CN112786810A - 显示面板 - Google Patents

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CN112786810A CN202110037435.3A CN202110037435A CN112786810A CN 112786810 A CN112786810 A CN 112786810A CN 202110037435 A CN202110037435 A CN 202110037435A CN 112786810 A CN112786810 A CN 112786810A
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Abstract

本申请提供了一种显示面板,包括防反射膜和发光件,发光件包括基板和设置在基板一侧表面上的多个相互隔离的子像素,各子像素包括依次叠置的底电极、功能层、顶电极,至少部分子像素还包括光取出层,光取出层设置在顶电极的远离功能层的一侧表面上,光取出层内设有纳米粒子,纳米粒子的粒径不超过40nm。本申请实现了在保证显示面板具有高对比度的情况下提升其使用寿命的效果。

Description

显示面板
技术领域
本发明涉及光电技术领域,具体而言,涉及一种显示面板。
背景技术
OLED显示以其快速响应、高对比度等特点,在显示市场占据越来越多的市场份额,但烧屏、寿命短等问题依然没有得到很好的解决。且此类电致发光器件的电极(一般有一侧的电极为金属)具有较强的反射性,为了不使环境光被面板反射射出并与面板自发光混合造成显示面板的对比度下降,圆偏光片成为显示面板不可或缺的组件,但它的引入会造成约一半的出光损失。为了提升显示面板的使用寿命,高开口率的顶发射面板成为了研究的重点。而在顶发射显示面板顶部引入封盖层(capping layer)又成为提升其外量子效率的常规手段,但其提升比例依然十分有限。
另一方面,透镜型、散射型光取出结构对显示面板出光效率有非常显著的提升,但是结合圆偏光片使用时,圆偏光片对环境光反射的抑制效果会被破坏,即在显示面板不点亮的情况下,透过圆偏光片去观察显示面板,不再能看到一体黑的“暗场”效果(一体黑的效果指的是环境光射入而不射出),而是呈现一定的灰色,“暗场”效果的破坏会对显示面板的对比度造成极大的影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示面板,包括防反射膜和发光件,上述发光件包括基板和设置在上述基板一侧表面上的多个相互隔离的子像素,各上述子像素包括依次叠置的底电极、功能层、顶电极,至少部分上述子像素还包括光取出层,上述光取出层设置在上述顶电极的远离上述功能层的一侧表面上,上述光取出层内设有纳米粒子,上述纳米粒子的粒径不超过40nm。
进一步地,上述光取出层含有的上述纳米粒子的质量分数≥70wt%,优选≥80wt%,更优选≥90wt%。
进一步地,上述光取出层含有的上述纳米粒子的质量分数≥50wt%,且上述光取出层包括聚合物基质,上述聚合物基质的折光指数大于1.65。
进一步地,上述纳米粒子的粒径为5~30nm,优选为10~25nm。
进一步地,上述纳米粒子的折光指数≥1.8,优选上述纳米粒子的折光指数≥2。
进一步地,上述纳米粒子的表面为曲面,优选上述纳米粒子的形状为球形、类球形、椭球形或类椭球形,优选上述纳米粒子选自氧化锌、氧化钛、五氧化二钽、氧化钇、氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钨、氧化锑、氧化钒、氧化钼中的任一种或多种混合。
进一步地,上述光取出层的厚度为0.5~10μm,优选厚度为0.8~3μm。
进一步地,上述光取出层的平整度Ra≤20nm,优选Ra≤10nm,更优选Ra≤5nm。
进一步地,上述光取出层在550nm波长的光照射下的透过率不超过80%,优选不超过70%,更优选不超过60%。
进一步地,上述光取出层包括至少一种辅助材料,上述辅助材料在可见光照射下的光透过率不低于80%,优选光透过率不低于90%。
进一步地,上述光取出层中上述辅助材料的总的质量分数不超过30wt%,每种上述辅助材料的折光指数不小于1.4。
进一步地,上述辅助材料包括界面修饰剂,上述界面修饰剂配位于上述纳米粒子的表面。
进一步地,上述发光件还包括界面层,上述界面层设置在上述光取出层的远离上述基板的一侧表面上,上述界面层在550nm波长的光照射下的透过率不低于80%,上述界面层的折光指数≤1.8;优选上述界面层的折光指数不超过1.5且不小于1;更优选地,上述界面层的厚度为0.1~5μm。
进一步地,定义原始外量子效率最高的上述子像素为第一子像素,原始外量子效率最低的上述子像素为第三子像素,原始外量子效率介于上述第一子像素和上述第三子像素之间的上述子像素为第二子像素;上述光取出层对上述第一子像素的外量子效率提升比为X1,上述光取出层对上述第二子像素的外量子效率提升比为X2,上述光取出层对上述第三子像素的外量子效率提升比为X3,上述X1、上述X2和上述X3不相等,定义Xn=(Q2-Q1)/Q1,其中,n选自1~3中的任一个自然数,Q1为对应上述子像素的原始外量子效率,Q2为对应上述子像素的实际外量子效率;上述Xn≥0.5。
进一步地,在上述显示面板未点亮状态下,上述显示面板呈现一体黑的效果。
应用本申请的技术方案,即通过采用纳米级小粒径粒子作为光取出粒子,在顶电极上方设置光取出层,大幅度提升显示面板的外量子效率的同时又不影响防反射膜的暗场效果呈现,因此实现了在保证显示面板具有高对比度的情况下提升其使用寿命的效果。
附图说明
构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了本申请一种实施例的显示面板的剖面结构示意图;
图2示出了本申请一种实施例的显示面板的剖面结构示意图;
图3示出了本申请一种实施例的显示面板的剖面结构示意图;
图4示出了本申请一种实施例的显示面板的剖面结构示意图;
图5为本申请的对比例2和实施例1、2、6、7、8的带圆偏光片的发光件在未点亮状态下的照片,第一行从左到右依次对应对比例2、实施例1、实施例2,第二行从左到右依次对应实施例6、实施例7、实施例8(照片中的圆形为贴膜时导致的气泡)。
其中,上述附图包括以下附图标记:
1、基板;2、像素隔离结构;3、底电极;4、功能层;5、顶电极;6、光取出层;7、防反射膜;8、封装层;9、界面层。
具体实施方式
应该指出,以下详细说明都是例示性的,旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明,本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
本申请提供一种显示面板,包括防反射膜7和发光件,发光件包括基板1和设置在基板1一侧表面上的多个相互隔离的子像素,各子像素包括依次叠置的底电极3、功能层4、顶电极5,至少部分子像素还包括光取出层6,光取出层6设置在顶电极5的远离功能层4的一侧表面上,光取出层6内设有纳米粒子,纳米粒子的粒径不超过40nm。
本申请的技术方案通过采用纳米级小粒径粒子作为光取出粒子,在顶电极上方设置光取出层,大幅度提升显示面板的外量子效率的同时又不影响防反射膜的暗场效果呈现,因此实现了在保证显示面板具有高对比度的情况下提升其使用寿命的效果。
需要注意的是,上述纳米粒子在光取出层中起到光取出粒子的作用,并且纳米粒子不具有光转换功能,同时光取出层不包括微米级的粒子。上述纳米粒子的粒径指的是纳米粒子的平均粒径。防反射片和发光件光学地连接,可以为防反射片位于发光件的正上方。
在一些实施例中,上述发光件还包括设置在基板1上的多个像素隔离结构2(也称为bank),以及像素隔离结构2限定形成的多个相互隔离的发光区域,上述多个子像素一一对应设置在多个发光区域中。
在一些实施例中,各子像素的功能层4可以包括依次叠置的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层和空穴注入层。
在另一些实施例中,发光件和防反射膜7平行地设置,可以有其他层(如封装层8)设置于发光件和防反射膜7之间。
在另一些实施例中,防反射膜7外侧还设置其他结构,从而组成完整的显示面板。
在一些实施例中,显示面板包括封装层8,封装层8位于光取出层6的远离基板1的一侧。封装层一方面可以提高显示面板的阻水阻氧性能,另一方面当封装层为薄膜封装时,薄膜封装的堆叠层设置到光取出层表面后,可以起到平坦化光取出层的作用。
在一些实施例中,显示面板还包括位于封装层8和防反射膜7之间的层。
在一些实施例中,光取出层6可以整面设置在顶电极5的表面上,如图3所示。利于采用涂布工艺制备发光器件,制作简单。
在一些实施例中,显示面板中的防反射膜7为圆偏光片。防反射膜也可以选自本技术领域中和圆偏光片作用相同或相似的其它替代物。防反射膜起到不使环境光被面板反射射出并与面板自发光混合造成显示面板的对比度下降的作用。
在一些实施例中,纳米粒子的粒径大于1nm但不超过3nm,或者不超过5nm,或者不超过7nm,或者不超过9nm,或者不超过13nm,或者不超过16nm,或者不超过19nm,或者不超过21nm,或者不超过24nm,或者不超过27nm,或者不超过29nm,或者不超过33nm,或者不超过36nm,或者不超过39nm。在一些实施例中,纳米粒子的粒径为5~30nm。在一些实施例中,纳米粒子的粒径为10~25nm。上述纳米粒子的粒径保证了较高的折光指数和光取出效果。
在一些实施例中,光取出层6含有的纳米粒子的质量分数≥70wt%,或者≥75wt%,或者≥80wt%,或者≥85wt%,或者≥90wt%,或者≥95wt%。上述质量分数的纳米粒子可以保证光取出层的综合折光指数较高。综合折光指数=∑(单组分的体积占比)*(单组份的折光指数值)。
在一些实施例中,光取出层6含有的纳米粒子的质量分数≥50wt%,或者≥55wt%,或者≥60wt%,或者≥65wt%,且光取出层包括聚合物基质,上述聚合物基质的折光指数大于1.65。
在一些实施例中,纳米粒子的折光指数≥1.8,或者≥2。
在一些实施例中,纳米粒子的表面为曲面,优选纳米粒子的形状为球形、类球形、椭球形或类椭球形。纳米粒子的堆积平整性好。
在一些实施例中,纳米粒子选自氧化锌、氧化钛、五氧化二钽、氧化钇、氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钨、氧化锑、氧化钒、氧化钼中的任一种或多种混合。
在一些实施例中,光取出层6的厚度为0.5~10μm,或者0.8~3μm。
在一些实施例中,光取出层6的平整度Ra≤20nm,或者≤10nm,或者≤5nm。上述平整度保证了光取出层具备良好的反射界面,当环境光射向显示面板时,大约一半的环境光先被防反射膜(例如圆偏光片)吸收,剩余的一半光在射出防反射膜到达光取出层界面时,绝大部分光被该界面反射而又射向防反射膜,这部分反射的光的相位正好符合防反射膜的吸收方向,如此环境光就几乎全部被防反射膜吸收掉了,从而进一步降低了环境光对显示面板对比度的不良影响。
在一些实施例中,光取出层6在550nm波长的光照射下的透过率不超过80%,或者不超过75%,或者不超过70%,或者不超过65%,或者不超过60%,或者不超过55%,或者不超过50%,或者不超过45%,或者不超过40%,或者不超过35%,或者不超过30%。可以观察到,上述实施例中的光取出层外观呈现一定的白度。
在一些实施例中,光取出层6不包括聚合物基质。纳米粒子和溶剂混合,然后添加到子像素区域内,待溶剂挥发,即可形成光取出层。在一些实施例中,预先在纳米粒子表面修饰一些小分子界面修饰剂,以增加纳米粒子在溶剂中的分散性,当纳米粒子和溶剂混合,可以避免纳米粒子彼此团聚,从而施加到子像素区域后,光取出层会相对均匀很多。
在另一些实施例中,光取出层6包括聚合物基质。聚合物基质主要起以下作用:一是分散纳米粒子,并通过聚合物基质将纳米粒子隔开起到稳定作用;二是固定住纳米粒子使其成为一个整体;三是这些聚合物基质还可以起到填充纳米粒子堆积缝隙的作用,当聚合物基质的组份进一步提升后,就可以平坦化光取出层了,即缝隙都填满了,还有余量覆盖住所有的纳米粒子。
在一些实施例中,光取出层6包括至少一种辅助材料,辅助材料在可见光照射下的光透过率不低于80%,优选光透过率不低于90%。上述光透过率是指,把实际光取出墨水配方中辅助材料单独拿出来成膜时的透过率,例如,光取出墨水的固含量为30wt%,辅助材料占3wt%,纳米粒子占27wt%,辅助材料的透过率近似为将这3%的辅助材料单独成膜,然后测试其在可见光(400~700nm)下的透过率。
在一些实施例中,光取出层6中辅助材料的总的质量分数不超过30wt%,每种辅助材料的折光指数不小于1.4。辅助材料可以保证整个光取出层的综合折光指数不会偏低。在保证光取出层整体的综合折光指数符合要求的前提下,辅助材料的折光指数与纳米粒子的折光指数差异越大越好,不同材质间的折光指数不同,有利于提升光取出效果。
在一些实施例中,光取出层中辅助材料可以是粘合剂、粘度调节剂、界面修饰剂、流变助剂等中的至少一种。粘合剂可以选自各种可固化树脂;粘度调节剂可以选自各种聚合物,例如PVK等;界面修饰剂可以是硅烷偶联剂或表面活性剂;流变助剂可以是流平剂、消泡剂等。任意辅助材料都需要尽可能吸光少,透过率高,无色透明。
在一些实施例中,辅助材料包括界面修饰剂,界面修饰剂配位于纳米粒子的表面。界面修饰剂可以增加纳米粒子在溶剂中的分散性,当纳米粒子和溶剂混合,可以避免纳米粒子彼此团聚,从而施加到子像素区域后,光取出层会相对均匀很多。
在一些实施例中,发光件还包括界面层9(即第一界面层),界面层9设置在光取出层6的远离基板1的一侧表面上,界面层在550nm波长的光照射下的透过率不低于80%,界面层9的折光指数≤1.8,优选界面层9的折光指数不超过1.5且不小于1。界面层9可以是无机材料,通过物理气相沉积(溅射、蒸镀)或化学气相沉积(CVD)工艺设置;也可以是有机材料,如各类树脂;也可以是有机无机组合材料,如一层无机一层有机的堆叠结构,也可以就是薄膜封装,可以对发光件整体起到阻隔水氧的作用。在上述实施例中,界面层9的厚度为0.1~5μm。上述界面层可以起到提升光取出层平整度的作用,当环境光射向显示面板时,大约一半的环境光先被防反射膜(例如圆偏光片)吸收,剩余的一半光在射出防反射膜到达上述界面层的界面时,绝大部分光被该界面反射而又射向防反射膜,这部分反射的光的相位正好符合防反射膜的吸收方向,如此环境光就全部被防反射膜吸收掉了,从而进一步降低了环境光对显示面板对比度的不良影响;另一方面,上述界面层可以起到保护光取出层的作用。
在一些实施例中,界面层9仅设置在发光区域的光取出层6的表面上,如图4所示。
在一些实施例中,界面层9设置在光取出层6的表面和顶电极5的裸露表面上,如图2所示。
在一些实施例中,发光件还包括第二界面层,第二界面层设置在顶电极和光取出层之间。第二界面层可以保护顶电极和功能层不受光取出材料墨水的物理或化学损伤。第二界面层的厚度可以为40~300nm。第二界面层的材料选自各种金属氧化物,优选地,上述材料在可见光区域内透过率大于80%,更优选不小于90%。例如,第二界面层的材料可以选自氧化锌或者各种金属掺杂的氧化锌,掺杂金属可以是Mg、Al等中的一种或多种,也可以是ITO或氧化钼等,还可以用UV单体及其混合物,通过固化来实现第二界面层的制作。优选第二界面层的折光指数不低于顶电极(或紧挨顶电极的功能层)的折光指数,以保证发光层的光可以顺利射入到光取出层。
在一些实施例中,定义原始(未设置光取出层时)外量子效率最高的子像素为第一子像素,原始外量子效率最低的子像素为第三子像素,原始外量子效率介于第一子像素和第三子像素之间的子像素为第二子像素;光取出层对第一子像素的外量子效率提升比为X1,光取出层对第二子像素的外量子效率提升比为X2,光取出层对第三子像素的外量子效率提升比为X3,X1、X2和X3不相等,定义Xn=(Q2-Q1)/Q1,其中,n选自1~3中的任一个自然数,Q1为对应子像素的原始外量子效率,Q2为对应子像素的实际外量子效率;Xn≥0.5。提升比指的是发光件保持其他条件不变,仅增加设置光取出层带来的外量子效率变化。
在一些实施例中,上述发光件可以为RGB(红绿蓝)发光装置,也可以为RGBW(红绿蓝白)发光装置,针对不同发光颜色的子像素,设置有不同效率提取比例的光取出层,使不同发光颜色的子像素最终的外量子效率接近,实现同步老化,延长显示面板的使用寿命。
在一些实施例中,在显示面板未点亮状态下,显示面板呈现一体黑的效果。在一些实施例中,“一体黑”是指由于环境光射入显示面板后完全被吸收,从而肉眼可见未点亮状态下的显示面板呈现整体黑色,而不会出现灰色的效果。在另一些实施例中,还包括本领域技术人员认为的其他一体黑的情况。
下面将结合具体实施例和对比例进一步介绍本申请的有益效果。
实施例1
1、发光件制作工艺:
顶发射像素基板(整体发光区域为3*3mm,发光区域由80*80μm的子像素群和防止混光的bank构成,整体开口率约为52%),反射电极由厚度100nm的Ag和厚度10nm的ITO组成,空穴注入层HIL为厚度40nm的PEDOT:PSS,空穴传输层HTL为厚度30nm的TFB,发光层EL为厚度25nm的CdSe/ZnS红色量子点,电子传输层ETL为厚度50nm的ZnO纳米晶,上述各层均采用喷墨打印工艺制作,并经过真空、加热等方式得到所述膜层,在一定工艺条件下,真空溅射质量比9:1的氧化铟/氧化锡混合的高纯度ITO靶材,得到厚度80nm的ITO顶电极。
2、纳米粒子(即光取出粒子)分散:
在乙醇和乙酸体积比98:2的混合溶剂中,加入适量十二烷基三甲氧基硅烷并搅拌均匀,按硅氧烷:光取出粒子质量比1:10的比例添加粒径为40nm的TiO2纳米粒子,保持搅拌一小时后,离心取下层沉淀,用乙醇多次洗涤并进行离心处理并适当干燥后,将其分散在癸烷中保存。
3、光取出墨水组成及制作工艺:
将自制折光指数为1.48的UV胶用癸烷稀释分散后,加入上述硅氧烷修饰过的TiO2溶液,充分混合后得到光取出墨水,UV胶和纳米粒子总的固含量为15wt%,其中,纳米粒子占UV胶和纳米粒子的总质量的70%,UV胶占UV胶和纳米粒子的总质量的30%。在惰性氛围中,在顶发射像素基板的顶电极上方设置上述光取出墨水,利用旋转涂布仪分步加速成膜的方式得到一定厚度的光取出湿膜,经UV固化(同时溶剂被除去)后形成光取出层,得到发光件;之后在光取出层表面直接贴合市售圆偏光片,并进行光电性能的测试(惰性氛围下进行)。
4、测试方法:
(1)光取出层透过率:利用相同配方、相同成膜工艺在透明素玻璃上成膜,用紫外-可见光分光光度计UV-vis以素玻璃为参照,将其背景扣除后得到光取出层的透过率。
(2)光取出层粗糙度:利用原子力显微镜AFM测试光取出层表面的粗糙度得到Ra值。
(3)外量子效率:采用Keithley2400电源给发光件提供电压输入并得到相应电流输出,采用积分球(FOIS-1)结合海洋光学的光谱仪(QE-pro)测定发光件的亮度(测试对象是带圆偏光片的发光件)。测试结构记录于表2。根据测定得到的电流密度与亮度等参数得到发光件的外量子效率,外量子效率越高,发光件性能越好,发光件寿命也可以得到相应的提升。
(4)寿命:以1000nit为亮度测试起点(即初始亮度),恒定发光件的输入电流,实时记录发光件的亮度变化,并以发光件亮度衰减到初始值95%的值(1000nit*0.95=950nit)定义为T95,即发光件亮度衰减到950nit后停止寿命测试。测试结构记录于表2。需要指出的是,这里的测试对象是带圆偏光片的发光件,由于市售圆偏光片对发光件出光有近50%的损耗,因此仪器读出的初始亮度为1000nit,但实际上发光件本身的初始亮度约为2000nit,即发光件的寿命是在初始亮度约2000nit条件下测试得到。
实施例2-6、8
采用实施例1相同的制作工艺,具体各参数见表1。
实施例7
与实施例1的区别在于:光取出层远离顶发射像素基板一侧还设置有界面层,利用喷墨打印设备打印得到厚度为4.2μm的聚苯乙烯(PS)界面层。
对比例1
与实施例1的区别在于:未设置光取出层。
对比例2
与实施例1的区别在于:光取出粒子的粒径为300nm。
表1
Figure BDA0002893791080000101
Figure BDA0002893791080000111
表1相关物质折光指数n(@550nm处)参考值:实施例1、4、6、7、8和对比例2的UV胶为1.48,实施例2的UV胶为1.71;ZrO2为2.17;TiO2为2.65;ZnO为2.02;MoO3为2.16;硅烷偶联剂约为1.42;solsperse(商用牌号)系列是一种高分子类分散剂,折光指数约为1.48;4-氨基-2-丁醇约为1.45;PVK约为1.68。表1的“光取出粒子及其质量分数”中的质量分数指的是光取出粒子在总固含量中的占比,即光取出粒子在固化后的光取出层中所占的质量百分数。实施例7的光取出层平整度Ra实际测试的是PS界面层的表面粗糙度。
表2
编号 实施例1 实施例2 实施例3 实施例4 实施例5
外量子效率 7.3% 7.2% 8.9% 7.9% 8.7%
T95寿命 81h 79h 113h 92.7h 104.9h
编号 实施例6 实施例7 实施例8 对比例1 对比例2
外量子效率 9.9% 7.5% 6.7% 5.2% 9.3%
T95寿命 149h 89.6h 73.5h 50.1h 145.2h
从图5可以明显看出,采用大尺寸(300nm)粒子作为光取出粒子的对比例2的发光件尽管有较好的光取出效果(即外量子效率提升显著),但贴合圆偏光片后,一体黑效果被严重破坏,整体呈现灰色,极大影响显示对比度。图5示出的实施例1、2、6、7、8的光提取层中均采用粒径不超过40nm的纳米粒子作为光取出粒子,随着光取出层表面平整度Ra值的减小,一体黑的效果越显著。
需要说明的是,在实际的显示面板产品结构中,发光件还可以包括封装层,薄膜封装的堆叠层设置到光取出层表面后,膜层整体的Ra值会进一步减小,即膜层整体的平整性会进一步提升,那么贴合圆偏光片后,显示面板的一体黑的效果会更加好,因此为了表明本申请的有益效果确实来自于光取出层的改进,上述实施例和对比例中选择发光件(或带有圆偏光片的发光件)作为光电性能测试的对象。由此可知,采用本申请的发光件的显示面板具有良好的显示对比度,在未点亮状态下能够呈现一体黑的效果。
结合表1和表2可以看出,在实施例1-7中,当光取出层的折光指数不低于顶电极(ITO折光指数为1.8)时,在上述光取出层的厚度区间,发光件的外量子效率提升的比例(与对比例1相比计算提升比例)与光取出层的厚度增加呈正比,相应地,发光件寿命也稳步提升。在实施例8中,尽管光取出层的厚度也相对合适,但由于光取出层的折光指数偏低,因此发光件的外量子效率的提升比例(与对比例1相比计算提升比例)低于其他实施例。值得一提的是,在实施例2中,仍然采用小粒径纳米粒子作为光取出粒子,并适当降低纳米粒子的质量分数,采用高折光指数的UV胶,使得光取出层整体的折光指数仍高于顶电极的折光指数,同样取得了较好的光取出效果。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种显示面板,其特征在于,包括防反射膜和发光件,所述发光件包括基板和设置在所述基板一侧表面上的多个相互隔离的子像素,各所述子像素包括依次叠置的底电极、功能层、顶电极,至少部分所述子像素还包括光取出层,所述光取出层设置在所述顶电极的远离所述功能层的一侧表面上,所述光取出层内设有纳米粒子,所述纳米粒子的粒径不超过40nm。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层含有的所述纳米粒子的质量分数≥70wt%,优选≥80wt%,更优选≥90wt%。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层含有的所述纳米粒子的质量分数≥50wt%,且所述光取出层包括聚合物基质,所述聚合物基质的折光指数大于1.65。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述纳米粒子的粒径为5~30nm,优选为10~25nm。
5.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述纳米粒子的折光指数≥1.8,优选所述纳米粒子的折光指数≥2。
6.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述纳米粒子的表面为曲面,优选所述纳米粒子的形状为球形、类球形、椭球形或类椭球形,优选所述纳米粒子选自氧化锌、氧化钛、五氧化二钽、氧化钇、氧化锆、氧化铝、氧化铌、氧化钨、氧化锑、氧化钒、氧化钼中的任一种或多种混合。
7.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层的厚度为0.5~10μm,优选厚度为0.8~3μm。
8.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层的平整度Ra≤20nm,优选Ra≤10nm,更优选Ra≤5nm。
9.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层在550nm波长的光照射下的透过率不超过80%,优选不超过70%,更优选不超过60%。
10.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层包括至少一种辅助材料,所述辅助材料在可见光照射下的光透过率不低于80%,优选光透过率不低于90%。
11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述光取出层中所述辅助材料的总的质量分数不超过30wt%,每种所述辅助材料的折光指数不小于1.4。
12.根据权利要求11所述的显示面板,其特征在于,所述辅助材料包括界面修饰剂,所述界面修饰剂配位于所述纳米粒子的表面。
13.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,所述发光件还包括界面层,所述界面层设置在所述光取出层的远离所述基板的一侧表面上,所述界面层在550nm波长的光照射下的透过率不低于80%,所述界面层的折光指数≤1.8;优选所述界面层的折光指数不超过1.5且不小于1;更优选地,所述界面层的厚度为0.1~5μm。
14.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,定义原始外量子效率最高的所述子像素为第一子像素,原始外量子效率最低的所述子像素为第三子像素,原始外量子效率介于所述第一子像素和所述第三子像素之间的所述子像素为第二子像素;所述光取出层对所述第一子像素的外量子效率提升比为X1,所述光取出层对所述第二子像素的外量子效率提升比为X2,所述光取出层对所述第三子像素的外量子效率提升比为X3,所述X1、所述X2和所述X3不相等,定义Xn=(Q2-Q1)/Q1,其中,n选自1~3中的任一个自然数,Q1为对应所述子像素的原始外量子效率,Q2为对应所述子像素的实际外量子效率;所述Xn≥0.5。
15.根据权利要求1或2所述的显示面板,其特征在于,在所述显示面板未点亮状态下,所述显示面板呈现一体黑的效果。
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