖酸Ⅰ置于第一溶剂中,碱性条件下与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯发生酯化反应生成中间体Ⅱ;
S3.中间体Ⅲ与R4-OH置于第三溶剂中,在催化剂作用下发生酯化反应生成光刻胶酸敏树脂单体Ⅳ。
优选的,步骤S1中,还包括如下技术特征中的至少一项:
a1)所述第一溶剂选自二氯甲烷、氯仿、N,N-二甲基甲酰胺或四氢呋喃;
a2)所述碱为有机碱,选自三乙胺、吡啶或二异丙基胺。
优选的,步骤S2中,还包括如下技术特征中的至少一项:
b1)所述第二溶剂选自甲苯、N,N-二甲基甲酰胺和氯仿;
b2)所述酸为硫酸或对甲苯磺酸。
优选的,步骤S3中,所述第三溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、N, N-二甲基甲酰胺、氯仿和甲苯中的至少一种。
优选的,步骤S3中,所述催化剂选自对甲苯磺酸、硫酸、磷酸、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺和二环己基碳二亚胺中的至少一种。
上述光刻胶酸敏树脂单体用于制备光刻胶。
与现有技术相比,本发明实现的有益效果:本发明提供了一种光刻胶酸敏树脂单体,其含多个官能团保护的羟基,曝光前后在碱性显影液中的溶解速度差大,酯基连接酸敏基团在曝光后进一步生成羧酸,进一步增大了在显影剂中的溶解性,有利于提高分辨率,减小线宽粗糙度,并且半缩醛的活化能低,曝光时间短,敏感度更高,半缩醛、酯基都一定程度上增加了与硅片的粘附力,脂肪环结构有利于增加抗耐刻蚀性能,合成原料为葡萄糖酸,价格便宜,绿色无污染,来源广泛。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
实施例1
将葡萄糖酸Ⅰ-1(60g,306mmol)加入到二氯甲烷(500mL)中,加入三乙胺(93g,91.9mmol),冷却到0℃,滴加丙烯酰氯(27.7g, 306mmol),升到室温搅拌4小时,加水(200mL)淬灭反应,水相用二氯甲烷(200mL*3)萃取三次,合并有机相用饱和食盐水(200mL)洗涤,无水硫酸钠干燥,真空下旋干得到粗品,粗品用蒸馏的方式进行纯化后得到中间体Ⅱ-1(55.8g,223mmol,收率:72.9%)。
将中间体Ⅱ-1(55.8g,223mmol)加入到甲苯(400mL)中,再加入丙酮(65g,1119mmol)和对甲苯磺酸(2.5g,15mmol),加热回流16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(25mL)淬灭反应,加水(200mL),分液,水相用乙酸乙酯(150mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(50mL),饱和食盐水(50mL) 洗涤,有机相真空旋干,得到中间体Ⅲ-1(61.5g,186mmol,收率: 83.5%)。
将中间体Ⅲ-1(20g,61mmol)加入到甲苯(400mL)中,再加入叔丁醇(4.5g,61mmol)和对甲苯磺酸(0.2g,1mmol),加热回流 16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(15mL)淬灭反应,加水(200mL),分液,水相用乙酸乙酯(150mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(50mL),饱和食盐水(50mL)洗涤,有机相真空旋干,得到粗品,粗品通过蒸馏的方式纯化得到光刻胶酸敏树脂单体Ⅳ-1(20.3g,53mmol,收率:86.8%)。
实施例2
将中间体Ⅲ-1(20g,61mmol)加入到甲苯(400mL)中,再加入 1-甲基环戊醇(6.1g,61mmol)和对甲苯磺酸(0.2g,1mmol),加热回流16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(15mL)淬灭反应,加水(200mL),分液,水相用乙酸乙酯(150mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(50mL),饱和食盐水(50mL) 洗涤,有机相真空旋干,得到粗品,粗品通过蒸馏的方式纯化得到光刻胶酸敏树脂单体Ⅳ-2(20.2g,49mmol,收率:80.9%)。
实施例3
将中间体Ⅲ-1(20g,61mmol)加入到甲苯(400mL)中,再加入 1-甲基金刚烷醇(10.1g,61mmol)和对甲苯磺酸(0.2g,1mmol),加热回流16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(15mL)淬灭反应,加水(200mL),分液,水相用乙酸乙酯(150mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(50mL),饱和食盐水(50mL) 洗涤,有机相真空旋干,得到粗品,粗品通过蒸馏的方式纯化得到光刻胶酸敏树脂单体Ⅳ-3(22.5g,47mmol,收率:77.7%)。
实施例4
将中间体Ⅱ-1(60g,240mmol)加入到甲苯(500mL)中,再加入环戊酮(40.4g,480mmol)和对甲苯磺酸(0.6g,4mmol),加热回流16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(25mL)淬灭反应,加水(200mL),分液,水相用乙酸乙酯(150mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(50mL),饱和食盐水(50mL) 洗涤,有机相真空旋干,得到中间体Ⅲ-2(70.2g,184mmol,收率: 76.5%)。
将中间体Ⅲ-2(70.2g,184mmol)加入到甲苯(600mL)中,再加入1-甲基环戊醇(18.4g,184mmol)和对甲苯磺酸(3.5g,41mmol),加热回流16小时,冷却到室温,加入饱和碳酸氢钠溶液(50mL)淬灭反应,加水(300mL),分液,水相用乙酸乙酯(200mL*3)萃取三次,合并后的有机相依次用饱和碳酸氢钠(100mL),饱和食盐水(200mL)洗涤,有机相真空旋干,得到粗品,粗品通过蒸馏的方式纯化得到光刻胶酸敏树脂单体Ⅳ-4(58.8g,127mmol,收率:68.9%)。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
5.根据权利要求4所述的一种光刻胶酸敏树脂单体的合成方法,其特征在于,步骤S1中,还包括如下技术特征中的至少一项:
a1)所述第一溶剂选自二氯甲烷、氯仿、N,N-二甲基甲酰胺和四氢呋喃中的至少一种;
a2)所述碱为有机碱,选自三乙胺、吡啶或二异丙基胺。
6.根据权利要求4所述的一种光刻胶酸敏树脂单体的合成方法,其特征在于,步骤S2中,还包括如下技术特征中的至少一项:
b1)所述第二溶剂选自甲苯、N,N-二甲基甲酰胺或氯仿;
b2)所述酸选自硫酸或对甲苯磺酸。
8.根据权利要求4所述的一种光刻胶酸敏树脂单体的合成方法,其特征在于,步骤S3中,所述第三溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、N,N-二甲基甲酰胺、氯仿和甲苯中的至少一种。
9.根据权利要求4所述的一种光刻胶酸敏树脂单体的合成方法,其特征在于,所述步骤S3中,催化剂选自对甲苯磺酸、硫酸、磷酸、1-(3-二甲基氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺和二环己基碳二亚胺中的至少一种。
10.根据权利要求1至3任一项所述的一种光刻胶酸敏树脂单体用于制备光刻胶。
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