CN113045537A - 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 - Google Patents
一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113045537A CN113045537A CN202011541788.9A CN202011541788A CN113045537A CN 113045537 A CN113045537 A CN 113045537A CN 202011541788 A CN202011541788 A CN 202011541788A CN 113045537 A CN113045537 A CN 113045537A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- photoacid generator
- equivalent
- chloroform
- stirring
- curcumenol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/08—Bridged systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
- C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D333/46—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings substituted on the ring sulfur atom
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
Abstract
Description
技术领域
本发明涉及光刻胶领域,特别涉及一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法。
背景技术
光刻技术是指利用光刻胶在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。
光刻胶又称光致抗蚀剂,是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料,主要成分是树脂、光产酸剂、以及相应的添加剂和溶剂,这类材料具有光化学敏感性,经光化学反应,本身在显影液中的溶解性发生变化。
为了满足高分辨率光刻所需的光刻胶材料,具有可控制的酸扩散性和溶解性的特制光产酸剂(PAG)是非常重要的。已经发现PAG阴离子的结构通过影响光产酸剂与其它光刻胶组分之间的相互作用,在光刻胶总体性能中扮演了重要角色。这些相互作用影响到光产酸剂的扩散特性,同时PAG结构和尺寸可影响PAG在光刻胶膜中的均匀分布。PAG的亲水性与亲油平衡与其自身的结构有关,光产酸剂有一定的亲水性,即其就具有一定的粘附性,能够较好的附着在硅片上,不易脱落,有利于刻蚀,具有一定的亲油性,能够均匀的溶解在溶剂中有利于成像;在光刻胶膜中的PAG没有粘附性则不利于光刻工艺的进行;PAG没有溶解均匀,则成像的光刻胶可以显示出例如底部组织和缺口/凹陷的缺陷,不利于显影和刻蚀。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷,提供一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法。
为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:
本发明一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂,所述光产酸剂的结构式为:
作为本发明的一种优选技术方案,所述光产酸剂包括光产酸剂A和光产酸剂B:
作为本发明的一种优选技术方案,所述光产酸剂的结构包括:
光产酸剂A的合成方法,所述合成方法为:
M为碱金属;
第一步:1当量的莪术醇与1当量的中间体Ⅰ-1加入甲苯中,加入0.1~0.5当量的酸催化剂,加热回流14~18小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤后收集烘干滤饼得到中间体Ⅱ-1;
第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至-25~-35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的Ⅱ-1的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到光产酸剂A。
作为本发明的一种优选技术方案,所述M包括:钾、钠或者锂。
作为本发明的一种优选技术方案,所述酸催化剂为对甲基苯磺酸或者硫酸。
光产酸剂B的合成方法,所述合成方法为:
M为碱金属;
第一步:在0℃惰性气体保护下,将2~3当量的三乙胺和0.33当量的三光气加入到二氯甲烷中,搅拌下缓慢加入1当量的莪术醇;反应液在室温下搅拌2~4小时,然后将1当量的中间体Ⅰ-2加入到反应液中,搅拌8~12小时,反应液在真空下浓缩得到混合物,混合物过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤上述混合物,收集烘干滤饼得到中间体Ⅱ-2;
第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至-25~35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的Ⅱ-2的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到Ⅲ-2。
作为本发明的一种优选技术方案,所述M为钾、钠或者锂。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
(1)莪术醇结构具有较大分子量,合成的光产酸剂分子量大,降低光产酸剂的扩散,有利于改善边缘粗糙度,减小线宽粗糙度,提高分辨率。
(2)本发明光产酸剂的亲水亲油平衡,既具有一定的粘附性,又可以在溶剂中均匀溶解,有利于成像。
(3)本发明的光产酸剂不含苯环结构,在193nm波长的光源下吸收低,更加透明,有利于光刻胶在193nm波长光源下的曝光。
(4)莪术醇结构为桥环烷烃,具有优良的耐刻蚀性能。
(5)合成路线简单。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例1
合成步骤:
a.将莪术醇1-1(5g,21mmol),羧基二氟甲烷磺酸钠(4.2g,21mmol)加入到甲苯(100mL)中,加入对甲基苯磺酸(0.5g,3mmol),将反应液回流16小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗三次,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚(60ml)中进行打浆,过滤上述混合液,收集烘干滤饼得到固体化合物1-2(7.2g,17mmol,收率81.7%)
b.在氮气流保护下,将(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷(3.0g,18mmol)和四亚甲基亚砜(1.8g,17mmol)溶解在氯仿(100mL)中,冷却至-30摄氏度,在30分钟内慢慢加入三氟乙酸酐(5.5g,26mmol),搅拌反应30分钟,在搅拌下加入1-2(7.2g,17mmol)的饱和水溶液,搅拌反应1小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到1-3(7.6g,13mmol,收率76.2%)。
实施例2
合成步骤:
a.在0℃氮气保护下,将三乙胺(5.4g,53mmol),三光气(2.2g,7mmol)加入到二氯甲烷(150mL)中,搅拌下缓慢加入莪术醇2-1(5g,21mmol)。反应液在室温下搅拌3小时,然后将1,1-二氟-2-羟基-乙磺酸钠盐(3.9g,21mmol)加入到反应液中,搅拌10小时,反应液在真空下浓缩得到混合物,混合物过滤得到固体,固体用乙腈清洗三次,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤上述混合物,收集烘干滤饼得到固体化合物2-2(6.5g,15mmol,收率68.8%)
b.在氮气流保护下,将(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷(2.5g,15mmol)和四亚甲基亚砜(1.6g,15mmol)溶解在氯仿(150mL)中,冷却至-30摄氏度,在30分钟内慢慢加入三氟乙酸酐(4.6g,22mmol),搅拌反应30分钟,在搅拌下加入2-2(6.5g,15mmol)的饱和水溶液,搅拌反应1小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,得到2-3(6.8g,11mmol,收率77.0%)。
实施例3
合成步骤:
a.在0℃氮气下,将氢化钠(0.8g,33mmol)缓慢加入到莪术醇3-1(5g,21mmol)和无水四氢呋喃(120mL)的混合液中,搅拌20分钟;然后将2-溴-2-环戊基乙酸乙酯(5g,21mmol)滴加到上述混合液中,搅拌20分钟;然后在25℃下搅拌6小时。反应完成后,在0℃下,加水淬灭。将淬灭的混合液浓缩,用二氯甲烷(50mL×3)萃取。合并萃取液,饱和食盐水(50mL)清洗,无水硫酸钠干燥,浓缩得到粗产品;粗产品经柱层析纯化得到化合物3-2(7.2g,18mmol,收率87.1%)。
b.将化合物3-2(7.2g,18mmol)和氢氧化钠(1.8g,45mmol)加入到水(10mL)和甲醇(90mL)的混合液中,在25℃下,搅拌24h。将反应液浓缩,用稀盐酸将溶液pH值调整为2,得到混合液,浓缩出去大部分甲醇,用乙酸乙酯(60mLx2)萃取,合并萃取液并用饱和食盐水(50mL)清洗,无水硫酸钠干燥,浓缩得到液体化合物3-3(6.4g,18mmol,收率95.7%)。
c.将化合物3-3(6.4g,18mmol)、1,1-二氟-2-羟基-乙磺酸钠盐(3.3g,18mmol)和对甲苯磺酸(0.6g,3mmol)加入到甲苯(100mL)中,加热回流18小时并且冷却至室温。过滤该混合物得到固体,固体用乙腈清洗三次。将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤上述混合液,收集烘干滤饼,得到固体化合物3-4(7.8g,15mmol,收率83.6%)
d.在氮气流保护下,将(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷(2.5g,15mmol)和四亚甲基亚砜(1.6g,15mmol)溶解在氯仿(200mL)中,冷却至-30摄氏度,在30分钟内慢慢加入三氟乙酸酐(4.7g,22mmol),搅拌反应30分钟,在搅拌下加入3-4(7.8g,15mmol)的饱和水溶液,搅拌反应1小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,得到3-5(6.5g,9mmol,收率63.9%)。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
4.如权利要求2所述的光产酸剂A的合成方法,其特征在于,所述合成方法为:
M为碱金属;
第一步:1当量的莪术醇与1当量的中间体Ⅰ-1加入甲苯中,加入0.1~0.5当量的酸催化剂,加热回流14~18小时,反应液冷却后过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤后收集烘干滤饼得到中间体Ⅱ-1;
第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至-25~-35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的Ⅱ-1的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到光产酸剂A。
5.根据权利要求4所述的光产酸剂A的合成方法,其特征在于,所述M包括:钾、钠或者锂。
6.根据权利要求4或5所述的光产酸剂A的合成方法,其特征在于,所述酸催化剂为对甲基苯磺酸或者硫酸。
7.如权利要求2所述的光产酸剂B的合成方法,其特征在于,所述合成方法为:
M为碱金属;
第一步:在0℃惰性气体保护下,将2~3当量的三乙胺和0.33当量的三光气加入到二氯甲烷中,搅拌下缓慢加入1当量的莪术醇;反应液在室温下搅拌2~4小时,然后将1当量的中间体Ⅰ-2加入到反应液中,搅拌8~12小时,反应液在真空下浓缩得到混合物,混合物过滤得到固体,固体用乙腈清洗,将混合的乙腈溶液进行浓缩,并加入到甲基叔丁基醚中进行打浆,过滤上述混合物,收集烘干滤饼得到中间体Ⅱ-2;
第二步:在惰性气体保护下,将1当量的(环己-1,5-二烯基氧基)-三甲基-硅烷和1当量的四亚甲基亚砜溶解在氯仿中,冷却至-25~35摄氏度,慢慢加入1.3~1.5当量的三氟乙酸酐,搅拌反应20~40分钟,在搅拌下加入1当量的Ⅱ-2的饱和水溶液,搅拌反应1~1.5小时,反应结束恢复到室温,分离水和氯仿,水相用氯仿萃取,氯仿相在真空下浓缩,得到粗产物,粗产品用甲基叔丁基醚洗涤,干燥得到Ⅲ-2。
8.根据权利要求7所述的光产酸剂B的合成方法,其特征在于,所述M为钾、钠或者锂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011541788.9A CN113045537A (zh) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011541788.9A CN113045537A (zh) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113045537A true CN113045537A (zh) | 2021-06-29 |
Family
ID=76508130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011541788.9A Pending CN113045537A (zh) | 2020-12-23 | 2020-12-23 | 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113045537A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112645849A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-13 | 上海博栋化学科技有限公司 | 一种由松香酸合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 |
CN112661805A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-16 | 上海博栋化学科技有限公司 | 由雀舌黄杨碱b合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004170806A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物の製造方法 |
TW200815923A (en) * | 2006-09-08 | 2008-04-01 | Jsr Corp | Radiosensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therefor |
JP2010134445A (ja) * | 2008-11-10 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化学増幅型フォトレジスト組成物 |
WO2012002519A1 (en) * | 2010-06-28 | 2012-01-05 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, chemical amplification resist composition and resist film |
CN103508994A (zh) * | 2012-06-26 | 2014-01-15 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品 |
CN111138408A (zh) * | 2019-12-28 | 2020-05-12 | 上海博栋化学科技有限公司 | 由柏木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 |
-
2020
- 2020-12-23 CN CN202011541788.9A patent/CN113045537A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004170806A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物の製造方法 |
TW200815923A (en) * | 2006-09-08 | 2008-04-01 | Jsr Corp | Radiosensitive composition and method for producing low molecular weight compound used therefor |
JP2010134445A (ja) * | 2008-11-10 | 2010-06-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化学増幅型フォトレジスト組成物 |
WO2012002519A1 (en) * | 2010-06-28 | 2012-01-05 | Fujifilm Corporation | Pattern forming method, chemical amplification resist composition and resist film |
CN103508994A (zh) * | 2012-06-26 | 2014-01-15 | 罗门哈斯电子材料有限公司 | 光致生酸剂、包含所述光致生酸剂的光致抗蚀剂以及包含所述光致抗蚀剂的经涂覆的制品 |
CN111138408A (zh) * | 2019-12-28 | 2020-05-12 | 上海博栋化学科技有限公司 | 由柏木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112645849A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-13 | 上海博栋化学科技有限公司 | 一种由松香酸合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 |
CN112661805A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-04-16 | 上海博栋化学科技有限公司 | 由雀舌黄杨碱b合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5474867B2 (ja) | 光酸発生剤、この製造方法、及びこれを含むレジスト組成物 | |
CN111138408A (zh) | 由柏木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 | |
CN113045537A (zh) | 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 | |
CN111138405A (zh) | 由广藿香醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 | |
CN111138407A (zh) | 由喇叭茶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 | |
KR20100017795A (ko) | 고리형 화합물, 포토레지스트 기재 및 포토레지스트 조성물 | |
CN111116546A (zh) | 由beta-桉叶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 | |
CN111138406A (zh) | 由愈创木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法 | |
CN111116605B (zh) | 由戊醛糖合成的光刻胶树脂单体及其合成方法 | |
CN111056980A (zh) | 含愈创木醇结构的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN112679499A (zh) | 一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 | |
CN111077731A (zh) | 含喇叭茶醇结构的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN111116426A (zh) | 含广藿香醇结构的锍鎓盐类光致酸产生剂及其制备方法 | |
CN111138288A (zh) | 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法 | |
CN111704601A (zh) | 一种由3,5-二羟基环己酮合成的可降解型光刻胶产酸树脂单体及其制备方法 | |
CN112679514A (zh) | 由番木虌次碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN113493382A (zh) | 一种碱溶性良好的光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用 | |
CN112159341A (zh) | 一种光刻胶树脂单体 | |
CN112661741A (zh) | 一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体及其合成方法 | |
CN112661755A (zh) | 由异柯楠碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN112661756A (zh) | 由20-羟基榴花碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN112631072A (zh) | 由10-羟基攀援山橙碱合成的锍鎓盐类光致产酸剂及其制备方法 | |
CN112645951A (zh) | 由长春布宁合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 | |
CN112645849A (zh) | 一种由松香酸合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法 | |
CN112625022A (zh) | 一种光刻胶树脂单体及其合成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210629 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |