CN111138288A - 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法 - Google Patents

含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111138288A
CN111138288A CN201911384563.4A CN201911384563A CN111138288A CN 111138288 A CN111138288 A CN 111138288A CN 201911384563 A CN201911384563 A CN 201911384563A CN 111138288 A CN111138288 A CN 111138288A
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin monomer
photoresist resin
general formula
formula
monomer containing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201911384563.4A
Other languages
English (en)
Inventor
潘惠英
蒋小惠
李嫚嫚
喻珍林
贺宝元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Bodong Chemical Technology Co ltd
Original Assignee
Shanghai Bodong Chemical Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Bodong Chemical Technology Co ltd filed Critical Shanghai Bodong Chemical Technology Co ltd
Priority to CN201911384563.4A priority Critical patent/CN111138288A/zh
Publication of CN111138288A publication Critical patent/CN111138288A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/52—Esters of acyclic unsaturated carboxylic acids having the esterified carboxyl group bound to an acyclic carbon atom
    • C07C69/533—Monocarboxylic acid esters having only one carbon-to-carbon double bond
    • C07C69/54—Acrylic acid esters; Methacrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
    • C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
    • C07C45/64—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by introduction of functional groups containing oxygen only in singly bound form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
    • C07C49/385—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring
    • C07C49/487—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring containing hydroxy groups
    • C07C49/493—Saturated compounds containing a keto group being part of a ring containing hydroxy groups a keto group being part of a three- to five-membered ring
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/14—Preparation of carboxylic acid esters from carboxylic acid halides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
    • C07C67/28—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
    • C07C67/29—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the hydroxylic moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of oxygen-containing functional groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00—Preparation of oxiranes
    • C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/14—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with organic peracids, or salts, anhydrides or esters thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
    • C07D303/32—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms by aldehydo- or ketonic radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/10—Oxygen atoms
    • C07D309/12—Oxygen atoms only hydrogen atoms and one oxygen atom directly attached to ring carbon atoms, e.g. tetrahydropyranyl ethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/28—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing no aromatic rings in the alcohol moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/06—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring
    • C07C2601/08—Systems containing only non-condensed rings with a five-membered ring the ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14—The ring being saturated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
    • C07C2603/56—Ring systems containing bridged rings
    • C07C2603/58—Ring systems containing bridged rings containing three rings
    • C07C2603/70—Ring systems containing bridged rings containing three rings containing only six-membered rings
    • C07C2603/74—Adamantanes

Abstract

本发明公开了一种含五元环状β‑酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法，属于化学合成及光刻材料领域。该光刻胶树脂单体的结构通式为：
Figure DDA0002343228230000011
或
Figure DDA0002343228230000012
式中，R1为甲基或氢；R2、R3分别独立地为氢、烷基、环烷基中的一种；R4为烷基或环烷基；n为不小于1的整数；R’为氢、烷基、环烷基中的一种。该光刻胶树脂单体具有曝光前后溶解度差异大的特点，其能够降低粗糙度，提高灵敏度和分辨率，有利于形成均一性良好的光刻图案。

Description

含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法
技术领域
本发明涉及化学合成及光刻材料领域，具体是一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法。
背景技术
光刻技术是指利用光刻材料(特指光刻胶)在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。
光刻材料(特指光刻胶)，又称光致抗蚀剂，是光刻技术中涉及的最关键的功能性化学材料，主要成分是树脂、光致产酸剂、以及相应的添加剂和溶剂，这类材料具有光(包括可见光、紫外线、电子束等)化学敏感性，经光化学反应，本身在显影液中的溶解性发生变化。根据光化学反应机理不同，光刻胶分为正性光刻胶与负性光刻胶：曝光后，光刻胶在显影液中溶解性增加，得到与掩膜版相同图形的称为正性光刻胶；曝光后，光刻胶在显影液中溶解性降低甚至不溶，得到与掩膜版相反图形的称为负性光刻胶。
其中，光刻胶所使用的树脂是由多种树脂单体共聚而成的聚合物，其中酸敏树脂单体是实现曝光前后树脂在显影液中溶解差异的重要组成部分，常见的酸敏树脂单体含有酸敏基团，酸敏基团在曝光后光酸的作用下脱去，生成酸性基团，从而溶于碱性显影液，酸敏单体脱保护的活化能高低和其碱溶性是影响光刻图案好坏的重要因素。现有技术中因为酸敏单体的特定结构，存在曝光敏感性差，曝光前后碱溶性差距较小等问题，从而影响光刻图案的质量。
发明内容
本发明实施例的目的在于提供一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明实施例提供如下技术方案：
一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，其结构通式为式I或式II：
Figure BDA0002343228220000021
式中，R1为甲基或氢；R2、R3分别独立地为氢、烷基、环烷基中的一种；R4为烷基或环烷基；n为不小于1的整数；R’为氢、烷基、环烷基中的一种。
其中，当式I的R2与R4或者R3与R4之间通过共价键成环时，即为式II。
作为本发明实施例的一个优选方案，所述光刻胶树脂单体的结构式为式III～式XIV中的一种：
Figure BDA0002343228220000022
Figure BDA0002343228220000031
本发明实施例的另一目的在于提供一种上述含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其包括以下步骤：
将4-环戊烯-1,3-二酮与氧化剂进行氧化反应，得到三元环氧结构的第一中间体；
将所述第一中间体在酸/水体系下进行水解，得到二醇化合物；
在碱性体系下，将所述二醇化合物与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯进行反应，得到第二中间体；
将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体；或者将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体；
Figure BDA0002343228220000032
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述氧化剂为间氯过氧苯甲酸和/或过氧化氢。
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述酸/水体系中的酸为硫酸和/或三氟甲磺酸。
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体的步骤，具体包括：
在碱性体系下，将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体。
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述碱性体系为有机碱体系；所述有机碱为三乙胺、二异丙基胺、吡啶中的一种。
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体的步骤，具体包括：
在甲磺酸催化下，将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行加成反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体。
作为本发明实施例的另一个优选方案，所述通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物的合成方法包括以下步骤：
将通式为R4OH的化合物与通式为R2COR3的化合物在卤化氢和硫酸钠作用下进行反应，得到所述通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物。
本发明实施例的另一目的在于提供一种上述含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体在光刻材料中的应用。
与现有技术相比，本发明实施例的有益效果是：
本发明提供了一种新的光刻胶树脂单体，该光刻胶树脂单体含有光敏基团，与其它树脂单体聚合形成光刻胶树脂，在曝光后会脱去半缩醛(酮)保护基，半缩醛(酮)的活化能比较低，敏感性更高，其脱保护后会形成羟基结构，从而使极性增大，溶解于碱性显影剂(一般为TMAH)，并且由于双酮的吸电子作用，使两个酮羰基中间碳上的氢具有一定的酸性，故该光刻胶树脂单体具有曝光前后溶解度差异大的特点，其能够降低粗糙度，提高灵敏度和分辨率，且该结构含有双酮，极性大，提高了与硅片之间的粘附力，有利于形成均一性良好的光刻图案。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
该实施例提供了一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，该光刻胶树脂单体的合成方法的反应路线如下：
Figure BDA0002343228220000051
其具体包括以下步骤：
S1、将4-环戊烯-1,3-二酮(式A，50g，520mmol)加入到二氯甲烷(1.2L)中，并用冰水浴冷却到0℃后，再加入间氯过氧苯甲酸(108g，626mmol)，得到反应液；接着，将反应液升到室温搅拌反应16小时后，过滤，滤液加入饱和碳酸氢钠溶液中和，有机相用饱和食盐水清洗，分液，无水硫酸钠干燥后真空旋干得到油状的第一中间体(式B，47.3g，422mmol，收率为81.1％)。
S2、将第一中间体(式B，47.3g，422mmol)加入到3M的硫酸(500mL)中，并加热回流搅拌反应16小时后，将反应液冷却到5摄氏度，接着，在搅拌下加入碳酸钠粉末调节pH到弱碱性，然后，将溶剂旋干，取固体加入THF(500mL)搅拌，过滤除去固体，溶剂旋干得到二醇化合物(式C，40.6g，312mmol，收率为73.9％)。
S3、将二醇化合物(式C，40.6g，312mmol)加入到二氯甲烷(1.2L)后，再加入三乙胺(63g，623mmol)，接着，用冰水冷却到0摄氏度后，再慢慢滴加丙烯酰氯(28.3g，313mmol)，滴加结束后升到室温搅拌5小时，反应结束，加水(500mL)淬灭，水相用二氯甲烷(200mL*3)萃取，合并有机相，有机相用饱和食盐水洗涤，无水硫酸钠干燥，真空旋干得到第二中间体(式D，54.1g，294mmol，收率为94.1％)。
S4、将第二中间体(式D，10g，54mmol)加入到乙腈(200mL)中后，再加入三乙胺(11g，109mmol)，并用冰水冷却到0℃，接着，慢慢加入(1-氯乙基)-环己基醚(8.9g，55mmol)的乙腈溶液(80mL)，并升温至50℃进行搅拌反应12小时，然后，用冰水冷却后，再加入饱和碳酸氢钠溶液淬灭反应，再接着，浓缩除去乙腈，加入乙酸乙酯(200mL)和水(150mL)，分液，水相用乙酸乙酯(100mL*3)萃取三次，合并有机相，有机相用饱和食盐水洗涤，无水硫酸钠干燥，真空旋干得到粗品，粗品蒸馏纯化得到光刻胶树脂单体(式III，13.8g，44mmol，收率为81.9％)。
实施例2
该实施例提供了一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，该光刻胶树脂单体的合成方法的反应路线如下：
Figure BDA0002343228220000071
其具体包括以下步骤：
先将上述实施例1得到的第二中间体(式D，10g，54mmol)和3,4-二氢-2H-吡喃(4.6g，55mmol)加入到乙腈(100mL)中后，再加入甲磺酸(1g，126mmol)，得到反应液；接着，将反应液置于室温下搅拌反应16小时后，再加入饱和碳酸氢钠溶液淬灭反应，然后，真空浓缩除去乙腈溶剂，加水(100mL),水相用乙酸乙酯(100mL*3)萃取，合并有机相，有机相用饱和食盐水洗涤，无水硫酸钠干燥得到粗品，粗品蒸馏纯化得到光刻胶树脂单体(式IV，13.5g，50mmol，收率为92.7％)。
实施例3
该实施例提供了一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，该光刻胶树脂单体的合成方法的反应路线如下：
Figure BDA0002343228220000072
其具体包括以下步骤：
先将上述实施例1得到的第二中间体(式D，10g，54mmol)加入到乙腈(100mL)中后，再加入三乙胺(11g，109mmol)，并用冰水冷却到0℃，接着，慢慢加入1-氯-1-甲氧基-2-甲基丙烷(6.7g，55mmol)的乙腈溶液(80mL)，并升温至50℃进行搅拌反应12小时，然后，用冰水冷却后，再加入饱和碳酸氢钠溶液淬灭反应，再接着，浓缩除去乙腈，加入乙酸乙酯(200mL)和水(150mL)，分液，水相用乙酸乙酯(100mL*3)萃取三次，合并有机相，有机相用饱和食盐水洗涤，无水硫酸钠干燥，真空旋干得到粗品，粗品蒸馏纯化得到光刻胶树脂单体(式V，12.3g，45mmol，收率为83.8％)。
实施例4
该实施例提供了一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，该光刻胶树脂单体的合成方法的反应路线如下：
Figure BDA0002343228220000081
其具体包括以下步骤：
先将上述实施例1得到的第二中间体(式D，10g，54mmol)加入到乙腈(200mL)中后，再加入三乙胺(11g，109mmol)，并用冰水冷却到0℃，接着，慢慢加入1-氯甲氧基-2,2-二甲基丙烷(7.5g，55mmol)的乙腈溶液(80mL)，并升温至50℃进行搅拌反应12小时，然后，用冰水冷却后，再加入饱和碳酸氢钠溶液淬灭反应，再接着，浓缩除去乙腈，加入乙酸乙酯(200mL)和水(150mL)，分液，水相用乙酸乙酯(100mL*3)萃取三次，合并有机相，有机相用饱和食盐水洗涤，无水硫酸钠干燥，真空旋干得到粗品，粗品蒸馏纯化得到光刻胶树脂单体(式VI，13.4g，47mmol，收率为86.8％)。
其中，上述实施例1中出现的含通式为
Figure BDA0002343228220000082
的原料(1-氯乙基)-环己基醚)的合成方法的反应路线如下:
Figure BDA0002343228220000091
其具体的合成方法包括以下步骤：
先将环己醇(10g，100mmol)和甲醛(4.5g，150mmol)加入到甲苯(100mL)中，并冷却到-20℃，接着，通入氯化氢气体30分钟后，再加入硫酸钠(21.3g，150mmol)，得到反应液；然后，将反应液置于0℃下搅拌16小时后，过滤，滤液旋干得到(1-氯乙基)-环己基醚(13.5，83mmol，收率为83.1％)。
另外，实施例3、实施例4的含
Figure BDA0002343228220000092
原料可以按相同的方法进行合成，其它类似结构的原料，根据其本身的特性，也可以采取相同或者其它不同的方法，在这边就不作赘述。
需要说明的是，本发明发明内容中结构式为式VII～式XIV的光刻胶树脂单体的合成路线及原理与上述实施例的相同，故可参考上述实施例进行合成，在这边就不作穷举。
以上述依据本发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (10)

1.一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，其特征在于，所述光刻胶树脂单体的结构通式为式I或式II：
Figure FDA0002343228210000011
式中，R1为甲基或氢；R2、R3分别独立地为氢、烷基、环烷基中的一种；R4为烷基或环烷基；n为不小于1的整数；R’为氢、烷基、环烷基中的一种。
2.根据权利要求1所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体，其特征在于，所述光刻胶树脂单体的结构式为式III～式XIV中的一种：
Figure FDA0002343228210000012
Figure FDA0002343228210000021
3.一种如权利要求1～2中任一项所述的含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：
将4-环戊烯-1,3-二酮与氧化剂进行氧化反应，得到三元环氧结构的第一中间体；
将所述第一中间体在酸/水体系下进行水解，得到二醇化合物；
在碱性体系下，将所述二醇化合物与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯进行反应，得到第二中间体；
将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体；或者将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体；
Figure FDA0002343228210000022
4.根据权利要求3所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述氧化剂为间氯过氧苯甲酸和/或过氧化氢。
5.根据权利要求3所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述酸/水体系中的酸为硫酸和/或三氟甲磺酸。
6.根据权利要求3所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体的步骤，具体包括：
在碱性体系下，将所述第二中间体与通式为式XV的卤代物进行反应，得到通式为式I的光刻胶树脂单体。
7.根据权利要求3或6所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述碱性体系为有机碱体系；所述有机碱为三乙胺、二异丙基胺、吡啶中的一种。
8.根据权利要求3所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体的步骤，具体包括：
在甲磺酸催化下，将所述第二中间体与通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物进行加成反应，得到通式为式II的光刻胶树脂单体。
9.根据权利要求8所述的一种含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体的合成方法，其特征在于，所述通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物的合成方法包括以下步骤：
将通式为R4OH的化合物与通式为R2COR3的化合物在卤化氢和硫酸钠作用下进行反应，得到所述通式为式XVI的邻烯基环醚结构化合物。
10.一种如权利要求1～2中任一项所述的含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体在光刻材料中的应用。
CN201911384563.4A 2019-12-28 2019-12-28 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法 Pending CN111138288A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911384563.4A CN111138288A (zh) 2019-12-28 2019-12-28 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201911384563.4A CN111138288A (zh) 2019-12-28 2019-12-28 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111138288A true CN111138288A (zh) 2020-05-12

Family

ID=70521378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201911384563.4A Pending CN111138288A (zh) 2019-12-28 2019-12-28 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111138288A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111875500A (zh) * 2020-06-16 2020-11-03 徐州博康信息化学品有限公司 一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体及其合成方法
CN113620921A (zh) * 2021-06-22 2021-11-09 徐州博康信息化学品有限公司 一种光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用
CN115960299A (zh) * 2021-10-12 2023-04-14 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种用于制备ArF干法光刻的树脂的制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1885161A (zh) * 2005-06-24 2006-12-27 株式会社东进世美肯 光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物
CN109991811A (zh) * 2019-02-27 2019-07-09 江苏南大光电材料股份有限公司 一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1885161A (zh) * 2005-06-24 2006-12-27 株式会社东进世美肯 光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物
CN109991811A (zh) * 2019-02-27 2019-07-09 江苏南大光电材料股份有限公司 一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111875500A (zh) * 2020-06-16 2020-11-03 徐州博康信息化学品有限公司 一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体及其合成方法
WO2021253478A1 (zh) * 2020-06-16 2021-12-23 徐州博康信息化学品有限公司 一种含多环β-酮结构的光敏型光刻胶树脂单体及其合成方法
CN113620921A (zh) * 2021-06-22 2021-11-09 徐州博康信息化学品有限公司 一种光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用
CN115960299A (zh) * 2021-10-12 2023-04-14 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种用于制备ArF干法光刻的树脂的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111138288A (zh) 含五元环状β-酮结构的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN111116605B (zh) 由戊醛糖合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN111662267B (zh) 含二氧代双环[2.2.2]辛烷二羧酸脂结构的光刻胶产酸树脂单体及其制备方法
CN111138408A (zh) 由柏木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
CN111138407A (zh) 由喇叭茶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
CN111116546A (zh) 由beta-桉叶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
CN111138406A (zh) 由愈创木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
CN111138410A (zh) 含金刚烷结构的光刻胶产酸树脂单体及其合成方法
CN111138405A (zh) 由广藿香醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
CN111138281A (zh) 一种光刻胶树脂单体及其合成方法
CN112679499A (zh) 一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
CN111138287A (zh) 由六氢-1h-茚-1,3(2h)-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN112661741A (zh) 一种含米氏酸结构的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN111056945A (zh) 由螺[5.5]十一烷-3,9-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN111635341A (zh) 一种三氟磺酰胺八氢-并环戊二烯类光刻胶树脂单体及其制备方法
CN113493382A (zh) 一种碱溶性良好的光刻胶酸敏树脂单体及其合成方法和应用
CN111072482A (zh) 由螺[2.5]癸烷-6,8-二酮合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN112679461A (zh) 一种增加溶解差的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN113045537A (zh) 一种由莪术醇合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
CN112645923A (zh) 一种含光酸产生剂的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN112159341A (zh) 一种光刻胶树脂单体
CN111056947A (zh) 由α-柏木烯合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN111100007A (zh) 由羧酸化合物合成的光刻胶树脂单体及其合成方法
CN112625022A (zh) 一种光刻胶树脂单体及其合成方法
CN113402495A (zh) 一种含氟光刻胶酸敏树脂单体及其制备方法和应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20200512